CN112180692A - 光刻机运动台反力抵消装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了光刻机运动台反力抵消装置，包括底座，所述底座的上表面固定连接有光刻机主体，所述光刻机主体的正面设置有控制主机，所述光刻机主体的正面通过合页活动连接有开合门，所述开合门的正面设置有观察窗，所述光刻机主体的内底壁固定连接有减震器，所述减震器的表面设置有运行平台，所述运行平台的上表面设置有硅片台，所述硅片台的上表面设置有硅片。该光刻机运动台反力抵消装置，通过设置减震器，便于硅片台在运行平台上运行时产生的作用力能够通过减震器进行减震，通过设置压力弹簧和减力凸起，便于运行平台在运作时产生的作用力能够通过减力凸起和压力弹簧进行抵消，从而达到有效抵消运动台运作时产生反力的效果。
Description
技术领域
本发明涉及光刻机技术领域，具体为光刻机运动台反力抵消装置。
背景技术
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上，光刻是半导体制造过程中一道非常重要的工序，它是将一系列掩模版上的芯片图形通过曝光依次转移到硅片相应层上的工艺过程，被认为是大规模集成电路制造中的核心步骤。半导体制造中一系列复杂而耗时的光刻工艺主要由相应的光刻机来完成。
在目前光刻机运行台运作过程中，运动台曝光时所产生的反作用力将直接通过与外部框架的连接作用于外部框架，从而减少对光刻机内部框架的冲击影响，这种方式对于运动台运行时产生的作用力抵消比较差，影响光刻机整体的运行。
因此，我们提供一种光刻机运动台反力抵消装置。
发明内容
本发明的目的在于提供光刻机运动台反力抵消装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：光刻机运动台反力抵消装置，包括底座，所述底座的上表面固定连接有光刻机主体，所述光刻机主体的正面设置有控制主机，所述光刻机主体的正面通过合页活动连接有开合门，所述开合门的正面设置有观察窗，所述光刻机主体的内底壁固定连接有减震器，所述减震器的表面设置有运行平台，所述运行平台的上表面设置有硅片台，所述硅片台的上表面设置有硅片，所述光刻机主体的内侧壁固定连接有固定条，所述固定条的内部设置有压力弹簧，所述压力弹簧远离固定条的一端固定连接有减力凸起，所述光刻机主体的内部设置有照明光学模组，所述照明光学模组的一端固定连接有光罩模组，所述光刻机主体的内部位于光罩模组的下方设置有掩模台，所述掩模台的上表面设置有掩模，所述光刻机主体的内部位于掩模台的下方设置有投影聚光镜，所述光刻机主体的内壁固定连接有固定板，所述固定板的上表面固定连接有散热风扇，所述光刻机主体的侧面开设有散热孔，所述散热孔的内壁设置有防尘过滤网。
优选的，所述光刻机主体的正面开设有用于放置控制主机的放置槽，所述控制主机通过放置槽嵌设在光刻机主体的正面，所述控制主机的正面分别设置有控制按钮和显示屏，所述控制主机的内部设置有运行控制器，所述光刻机主体的正面设置有控制主机的防护板。
优选的，所述开合门的数量为两个，两个所述开合门均通过合页活动连接在光刻机主体的正面，所述观察窗的数量为两个，两个所述观察窗分别设置在两个开合门的正面，所述观察窗的材质为钢化玻璃。
优选的，所述减震器的数量为若干个，若干个所述减震器均匀设置在光刻机主体的内底壁，所述光刻机主体的内底壁开设有与减震器相适配的固定槽。
优选的，所述运行平台为圆晶平台模组，所述运行平台的内部设置有直线电动机，所述硅片台通过线路与直线电动机连接，所述硅片台的内部设置用于硅片台在运行平台表面运行的平面电动机，所述硅片台的上表面设置有硅片夹盘。
优选的，所述固定条的数量为两个，两个所述固定条分别固定连接在光刻机主体的内壁两侧，所述固定条的下表面开设有与压力弹簧相适配的凹槽，所述压力弹簧的数量为多个，多个所述压力弹簧通过凹槽分别设置在两个固定条的内部。
优选的，所述减力凸起的数量为多个，多个所述减力凸起分别与多个压力弹簧固定连接，所述照明光学模组的内部设置有紫外光生成器，所述照明光学模组的内部设置有用于紫外光的反射镜，所述光罩模组分为光罩传送模组和光罩平台模组，所述光罩模组的内部设置有传送光罩的光罩盒。
优选的，所述掩模台的内部分别设置有与运行平台内部相同的直线电动机和硅片台内部相同的平面电动机，所述掩模的上表面设置有夹盘，所述投影聚光镜位于硅片台和掩模台之间。
优选的，所述光刻机主体的右侧面开设有用于散热风扇进风的进风孔，所述散热孔的数量为多个，多个所述散热孔分别开设在光刻机主体的左右两侧。
有益效果
本发明提供了光刻机运动台反力抵消装置，具备以下有益效果：
1.该光刻机运动台反力抵消装置，通过设置减震器，便于硅片台在运行平台上运行时产生的作用力能够通过减震器进行减震，通过设置压力弹簧和减力凸起，便于运行平台在运作时产生的作用力能够通过减力凸起和压力弹簧进行抵消，从而达到有效抵消运动台运作时产生反力的效果。
2.该光刻机运动台反力抵消装置，通过设置光刻机主体，便于芯片的制作，通过设置观察窗，便于观察芯片制作时的过程，通过设置硅片台、照明光学模组、光罩模组、掩模台和投影聚光镜，能够使光刻机主体制作芯片，从而达到便于芯片制作的效果。
附图说明
图1为本发明正剖结构示意图；
图2为本发明正视结构示意图；
图3为本发明侧视结构示意图；
图4为本发明图1中A处放大结构示意图；
图5为本发明图1中B处放大结构示意图。
图中：1底座、2光刻机主体、3控制主机、4开合门、5观察窗、6减震器、7运行平台、8硅片台、9硅片、10固定条、11压力弹簧、12减力凸起、13照明光学模组、14光罩模组、15掩模台、16掩模、17投影聚光镜、18固定板、19散热风扇、20散热孔、21防尘过滤网。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-5，本发明提供一种技术方案：光刻机运动台反力抵消装置，包括底座1，底座1的上表面固定连接有光刻机主体2，通过设置光刻机主体2，便于芯片的制作，光刻机主体2的正面设置有控制主机3，光刻机主体2的正面开设有用于放置控制主机3的放置槽，控制主机3通过放置槽嵌设在光刻机主体2的正面，控制主机3的正面分别设置有控制按钮和显示屏，控制主机3的内部设置有运行控制器，光刻机主体2的正面设置有控制主机3的防护板。
光刻机主体2的正面通过合页活动连接有开合门4，开合门4的数量为两个，两个开合门4均通过合页活动连接在光刻机主体2的正面，开合门4的正面设置有观察窗5，观察窗5的数量为两个，两个观察窗5分别设置在两个开合门4的正面，观察窗5的材质为钢化玻璃，通过设置观察窗5，便于观察芯片制作时的过程，光刻机主体2的内底壁固定连接有减震器6，减震器6的数量为若干个，若干个减震器6均匀设置在光刻机主体2的内底壁，光刻机主体2的内底壁开设有与减震器6相适配的固定槽。
减震器6的表面设置有运行平台7，运行平台7为圆晶平台模组，运行平台7的内部设置有直线电动机，运行平台7的上表面设置有硅片台8，硅片台8通过线路与直线电动机连接，硅片台8的内部设置用于硅片台8在运行平台7表面运行的平面电动机，硅片台8的上表面设置有硅片夹盘，通过设置减震器6，便于硅片台8在运行平台7上运行时产生的作用力能够通过减震器6进行减震。
硅片台8的上表面设置有硅片9，光刻机主体2的内侧壁固定连接有固定条10，固定条10的数量为两个，两个固定条10分别固定连接在光刻机主体2的内壁两侧，固定条10的内部设置有压力弹簧11，固定条10的下表面开设有与压力弹簧11相适配的凹槽，压力弹簧11的数量为多个，多个压力弹簧11通过凹槽分别设置在两个固定条10的内部，压力弹簧11远离固定条10的一端固定连接有减力凸起12，减力凸起12的数量为多个，多个减力凸起12分别与多个压力弹簧11固定连接，通过设置压力弹簧11和减力凸起12，便于运行平台7在运作时产生的作用力能够通过减力凸起12和压力弹簧11进行抵消，从而达到有效抵消运动台运作时产生反力的效果。
光刻机主体2的内部设置有照明光学模组13，照明光学模组13的内部设置有紫外光生成器，照明光学模组13的内部设置有用于紫外光的反射镜，照明光学模组13的一端固定连接有光罩模组14，光罩模组14分为光罩传送模组和光罩平台模组，光罩模组14的内部设置有传送光罩的光罩盒，光刻机主体2的内部位于光罩模组14的下方设置有掩模台15，掩模台15的内部分别设置有与运行平台7内部相同的直线电动机和硅片台8内部相同的平面电动机，掩模台15的上表面设置有掩模16，掩模16的上表面设置有夹盘。
光刻机主体2的内部位于掩模台15的下方设置有投影聚光镜17，投影聚光镜17位于硅片台8和掩模台15之间，通过设置硅片台8、照明光学模组13、光罩模组14、掩模台15和投影聚光镜17，能够实使光刻机主体2制作芯片，从而达到便于芯片制作的效果，光刻机主体2的内壁固定连接有固定板18，固定板18的上表面固定连接有散热风扇19，光刻机主体2的右侧面开设有用于散热风扇19进风的进风孔，光刻机主体2的侧面开设有散热孔20，散热孔20的数量为多个，多个散热孔20分别开设在光刻机主体2的左右两侧，散热孔20的内壁设置有防尘过滤网21。
工作原理：当该光刻机运动台反力抵消装置使用时，首先把准备好的硅片9放到硅片台8上的硅片夹盘上固定，把需要光刻曝光的图形放置到掩模16的夹盘上固定，启动照明光学模组13内的紫外光产生器，产生紫外光，通过反射镜反射紫外光到光罩模组14内，通过光罩模组14内的光罩传送模组把光罩输送到光罩平台模组内，然后通过对掩模台15上掩模16内放置的图形进行照射，最后通过投影聚光镜17投入到硅片台8上，对硅片台8上硅片9进行曝光印制，硅片台8在运行平台7上运行时产生的作用力下压通过减震器6卸力，运行平台7上压的作用力通过压力弹簧11和减力凸起12进行抵消，从而达到抵消光刻机运动台运作时产生的反力效果，便于光刻机整体的运行。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (9)
1.光刻机运动台反力抵消装置，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的上表面固定连接有光刻机主体(2)，所述光刻机主体(2)的正面设置有控制主机(3)，所述光刻机主体(2)的正面通过合页活动连接有开合门(4)，所述开合门(4)的正面设置有观察窗(5)，所述光刻机主体(2)的内底壁固定连接有减震器(6)，所述减震器(6)的表面设置有运行平台(7)，所述运行平台(7)的上表面设置有硅片台(8)，所述硅片台(8)的上表面设置有硅片(9)，所述光刻机主体(2)的内侧壁固定连接有固定条(10)，所述固定条(10)的内部设置有压力弹簧(11)；
所述压力弹簧(11)远离固定条(10)的一端固定连接有减力凸起(12)，所述光刻机主体(2)的内部设置有照明光学模组(13)，所述照明光学模组(13)的一端固定连接有光罩模组(14)，所述光刻机主体(2)的内部位于光罩模组(14)的下方设置有掩模台(15)，所述掩模台(15)的上表面设置有掩模(16)，所述光刻机主体(2)的内部位于掩模台(15)的下方设置有投影聚光镜(17)，所述光刻机主体(2)的内壁固定连接有固定板(18)，所述固定板(18)的上表面固定连接有散热风扇(19)，所述光刻机主体(2)的侧面开设有散热孔(20)，所述散热孔(20)的内壁设置有防尘过滤网(21)。
2.根据权利要求1所述的光刻机运动台反力抵消装置，其特征在于：所述光刻机主体(2)的正面开设有用于放置控制主机(3)的放置槽，所述控制主机(3)通过放置槽嵌设在光刻机主体(2)的正面，所述控制主机(3)的正面分别设置有控制按钮和显示屏，所述控制主机(3)的内部设置有运行控制器，所述光刻机主体(2)的正面设置有控制主机(3)的防护板。
3.根据权利要求1所述的光刻机运动台反力抵消装置，其特征在于：所述开合门(4)的数量为两个，两个所述开合门(4)均通过合页活动连接在光刻机主体(2)的正面，所述观察窗(5)的数量为两个，两个所述观察窗(5)分别设置在两个开合门(4)的正面，所述观察窗(5)的材质为钢化玻璃。
4.根据权利要求1所述的光刻机运动台反力抵消装置，其特征在于：所述减震器(6)的数量为若干个，若干个所述减震器(6)均匀设置在光刻机主体(2)的内底壁，所述光刻机主体(2)的内底壁开设有与减震器(6)相适配的固定槽。
5.根据权利要求1所述的光刻机运动台反力抵消装置，其特征在于：所述运行平台(7)为圆晶平台模组，所述运行平台(7)的内部设置有直线电动机，所述硅片台(8)通过线路与直线电动机连接，所述硅片台(8)的内部设置用于硅片台(8)在运行平台(7)表面运行的平面电动机，所述硅片台(8)的上表面设置有硅片夹盘。
6.根据权利要求1所述的光刻机运动台反力抵消装置，其特征在于：所述固定条(10)的数量为两个，两个所述固定条(10)分别固定连接在光刻机主体(2)的内壁两侧，所述固定条(10)的下表面开设有与压力弹簧(11)相适配的凹槽，所述压力弹簧(11)的数量为多个，多个所述压力弹簧(11)通过凹槽分别设置在两个固定条(10)的内部。
7.根据权利要求1所述的光刻机运动台反力抵消装置，其特征在于：所述减力凸起(12)的数量为多个，多个所述减力凸起(12)分别与多个压力弹簧(11)固定连接，所述照明光学模组(13)的内部设置有紫外光生成器，所述照明光学模组(13)的内部设置有用于紫外光的反射镜，所述光罩模组(14)分为光罩传送模组和光罩平台模组，所述光罩模组(14)的内部设置有传送光罩的光罩盒。
8.根据权利要求1所述的光刻机运动台反力抵消装置，其特征在于：所述掩模台(15)的内部分别设置有与运行平台(7)内部相同的直线电动机和硅片台(8)内部相同的平面电动机，所述掩模(16)的上表面设置有夹盘，所述投影聚光镜(17)位于硅片台(8)和掩模台(15)之间。
9.根据权利要求1所述的光刻机运动台反力抵消装置，其特征在于：所述光刻机主体(2)的右侧面开设有用于散热风扇(19)进风的进风孔，所述散热孔(20)的数量为多个，多个所述散热孔(20)分别开设在光刻机主体(2)的左右两侧。
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| CN202011169800.8A CN112180692A (zh) | 2020-10-28 | 2020-10-28 | 光刻机运动台反力抵消装置 |
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| CN (1) | CN112180692A (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113176714A (zh) * | 2021-04-26 | 2021-07-27 | 上海图双精密装备有限公司 | 一种光刻机运动台反力抵消装置 |
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2020
- 2020-10-28 CN CN202011169800.8A patent/CN112180692A/zh active Pending
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