CN112174382A - 一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 79
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims abstract description 45
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 39
- 238000004064 recycling Methods 0.000 title claims abstract description 37
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 title claims abstract description 36
- 239000010842 industrial wastewater Substances 0.000 title claims abstract description 26
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 claims abstract description 107
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 104
- 238000011001 backwashing Methods 0.000 claims abstract description 24
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims abstract description 24
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 17
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims abstract description 12
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 11
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims abstract description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- -1 fluorine ions Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000011135 tin Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000002699 waste material Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 150
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 30
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 26
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 25
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 20
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 17
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 15
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 14
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 13
- 208000000415 potassium-aggravated myotonia Diseases 0.000 claims description 12
- 229910052979 sodium sulfide Inorganic materials 0.000 claims description 12
- GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N sodium sulfide (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].[S-2] GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 10
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 claims description 9
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 9
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 9
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 9
- 238000010612 desalination reaction Methods 0.000 claims description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 7
- 238000005189 flocculation Methods 0.000 claims description 7
- 230000016615 flocculation Effects 0.000 claims description 7
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims description 7
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 claims description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical class [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 claims description 6
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 238000005374 membrane filtration Methods 0.000 claims description 6
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 6
- 238000009287 sand filtration Methods 0.000 claims description 6
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 claims description 6
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 5
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 claims description 3
- VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N Nickel(2+) Chemical compound [Ni+2] VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 claims description 3
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 claims description 3
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 235000011116 calcium hydroxide Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000013043 chemical agent Substances 0.000 claims description 3
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 claims description 3
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 claims description 3
- 239000003292 glue Substances 0.000 claims description 3
- 239000012510 hollow fiber Substances 0.000 claims description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- 229910052976 metal sulfide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000012466 permeate Substances 0.000 claims description 3
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 claims description 3
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims description 3
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 claims description 3
- 239000004576 sand Substances 0.000 claims description 3
- 239000002455 scale inhibitor Substances 0.000 claims description 3
- 239000008400 supply water Substances 0.000 claims description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 8
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000011033 desalting Methods 0.000 description 4
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- YOCUPQPZWBBYIX-UHFFFAOYSA-N copper nickel Chemical compound [Ni].[Cu] YOCUPQPZWBBYIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 241000208340 Araliaceae Species 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009295 crossflow filtration Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000011221 initial treatment Methods 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 239000008394 flocculating agent Substances 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L sodium carbonate Substances [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000003911 water pollution Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F9/00—Multistage treatment of water, waste water or sewage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/001—Processes for the treatment of water whereby the filtration technique is of importance
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/42—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/44—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
- C02F1/441—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis by reverse osmosis
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/44—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
- C02F1/444—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis by ultrafiltration or microfiltration
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/52—Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities
- C02F1/5236—Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities using inorganic agents
- C02F1/5245—Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities using inorganic agents using basic salts, e.g. of aluminium and iron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/52—Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities
- C02F1/54—Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities using organic material
- C02F1/56—Macromolecular compounds
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/58—Treatment of water, waste water, or sewage by removing specified dissolved compounds
- C02F1/583—Treatment of water, waste water, or sewage by removing specified dissolved compounds by removing fluoride or fluorine compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/58—Treatment of water, waste water, or sewage by removing specified dissolved compounds
- C02F1/62—Heavy metal compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/66—Treatment of water, waste water, or sewage by neutralisation; pH adjustment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2101/00—Nature of the contaminant
- C02F2101/10—Inorganic compounds
- C02F2101/12—Halogens or halogen-containing compounds
- C02F2101/14—Fluorine or fluorine-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2101/00—Nature of the contaminant
- C02F2101/10—Inorganic compounds
- C02F2101/20—Heavy metals or heavy metal compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
- C02F2103/34—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated from industrial activities not provided for in groups C02F2103/12 - C02F2103/32
- C02F2103/346—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated from industrial activities not provided for in groups C02F2103/12 - C02F2103/32 from semiconductor processing, e.g. waste water from polishing of wafers
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2303/00—Specific treatment goals
- C02F2303/14—Maintenance of water treatment installations
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Abstract
本发明公开了一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺，其工艺步骤如下：该半导体废水主要分三大类：包括含铜，镍，锡重金属废、含氟离子废水，其处理工艺流程如下：首先将切割研磨硅片产生的废水和纯水系统反洗及RO浓水，分流单独处理，重金金属废水和含氟离子废水集中单独处理后再集中处理，合格达到半导体废水排放标准再排放；研磨切割废水单独处理后合格部分回收利用。有效的解决了现有技术中的缺陷，大大提高了该工艺效率。
Description
技术领域
本发明涉及工业废水处理技术及回收利用技术领域，特别涉及一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺。
背景技术
半导体行业在我国的迅速发展，生产的半导体产品供应全国及世界。这样产生的废水污染可想而知。废水合理排放已经不能满足需求，废水再回收利用是未来发展趋势。废水合理利用对我国以后资源利用具有积极意义。
废水蒸发系统运行过程中，会发生结垢现象，严重影响了处理了效果。通过RO浓缩水单独收集，通过NaOH调节水中PH值，添加Na2CO3反应生产CaCO3,MgCO3再自动加入絮凝剂形成絮凝沉淀。清水排出，进入蒸发系统。
发明内容
本发明的目的在于提供，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺，其特征在于，其工艺步骤如下：
该半导体废水主要分三大类：包括含铜，镍，锡重金属废、含氟离子废水，其处理工艺流程如下：
S1：首先将切割研磨硅片产生的废水和纯水系统反洗及RO浓水，分流单独处理，重金金属废水和含氟离子废水集中单独处理后再集中处理，合格达到半导体废水排放标准再排放；
S2：研磨切割废水单独处理后合格部分回收利用。
进一步的，含镍，铜废水处理工艺如下：
S1：先加入NaOH调节废水的PH，再利用Na2S(硫化钠)与废水中的镍离子反应生成沉淀，添加PAC,PAM，在调节池中形成絮凝；
S2：接着在沉淀池中使金属硫化物沉淀下来，经过砂滤去除废水中的悬浮物杂质，最后通过树脂对废水进行深度处理，使废水中的镍浓度达到上海半导体一级污染物排放标准；
进一步的，含镍，铜废水处理工艺如下：
S1：先用NaOH调节PH，再添加Na2S(硫化钠)反应，再添加PAC和PAM加速沉淀，砂滤，最后利用树脂交换器进行深度处理，保证出水离子浓度达标排放。
进一步的，含氟废水处理为斜板沉淀法，其工艺流程如下：
S1：含氟离子废水和CaCl2发生反应，控制PH值在10-11，保证投加过量的消石灰，通过化学反应生产了氟化钙沉淀；
S2：进入絮凝池，投加AL2(SO4)2和PAM，结成大片絮凝物，控制PH值在7-8之间，落在斜板沉淀池内。
进一步的，以上处理为一级处理工艺，出水水质F-含量<10mg/L，符合排放标准；研磨废水和纯水排放废水一起处理，通过调节池，和浊度仪表查看浊度情况，如果浊度合格，通过2#调节池之后再次调节均匀，再次进入3#调节池，如果水质不合格的情况下，需要回流至1#调节池；重金属废水和含氟废水通过上述方法处理后，再添加AL2(SO4)3和PAM后，再次处理后，出水水质的含氟量和金属含量得到有效控制。
进一步的，本回收利用工艺采用的是UF膜加RO膜的方法，所谓滤膜过滤就是利用连续组织间的孔和分子排列间隙进行分离操作，UF膜具孔径0.001μm～0.01μm，膜丝内径0.8mm，从而保证原水中所有尺寸超过膜孔径的颗粒，如胶体，细菌等被完全过滤掉，保证通过膜的出水浊度可以控制到<1NTU以下，出水水质较好，甚至可以作为纯水系统的原用水。
进一步的，净水处理和回用水一般常用的膜过滤方式有全量过滤方式和错流方式两种，全量过滤方式是全量过滤供给水的全量方式，与一般砂滤相同，必须定期地进行清洗，但是错流是向膜面平行流动，这样可以抑制膜供给水中的悬浊物质和胶在膜面的堆积，一般在超滤中常常采用错流方式，根据进水水质及试运行，目前回收率控制在60％左右，过滤方式与原水水质、滤膜的材料和分离性能、滤膜组件构造、清洗方法等有很大的关系，因此必须选择适合处理条件的方法，本工艺用采用的NORIT系列的中空纤维膜，膜面积55m2，膜丝材质为PES，膜直径为220mm，长度1.5米，膜通量一般为50-120LmH，反洗通量为250LmH，水在很低的跨膜压差(TMP)驱动下透过膜，得益于开放的支撑结构，NORIT X-FLOW膜丝阻力很小，膜组件的内部结构极大地减少了内部压力损失，因此避免固体过多堆积或接近膜面积，本次水量是210m3/hr，设计3套UF膜系统，28支膜/套膜系统，每套膜系统产水量102m3/hr，两套膜同时运行检测报告由万方数据文献相似性检测系统算法生成仅对您所选择的检测范围内检验结果负责，结果仅供参考检测报告由万方数据文献相似性检测系统算法生成仅对您所选择的检测范围内检验结果负责，结果仅供参考，一套膜系统备用。
进一步的，UF膜系统自动运行，气动阀门，浊度仪，压差传感器，进水泵，反洗水泵通过电气程序自动控制，根据本系统水质和特点，运行时间为30分钟，正冲，正冲时间60秒，正冲通量按照60LmH计算，正冲水量为60(lmh)x55(m2)x28(支)/1000＝92m3/hr，之后进行气洗，气洗流量按照10nm3/min，总气洗量为10(nm3/min)x28(支)x1套＝280nm3/min；再进行反洗，反洗流量按照250(Lmh)x55(m2)x28(支)＝385m3/hr，运行10小时后进行化学清洗，CEB(化学清洗)时，添加化学药剂NaOH,NaCLO，先浸泡10分钟，之后每套清洗15分钟，之后再循环运行。
进一步的，RO膜在回收废水中作用通过UF膜单元后的水，再由高压水泵打入RO膜系统，根据本次进入水质特点选择抗污染苦咸水RO膜，反渗透RO膜主要作用是对经过预处理的生产水进行脱盐处理，RO膜脱盐率的高低和本身结构和水质有关系，RO膜超薄脱盐层的致密度结构，水质中含有高分子量和高价离子及复杂单价离子脱盐率高于一价单离子。
进一步的，一般在废水回收利用时，RO膜组件的回收率为50％，设计为两段处理，排列比例为2：1段；也可以考虑设计为一段处理，这样回收率会降低，电导率和水量达到合格的使用，作为原水进入到纯水系统的前处理水系统，剩下一半高电导率产水，可以作为冷却水塔用水或者冲洗地面和厕所用水，充分利用达到节能的目的，本RO膜系统是废水回收水反渗透的应用，系统中包括1μm保安过滤器、高压泵、RO膜组、阻垢剂投加系统及控制系统和就地控制盘，和对应的仪表阀门及其他辅助系统。
与现有技术相比，本发明的有益效果为：
1)含SiO2的研磨废水和含氟废水的经过处理后，颗粒减少，浊度降低，并且达标排放。因此，需要注意设计时切割研磨废水和重金属废水及含氟废水先分开处理，再根据水质情况监测进行处理。
2)UF膜单元长时间运行，运行良好，但出现膜堵塞现象。解决方法：在UF膜单元前加前处理设备比如自清洗设备，可以选用阿科的自清洗过滤器，过滤精度大概200uM，做好预处理工作，避免膜污染堵塞；另外UF膜运行时自动反冲洗和药品CEB冲洗。在反冲洗时，可以选择辅助气助擦洗，反洗使用超滤的产水，持续时间短，方向与过滤流方向相反。周期性反洗，避免固体过多的堆积或者接近膜面积。频繁的清洗，将导致膜通量降低，同时投资增加，因此唯一调节的方法就是改善进水的水质，可以根据企业本身情况选择在进水口加药或者进行前处理；当TMP跨膜压差达到预设值，利用压力传感器，和反洗水泵及自动阀门和控制系统，自动清洗。可以有效去除滤饼层。另外也可以通过在超滤单元内增加一个小型循环泵，上述工艺流程即能够得到强化。使单只膜组件的处理能力提高到25％。
3)回收水经过UF膜处理后再通过高压泵打入到RO膜回收系统里面，产水水质保持良好，但是RO膜容易堵塞，造成RO膜污染严重，这样要通过清洗RO膜才能再次利用，所以一般情况设计时都要考虑CIP化学清洗系统。选用RO膜时通常也采用抗污染膜，通量较大的膜，这样就可以避免污染严重，造成损失，延长RO膜使用年限。特别是在RO膜前端增设了1um的保安过滤器，有效截流住较大悬浮物。也可以通过保安过滤器的滤芯压差，初步判断UF膜处理切割废水效果。
附图说明
图1为本发明一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺的处理工艺图；
图2为本发明一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺的回收水UF+RO系统。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例,基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的若干实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容更加透彻全面。
需要说明的是，当元件被称为“固设于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
请参阅图1-2，本发明提供一种技术方案：
一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺，其特征在于，其工艺步骤如下：
该半导体废水主要分三大类：包括含铜，镍，锡重金属废、含氟离子废水，其处理工艺流程如下：
S1：首先将切割研磨硅片产生的废水和纯水系统反洗及RO浓水，分流单独处理，重金金属废水和含氟离子废水集中单独处理后再集中处理，合格达到半导体废水排放标准再排放；
S2：研磨切割废水单独处理后合格部分回收利用。
进一步的，含镍，铜废水处理工艺如下：
S1：先加入NaOH调节废水的PH，再利用Na2S(硫化钠)与废水中的镍离子反应生成沉淀，添加PAC,PAM，在调节池中形成絮凝；
S2：接着在沉淀池中使金属硫化物沉淀下来，经过砂滤去除废水中的悬浮物杂质，最后通过树脂对废水进行深度处理，使废水中的镍浓度达到上海半导体一级污染物排放标准；
为了进一步提高一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺的使用功能，含镍，铜废水处理工艺如下：
S1：先用NaOH调节PH，再添加Na2S(硫化钠)反应，再添加PAC和PAM加速沉淀，砂滤，最后利用树脂交换器进行深度处理，保证出水离子浓度达标排放。
为了进一步提高一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺的使用功能，含氟废水处理为斜板沉淀法，其工艺流程如下：
S1：含氟离子废水和CaCl2发生反应，控制PH值在10-11，保证投加过量的消石灰，通过化学反应生产了氟化钙沉淀；
S2：进入絮凝池，投加AL2(SO4)2和PAM，结成大片絮凝物，控制PH值在7-8之间，落在斜板沉淀池内。
为了进一步提高一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺的使用功能，以上处理为一级处理工艺，出水水质F-含量<10mg/L，符合排放标准；研磨废水和纯水排放废水一起处理，通过调节池，和浊度仪表查看浊度情况，如果浊度合格，通过2#调节池之后再次调节均匀，再次进入3#调节池，如果水质不合格的情况下，需要回流至1#调节池；重金属废水和含氟废水通过上述方法处理后，再添加AL2(SO4)3和PAM后，再次处理后，出水水质的含氟量和金属含量得到有效控制。
为了进一步提高一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺的使用功能，本回收利用工艺采用的是UF膜加RO膜的方法，所谓滤膜过滤就是利用连续组织间的孔和分子排列间隙进行分离操作，UF膜具孔径0.001μm～0.01μm，膜丝内径0.8mm，从而保证原水中所有尺寸超过膜孔径的颗粒，如胶体，细菌等被完全过滤掉，保证通过膜的出水浊度可以控制到<1NTU以下，出水水质较好，甚至可以作为纯水系统的原用水。
为了进一步提高一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺的使用功能，净水处理和回用水一般常用的膜过滤方式有全量过滤方式和错流方式两种，全量过滤方式是全量过滤供给水的全量方式，与一般砂滤相同，必须定期地进行清洗，但是错流是向膜面平行流动，这样可以抑制膜供给水中的悬浊物质和胶在膜面的堆积，一般在超滤中常常采用错流方式，根据进水水质及试运行，目前回收率控制在60％左右，过滤方式与原水水质、滤膜的材料和分离性能、滤膜组件构造、清洗方法等有很大的关系，因此必须选择适合处理条件的方法，本工艺用采用的NORIT系列的中空纤维膜，膜面积55m2，膜丝材质为PES，膜直径为220mm，长度1.5米，膜通量一般为50-120LmH，反洗通量为250LmH，水在很低的跨膜压差(TMP)驱动下透过膜，得益于开放的支撑结构，NORIT X-FLOW膜丝阻力很小，膜组件的内部结构极大地减少了内部压力损失，因此避免固体过多堆积或接近膜面积，本次水量是210m3/hr，设计3套UF膜系统，28支膜/套膜系统，每套膜系统产水量102m3/hr，两套膜同时运行检测报告由万方数据文献相似性检测系统算法生成仅对您所选择的检测范围内检验结果负责，结果仅供参考检测报告由万方数据文献相似性检测系统算法生成仅对您所选择的检测范围内检验结果负责，结果仅供参考，一套膜系统备用。
为了进一步提高一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺的使用功能，UF膜系统自动运行，气动阀门，浊度仪，压差传感器，进水泵，反洗水泵通过电气程序自动控制，根据本系统水质和特点，运行时间为30分钟，正冲，正冲时间60秒，正冲通量按照60LmH计算，正冲水量为60(lmh)x55(m2)x28(支)/1000＝92m3/hr，之后进行气洗，气洗流量按照10nm3/min，总气洗量为10(nm3/min)x28(支)x1套＝280nm3/min；再进行反洗，反洗流量按照250(Lmh)x55(m2)x28(支)＝385m3/hr，运行10小时后进行化学清洗，CEB(化学清洗)时，添加化学药剂NaOH,NaCLO，先浸泡10分钟，之后每套清洗15分钟，之后再循环运行。
为了进一步提高一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺的使用功能，RO膜在回收废水中作用通过UF膜单元后的水，再由高压水泵打入RO膜系统，根据本次进入水质特点选择抗污染苦咸水RO膜，反渗透RO膜主要作用是对经过预处理的生产水进行脱盐处理，RO膜脱盐率的高低和本身结构和水质有关系，RO膜超薄脱盐层的致密度结构，水质中含有高分子量和高价离子及复杂单价离子脱盐率高于一价单离子。
为了进一步提高一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺的使用功能，一般在废水回收利用时，RO膜组件的回收率为50％，设计为两段处理，排列比例为2：1段；也可以考虑设计为一段处理，这样回收率会降低，电导率和水量达到合格的使用，作为原水进入到纯水系统的前处理水系统，剩下一半高电导率产水，可以作为冷却水塔用水或者冲洗地面和厕所用水，充分利用达到节能的目的，本RO膜系统是废水回收水反渗透的应用，系统中包括1μm保安过滤器、高压泵、RO膜组、阻垢剂投加系统及控制系统和就地控制盘，和对应的仪表阀门及其他辅助系统。
实施例：
1)含SiO2的研磨废水和含氟废水的经过处理后，颗粒减少，浊度降低，并且达标排放。因此，需要注意设计时切割研磨废水和重金属废水及含氟废水先分开处理，再根据水质情况监测进行处理。
2)UF膜单元长时间运行，运行良好，但出现膜堵塞现象。解决方法：在UF膜单元前加前处理设备比如自清洗设备，可以选用阿科的自清洗过滤器，过滤精度大概200uM，做好预处理工作，避免膜污染堵塞；另外UF膜运行时自动反冲洗和药品CEB冲洗。在反冲洗时，可以选择辅助气助擦洗，反洗使用超滤的产水，持续时间短，方向与过滤流方向相反。周期性反洗，避免固体过多的堆积或者接近膜面积。频繁的清洗，将导致膜通量降低，同时投资增加，因此唯一调节的方法就是改善进水的水质，可以根据企业本身情况选择在进水口加药或者进行前处理；当TMP跨膜压差达到预设值，利用压力传感器，和反洗水泵及自动阀门和控制系统，自动清洗。可以有效去除滤饼层。另外也可以通过在超滤单元内增加一个小型循环泵，上述工艺流程即能够得到强化。使单只膜组件的处理能力提高到25％。
3)回收水经过UF膜处理后再通过高压泵打入到RO膜回收系统里面，产水水质保持良好，但是RO膜容易堵塞，造成RO膜污染严重，这样要通过清洗RO膜才能再次利用，所以一般情况设计时都要考虑CIP化学清洗系统。选用RO膜时通常也采用抗污染膜，通量较大的膜，这样就可以避免污染严重，造成损失，延长RO膜使用年限。特别是在RO膜前端增设了1um的保安过滤器，有效截流住较大悬浮物。也可以通过保安过滤器的滤芯压差，初步判断UF膜处理切割废水效果。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其效物界定。
Claims (10)
1.一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺，其特征在于，其工艺步骤如下：
该半导体废水主要分三大类：包括含铜，镍，锡重金属废、含氟离子废水，其处理工艺流程如下：
S1：首先将切割研磨硅片产生的废水和纯水系统反洗及RO浓水，分流单独处理，重金金属废水和含氟离子废水集中单独处理后再集中处理，合格达到半导体废水排放标准再排放；
S2：研磨切割废水单独处理后合格部分回收利用。
2.根据权利要求1所述的一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺，其特征在于，含镍，铜废水处理工艺如下：
S1：先加入NaOH调节废水的PH，再利用Na2S(硫化钠)与废水中的镍离子反应生成沉淀，添加PAC,PAM，在调节池中形成絮凝；
S2：接着在沉淀池中使金属硫化物沉淀下来，经过砂滤去除废水中的悬浮物杂质，最后通过树脂对废水进行深度处理，使废水中的镍浓度达到上海半导体一级污染物排放标准。
3.根据权利要求1所述的一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺，其特征在于，含镍，铜废水处理工艺如下：
S1：先用NaOH调节PH，再添加Na2S(硫化钠)反应，再添加PAC和PAM加速沉淀，砂滤，最后利用树脂交换器进行深度处理，保证出水离子浓度达标排放。
4.根据权利要求1所述的一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺，其特征在于，含氟废水处理为斜板沉淀法，其工艺流程如下：
S1：含氟离子废水和CaCl2发生反应，控制PH值在10-11，保证投加过量的消石灰，通过化学反应生产了氟化钙沉淀；
S2：进入絮凝池，投加AL2(SO4)2和PAM，结成大片絮凝物，控制PH值在7-8之间，落在斜板沉淀池内。
5.根据权利要求4所述的一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺，其特征在于：以上处理为一级处理工艺，出水水质F-含量<10mg/L，符合排放标准；研磨废水和纯水排放废水一起处理，通过调节池，和浊度仪表查看浊度情况，如果浊度合格，通过2#调节池之后再次调节均匀，再次进入3#调节池，如果水质不合格的情况下，需要回流至1#调节池；重金属废水和含氟废水通过上述方法处理后，再添加AL2(SO4)3和PAM后，再次处理后，出水水质的含氟量和金属含量得到有效控制。
6.根据权利要求1所述的一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺，其特征在于：本回收利用工艺采用的是UF膜加RO膜的方法，所谓滤膜过滤就是利用连续组织间的孔和分子排列间隙进行分离操作，UF膜具孔径0.001μm～0.01μm，膜丝内径0.8mm，从而保证原水中所有尺寸超过膜孔径的颗粒，如胶体，细菌等被完全过滤掉，保证通过膜的出水浊度可以控制到<1NTU以下，出水水质较好，甚至可以作为纯水系统的原用水。
7.根据权利要求6所述的一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺，其特征在于：净水处理和回用水一般常用的膜过滤方式有全量过滤方式和错流方式两种，全量过滤方式是全量过滤供给水的全量方式，与一般砂滤相同，必须定期地进行清洗，但是错流是向膜面平行流动，这样可以抑制膜供给水中的悬浊物质和胶在膜面的堆积，一般在超滤中常常采用错流方式，根据进水水质及试运行，目前回收率控制在60％左右，过滤方式与原水水质、滤膜的材料和分离性能、滤膜组件构造、清洗方法等有很大的关系，因此必须选择适合处理条件的方法，本工艺用采用的NORIT系列的中空纤维膜，膜面积55m2，膜丝材质为PES，膜直径为220mm，长度1.5米，膜通量一般为50-120LmH，反洗通量为250LmH，水在很低的跨膜压差(TMP)驱动下透过膜，得益于开放的支撑结构，NORIT X-FLOW膜丝阻力很小，膜组件的内部结构极大地减少了内部压力损失，因此避免固体过多堆积或接近膜面积，本次水量是210m3/hr，设计3套UF膜系统，28支膜/套膜系统，每套膜系统产水量102m3/hr，两套膜同时运行检测报告由万方数据文献相似性检测系统算法生成仅对您所选择的检测范围内检验结果负责，结果仅供参考检测报告由万方数据文献相似性检测系统算法生成仅对您所选择的检测范围内检验结果负责，结果仅供参考，一套膜系统备用。
8.根据权利要求6所述的一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺，其特征在于：UF膜系统自动运行，气动阀门，浊度仪，压差传感器，进水泵，反洗水泵通过电气程序自动控制，根据本系统水质和特点，运行时间为30分钟，正冲，正冲时间60秒，正冲通量按照60LmH计算，正冲水量为60(lmh)x55(m2)x28(支)/1000＝92m3/hr，之后进行气洗，气洗流量按照10nm3/min，总气洗量为10(nm3/min)x28(支)x1套＝280nm3/min；再进行反洗，反洗流量按照250(Lmh)x55(m2)x28(支)＝385m3/hr，运行10小时后进行化学清洗，CEB(化学清洗)时，添加化学药剂NaOH,NaCLO，先浸泡10分钟，之后每套清洗15分钟，之后再循环运行。
9.根据权利要求6所述的一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺，其特征在于：RO膜在回收废水中作用通过UF膜单元后的水，再由高压水泵打入RO膜系统，根据本次进入水质特点选择抗污染苦咸水RO膜，反渗透RO膜主要作用是对经过预处理的生产水进行脱盐处理，RO膜脱盐率的高低和本身结构和水质有关系，RO膜超薄脱盐层的致密度结构，水质中含有高分子量和高价离子及复杂单价离子脱盐率高于一价单离子。
10.根据权利要求6所述的一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺，其特征在于：一般在废水回收利用时，RO膜组件的回收率为50％，设计为两段处理，排列比例为2：1段；也可以考虑设计为一段处理，这样回收率会降低，电导率和水量达到合格的使用，作为原水进入到纯水系统的前处理水系统，剩下一半高电导率产水，可以作为冷却水塔用水或者冲洗地面和厕所用水，充分利用达到节能的目的，本RO膜系统是废水回收水反渗透的应用，系统中包括1μm保安过滤器、高压泵、RO膜组、阻垢剂投加系统及控制系统和就地控制盘，和对应的仪表阀门及其他辅助系统。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202011099120.3A CN112174382A (zh) | 2020-10-14 | 2020-10-14 | 一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
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|---|---|
| CN112174382A true CN112174382A (zh) | 2021-01-05 |
Family
ID=73950264
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202011099120.3A Pending CN112174382A (zh) | 2020-10-14 | 2020-10-14 | 一种半导体工业废水处理技术及回收利用工艺 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN112174382A (zh) |
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