CN112172220A - 一种磨砂面手机后盖及制备方法 - Google Patents

一种磨砂面手机后盖及制备方法 Download PDF

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许一青
黄超
李占伦
梁学乐
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    • B29DPRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D99/00Subject matter not provided for in other groups of this subclass
    • B29D99/006Producing casings, e.g. accumulator cases

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Abstract

本发明涉及一种磨砂面手机后盖及制备方法,属于手机后盖加工技术领域;包括如下步骤:注塑成型、硬化处理、制备防爆膜、贴合、CNC加工成型;注塑模具的母模面需经过雾面晒纹处理,纹理深度为15~20um,光泽度25~30,本发明提供了一种磨砂面手机后盖的制备方法,制得一种磨砂面手机后盖具有AG磨砂效果,生产难度小,制备成本低且成品性能优越。

Description

一种磨砂面手机后盖及制备方法
技术领域
本发明涉及一种磨砂面手机后盖及制备方法,属于手机后盖加工技术领域。
背景技术
AG玻璃最初来源于德国,AG玻璃又叫抗反射玻璃和防眩光玻璃,是对玻璃表面进行特殊加工改变表面的粗糙度,使表面产生哑光,达到漫反射的效果。AG玻璃多用于触屏、显屏、触板、视窗等系列,如:车载导航、笔记本电脑、各类触摸屏等,随着工艺技术的追求,在手机装饰上也开始成为热点,随着5G商用,玻璃手机盖板的增加,人类对视觉体验的要求提高,对AG玻璃的需求与使用也将逐渐扩大范围;
手机作为主流的电子消费类产品,其中手机盖板的基材以玻璃为主,玻璃存在先天性隔热性差、抗冲击性差、加工难度大等缺陷,导致很多场合无法应用。自2018年开始光学塑料逐步取代玻璃其比重逐年上升,光学塑料制品作为替代品,具有高透光、质轻、耐候、耐冲击、易成型、成本低廉等优点,正在普遍应用于光学仪器和电子工业等方面;
目前AG玻璃主要分为三种工艺:化学蚀刻AG、喷涂AG、镀膜AG,随着工艺的进步,AG蚀刻是玻璃表面处理的主流工艺,不仅可减弱反光影响,防眩光、防蓝光,还可应用到玻璃表面的纹理设计,但是AG雾面蚀砂工艺用在玻璃背板上难度极大,制造成本偏高,且性能指标偏低,应用不便。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术中的不足,提供一种磨砂面手机后盖的制备方法,制得一种磨砂面手机后盖具有AG磨砂效果,生产难度小,制备成本低且成品性能优越。
为实现上述目的,本发明采用如下技术方案:
一种磨砂面手机后盖的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
注塑成型:注塑模具的母模面经过雾面晒纹处理,纹理深度为15~20um,光泽度25~30,采用光学级透明塑料在注塑模具内进行注塑成型,制得具有表面磨砂效果的裙边结构;
硬化处理:将注塑成型后的材料表面使用硬化液进行硬化处理;
制备防爆膜:依次经过UV纹理转印、OPVD镀膜、印刷底色、镭雕切割后制得防爆膜成品;
贴合:将硬化处理后的材料与防爆膜成品进行贴合;
CNC加工成型:将贴合处理后的材料进行CNC加工,得到具有磨砂面的手机后盖。
进一步地,还包括进行LOGO字符印刷,在硬化处理后,对材料进行镜面银油墨和丝印网版印刷处理,制得LOGO字符。
进一步地,所述注塑成型的工艺步骤为:塑料材料熔融→上模→调试→合模→射胶填充→保压成型→冷却→开模。
进一步地,所述射胶填充的注射压力为80~130MPa,注射时间为2~5s。
进一步地,所述保压成型的压力为40~60MPa,保压时间为20~40s。
进一步地,所述光学级透明塑料由改性聚碳酸酯制成。
进一步地,所述裙边结构的宽度为15~20mm,所述裙边结构的背面设有至少2道防水沟槽。
进一步地,所述硬化液包括哑光硬化液和稀释剂,所述哑光硬化液和稀释剂质量比例范围为100:(130~180)。
进一步地,所述哑光硬化液包含聚氨酯丙烯酸酯和引发剂,质量比为100:(5~10);所述稀释剂包含正丁醇和乙酸乙酯,质量比为100:(60~100)。
进一步地,一种磨砂面手机后盖,采用上述介绍的一种磨砂面手机后盖的制备方法制成,成品的厚度为0.5~1.2mm。
与现有技术相比,本发明所达到的有益效果:
本技术方案成型的手机盖板可塑性强,抗冲击性能好,能够减少冲击、跌落带来的意外损伤;
本技术方案成型的手机壳对手机信号屏蔽低,能够保证手机的通讯和数据接收;
本技术方案成型后的手机壳的硬度高,耐磨性、耐腐蚀性、高低温冲击性、抗老化性能较好,使用寿命长,不易出现划痕等损伤;
本技术方案采用透明塑料基材同时兼备AG磨砂外观效果,减少了成型难度与生产成本。
附图说明
图1是本发明实施例提供的一种磨砂面手机后盖的制备方法的工艺流程图;
图2是本发明实施例提供的一种磨砂面手机后盖的横切面结构示意图。。
标号说明:1-硬化层、2-聚碳酸酯层、3-OCA胶层3、4-PET膜、5-UV转印纹理层、6-镀膜层、7-印刷底色层。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本发明的技术方案,而不能以此来限制本发明的保护范围。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、 “底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。
在本发明的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以通过具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
如附图所述的一种磨砂面手机后盖的制备方法,其包括如下步骤:
注塑成型:注塑模具的母模面经过雾面晒纹处理,纹理深度为15~20um,光泽度25~30,采用光学级透明塑料在注塑模具内进行注塑成型,制得具有表面磨砂效果的裙边结构;
硬化处理:将注塑成型后的材料表面使用硬化液进行硬化处理;
制备防爆膜:依次经过UV纹理转印、OPVD镀膜、印刷底色、镭雕切割后制得防爆膜成品;
具体地制备防爆膜的过程如下:
UV转印:在膜片基料的PET表面使用纹理模具和UV胶水转印三维立体背景纹理图案;其中UV胶水包括丙烯酸酯、活性稀释剂和光引发剂。
所述丙烯酸酯、所述活性稀释剂和所述光引发剂的质量比为(70~90):(10~30):(0.2~10)
UV涂层光固化条件为:能量1200~1500mJ,时间5~10s
涂层厚度为8~15um;
OPVD镀膜:对上述成型后的UV层表面进行OPVD镀膜处理;
镀膜层的厚度:30~400nm
靶材-介质膜:Si、Ti,O2或者Si、Ni,O2
靶材-金属膜:为Ag、Al、In/Sn中的一种。
印刷:经过镀膜OPVD后,在镀膜面使用丝印设备及网板进行印刷底色,实现纹理图案显示;
具体步骤如下,进行三道底色印刷,厚度15~20um;本实施例中:
第一道印刷陶瓷白底色进行80℃,30min预烘烤;’
第二道印刷陶瓷白进行80℃,30min预烘烤;
第三道印刷钛晶黑进行80℃,60min烘烤干;
第一道和第二道不局限于白色,根据实际的成品需求可以有红色、蓝色、黑色、紫色等各种颜色选择;
镭雕切割:
对经过印刷步骤制得的纹理图案膜片依据图纸规格进行激光切割成片;
优选地,图案防爆膜根据成品塑料盖板外形扩大0.5~1.0mm进行裁切;
贴合:将硬化处理后的材料与防爆膜成品进行贴合;
一般,光学级透明塑料的成型的半成品后盖内设有一层PET基材,两者之间通过光学透明的OCA胶层进行粘合贴合,贴合后具有优良的抗抗冲击性能;
本实施例为对塑料盖板和切割后的防爆膜使用贴合机进行一体贴合,制得一体化盖板;
更具体地,为了保证贴合效果,增加结合强度,采用真空贴合机;
真空贴合机的作业环境要求如下:
贴合气压:6~7kg
真空时间:3~4S
真空度:-99.5~-100
贴合时间 4~5S
贴合后处理消泡的条件:温度45~60度,压力15~16kg,时间45~60min;
CNC加工成型:将贴合处理后的材料进行CNC加工,得到具有磨砂面的手机后盖;
本实施例CNC加工中,具体的作业参数要求如下:
主轴转速:50000R/min
进给速度:2000mm/min
真空负压:0.06MPa
主轴气压:0.6±0.1kg/c㎡。
本实施例中注塑模具的母模面需经过雾面晒纹处理,纹理深度为15~20um,光泽度25~30 ,经过雾面晒纹处理,能够达到所需的AG磨砂效果;晒纹是一种为达到产品表面美化效果要求(雾面、饰纹、图案等)而对模具型腔进行凹凸蚀刻的一种加工工艺;
上述的制备方法还包括进行LOGO字符印刷,在硬化处理后,对材料进行镜面银油墨和丝印网版印刷处理,制得LOGO字符;
字符印刷后需要在常温下静置一段时间后再经过烘烤处理,本实施例中常温静置的时间为45~60min,烘烤作业的温度为60~70℃,烘烤时间为60~90min。
更具体地,注塑成型模具具有二次压缩功能;能够保证产品密度和厚度均匀,减少内应力及彩虹纹不良。
一种实施例,上述的注塑成型的工艺步骤为:塑料材料熔融→上模→调试→合模→射胶填充→保压成型→冷却→开模;为了保证塑料成型性能,所述材料熔融的温度280~320℃。
更具体地,上述的射胶填充作业中的注射压力为80~130MPa,注射时间为2~5s,能够更好地填充模具,保证熔融液的流动性和填充度。
更具体地,上述的保压成型作业中的保压压力为40~60MPa,保压时间为20~40s;能够保证熔体的温度均匀、材料混合均匀。
一种实施例,所述光学级透明塑料由改性聚碳酸酯制成,本实施例采用的改性聚碳酸酯具有更好的透明度与韧性。
具体的,所述裙边结构的宽度为15~20mm,所述裙边结构的背面设有至少2道防水沟槽。
一种实施例,所述硬化液包括哑光硬化液和稀释剂,两者之间按照成品的光泽度需求,进行一定比例配比,本实施例中,哑光硬化液和稀释剂质量比例范围为100:(130~180)。
更具体地,所述哑光硬化液包含聚氨酯丙烯酸酯和引发剂,质量比为100:(5~10);所述稀释剂包含正丁醇和乙酸乙酯,质量比为100:(60~100);
硬化涂层的厚度为4~8um,硬化过程中需要还需要进行IR烘烤条件:烘烤温度50~60℃,烘烤时间5~10min;还需要进行UV光固化:作业时光照能量600~800mJ,光照时间10~20s;硬化后的半成品表面光泽度为20~30。
一种磨砂面手机后盖,采用上述中所介绍的一种磨砂面手机后盖的制备方法制成,成品的厚度为0.5~1.2mm,经上述方法制备后的成品由AG磨砂的硬化层1、注塑成型后的聚碳酸酯层2、OCA胶层3、PET膜4、UV转印纹理层5、镀膜层6、印刷底色层7叠加而成,且成品能够满足以下性能指标:
表面铅笔硬度:4~6H/1kg
表面耐磨:≥5000次/1000g
抗冲击能:≥0.5J
耐弯折:≥45°。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明技术原理的前提下,还可以做出若干改进和变形,这些改进和变形也应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种磨砂面手机后盖的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
注塑成型:注塑模具的母模面经过雾面晒纹处理,纹理深度为15~20um,光泽度25~30,采用光学级透明塑料在注塑模具内进行注塑成型,制得具有表面磨砂效果的裙边结构;
硬化处理:将注塑成型后的材料表面使用硬化液进行硬化处理;
制备防爆膜:依次经过UV纹理转印、OPVD镀膜、印刷底色、镭雕切割后制得防爆膜成品;
贴合:将硬化处理后的材料与防爆膜成品进行贴合;
CNC加工成型:将贴合处理后的材料进行CNC加工,得到具有磨砂面的手机后盖。
2.根据权利要求1所述的一种磨砂面手机后盖的制备方法,其特征在于,还包括进行LOGO字符印刷,在硬化处理后,对材料进行镜面银油墨和丝印网版印刷处理,制得LOGO字符。
3.根据权利要求1所述的一种磨砂面手机后盖的制备方法,其特征在于,所述注塑成型的工艺步骤为:塑料材料熔融→上模→调试→合模→射胶填充→保压成型→冷却→开模。
4.根据权利要求3所述的一种磨砂面手机后盖的制备方法,其特征在于,所述射胶填充的注射压力为80~130MPa,注射时间为2~5s。
5.根据权利要求3所述的一种磨砂面手机后盖的制备方法,其特征在于,所述保压成型的压力为40~60MPa,保压时间为20~40s。
6.根据权利要求1所述的一种磨砂面手机后盖的制备方法,其特征在于,所述光学级透明塑料由改性聚碳酸酯制成。
7.根据权利要求1所述的一种磨砂面手机后盖的制备方法,其特征在于,所述裙边结构的宽度为15~20mm,所述裙边结构的背面设有至少2道防水沟槽。
8.根据权利要求1所述的一种磨砂面手机后盖的制备方法,其特征在于,所述硬化液包括哑光硬化液和稀释剂,所述哑光硬化液和稀释剂质量比例范围为100:(130~180)。
9.根据权利要求8所述的一种磨砂面手机后盖的制备方法,其特征在于,所述哑光硬化液包含聚氨酯丙烯酸酯和引发剂,质量比为100:(5~10);所述稀释剂包含正丁醇和乙酸乙酯,质量比为100:(60~100)。
10.一种磨砂面手机后盖,所述手机后盖采用权利要求1~9中任意一项所述的一种磨砂面手机后盖的制备方法制成,成品的厚度为0.5~1.2mm。
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