CN112144036B - 一种pvd真空镀膜机 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种PVD真空镀膜机，包括机壳，机壳从上至下依次设置有上清洁仓、工作仓和下清洁仓，上清洁仓和下清洁仓个设置有一个可移动的滑动筒壁，滑动筒壁可滑入工作仓内从而遮盖工作仓的内壁，工作仓内设置有主机头用于进行镀膜工作并且能够夹持多个被镀工件同时进行镀膜；工作仓的上顶和下底各设置有一圈封圈，封圈侧边设置有密封头，密封头重启后膨胀从而顶住封圈和滑动筒壁之间的空隙形成密闭的空间；上清洁仓和下清洁仓内设置有清洁部和烘干部，清洁部和烘干部对从工作仓退回至上清洁仓或下清洁仓的滑动筒壁进行清洁烘干工作。本发明能够自动清理真空镀膜机的内壁，并且不影响镀膜工作，既能够保证镀膜质量，又提高了效率。

Description

一种PVD真空镀膜机

技术领域

本发明涉及一种PVD真空镀膜机。

背景技术

PVD即物理气相沉积，是当前国际上广泛应用的先进的表面处理技术。其工作原理就是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。它具有沉积速度快和表面清洁的特点，特别具有膜层附着力强、绕性好、可镀材料广泛等优点。真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜的及其，工作原理包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

在真空镀膜过程中，由镀膜源发出的镀膜材料蒸汽被沉积到被镀元件的同时，也会部分溅射并沉积到镀膜机的内壁上，并随镀膜次数及时间的增加，越累越厚。而这些沉积物在内壁上的附着并不稳固，在元件镀膜过程中极易脱落到被镀元件上，造成被镀元件的镀膜缺陷。

按清洁周期清除镀膜机内腔及夹具表面沉积物成为光学元件真空镀膜工作的重要组成部分。

发明内容

本发明针对现有技术中的不足，提供了一种PVD真空镀膜机，能够自动清理真空镀膜机的内壁，并且不影响镀膜工作，既能够保证镀膜质量，又提高了效率。

为了解决上述技术问题，本发明通过下述技术方案得以解决：一种PVD真空镀膜机，包括机壳，所述机壳从上至下依次设置有上清洁仓、工作仓和下清洁仓，所述上清洁仓和所述下清洁仓各设置有一个可移动的滑动筒壁，所述滑动筒壁可滑入所述工作仓内从而遮盖工作仓的内壁，所述工作仓内设置有主机头用于进行镀膜工作并且能够夹持多个被镀工件同时进行镀膜；所述工作仓的上顶和下底各设置有一圈封圈，所述封圈侧边设置有密封头，所述密封头重启后膨胀从而顶住封圈和滑动筒壁之间的空隙形成密闭的空间；所述上清洁仓和所述下清洁仓内设置有清洁部和烘干部，所述清洁部和所述烘干部对从工作仓退回至上清洁仓或下清洁仓的滑动筒壁进行清洁烘干工作。

上述技术方案中，所述工作仓的上顶和下底边缘设置有限位环，所述限位环配合内壁对所述滑动筒壁的移动起导向限位作用，所述限位环设置有刮面斜块，所述刮面斜块作用于滑动筒壁的内壁用于刮去其上附着的沉积物；所述封圈和所述限位环之间具有间隙，位于工作仓底部的间隙出设置有若干个漏液孔；所述封圈的内壁设置有弧壁，所述弧壁上设置有若干个导向所述漏液孔的弧形洞。

上述技术方案中，所述下清洁仓正中部设置有一根支撑柱，所述支撑柱用于支撑所述工作仓的底部；所述支撑柱设置有四个通管孔。

上述技术方案中，所述下清洁仓内设置有可活动的移动底板，所述移动底板设置有四个圆周分布的放空孔，所述移动底板固定连接至可下移至下清洁仓内的滑动筒壁的底部，所述下清洁仓内设置有若干根底板升降柱，其中一根底板升降柱设置有螺纹并且和所述移动底板螺纹配合连接，所述底板升降柱顶端穿透所述移动底板顶在所述工作仓的底部，所述下清洁仓的底部设置有第一电机，所述第一电机能够驱使所述底板升降柱正向和反向转动，从而驱使所述移动底板上移和下降。

上述技术方案中，所述下清洁仓内设置有八根清洁部升降柱，所述清洁部升降柱顶部穿过所述放空孔并顶靠在所述工作仓的底部；所述清洁部升降柱上设置有可上下移动的所述清洁部，所述清洁部设置有喷雾部和位于喷雾部上下两端的喷水部，所述喷雾部设置有若干个朝向所述滑动筒壁的喷雾喷头，所述喷水部设置有若干个朝向所述滑动筒壁的高压水喷头；所述清洁部背部设置有清洁液管接头、高压水管接头和防干扰检测探头，所述清洁液管接头管路连通所述喷雾喷头，所述高压水管接头管路连通所述高压水喷头，所述清洁液管接头和所述高压水管接头螺纹连接清洁液管和高压水管，所述清洁液管和所述高压水管穿过通管孔和外界相连。

上述技术方案中，所述喷水部为弧形的突出部，其外侧壁设置有一道扩孔槽，所述扩孔槽内设置有若干个所述高压水喷头；所述清洁部通过齿轮咬合于所述清洁部升降柱上，并在清洁部内部设置有第二电机，所述第二电机通过齿轮啮合传动驱动清洁部在清洁部升降柱上进行移动工作；所述清洁部设置有电源线，所述电源线穿过所述通管孔和外界相连。

上述技术方案中，所述下清洁仓内设置有四根烘干部升降柱，所述烘干部内部设置有滑动连接部且通过所述滑动连接部安装至所述烘干部升降柱上；所述烘干部设置有朝向所述滑动筒壁的喷气口，所述烘干部内设置有气泵和加热装置，所述烘干部背侧设置有进气过滤口，所述加热装置将所述气泵从进气过滤口吸入的空气进行加热；所述烘干部和所述滑动连接部之间可相对摆动从而调整喷气口的喷气方向，摆动的幅度为正负10度。

上述技术方案中，所述滑动连接部通过齿轮咬合于所述烘干部升降柱上，并在烘干部内部设置有第三电机，所述第三电机通过齿轮啮合传动驱动滑动连接部在烘干部升降柱上进行移动工作；所述烘干部设置有电源线，所述电源线穿过所述通管孔和外界相连。

上述技术方案中，所述下清洁仓底部周边设置有排液槽，所述排液槽用于排出清洁部进行清洁工作时产生的废液；所述排液槽侧壁设置有换气口，所述换气口用于更换下清洁仓内的空气；所述排液槽和所述换气口连接有置换机构，所述置换机构用于清理废液和废弃，从而避免直排外界，导致污染环境。

上述技术方案中，所述上清洁仓内部结构和所述下清洁仓的结构一致，所述上清洁仓内的滑动壁筒的移动底板位于顶部。

本发明提供了一种PVD真空镀膜机，能够自动清理真空镀膜机的内壁，并且不影响镀膜工作，既能够保证镀膜质量，又提高了效率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，以下将对 实施例或现有技术描述中所需要使用的附图进行论述，显然，在结合附图进行 描述的技术方案仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员而 言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图所示实施例得到其它 的实施例及其附图。

图1是本发明结构示意图。

图2是本发明的工作仓结构示意图。

图3是图1中A处结构放大示意图。

图4是本发明的下清洁仓结构示意图。

图5是本发明的清洁部结构示意图。

图6是本发明的烘干部结构示意图。

图中：10机壳，工作仓1，主机头11，封圈12，密封头121，弧壁122，弧形洞123，限位环13，刮面斜块131，漏液孔14，下清洁仓2，支撑柱20，通管孔201，底板升降柱21，清洁部升降柱22，干部升降柱23，排液槽24，换气口25，上清洁仓3，滑动筒壁4，移动底板41，放空孔42，清洁部5，喷雾部51，喷雾喷头511，清洁液管接头512，喷水部52，高压水喷头521，扩孔槽522，高压水管接头523，防干扰检测探头53，烘干部6，滑动连接部61，喷气口62，进气过滤口63。

具体实施方式

以下将结合附图对本发明各实施例的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部实施例。基于本发明中所述的实施例，本领域普通技术人员在不需要创造性劳动的 前提下所得到的所有其它实施例，都在本发明所保护的范围内。

如图1至图6所示，一种PVD真空镀膜机，包括10机壳，所述10机壳从上至下依次设置有上清洁仓3、工作仓1和下清洁仓2，所述上清洁仓3和所述下清洁仓2各设置有一个可移动的滑动筒壁4，所述滑动筒壁4可滑入所述工作仓1内从而遮盖工作仓1的内壁，所述工作仓1内设置有主机头11用于进行镀膜工作并且能够夹持多个被镀工件同时进行镀膜；所述工作仓1的上顶和下底各设置有一圈封圈12，所述封圈12侧边设置有密封头121，所述密封头121重启后膨胀从而顶住封圈12和滑动筒壁4之间的空隙形成密闭的空间；所述上清洁仓3和所述下清洁仓2内设置有清洁部5和烘干部6，所述清洁部5和所述烘干部6对从工作仓1退回至上清洁仓3或下清洁仓2的滑动筒壁4进行清洁烘干工作。

所述工作仓1的上顶和下底边缘设置有限位环13，所述限位环13配合内壁对所述滑动筒壁4的移动起导向限位作用，所述限位环13设置有刮面斜块131，所述刮面斜块131作用于滑动筒壁4的内壁用于刮去其上附着的沉积物；所述封圈12和所述限位环13之间具有间隙，位于工作仓1底部的间隙出设置有若干个漏液孔14；所述封圈12的内壁设置有弧壁122，所述弧壁122上设置有若干个导向所述漏液孔14的弧形洞123。

所述下清洁仓2正中部设置有一根支撑柱20，所述支撑柱20用于支撑所述工作仓1的底部；所述支撑柱20设置有四个通管孔201。

所述下清洁仓2内设置有可活动的移动底板41，所述移动底板41设置有四个圆周分布的放空孔42，所述移动底板41固定连接至可下移至下清洁仓2内的滑动筒壁4的底部，所述下清洁仓2内设置有若干根底板升降柱21，其中一根底板升降柱21设置有螺纹并且和所述移动底板41螺纹配合连接，所述底板升降柱21顶端穿透所述移动底板41顶在所述工作仓1的底部，所述下清洁仓2的底部设置有第一电机，所述第一电机能够驱使所述底板升降柱21正向和反向转动，从而驱使所述移动底板41上移和下降。

所述下清洁仓2内设置有八根清洁部升降柱22，所述清洁部升降柱22顶部穿过所述放空孔42并顶靠在所述工作仓1的底部；所述清洁部升降柱22上设置有可上下移动的所述清洁部5，所述清洁部5设置有喷雾部51和位于喷雾部51上下两端的喷水部52，所述喷雾部51设置有若干个朝向所述滑动筒壁4的喷雾喷头511，所述喷水部52设置有若干个朝向所述滑动筒壁4的高压水喷头521；所述清洁部5背部设置有清洁液管接头512、高压水管接头523和防干扰检测探头53，所述清洁液管接头512管路连通所述喷雾喷头511，所述高压水管接头523管路连通所述高压水喷头521，所述清洁液管接头512和所述高压水管接头523螺纹连接清洁液管和高压水管，所述清洁液管和所述高压水管穿过通管孔201和外界相连。

所述喷水部52为弧形的突出部，其外侧壁设置有一道扩孔槽522，所述扩孔槽522内设置有若干个所述高压水喷头521；所述清洁部5通过齿轮咬合于所述清洁部升降柱22上，并在清洁部5内部设置有第二电机，所述第二电机通过齿轮啮合传动驱动清洁部5在清洁部升降柱22上进行移动工作；所述清洁部5设置有电源线，所述电源线穿过所述通管孔201和外界相连。

所述下清洁仓2内设置有四根烘干部升降柱23，所述烘干部6内部设置有滑动连接部61且通过所述滑动连接部61安装至所述烘干部升降柱23上；所述烘干部6设置有朝向所述滑动筒壁4的喷气口62，所述烘干部6内设置有气泵和加热装置，所述烘干部6背侧设置有进气过滤口63，所述加热装置将所述气泵从进气过滤口63吸入的空气进行加热；所述烘干部6和所述滑动连接部61之间可相对摆动从而调整喷气口62的喷气方向，摆动的幅度为正负10度。

所述滑动连接部61通过齿轮咬合于所述烘干部升降柱23上，并在烘干部6内部设置有第三电机，所述第三电机通过齿轮啮合传动驱动滑动连接部61在烘干部升降柱23上进行移动工作；所述烘干部6设置有电源线，所述电源线穿过所述通管孔201和外界相连。

所述下清洁仓2底部周边设置有排液槽24，所述排液槽24用于排出清洁部5进行清洁工作时产生的废液；所述排液槽24侧壁设置有换气口25，所述换气口25用于更换下清洁仓2内的空气；所述排液槽24和所述换气口25连接有置换机构，所述置换机构用于清理废液和废弃，从而避免直排外界，导致污染环境。

所述上清洁仓3内部结构和所述下清洁仓2的结构一致，所述上清洁仓3内的滑动壁筒的移动底板41位于顶部。

本装置的工作仓1，利用上下两处的封圈12，配合充气后膨胀的密封头121产生密封作用，再由主机头11上的抽真空设备抽取内部空气，从而形成“真空”的工作环境，方便进行镀膜工作。

本装置利用滑动筒壁4保护工作仓1的内壁，使得工作时溅射弥漫的镀膜材料蒸汽，凝结在滑动筒壁4上，而不是工作仓1的侧壁上，使得进行清洗的时候，只需要清洗滑动筒壁4和工装夹具即可。

本装置设置了下清洁仓2和上清洁仓3，两个清洁仓搭配一个工作仓1，从而使得在进行清洁工作的同时，工作仓1依旧能够进行镀膜的工作。

本装置利用清洁部5喷洒清洗液清洗滑动筒壁4，再利用烘干部6对其进行工作作用。在烘干部6进行烘干工作时，为了避免清洁部5的遮挡，妨碍了热气，本装置在清洁部5背部设置了防干扰检测探头53。防干扰检测探头53检测到烘干部6移动至清洁部5附近时，驱使清洁部5移动，避免干扰。防干扰检测探头53可用红外线进行检测，或用测距传感器进行测距从而判别。

本发明的具体工作步骤如下：第一步，将光学真空镀膜机内腔及夹具清洁干净；第二步，在工作仓内夹持批量的被镀工件，再将滑动筒壁移动至工作仓内，然后进行镀膜工作；第三部，驱使滑动筒壁离开工作仓内，取出完成镀膜工作的被镀工件；第四步，完成一个周期的工作，达到清洁时间点时，驱使滑动筒壁离开工作仓内，进入上清洁仓或下清洁仓内，取下工作仓夹具，更换新的工作仓夹具，再在工作仓内夹持批量的被镀工件，然后驱使干净的滑动筒壁至工作仓内进行镀膜工作；第五步，将取下工作仓夹具在清洗液中清洗，除去夹具表面沉积物，同时启动上清洁仓或下清洁仓的清洁工作，驱使清洁部喷洒清洗液至待清洗的滑动筒壁上，进行清洗工作，同时喷洒高压水进行辅助；第六步，完成清洗液清洗后，再喷洒高压水，冲刷滑动筒壁上的清洗液；第七步，对取下工作仓夹具进行烘干，同时启动烘干部工作，喷洒干净干燥的热空气至滑动筒壁上，进行烘干；第八步，完成清洗工作后，等待下一个清洁时间点时，重复第四步至第七步。

本发明能够持续进行镀膜工作，清洁工作不会对原本的镀膜工作产生影响，因此能够提高效率；而通过清洁工作，清理了内部的杂物，从而提高了镀膜的质量。

对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的。本发明的范围由所附权利要求进行限定，而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

本发明提供了一种PVD真空镀膜机，能够自动清理真空镀膜机的内壁，并且不影响镀膜工作，既能够保证镀膜质量，又提高了效率。

Claims (10)

1.一种PVD真空镀膜机，其特征在于：包括机壳，所述机壳从上至下依次设置有上清洁仓、工作仓和下清洁仓，所述上清洁仓和所述下清洁仓各设置有一个可移动的滑动筒壁，所述滑动筒壁可滑入所述工作仓内从而遮盖工作仓的内壁，所述工作仓内设置有主机头用于进行镀膜工作并且能够夹持多个被镀工件同时进行镀膜；所述工作仓的上顶和下底各设置有一圈封圈，所述封圈侧边设置有密封头，所述密封头重启后膨胀从而顶住封圈和滑动筒壁之间的空隙形成密闭的空间；所述上清洁仓和所述下清洁仓内设置有清洁部和烘干部，所述清洁部和所述烘干部对从工作仓退回至上清洁仓或下清洁仓的滑动筒壁进行清洁烘干工作。

2.根据权利要求1所述的真空镀膜机，其特征在于：所述工作仓的上顶和下底边缘设置有限位环，所述限位环配合内壁对所述滑动筒壁的移动起导向限位作用，所述限位环设置有刮面斜块，所述刮面斜块作用于滑动筒壁的内壁用于刮去其上附着的沉积物；所述封圈和所述限位环之间具有间隙，位于工作仓底部的间隙出设置有若干个漏液孔；所述封圈的内壁设置有弧壁，所述弧壁上设置有若干个导向所述漏液孔的弧形洞。

3.根据权利要求1所述的真空镀膜机，其特征在于：所述下清洁仓正中部设置有一根支撑柱，所述支撑柱用于支撑所述工作仓的底部；所述支撑柱设置有四个通管孔。

4.根据权利要求3所述的真空镀膜机，其特征在于：所述下清洁仓内设置有可活动的移动底板，所述移动底板设置有四个圆周分布的放空孔，所述移动底板固定连接至可下移至下清洁仓内的滑动筒壁的底部，所述下清洁仓内设置有若干根底板升降柱，其中一根底板升降柱设置有螺纹并且和所述移动底板螺纹配合连接，所述底板升降柱顶端穿透所述移动底板顶在所述工作仓的底部，所述下清洁仓的底部设置有第一电机，所述第一电机能够驱使所述底板升降柱正向和反向转动，从而驱使所述移动底板上移和下降。

5.根据权利要求4所述的真空镀膜机，其特征在于：所述下清洁仓内设置有八根清洁部升降柱，所述清洁部升降柱顶部穿过所述放空孔并顶靠在所述工作仓的底部；所述清洁部升降柱上设置有可上下移动的所述清洁部，所述清洁部设置有喷雾部和位于喷雾部上下两端的喷水部，所述喷雾部设置有若干个朝向所述滑动筒壁的喷雾喷头，所述喷水部设置有若干个朝向所述滑动筒壁的高压水喷头；所述清洁部背部设置有清洁液管接头、高压水管接头和防干扰检测探头，所述清洁液管接头管路连通所述喷雾喷头，所述高压水管接头管路连通所述高压水喷头，所述清洁液管接头和所述高压水管接头螺纹连接清洁液管和高压水管，所述清洁液管和所述高压水管穿过通管孔和外界相连。

6.根据权利要求5所述的真空镀膜机，其特征在于：所述喷水部为弧形的突出部，其外侧壁设置有一道扩孔槽，所述扩孔槽内设置有若干个所述高压水喷头；所述清洁部通过齿轮咬合于所述清洁部升降柱上，并在清洁部内部设置有第二电机，所述第二电机通过齿轮啮合传动驱动清洁部在清洁部升降柱上进行移动工作；所述清洁部设置有电源线，所述电源线穿过所述通管孔和外界相连。

7.根据权利要求4所述的真空镀膜机，其特征在于：所述下清洁仓内设置有四根烘干部升降柱，所述烘干部内部设置有滑动连接部且通过所述滑动连接部安装至所述烘干部升降柱上；所述烘干部设置有朝向所述滑动筒壁的喷气口，所述烘干部内设置有气泵和加热装置，所述烘干部背侧设置有进气过滤口，所述加热装置将所述气泵从进气过滤口吸入的空气进行加热；所述烘干部和所述滑动连接部之间可相对摆动从而调整喷气口的喷气方向，摆动的幅度为正负10度。

8.根据权利要求7所述的真空镀膜机，其特征在于：所述滑动连接部通过齿轮咬合于所述烘干部升降柱上，并在烘干部内部设置有第三电机，所述第三电机通过齿轮啮合传动驱动滑动连接部在烘干部升降柱上进行移动工作；所述烘干部设置有电源线，所述电源线穿过所述通管孔和外界相连。

9.根据权利要求3所述的真空镀膜机，其特征在于：所述下清洁仓底部周边设置有排液槽，所述排液槽用于排出清洁部进行清洁工作时产生的废液；所述排液槽侧壁设置有换气口，所述换气口用于更换下清洁仓内的空气；所述排液槽和所述换气口连接有置换机构，所述置换机构用于清理废液和废弃，从而避免直排外界，导致污染环境。

10.根据权利要求3所述的真空镀膜机，其特征在于：所述上清洁仓内部结构和所述下清洁仓的结构一致，所述上清洁仓内的滑动壁筒的移动底板位于顶部。

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