CN112126955B - 一种膛线式空心旋转电极的激光电化学复合沉积的方法及装置 - Google Patents

一种膛线式空心旋转电极的激光电化学复合沉积的方法及装置 Download PDF

Info

Publication number
CN112126955B
CN112126955B CN202010832204.7A CN202010832204A CN112126955B CN 112126955 B CN112126955 B CN 112126955B CN 202010832204 A CN202010832204 A CN 202010832204A CN 112126955 B CN112126955 B CN 112126955B
Authority
CN
China
Prior art keywords
hollow rotating
rotating electrode
rifling
laser
deposition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202010832204.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN112126955A (zh
Inventor
张朝阳
吴予澄
徐坤
戴学仁
杨帅
郭盛
赵斗艳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jiangsu University
Original Assignee
Jiangsu University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jiangsu University filed Critical Jiangsu University
Priority to CN202010832204.7A priority Critical patent/CN112126955B/zh
Publication of CN112126955A publication Critical patent/CN112126955A/zh
Priority to GB2214784.7A priority patent/GB2616490A/en
Priority to PCT/CN2021/105776 priority patent/WO2022037315A1/zh
Priority to US17/617,005 priority patent/US11512407B2/en
Application granted granted Critical
Publication of CN112126955B publication Critical patent/CN112126955B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/18Electroplating using modulated, pulsed or reversing current
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/10Electrodes, e.g. composition, counter electrode
    • C25D17/12Shape or form
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D13/00Electrophoretic coating characterised by the process
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/02Electroplating of selected surface areas
    • C25D5/024Electroplating of selected surface areas using locally applied electromagnetic radiation, e.g. lasers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/08Electroplating with moving electrolyte e.g. jet electroplating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)

Abstract

本发明公开了一种膛线式空心旋转电极的激光电化学复合沉积的方法及装置,涉及特种加工技术中的微细复合加工领域。本发明在加工过程中,电极内部的膛线结构高速旋转使得沉积液产生向心力从而提高定域精度,同时能够使得颗粒在沉积过程中保持悬浮状态,分散均匀性大大提高。膛线式空心旋转电极内部的膛线结构和外部的螺旋结构可以使得沉积液向上运动,形成沉积液的“自循环”系统,及时带走气泡,抑制浓差极化,提高沉积层的质量。激光辐照区域能够加快反应速率。本发明适用于定域电沉积以及高性能复合镀层的加工,可以应用于医疗、电子、航天等微细制造加工领域。

Description

一种膛线式空心旋转电极的激光电化学复合沉积的方法及 装置
技术领域
本发明涉及特种加工技术中的微细复合加工领域,尤其涉及到一种膛线式空心旋转电极的激光电化学复合沉积的方法及装置,适用于定域电沉积以及高性能复合镀层的加工。
背景技术
定域电沉积技术是一种利用阳极尖端与阴极基板之间产生的强电场来发生电化学反应的技术,可以在金属、半导体等材料的阴极基板任意位置上沉积出各种形状的结构,适用于汽车、航天、医疗等领域,但是存在精度不易控制以及有气孔、凸起等缺陷的问题。因此,在电沉积系统中引入复合能场是一种有效的解决办法。激光加工是一种非接触式的加工方法,具有能量密度高、效率高、柔性好等优点,在电沉积系统中引入激光辐照,利用激光热作用能够增加阴极电极电位,提高极限电流密度,从而实现激光辐照引导的定域沉积。
含有纳米颗粒的复合镀层相比于单一镀层具有更好的耐磨性、耐蚀性等性能,具有良好的发展应用前景,但是在复合沉积液的前期准备中需要将颗粒在沉积液中均匀分散,在沉积过程中液必须搅拌才能保持颗粒的悬浮状态。粒子团聚会降低镀层性能,如何有效避免沉积过程中颗粒团聚是复合沉积的关键问题。
关于定域电沉积技术国内外学者已经进行了一定的研究。中国专利“一种金属三维增材制造装置与方法”,中国专利公开号CN108103541A提出:利用成膜喷头在阴极基底上堆积出两列膜层,射流喷头将电解液喷射至阴极基底表面的两列膜层中间区域,定域电沉积出金属层,通过提升喷头的高度,不断叠加堆积膜层和金属层,实现三维金属构件的增材制造。该发明操作较为繁琐,且膜层去除时影响材料表面质量,沉积复杂形状表面成型精度低。
关于复合沉积过程中颗粒易团聚的问题,国内外学者已经进行了初步的研究。中国专利“一种采用磁场辅助复合电镀的方法”,中国专利公开号CN105568348A提出:采用磁场辅助复合电镀的方法,将核壳结构的磁性三氧化二铁微粒超声分散在电镀液中;在外加磁场的作用下,将分散在镀液中的核壳结构磁性微粒吸附在阴极表面;将电流通过电镀体系,吸附在阴极的核壳结构磁性微粒随沉积金属层厚度增加,逐步复合到金属镀层中,形成复合镀层。该方法中核壳结构的磁性微粒制作难度很大,并且有一定的应用局限性。
发明内容
针对现有技术中存在的不足,本发明提供了一种膛线式空心旋转电极的激光电化学复合沉积的方法。在加工过程中,利用匀速旋转的膛线式空心旋转电极产生向心力,提高定域沉积精度,同时能够使得纳米颗粒保持悬浮状态,分散均匀性提高,并形成溶液的“自循环”,抑制浓差极化,提高沉积层的质量。
本发明还提供了一种膛线式空心旋转电极的激光电化学沉积的装置,利用该装置可以实现上述方法。
本发明是通过以下技术手段实现上述技术目的的。
一种膛线式空心旋转电极的激光电化学复合沉积的方法,包括以下步骤:膛线式空心旋转电极、阴极基板置于工作槽中,且分别与电化学电源的正极与负极相连;激光中心穿过膛线式空心旋转电极并聚焦到阴极基板上;膛线式空心旋转电极匀速旋转,电沉积液在膛线式空心旋转电极内旋转并产生一定的向心力,使得沉积精度提高、定域性加强。
进一步的,电沉积液内含有纳米颗粒。
进一步的,所述膛线式空心旋转电极为不溶性空心阳极管,耐高温、抗酸碱且外部绝缘。
一种膛线式空心旋转电极的激光电化学复合沉积的装置,包括激光加工系统、电化学加工系统和控制系统;其中,激光加工系统包括脉冲激光器、反射镜和聚焦透镜;所述反射镜置于脉冲激光器水平方向,所述聚焦透镜置于反射镜正下方;激光与膛线式空心旋转电极圆心对齐并聚焦到工件上表面;所述电化学加工系统包括电化学电源、膛线式空心旋转电极和阴极基板;所述电化学电源的正极与膛线式空心旋转电极相连,负极与阴极基板相连;所述膛线式空心旋转电极位于阴极基板正上方且保持一定的起始间隙;所述控制系统包括计算机、控制柜、X-Y-Z工作台和数控平台;所述计算机通过连接端口与控制柜和脉冲激光器相连接;所述控制柜与数控平台以及X-Y-Z工作台相连接。
进一步的,所述膛线式空心旋转电极内部为膛线式结构,外部为螺旋式结构,且膛线式结构与螺旋式结构的螺旋方向相反。
进一步的,所述膛线式空心旋转电极与阴极基板之间的起始间隙为20μm~30μm。
进一步的,所述膛线式空心旋转电极上开设有方孔,电沉积液可通过方孔进入膛线式空心旋转电极内部。
进一步的,膛线式空心旋转电极旋转速度500r/min~1000r/min。
进一步的,所述脉冲激光器形成的激光直径小于膛线式空心旋转电极内径;脉冲激光器波长为1064nm,频率为1Hz~100Hz,单脉冲能量为100mJ~200mJ。
进一步的,所述电化学电源为脉冲电源,电压0~20V,频率1kHz~2MHz,占空比0~100%。
本发明的技术优势和有益效果:
1. 膛线式空心旋转电极在加工过程中匀速旋转使得沉积液产生向心力从而提高定域精度。
2. 膛线式空心旋转电极内部的膛线结构能够使得颗粒在沉积过程中保持悬浮状态,分散均匀性大大提高,省去复合沉积液的制备时间,并大大提高沉积效率。
3. 膛线式空心旋转电极内部的膛线结构和外部的螺旋结结构相反可以使得沉积液形成“自循环”系统,及时带走气泡,抑制浓差极化,提高沉积层的质量。
4. 激光照射可以提高加工区域反应速率,形成的微区搅拌也可以抑制浓差极化,排除气泡并提高沉积的均匀性,从而提高沉积层质量。
附图说明
图1为根据本发明实施例的一种膛线式空心旋转电极的激光电化学复合沉积的装置结构示意图;
图2a为膛线式空心旋转电极的结构侧视图;
图2b为膛线式空心旋转电极的结构剖视图;
图2c为膛线式空心旋转电极的结构俯视图。
附图标记:1-计算机;2-控制柜;3-电化学电源;4-X-Y-Z工作台;5-工作槽;6-阴极基板;7-膛线式空心旋转电极;8-专用夹头;9-聚焦透镜;10-反射镜;11-脉冲激光器;12-数控平台。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“轴向”、“径向”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
结合附图1所示,一种膛线式空心旋转电极的激光电化学复合沉积的装置,包括激光调制系统、电化学加工系统和控制系统;所述激光加工系统包括脉冲激光器11、反射镜10和聚焦透镜9。所述反射镜10置于脉冲激光器11水平方向,所述聚焦透镜9置于反射镜10正下方;激光中心与膛线式空心旋转电极7圆心对齐,通过内部后聚焦到工件上表面;
所述电化学加工系统包括电化学电源3、膛线式空心旋转电极7和阴极基板6;所述电化学电源3的正极与膛线式空心旋转电极7相连,负极与阴极基板6相连;所述膛线式空心旋转电极7位于阴极基板6正上方且保持一定的起始间隙;膛线式空心旋转电极7与阴极基板6之间的起始间隙为20μm~30μm。
其中,起始间隙为膛线式空心旋转电极7位于阴极基板6之间最初的间隙,随着沉积高度的增加,沉积过程中的膛线式空心旋转电极7位于阴极基板6上沉积高度之间的间隙会变小,因此,根据加工沉积层的厚度需要通过数控平台12来保持膛线式空心旋转电极7与阴极基板6的间隙大小,即膛线式空心旋转电极7与阴极基板6之间存在间隙,从而确保加工后的沉积层与膛线式空心旋转电极7不接触。
所述控制系统包括计算机1、控制柜2、X-Y-Z工作台4和数控平台12;所述计算机1通过连接端口与控制柜2和脉冲激光器11相连接;所述控制柜2与数控平台12以及X-Y-Z工作台4相连接。
其中所述膛线式空心旋转电极7为不溶性阳极管,耐高温、抗酸碱且外部绝缘,与阴极基板6的加工起始间隙为20μm~30μm,内部为膛线式结构,外部为螺旋式结构,内径2mm~5mm,外部开有能够使得沉积液进入电极内部的方孔,加工时旋转速度500r/min~1000r/min,速度稳定;所述脉冲激光器11波长为1064nm,频率为1Hz~100Hz,单脉冲能量为100mJ~200mJ,形成激光直径小于膛线式空心旋转电极7内径;所述电化学电源3为脉冲电源,电压0~20V,频率1kHz~2MHz,占空比0~100%。
本发明在加工过程中,电极内部的膛线结构高速旋转使得沉积液产生向心力从而提高定域精度,同时能够使得颗粒在沉积过程中保持悬浮状态,分散均匀性大大提高。膛线式空心旋转电极内部的膛线结构和外部的螺旋结构可以使得沉积液向上运动,形成沉积液的“自循环”系统,及时带走气泡,抑制浓差极化,提高沉积层的质量。 激光照射可以提高加工区域反应速率,形成的微区搅拌也可以抑制浓差极化,排除气泡并提高沉积的均匀性,从而提高沉积层质量。本发明适用于定域电沉积以及高性能复合镀层的加工,可以应用于医疗、电子、航天等微细制造加工领域。
膛线式空心旋转电极7的结构示意图。膛线式空心旋转电极7的外部为开有方孔的螺旋结构,如图2a所示。内部为与外部螺旋方向相反的膛线结构,如图2b所示。如图2c的膛线式空心旋转电极7俯视图所示,沉积液会在电极内部与电极外部周围的运动方向相反。
一种膛线式空心旋转电极的激光电化学复合沉积的方法,包括以下步骤:基材预处理:阴极基板6经过打磨、抛光、超声清洗等预处理后,放入工作槽5中;确定加工位置。利用专用夹头8夹住膛线式空心旋转电极7,调节数控平台12使其位于离阴极基板6一定起始间隙的加工位置;激光聚焦:调节激光加工系统使激光中心与膛线式空心旋转电极7圆心对齐并聚焦到阴极基板6表面;电极旋转:倒入沉积液后,使得沉积液浸没膛线式空心旋转电极7外部的方孔,并使电极保持稳定匀速旋转;开始加工:膛线式空心旋转电极7匀速旋转时,由于电极内部膛线结构的作用,沉积液向下挤压时会产生一定的向心力,使得沉积的精度提高、定域性加强, 激光照射可以提高加工区域反应速率,形成的微区搅拌也可以抑制浓差极化,排除气泡并提高沉积的均匀性,从而提高沉积层质量;当沉积液中含有如纳米颗粒等物质时,沉积液在膛线式空心旋转电极7中会匀速旋转,能够减少团聚现象,使得纳米颗粒的分散均匀性大大提高;当膛线式空心旋转电极7匀速旋转时,电极外部周围的沉积液会向上提升,从而形成了沉积液“自循环”系统,能够抑制浓差极化,提高沉积层质量。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例,可以理解的是,上述实施例是示例性的,不能理解为对本发明的限制,本领域的普通技术人员在不脱离本发明的原理和宗旨的情况下在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (9)

1.一种膛线式空心旋转电极的激光电化学复合沉积的方法,其特征在于,包括以下步骤:
膛线式空心旋转电极(7)、阴极基板(6)置于工作槽(5)中,且分别与电化学电源(3)的正极与负极相连;
激光中心穿过膛线式空心旋转电极(7)并聚焦到阴极基板(6)上;
膛线式空心旋转电极(7)匀速旋转,电沉积液在膛线式空心旋转电极(7)内旋转并产生一定的向心力,使得沉积精度提高、定域性加强;所述膛线式空心旋转电极(7)内部为膛线式结构,外部为螺旋式结构,且膛线式结构与螺旋式结构的螺旋方向相反。
2.根据权利要求1所述的膛线式空心旋转电极的激光电化学复合沉积的方法,其特征在于,电沉积液内含有纳米颗粒。
3.根据权利要求1所述的膛线式空心旋转电极的激光电化学复合沉积的方法,其特征在于,所述膛线式空心旋转电极(7)为不溶性空心阳极管,耐高温、抗酸碱且外部绝缘。
4.一种膛线式空心旋转电极的激光电化学复合沉积的装置,其特征在于,包括激光加工系统、电化学加工系统和控制系统;
其中,激光加工系统包括脉冲激光器(11)、反射镜(10)和聚焦透镜(9);所述反射镜(10 )置于脉冲激光器(11)水平方向,所述聚焦透镜(9)置于反射镜(10 )正下方;激光与膛线式空心旋转电极(7)圆心对齐并聚焦到工件上表面;
所述电化学加工系统包括电化学电源(3)、膛线式空心旋转电极(7)和阴极基板(6);所述电化学电源(3)的正极与膛线式空心旋转电极(7)相连,负极与阴极基板(6)相连;所述膛线式空心旋转电极(7)位于阴极基板(6)正上方且保持一定的起始间隙;
所述控制系统包括计算机(1)、控制柜(2)、X-Y-Z工作台(4)和数控平台(12);所述计算机(1)通过连接端口与控制柜(2)和脉冲激光器(11)相连接;所述控制柜(2)与数控平台(12)以及X-Y-Z工作台(4)相连接;所述膛线式空心旋转电极(7)内部为膛线式结构,外部为螺旋式结构,且膛线式结构与螺旋式结构的螺旋方向相反。
5.根据权利要求4所述的膛线式空心旋转电极的激光电化学复合沉积的装置,其特征在于,所述膛线式空心旋转电极(7)与阴极基板(6)之间的起始间隙为20μm~30μm。
6.根据权利要求4所述的膛线式空心旋转电极的激光电化学复合沉积的装置,其特征在于,所述膛线式空心旋转电极(7)上开设有方孔,电沉积液可通过方孔进入膛线式空心旋转电极(7)内部。
7.根据权利要求4所述的膛线式空心旋转电极的激光电化学复合沉积的装置,其特征在于,膛线式空心旋转电极(7)旋转速度500r/min~1000r/min。
8.根据权利要求4所述的膛线式空心旋转电极的激光电化学复合沉积的装置,其特征在于,所述脉冲激光器(11)形成的激光直径小于膛线式空心旋转电极(7)内径;脉冲激光器(11)波长为1064nm,频率为1Hz~100Hz,单脉冲能量为100mJ~200mJ。
9.根据权利要求4所述的膛线式空心旋转电极的激光电化学复合沉积的装置,其特征在于,所述电化学电源(3)为脉冲电源,电压0~20V,频率1kHz~2MHz,占空比0~100%。
CN202010832204.7A 2020-08-18 2020-08-18 一种膛线式空心旋转电极的激光电化学复合沉积的方法及装置 Active CN112126955B (zh)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010832204.7A CN112126955B (zh) 2020-08-18 2020-08-18 一种膛线式空心旋转电极的激光电化学复合沉积的方法及装置
GB2214784.7A GB2616490A (en) 2020-08-18 2021-07-12 Method and device for laser electrochemical composite deposition using rifling hollow rotating electrode
PCT/CN2021/105776 WO2022037315A1 (zh) 2020-08-18 2021-07-12 一种膛线式空心旋转电极的激光电化学复合沉积的方法及装置
US17/617,005 US11512407B2 (en) 2020-08-18 2021-07-12 Method and device for laser-assisted electrochemical composite deposition using rifling-type hollow rotating electrode

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010832204.7A CN112126955B (zh) 2020-08-18 2020-08-18 一种膛线式空心旋转电极的激光电化学复合沉积的方法及装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN112126955A CN112126955A (zh) 2020-12-25
CN112126955B true CN112126955B (zh) 2021-08-03

Family

ID=73850350

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202010832204.7A Active CN112126955B (zh) 2020-08-18 2020-08-18 一种膛线式空心旋转电极的激光电化学复合沉积的方法及装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US11512407B2 (zh)
CN (1) CN112126955B (zh)
GB (1) GB2616490A (zh)
WO (1) WO2022037315A1 (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112126955B (zh) * 2020-08-18 2021-08-03 江苏大学 一种膛线式空心旋转电极的激光电化学复合沉积的方法及装置
CN113481555A (zh) * 2021-07-15 2021-10-08 江苏大学 一种利用激光复合电化学技术对材料内壁进行定域电沉积修复的方法及装置

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4430165A (en) * 1981-07-24 1984-02-07 Inoue-Japax Research Incorporated Laser-activated electrodepositing method and apparatus
CN103572341A (zh) * 2013-09-23 2014-02-12 江苏大学 激光光管电极的电化学复合沉积制造方法与装置
CN103590076A (zh) * 2013-11-28 2014-02-19 铜陵学院 一种激光强化电沉积快速成形加工装置及方法
CN103590080A (zh) * 2013-11-28 2014-02-19 铜陵学院 一种激光强化喷射电沉积快速成形加工装置及方法
CN203593801U (zh) * 2013-11-28 2014-05-14 铜陵学院 一种激光强化电沉积快速成形加工装置
CN106757285A (zh) * 2016-11-25 2017-05-31 江苏大学 空心激光的光内送粉复合电沉积加工方法及其装置
CN107723761A (zh) * 2017-08-24 2018-02-23 江苏大学 一种激光冲击压电陶瓷定域微细电沉积的装置及方法
CN109735883A (zh) * 2019-02-20 2019-05-10 江苏大学 一种激光辅助柔性随动式工具电极微细电沉积的装置及方法
CN110565130A (zh) * 2019-09-11 2019-12-13 张家港博发纳米材料科技有限公司 一种激光增强三维微区电沉积方法及其对应的装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2063484C1 (ru) * 1994-05-10 1996-07-10 Орловский сельскохозяйственный институт Электрод для нанесения гальванического покрытия методом электрохимического натирания
EP2974813A1 (de) * 2014-07-17 2016-01-20 MTU Aero Engines GmbH Anlage und verfahren zur generativen herstellung und/oder reparatur von bauteilen
CN105568348A (zh) 2016-01-19 2016-05-11 上海应用技术学院 一种采用磁场辅助复合电镀的方法
CN108103541B (zh) 2017-11-09 2019-11-22 河南理工大学 一种金属三维增材制造装置与方法
CN107937939B (zh) 2017-11-16 2020-05-05 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 三维微细金属结构增材的制造方法及其制造装置
CN110528054B (zh) * 2019-08-31 2021-05-18 江西豪越群电子有限公司 一种pcb板不停槽电沉积镍的装置和方法
CN112126955B (zh) * 2020-08-18 2021-08-03 江苏大学 一种膛线式空心旋转电极的激光电化学复合沉积的方法及装置

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4430165A (en) * 1981-07-24 1984-02-07 Inoue-Japax Research Incorporated Laser-activated electrodepositing method and apparatus
CN103572341A (zh) * 2013-09-23 2014-02-12 江苏大学 激光光管电极的电化学复合沉积制造方法与装置
CN103590076A (zh) * 2013-11-28 2014-02-19 铜陵学院 一种激光强化电沉积快速成形加工装置及方法
CN103590080A (zh) * 2013-11-28 2014-02-19 铜陵学院 一种激光强化喷射电沉积快速成形加工装置及方法
CN203593801U (zh) * 2013-11-28 2014-05-14 铜陵学院 一种激光强化电沉积快速成形加工装置
CN106757285A (zh) * 2016-11-25 2017-05-31 江苏大学 空心激光的光内送粉复合电沉积加工方法及其装置
CN107723761A (zh) * 2017-08-24 2018-02-23 江苏大学 一种激光冲击压电陶瓷定域微细电沉积的装置及方法
CN109735883A (zh) * 2019-02-20 2019-05-10 江苏大学 一种激光辅助柔性随动式工具电极微细电沉积的装置及方法
CN110565130A (zh) * 2019-09-11 2019-12-13 张家港博发纳米材料科技有限公司 一种激光增强三维微区电沉积方法及其对应的装置

Also Published As

Publication number Publication date
GB202214784D0 (en) 2022-11-23
GB2616490A (en) 2023-09-13
WO2022037315A1 (zh) 2022-02-24
CN112126955A (zh) 2020-12-25
US11512407B2 (en) 2022-11-29
US20220307150A1 (en) 2022-09-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN112126955B (zh) 一种膛线式空心旋转电极的激光电化学复合沉积的方法及装置
CN109913919B (zh) 一种在工件表面制备微纳二维结构的加工方法及装置
CN103590076A (zh) 一种激光强化电沉积快速成形加工装置及方法
CN115142102B (zh) 一种利用激光辐照实现薄壁件背面诱导定域电沉积的方法及装置
CN112176383A (zh) 一种利用激光电沉积复合加工的装置及方法
US11992889B2 (en) Method for preparing a cross-size micro-nano structure array
CN113737237B (zh) 一种激光辅助电沉积制备梯度镀层的方法及装置
JPWO2017159838A1 (ja) プラズマ生成装置
CN111515480B (zh) 一种微粒辅助掩膜电解加工的装置及方法
CN109676379A (zh) 激光刻蚀电化学微增材换热功能表面的制备装置及方法
CN114605080B (zh) 一种基于交变电场辅助加工玻璃通孔的方法及蚀刻装置
CN112207376B (zh) 一种基于可变电场的阵列管状阳极辅助激光电化学复合加工的方法及装置
JP2006336050A (ja) 金属製部品の陽極酸化処理装置
CN114481266B (zh) 一种激光刻蚀微织构表面复合电沉积自润滑涂层的制备方法及装置
JP2004043873A (ja) アルミニウム合金の表面処理方法
US20240229283A1 (en) Method and device for induced localized electrodeposition on back side of thin-walled workpiece through laser irradiation
CN115584548A (zh) 一种激光重熔提升纳米颗粒复合镀层性能的方法及装置
TWI427196B (zh) 納米級金屬粒子/金屬複合鍍層的形成裝置及形成方法
CN113681155B (zh) 一种激光辅助电化学处理孔质量的方法及装置
Li et al. Advances in magnetic field-assisted ECM—from magnetoelectric effects to technology applications
CN114737230B (zh) 一种激光增强电化学沉积制备带有跨尺度微纳结构功能性薄膜的方法及装置
Miao et al. Fabrication of semicircular micro-grooves on Ti6Al4V by through-mask scanning electrochemical machining
CN114481248A (zh) 一种在硅表面定域电沉积的加工装置及方法
CN112975011B (zh) 一种高定域性微沟槽电解加工装置及方法
CN112222549A (zh) 一种倾斜式磁性阴极板激光电化学复合钻孔的装置及方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant