CN112097618A - 一种快速检验叶轮键槽对称度的装置 - Google Patents

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焦玉雪
聂玉利
逯晨晓
亓国瑞
卢福军
李加恒
胡安军
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Shandong Yanshan Precision Machinery Co ltd
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Abstract

本发明公开了一种快速检验叶轮键槽对称度的装置，包括塞规本体，所述塞规本体包括装配轴，塞规本体的一侧设有键槽。带轴键槽塞规中的轴直径与装配轴一致。本发明与现有技术相比的优点在于：带轴键槽塞规可以快速的检验出键槽在装配时是否达到装配要求，是否能够顺利的装配到相对应的部位。防止因键槽对称度不合格及无法装配造成的返修。其结构简单，原理简单，制作方便，省时省力，降低了劳动强度，降低了加工成本，提高了生产效率。

Description

一种快速检验叶轮键槽对称度的装置
技术领域
本发明涉及一种快速检验叶轮键槽对称度的装置，具体的说是一种带轴键槽塞规。
背景技术
在企业生产中，钼丝在线切割设备进行制作键槽时，因钼丝在使用过程中，钼丝会不断的磨损，使用钼丝松紧调节器，仍然无法保证叶轮键槽对称度的公差要求，致使无法进行安装，需要重新进行加工键槽。目前检验此类键槽对称度的方法是用量具进行测量对称度，测量方法比较繁琐，需要频繁装卸叶轮，费时费力。通过使用本装置，即可快速有效的检验出生产的键槽对称度是否符合图纸要求和能否进行装配。
发明内容
本发明要解决的技术问题是克服以上技术缺陷，提供一种快速检验叶轮键槽对称度的装置，机构简单，克服现在测量叶轮键槽对称度时频繁装卸叶轮的问题，减少工人工作强度，使用该装置可以用于快速检验叶轮键槽是否符合图纸及安装使用要求，减少返修次数，提高加工效率。
为解决上述技术问题，本发明提供的技术方案为：一种快速检验叶轮键槽对称度的装置，包括塞规本体，所述塞规本体包括装配轴，塞规本体的一侧设有键槽。
进一步的，带轴键槽塞规中的轴直径与装配轴一致，所述的带轴键槽塞规是指根据叶轮装配的轴进行测量，根据实际装配轴的实际大小及键槽尺寸公差及对称度要求，利用数控加工中心加工出的带轴键槽塞规。
进一步的，利用线切割将叶轮进行切割键槽，线切割时使用钼丝调节器，调节钼丝，避免钼丝因磨损造成切割不均匀，叶轮键槽制作完成后，用带轴键槽塞规进行检验，正常通过即为生产合格。
本发明与现有技术相比的优点在于：带轴键槽塞规可以快速的检验出键槽在装配时是否达到装配要求，是否能够顺利的装配到相对应的部位。防止因键槽对称度不合格及无法装配造成的返修。其结构简单，原理简单，制作方便，省时省力，降低了劳动强度，降低了加工成本，提高了生产效率。
附图说明
图1是本发明一种快速检验叶轮键槽对称度的装置的结构示意图。
如图所示：1、键槽规，2、装配轴。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例，对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
结合附图，一种快速检验叶轮键槽对称度的装置，包括塞规本体，所述塞规本体包括装配轴，塞规本体的一侧设有键槽。带轴键槽塞规中的轴直径与装配轴一致，所述的带轴键槽塞规是指根据叶轮装配的轴进行测量，根据实际装配轴的实际大小及键槽尺寸公差及对称度要求，利用数控加工中心加工出的带轴键槽塞规。
本发明在具体实施时，利用线切割将叶轮进行切割键槽，线切割时使用钼丝调节器，调节钼丝，避免钼丝因磨损造成切割不均匀。叶轮键槽制作完成后，用图1所示的带轴键槽塞规进行检验。正常通过即为生产合格。
以上对本发明及其实施方式进行了描述，这种描述没有限制性，附图中所示的也只是本发明的实施方式之一，实际的结构并不局限于此。总而言之如果本领域的普通技术人员受其启示，在不脱离本发明创造宗旨的情况下，不经创造性的设计出与该技术方案相似的结构方式及实施例，均应属于本发明的保护范围。

Claims (3)

1.一种快速检验叶轮键槽对称度的装置，包括塞规本体，其特征在于：所述塞规本体包括装配轴，塞规本体的一侧设有键槽。
2.根据权利要求1所述的一种快速检验叶轮键槽对称度的装置，其特征在于：带轴键槽塞规中的轴直径与装配轴一致，所述的带轴键槽塞规是指根据叶轮装配的轴进行测量，根据实际装配轴的实际大小及键槽尺寸公差及对称度要求，利用数控加工中心加工出的带轴键槽塞规。
3.根据权利要求1所述的一种快速检验叶轮键槽对称度的装置，其特征在于：利用线切割将叶轮进行切割键槽，线切割时使用钼丝调节器，调节钼丝，避免钼丝因磨损造成切割不均匀，叶轮键槽制作完成后，用带轴键槽塞规进行检验，正常通过即为生产合格。
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SE01 Entry into force of request for substantive examination
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RJ01 Rejection of invention patent application after publication
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