CN112071866B - 显示面板及制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种显示面板及制备方法，显示面板具有显示区和透光区，显示区至少部分环绕透光区设置，显示面板包括：衬底层，包括层叠设置的第一衬底和第二衬底，至少第一衬底上具有位于透光区的第一开孔；功能层，位于衬底层靠近第一衬底的一侧，具有填充于第一开孔的填充部，且功能层的填充部的透光率大于衬底层的透光率。在第一衬底的第一开孔处的透光率相比第一衬底的其他部分的透光率更大，能够有效提高显示面板的透光区的透光率，同时不需要因设置通孔而在透光区设置堤坝，减小了透光区的边框宽度，在应用感光元件后，能够有效提高感光元件的成像效果。
Description
技术领域
本发明属于电子产品技术领域，尤其涉及一种显示面板及制备方法。
背景技术
随着科技的进步，智能手机、平板电脑等数字化显示装置得到广泛的应用，其中，显示屏是这些显示装置中不可或缺的人际沟通界面。诸如有机发光二极管(Organic LightEmitting Diode，OLED)显示面板，具有自发光、节能降耗、可弯曲、柔韧性佳等优点，且该实现显示的显示装置，其不需要背光源，具有反应速度快和显示效果好的特点，受到用户的关注，被广泛应用于智能手机、平板电脑等终端产品中。
为了提高屏幕占有率，现有技术中在显示屏上用激光打一个相对大小的孔，适用于手机的摄像头，通常有通孔和盲孔两种方案，通孔方案由于保证封装的有效宽度的需求，其打孔位置边框较大，而盲孔方案由于封装仍为整体，透光率较差。
因此，亟需一种新的显示面板及制备方法。
发明内容
本发明实施例提供了一种显示面板及制备方法，能够有效提高显示面板的透光区的透光率。
本发明实施例一方面提供了一种显示面板，显示面板具有显示区和透光区，所述显示区至少部分环绕所述透光区设置，其包括：衬底层，包括层叠设置的第一衬底和第二衬底，至少所述第一衬底上具有位于所述透光区的第一开孔；功能层，位于所述衬底层靠近所述第一衬底的一侧，具有填充于所述第一开孔的填充部，且所述填充部的透光率大于所述衬底层的透光率。
根据本发明的一个方面，所述功能层包括阵列层，设置于所述衬底层靠近所述第一衬底的一侧，所述阵列层具有位于所述透光区的第二开孔；发光层，位于所述阵列层远离所述衬底层一侧，具有位于所述透光区的第三开孔；封装层，覆盖于所述发光层，所述填充部由所述封装层延伸形成，填充于所述第一开孔、所述第二开孔和所述第三开孔。
根据本发明的一个方面，所述功能层包括阵列层，设置于所述衬底层靠近所述第一衬底的一侧，所述阵列层具有位于所述透光区的第二开孔；发光层，设置于所述阵列层远离所述衬底层一侧，包括像素定义层，所述填充部由所述像素定义层延伸形成，填充于所述第一开孔和所述第二开孔；封装层，覆盖于所述发光层。
根据本发明的一个方面，所述功能层包括阵列层，设置于所述衬底层靠近所述第一衬底的一侧，所述阵列层具有位于所述透光区的第二开孔；发光层，设置于所述阵列层远离所述衬底层一侧；封装层，覆盖于所述发光层；透明膜层，所述填充部由透明膜层形成，所述透明膜层填充于所述第一开孔和所述第二开孔。
根据本发明的一个方面，所述第二衬底上具有位于所述透光区的第四开孔，所述透明膜层至少部分填充于所述第四开孔；优选的，所述第四开孔远离所述第一衬底的一侧填充有透明无机层。
根据本发明的一个方面，所述功能层还包括设于所述封装层远离所述发光层一侧的偏光片以及盖板，所述偏光片具有位于所述透光区的第五开孔，所述第五开孔在所述衬底上的正投影与所述第一开孔在所述衬底上的正投影至少部分重叠。
本发明实施例另一方面还提供了一种显示面板制备方法，包括：提供衬底层，所述衬底层包括层叠设置的第一衬底和第二衬底，至少所述第一衬底上具有位于所述透光区的第一开孔；制备功能层，于所述第一衬底背向所述第二衬底的一侧形成功能层，所述功能层具有填充于所述第一开孔的填充部，且所述填充部的透光率大于所述基底的透光率。
根据本发明的另一个方面，所述制备功能层的步骤包括：于所述第一衬底背向所述第二衬底的一侧形成在所述透光区具有第二开孔的阵列层；于所第一开孔和所述第二开孔内填充透明膜层形成所述填充部；于所述阵列层远离所述衬底层的一侧形成发光层；于所述发光层背向所述阵列层一侧涂布封装材料层，形成封装层；优选的，在所述于所述第一衬底背向所述第二衬底的一侧形成在所述透光区具有第二开孔的阵列层的步骤和所述于所述第一开孔和所述第二开孔内填充透明膜层形成所述填充部的步骤之间还包括：对所述阵列层进行活性化退火处理。
根据本发明的另一个方面，所述制备功能层的步骤包括：于所述第一衬底背向所述第二衬底的一侧形成在所述透光区具有第二开孔的阵列层；于所述阵列层远离所述衬底层的一侧形成具有像素定义层的发光层，形成所述像素定义层的材料填充于所述第一开孔和所述第二开孔形成所述填充部；或者，所述制备功能层的步骤包括：于所述第一衬底背向所述第二衬底的一侧形成在所述透光区具有第二开孔的阵列层；于所述阵列层远离所述衬底层的一侧形成在所述透光区具有第三开孔发光层；所述发光层背向所述阵列层一侧涂布封装材料层，形成封装层及填充于所述第一开孔、所述第二开孔和所述第三开孔的所述填充部。
根据本发明的另一个方面，所述提供衬底层的步骤包括：提供衬底层，所述衬底层包括层叠设置的第一衬底和第二衬底，所述第一衬底上具有位于所述透光区的第一开孔，所述第二衬底上具有位于所述透光区的第四开孔的衬底层；所述制备功能层的步骤包括：于所述第四开孔远离所述第一衬底的一侧形成透明无机层；于所述第一衬底背向所述第二衬底的一侧形成在所述透光区具有第二开孔的阵列层；于所第一开孔、所述第二开孔和所述第四开孔内填充透明膜层形成所述填充部；于所述阵列层远离所述衬底层的一侧形成发光层；于所述发光层背向所述阵列层一侧涂布封装材料层，形成封装层。
与现有技术相比，本发明实施例提供的显示面板，包括衬底层和功能层，衬底层为双层衬底，包括层叠设置的第一衬底和第二衬底，至少第一衬底上具有位于透光区的第一开孔，而在第一衬底上设置有功能层，通过功能层的填充部填充于第一衬底的第一开孔，由于功能层的填充部的透光率大于衬底层的透光率，因而，在第一衬底的第一开孔处的透光率相比第一衬底的其他部分的透光率更大，能够有效提高显示面板的透光区的透光率，同时不需要因设置通孔而在透光区设置堤坝，减小了透光区的边框宽度，在应用感光元件后，能够有效提高感光元件的成像效果。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面所描述的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
图2是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；
图3是本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；
图4是本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；
图5是本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；
图6是本发明实施例提供的显示面板制备方法的流程图。
附图中：
1-衬底层；11-第一衬底；12-无机绝缘层；13-第二衬底；14-透明无机层；2-功能层；21-阵列层；211-半导体层；212-栅极层；213-源漏极层；214-层间绝缘层；22-发光层；221-像素定义层；23-封装层；24-偏光片；25-盖板；26-透明膜层；AA-显示区；QA-透光区。
具体实施方式
下面将详细描述本发明的各个方面的特征和示例性实施例。在下面的详细描述中，提出了许多具体细节，以便提供对本发明的全面理解。但是，对于本领域技术人员来说很明显的是，本发明可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本发明的示例来提供对本发明的更好的理解。
需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括……”限定的要素，并不排除在包括要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
为了更好地理解本发明，下面结合图1至图6根据本发明实施例的显示面板及制备方法进行详细描述。
请参阅图1，本发明实施例提供了一种显示面板，具有显示区AA和透光区QA，显示区AA至少部分环绕透光区QA设置，显示面板包括：衬底层1，包括层叠设置的第一衬底11和第二衬底13，至少第一衬底11上具有位于透光区QA的第一开孔；功能层2，位于衬底层1靠近第一衬底11的一侧，具有填充于第一开孔的填充部，且填充部的透光率大于衬底层1的透光率。
本发明实施例提供的显示面板，包括衬底层1和功能层2，衬底层1为双层衬底，包括层叠设置的第一衬底11和第二衬底13，至少第一衬底11上具有位于透光区QA的第一开孔，而在第一衬底11上设置有功能层2，通过功能层2的填充部填充于第一衬底11的第一开孔，由于功能层2的填充部的透光率大于衬底层1的透光率，因而，在第一衬底11的第一开孔处的透光率相比第一衬底11的其他部分的透光率更大，能够有效提高显示面板的透光区QA的透光率，同时不需要因设置通孔而在透光区QA设置堤坝，减小了透光区QA的边框宽度，在应用感光元件后，能够有效提高感光元件的成像效果。
需要说明的是，显示面板具有显示区AA和透光区QA，显示区AA即用于显示图像的区域，而透光区QA是用于设置感光元件，例如摄像头的区域，需要有较高的透光率以保证感光元件的成像效果，而功能层2具体可以包括阵列层21、发光层22、触控层等具有一定功能的膜层。填充部具体可以由功能层2的某一膜层延伸形成，也可以由多个膜层延伸形成，只要其透光率大于第一衬底11的透光率，以保证提高透光区QA的透光率即可。在第一子基底和第二子基底之间具有无机绝缘层12，例如牺牲层。
请参阅图2，在一些可选的实施例中，功能层2包括阵列层21，设置于衬底层1靠近第一衬底11的一侧，阵列层21具有位于透光区QA的第二开孔；发光层22，位于阵列层21远离衬底层1一侧，具有位于透光区QA的第三开孔；封装层23，覆盖于发光层22，填充部由封装层23延伸形成，填充于第一开孔、第二开孔和第三开孔。
可以理解的是，阵列层21即用于设置薄膜晶体管及其走线的膜层，位于设置于衬底层1靠近第一衬底11的一侧，且在阵列层21具有位于透光区QA的第二开孔，而发光层22可以包括阳极层、像素定义层221以及阴极层，用于进行显示发光，在发光层22上同样具有位于透光区QA的第三开孔，而封装层23，覆盖于发光层22，可选的，填充部由封装层23延伸形成，填充于第一开孔、第二开孔和第三开孔，即封装层23部分覆盖于发光层22，部分向第一开孔、第二开孔和第三开孔所在方向延伸，填充于各个开孔中。
可选的，第一开孔、第二开孔和第三开孔在衬底层1上的正投影至少部分重叠，具体可以设置为完全重叠，即第一开孔、第二开孔和第三开孔的尺寸形状完全相同。
在另一实施例中，功能层2包括阵列层21，设置于衬底层1靠近第一衬底11的一侧，阵列层21具有位于透光区QA的第二开孔；发光层22，设置于阵列层21远离衬底层1一侧，包括像素定义层221，填充部由像素定义层221延伸形成，填充于第一开孔和第二开孔；封装层23，覆盖于发光层22。
在本实施例中，如图1所示，发光层22设置于阵列层21远离衬底层1一侧，包括像素定义层221，而填充部由像素定义层221延伸形成，填充于第一开孔和第二开孔，在发光层22不需要再设置第三开孔，提高了结构强度，而封装层23，覆盖于发光层22，不再延伸形成填充部。
请参阅图3，在另一实施例中，为了进一步提高透光区QA的透光率，功能层2包括阵列层21，设置于衬底层1靠近第一衬底11的一侧，阵列层21具有位于透光区QA的第二开孔；发光层22，设置于阵列层21远离衬底层1一侧；封装层23，覆盖于发光层22；透明膜层26，功能层2的填充部由透明膜层26形成，透明膜层26填充于第一开孔和第二开孔。
具体的，在阵列层21和透明膜层26远离衬底层1的一侧覆盖有平坦化层，平坦化层上设有过孔，以使发光层22的阳极层和阵列层21电连接。
可以理解的是，透明膜层26相比功能层2的其他膜层的透光率更高，通过额外设置透明膜层26形成填充部，并使透明膜层26填充于第一开孔和第二开孔，来提高衬底层1在透光区QA的透光率。
请参阅图4，在一些可选的实施例中，第二衬底13上具有位于透光区QA的第四开孔，透明膜层26至少部分填充于第四开孔；具体的，衬底层1的第一衬底11和第二衬底13均设置有开孔，并通过透明膜层26进行填充，可选的，为了保证衬底层1封装的完整性，第四开孔远离第一衬底11的一侧填充有透明无机层14，透明无机层14所用材料的透光率需要大于第二衬底13所用材料的透光率，具体的，第一衬底11和第二衬底13通常采用耐高温的黄色聚酰亚胺，而透明膜层26可以采用不耐高温的高透聚酰亚胺。
在一些可选的实施例，功能层2还包括设于封装层23远离发光层22一侧的偏光片24以及盖板25，偏光片24具有位于透光区QA的第五开孔，第五开孔在衬底层1上的正投影与第一开孔在衬底层1上的正投影至少部分重叠。需要说明的是，在第五开孔内不需要填充其他膜层，偏光片24在生产时即对应成型有第五开孔，不需要在显示面板制备时进行成型。盖板25通常为柔性玻璃盖板25，透光性好。
请参阅图5，在一些可选的实施例，阵列层21包括半导体层211、栅极层212、源漏极层213、层间绝缘层214，半导体层211具有位于透光区QA的第二开孔，通过透明膜层26填充第一开孔和第二开孔，在透光区QA内不设置栅极层212、源漏极层213，只设置透光率更高的层间绝缘层214，以提高透光区QA的透光率。
请参阅图6，本发明实施例还提供了一种显示面板制备方法，包括：
S110：提供衬底层1，衬底层包括层叠设置的第一衬底11和第二衬底13，至少第一衬底11上具有位于透光区QA的第一开孔；
S120：制备功能层2，于第一衬底11背向第二衬底13的一侧形成功能层2，功能层2具有填充于第一开孔的填充部，且填充部的透光率大于衬底层1的透光率。
在步骤S110中，需要提供具有层叠设置的第一衬底11和第二衬底13的双层的衬底层1，可选的，在第一衬底11和第二衬底13之间具有无机绝缘层12，例如牺牲层。图案化处理的衬底层1，具体通过刻蚀等方式使衬底层1在透光区QA形成第一开孔，且第一开孔至少贯穿第一衬底11，即第一开孔也可以同时贯穿第一衬底11和第二衬底13位于透光区QA的区域。
在步骤S120中，功能层2具有填充于第一开孔的填充部，且功能层2的填充部的透光率大于衬底层1的透光率，即通过将第一开孔的材料由基底材料替换为填充部材料，以提高衬底层1的透光率，进而提高显示面板的透光区QA的透光率。
本发明实施例提供的显示面板制备方法，通过功能层2的填充部填充于第一衬底11的第一开孔，由于功能层2的填充部的透光率大于衬底层1的透光率，即通过将第一开孔的材料由衬底层1材料替换为填充部材料，以提高基底的透光率，能够有效提供显示面板的透光区QA的透光率，同时不需要因设置通孔而在透光区QA设置堤坝，减小了透光区QA的边框宽度，在应用感光元件后，能够有效提高感光元件的成像效果。
在一些可选的实施例中，制备功能层2的步骤包括：于第一衬底11背向第二衬底13的一侧形成在透光区QA具有第二开孔的阵列层21；于阵列层21远离衬底层1的一侧形成具有像素定义层221的发光层22，形成像素定义层221的材料填充于第一开孔和第二开孔形成填充部。
其中，阵列层21具体还可以包括半导体层21、栅极层212、源漏极213、层间绝缘层214等膜层；发光层22具体还可以包括阳极层、像素定义层221、阴极层等膜层，形成像素定义层221的材料填充于第一开孔和第二开孔形成填充部，即填充部由像素定义层221的形成时一同延伸形成，具有和像素定义层221相同的透光率。
在另外一些实施例中，制备功能层2的步骤包括：于第一衬底11背向第二衬底13的一侧形成在透光区QA具有第二开孔的阵列层21；于第一开孔和第二开孔内填充透明膜层26形成填充部；于阵列层21远离衬底层1的一侧形成发光层22；于发光层22背向阵列层21一侧涂布封装材料层，形成封装层23。
需要说明的是，在本实施例中，由透光率更高的透明膜层26填充于第一开孔和第二开孔，以形成填充部，进一步提高显示面板的透光区QA的透光率，封装层23具有可以为单层无机层或者多层复合膜层，例如无机、有机、无机依次层叠的膜层结构。
在另外一些实施例中，制备功能层2的步骤包括：提供第二衬底13上具有位于透光区的第四开孔的衬底层1；于第四开孔远离第一衬底11的一侧形成透明无机层14；于第一衬底11背向第二衬底13的一侧形成在透光区具有第二开孔的阵列层21；于第一开孔、第二开孔和第四开孔内填充透明膜层26形成填充部；于阵列层21远离衬底层1的一侧形成发光层22；于发光层22背向阵列层21一侧涂布封装材料层，形成封装层23。
需要说明的是，第一开孔和第四开孔在衬底层1上的正投影至少部分重叠，即衬底层1的第一衬底11和第二衬底13被第一开孔和第四开孔贯穿，在本实施例中，通过在于第四开孔远离第一衬底11的一侧形成透明无机层14进一步提高显示面板的透光区QA的透光率。
在一些可选的实施例中，在于第一衬底11背向第二衬底13的一侧形成在透光区QA具有第二开孔的阵列层21的步骤和于第一开孔和第二开孔内填充透明膜层26形成填充部的步骤之间还包括：对阵列层21进行活性化退火处理。
需要说明的是，由于活性化退火处理时的温度大于透明膜层26的耐受温度，因而，需要在对阵列层21的半导体层211进行活性化退火处理之后，再填充透明膜层26，以避免透明膜层26受热损坏。具体的，活性化退火在对阵列层21的栅极层212进行自对准源漏掺杂的步骤后。具体的，阵列层21的第二开孔形成于阵列层21的半导体层211，在对阵列层21的半导体层211进行活性化退火处理之后
在一些可选的实施例中，制备功能层2的步骤包括：于第一衬底11背向第二衬底13的一侧形成在透光区QA具有第二开孔的阵列层21；于阵列层21远离衬底层1的一侧形成在透光区QA具有第三开孔的发光层22；发光层22背向阵列层21一侧涂布封装材料层，形成封装层23及填充于第一开孔、第二开孔和第三开孔的填充部。
具体的，封装层23的材料填充于第一开孔、第二开孔和第三开孔中形成填充部，即填充部的材料与封装层23的材料相同，由封装材料层向第一开孔、第二开孔和第三开孔延伸形成。
在一些可选的实施例中，第一开孔、第二开孔、第三开孔、第四开孔可以同时形成，即对层叠设置的衬底层1、阵列层21以及发光层22同时进行图案化处理，以形成第一开孔、第二开孔、第三开孔、第四开孔。
具体的，在不需要设置第三开孔和第四开孔的实施例中，可以先将在衬底层1一侧形成阵列层21，之后对衬底层1的第一衬底11和阵列层21进行图案化处理形成第一开孔和第二开孔，之后于阵列层21远离衬底层1的一侧形成具有像素定义层221的发光层22，形成像素定义层221的材料填充于第一开孔和第二开孔形成填充部。同理，在其他设置有第三开孔和/或第四开孔的实施例中，同样可以同时形成。
在另一些可选的实施例中，第一开孔、第二开孔、第三开孔、第四开孔可以分别形成，例如，在提供衬底层1时，先对第一衬底11进行图案化处理形成第一开孔，之后再于第一衬底11背向第二衬底13的一侧形成阵列层，对阵列层进行图案化处理形成第二开孔，第三开孔和第四开孔通过类似的方法形成。
以上，仅为本发明的具体实施方式，所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为了描述的方便和简洁，上述描述的系统、模块和单元的具体工作过程，可以参考前述方法实施例中的对应过程，在此不再赘述。应理解，本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到各种等效的修改或替换，这些修改或替换都应涵盖在本发明的保护范围之内。
还需要说明的是，本发明中提及的示例性实施例，基于一系列的步骤或者装置描述一些方法或系统。但是，本发明不局限于上述步骤的顺序，也就是说，可以按照实施例中提及的顺序执行步骤，也可以不同于实施例中的顺序，或者若干步骤同时执行。
Claims (5)
1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板具有显示区和透光区，所述显示区至少部分环绕所述透光区设置，其包括：
衬底层，包括层叠设置的第一衬底和第二衬底，至少所述第一衬底上具有位于所述透光区的第一开孔；
功能层，位于所述衬底层靠近所述第一衬底的一侧，具有填充于所述第一开孔的填充部，且所述填充部的透光率大于所述衬底层的透光率，所述功能层包括阵列层、发光层以及封装层，所述阵列层设置于所述衬底层靠近所述第一衬底的一侧，所述发光层位于所述阵列层远离所述衬底层一侧，所述封装层覆盖于所述发光层，所述发光层包括像素定义层，所述填充部由所述像素定义层延伸形成。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阵列层具有位于所述透光区的第二开孔；
所述填充部填充于所述第一开孔和所述第二开孔。
3.根据权利要求1或2所述的显示面板，其特征在于，所述功能层还包括设于所述封装层远离所述发光层一侧的偏光片以及盖板，所述偏光片具有位于所述透光区的第五开孔，所述第五开孔在所述衬底上的正投影与所述第一开孔在所述衬底上的正投影至少部分重叠。
4.一种显示面板制备方法，其特征在于，包括：
提供衬底层，所述衬底层包括层叠设置的第一衬底和第二衬底，至少所述第一衬底上具有位于透光区的第一开孔；
制备功能层，于所述第一衬底背向所述第二衬底的一侧形成功能层，所述功能层具有填充于所述第一开孔的填充部，且所述填充部的透光率大于所述衬底层的透光率，所述功能层包括阵列层、发光层以及封装层，所述阵列层设置于所述衬底层靠近所述第一衬底的一侧，所述发光层位于所述阵列层远离所述衬底层一侧，所述封装层覆盖于所述发光层，所述发光层包括像素定义层，所述填充部由所述像素定义层延伸形成。
5.根据权利要求4所述的显示面板制备方法，其特征在于，所述制备功能层的步骤包括：
于所述第一衬底背向所述第二衬底的一侧形成在所述透光区具有第二开孔的阵列层；
于所述阵列层远离所述衬底层的一侧形成具有像素定义层的发光层，形成所述像素定义层的材料填充于所述第一开孔和所述第二开孔形成所述填充部。
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