CN112038386A - 柔性显示面板及其制备方法和显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种柔性显示面板及其制备方法和显示装置。该柔性显示面板包括：第一导电性层组；形成在第一导电性层组上的发光层组，该发光层组包括像素定义层和与像素定义层相匹配的发光层；以及第二导电性层组，形成在发光层组上，其中，像素定义层包括层叠的第一子像素定义层和第二子像素定义层，发光层位于第一子像素定义层限定的开口内，第二子像素定义层覆盖第一子像素定义层的顶部部分，第二子像素定义层在第一导电性层组所在面上的正投影与开口的一部分在第一导电性层组所在面上的正投影重叠，第二子像素定义层与第二导电性层组紧密结合且为无机层，无机层周向地紧密包围第二导电性层组的容纳于开口中的部分并且延伸至与发光层接触。

Description

柔性显示面板及其制备方法和显示装置
本申请是申请日为2018年6月19日、名称为“柔性显示面板及其制备方法和显示装置”和申请号为201810629944.3的发明专利申请的分案申请。
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种柔性显示面板及其制备方法和显示装置。
背景技术
对于需要重复折叠的使用环境来说，柔性显示面板天然具有良好的适应性，使得柔性显示面板具有广泛的应用领域。现有技术中，在柔性显示面板的使用过程中，阴极层容易发生脱落，因此，造成显示异常。
发明内容
有鉴于此，本发明实施例提供了一种柔性显示面板及其制备方法和显示装置，能够解决柔性显示面板使用过程中，阴极层脱落的缺陷，从而能解决显示异常的问题。这特别适用于有源矩阵有机发光二极管(AMOLED)。
本发明的一个方面提供一种柔性显示面板，包括：第一导电性层组；形成在第一导电性层组上的发光层组，该发光层组包括像素定义层和与像素定义层相匹配的发光层；以及第二导电性层组，形成在发光层组上，其中，像素定义层包括层叠的第一子像素定义层和第二子像素定义层，第二子像素定义层与第二导电性层组紧密结合。
在本发明的一个实施例中，第二导电性层组包括层叠的第一子导电层和第二子导电层，第一子导电层和发光层由第一子像素定义层包围，第二子像素定义层处于第一子像素定义层上并部分地覆盖第一子导电层。
在本发明的一个实施例中，第一子像素定义层的厚度为发光层和第一子导电层的厚度之和。
在本发明的一个实施例中，第二子像素定义层的厚度小于第一子像素定义层的厚度。
在本发明的一个实施例中，第一子像素定义层和第二子像素定义层由相同的材料制成。
在本发明的一个实施例中，第二子像素定义层为无机层并且覆盖第一子像素定义层的顶部部分，无机层周向地紧密包围第一子导电层；优选地，无机层延伸至与发光层接触。
在本发明的一个实施例中，第二子导电层处于第一子导电层上并且覆盖了像素定义层。
在本发明的一个实施例中，第一导电性层组为阵列基板，第二导电性层组为阴极层。
本发明的另一个方面提供一种显示装置，包括如上所述的柔性显示面板。
本发明的再一个方面提供一种柔性显示面板的制备方法，包括：在衬底上形成第一导电性层组；在第一导电性层组上形成具有开口的第一子像素定义层；在第一子像素定义层的开口内形成发光层；在发光层上形成第二导电性层组；以及在第一子像素定义层上形成第二子像素定义层，其中，第二像素定义层与第二导电性层组紧密结合。
根据本发明实施例提供的技术方案，通过采用第二子像素定义层的结构，增加了第二子像素定义层对第二导电性层组的压合力，因此，避免了第二导电性层组和发光层的分离，并进一步提升了柔性显示面板的显示效果。
应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本发明。
附图说明
图1是根据本发明一示例性实施例示出的一种柔性显示面板的示意图。
图2是根据本发明另一个示例性实施例示出的一种柔性显示面板的示意图。
图3是根据本发明一示例性实施例示出的一种柔性显示面板的制备方法的流程图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
图1是根据本发明一示例性实施例示出的一种柔性显示面板的示意图。如图1所示，该柔性显示面板包括：第一导电性层组10；形成在第一导电性层组10上的发光层组11，该发光层组11包括像素定义层111和与该像素定义层111相匹配的发光层112；以及第二导电性层组12，形成在发光层组11上，其中，像素定义层111包括层叠的第一子像素定义层1111和第二子像素定义层1112，第二子像素定义层1112与第二导电性层组12紧密结合。
在本发明实施例中，第一导电性层组10可以为薄膜晶体管(Thin FilmTransistor，TFT)阵列基板，也可以为低温多晶硅(Low Temperature Poly-silicon，LTPS)阵列基板，或者还可以为混合薄膜晶体管阵列基板等，本发明对此不作限制。
发光层组11形成在第一导电性层组10上，并且包括像素定义层111和与该像素定义层111相匹配的发光层112。发光层112可以为有机发光二极管(Organic Light-EmittingDiode，OLED)层，也可以为微发光二极管(Micro Light-Emitting Diode，μLED)层，或者还可以为量子点发光二极管(Quantum Dot Light-Emitting Diode，QLED)层等，本发明对此不作限制。
像素定义层111包括第一子像素定义层1111和位于第一子像素定义层1111上的第二子像素定义层1112。第一子像素定义层1111的材料可以包括但不限于聚酰亚胺(PI)、聚酰胺(PA)、苯丙环丁烯(BCB)、亚克力树脂或酚醛树脂等。第二子像素定义层1112的材料可以包括但不限于聚酰亚胺(PI)、聚酰胺(PA)、苯丙环丁烯(BCB)、亚克力树脂或酚醛树脂等。
需要说明的是，第一子像素定义层1111和第二子像素定义层1112的材料可以相同，也可以不同，本发明对此不作限制。优选地，第一子像素定义层1111和第二子像素定义层1112由相同的材料制成。
第二导电性层组12可以为阴极层。第二导电性层组12形成在发光层组11上，第二子像素定义层1112与第二导电性层组12紧密结合。第二导电性层组12的材料可以为诸如镁(Mg)、银(Ag)、铝(Al)等的金属，也可以为诸如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)等的金属氧化物，或者还可以为诸如氟化铝/锂(Al/LiF)、铝锂(AlLi)等的合金，本发明对此不作限制。
根据本发明实施例提供的技术方案，通过采用第二子像素定义层的结构，增加了第二子像素定义层对第二导电性层组的结合力，因此，避免了第二导电性层组和发光层的分离，并进一步提升了柔性显示面板的显示效果。
在本发明的另一个实施例中，第二导电性层组包括层叠的第一子导电层和第二子导电层，第一子导电层和发光层由第一子像素定义层包围，第二子像素定义层处于第一子像素定义层上并部分地覆盖第一子导电层。这样，第二子像素定义层对第二导电性层组的第一子导电层产生压合力，因此，避免了第二导电性层组和发光层的分离，并进一步提升了柔性显示面板的显示效果。具体地，第二导电性层组12包括第一子导电层121和位于第一子导电层121上的第二子导电层122。第二子导电层122覆盖像素定义层111。第一子导电层121的材料可以包括但不限于镁(Mg)、银(Ag)、铝(Al)、氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氟化铝/锂(Al/LiF)、铝锂(AlLi)等。第二子导电层122的材料可以包括但不限于镁(Mg)、银(Ag)、铝(Al)、氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氟化铝/锂(Al/LiF)、铝锂(AlLi)等。
需要说明的是，第一子导电层121和第二子导电层122的材料可以相同，也可以不同，本发明对此不作限制。此外，还需要说明的是，当第一子导电层121和第二子导电层122的材料相同时，第一子导电层121和第二子导电层122的弹性模量相同，因此，应力匹配较佳，使得第一子导电层121与第二子导电层122之间能良好地电接触，从而提高显示品质。
进一步地，第一子导电层121和第二子导电层122的总厚度在100nm至300nm的范围内，优选地，第一子导电层121和第二子导电层122的总厚度为180nm。第一子导电层121的厚度可以大于或等于第二子导电层122的厚度，也可以小于或等于第二子导电层122的厚度，本发明对此不作限制。
在本发明的另一个实施例中，第一子像素定义层的厚度为发光层和第一子导电层的厚度之和。
具体地，发光层112的厚度小于第一子像素定义层1111的厚度，第一子导电层121的厚度小于第一子像素定义层1111的厚度。发光层112和第一子导电层121的厚度之和基本上等于第一子像素定义层1111的厚度，优选地，发光层112的厚度为第一子像素定义层1111的厚度的一半，第一子导电层121的厚度也为第一子像素定义层1111的厚度的一半。
在本发明的另一个实施例中，第二子像素定义层的厚度小于第一子像素定义层的厚度。
具体地，第二子像素定义层1112的厚度可以大于、小于或等于第一子像素定义层1111的厚度，优选地，第二子像素定义层1112的厚度小于第一子像素定义层1111的厚度。进一步地，第一子像素定义层1111和第二子像素定义层1112的总厚度在1μm至3μm的范围内，优选地，第一子像素定义层1111和第二子像素定义层1112的总厚度为1.605μm。
在本发明的另一个实施例中，第二子像素定义层为无机层并且覆盖第一子像素定义层的顶部部分，无机层周向地紧密包围第一子导电层；优选地，无机层延伸至与发光层接触。
具体地，第二子像素定义层1112为无机层，并且覆盖第一子像素定义层1111的顶部部分。无机层周向地紧密包围第一子导电层121，优选地，无机层延伸至与发光层112接触。这里，无机层的材料可以包括但不限于氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiOxNy)、氧化铝(AlOx)或氮化铝(AlOx)等。
上述所有可选技术方案，可以采用任意结合形成本发明的可选实施例，在此不再一一赘述。
图2是根据本发明另一个示例性实施例示出的一种柔性显示面板的示意图。如图2所示，该柔性显示面板包括：第一导电性层组20；形成在第一导电性层组20上的发光层组21，该发光层组21包括像素定义层211和与该像素定义层211相匹配的发光层212；以及第二导电性层组22，形成在发光层组21上，其中，像素定义层211包括层叠的第一子像素定义层2111和第二子像素定义层2112，第二子像素定义层2112与第二导电性层组22紧密结合。
需要说明的是，图2所示的柔性显示面板的结构与图1所示的柔性显示面板的结构基本相同，因此，下文将仅针对不同之处进行说明。
具体地，第二子像素定义层2112为无机层并且覆盖第一子像素定义层2111的顶部部分。这里，无机层的材料可以包括但不限于氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiOxNy)、氧化铝(AlOx)或氮化铝(AlOx)等。
进一步地，无机层的横截面可以呈倒放的L型。无机层周向地紧密包围第一子导电层121，优选地，延伸至与发光层212接触。
此外，第二导电性层组22可以包括第一子导电层221和位于第一子导电层221上的第二子导电层222。无机层的厚度可以小于或等于第二子导电层222的厚度，优选地，无机层的厚度小于第二子导电层222的厚度。
根据本发明实施例提供的技术方案，通过采用无机层的结构，增加了无机层与第一子导电层之间的附着力，使第一子导电层和无机层不会产生相对运动，因此，避免了第一子导电层和发光层的分离，并进一步提升了柔性显示面板的显示效果。
本发明实施例还提供一种显示装置，包括如上所述的柔性显示面板。
图3是根据本发明一示例性实施例示出的一种柔性显示面板的制备方法的流程图。如图3所示，该柔性显示面板的制备方法包括：
310：在衬底上形成第一导电性层组。
在本发明实施例中，通过化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，CVD)、物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)、光刻、刻蚀等一系列方法，在清洗洁净的衬底上形成第一导电性层组。这里，衬底可以为柔性衬底，该柔性衬底可以是透明的、半透明的或不透明的，优选地，该柔性衬底为透明的玻璃衬底。第一导电性层组可以包括但不限于TFT阵列基板、LTPS阵列基板、混合薄膜晶体管阵列基板等，优选地，第一导电性层组为TFT阵列基板。
320：在第一导电性层组上形成具有开口的第一子像素定义层。
在本发明实施例中，通过涂布或沉积方法，在第一导电性层组上形成第一子像素定义层，该第一子像素定义层具有开口。
330：在第一子像素定义层的开口内形成发光层。
在本发明实施例中，通过蒸镀工艺，在第一子像素定义层的开口内形成发光层，该发光层覆盖从第一子像素定义层的开口中露出的部分第一导电性层组。
340：在发光层上形成第二导电性层组。
在本发明实施例中，通过蒸镀等方法，在发光层上形成第二导电性层组。该第二导电性层组包括第一子导电层和位于第一子导电层上的第二子导电层。第一子导电层位于第一子像素定义层的开口内，并且第一子导电层的上表面与第一子像素定义层的上表面平齐。
350：在第一子像素定义层上形成第二子像素定义层。
在本发明实施例中，通过涂布或沉积方法，在第一子像素定义层上形成第二子像素定义层，该第二子像素定义层覆盖部分第一子导电层。
根据本发明实施例提供的技术方案，通过采用第二子像素定义层的结构，增加了第二子像素定义层对第二导电性层组的压合力，因此，避免了第二导电性层组和发光层的分离，并进一步提升了柔性显示面板的显示效果。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种柔性显示面板，其特征在于，包括：
第一导电性层组；
形成在所述第一导电性层组上的发光层组，所述发光层组包括像素定义层和与所述像素定义层相匹配的发光层；以及
第二导电性层组，形成在所述发光层组上，
其中，所述像素定义层包括层叠的第一子像素定义层和第二子像素定义层，所述发光层位于所述第一子像素定义层限定的开口内，所述第二子像素定义层覆盖所述第一子像素定义层的顶部部分，所述第二子像素定义层在所述第一导电性层组所在面上的正投影与所述开口的一部分在所述第一导电性层组所在面上的正投影重叠，所述第二子像素定义层与所述第二导电性层组紧密结合；
所述第二子像素定义层为无机层，所述无机层周向地紧密包围所述第二导电性层组的容纳于所述开口中的部分并且延伸至与所述发光层接触。
2.根据权利要求1所述的柔性显示面板，其特征在于，所述第一子像素定义层的厚度为所述发光层和所述第一子导电层的厚度之和。
3.根据权利要求1或2所述的柔性显示面板，其特征在于，所述第二子像素定义层的厚度小于所述第一子像素定义层的厚度。
4.根据权利要求1或2所述的柔性显示面板，其特征在于，所述第一子像素定义层和所述第二子像素定义层由相同的材料制成。
5.根据权利要求1或2所述的柔性显示面板，其特征在于，所述第一导电性层组为阵列基板，所述第二导电性层组为阴极层。
6.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至5中的任一项所述的柔性显示面板。
7.一种柔性显示面板的制备方法，其特征在于，包括：
在衬底上形成第一导电性层组；
在所述第一导电性层组上形成具有开口的第一子像素定义层；
在所述第一子像素定义层的开口内形成发光层；
在所述发光层上形成第二导电性层组；以及
在所述第一子像素定义层上形成第二子像素定义层，
其中，所述第二子像素定义层形成为覆盖所述第一子像素定义层的顶部部分，所述第二子像素定义层在所述第一导电性层组所在面上的正投影与所述开口的一部分在所述第一导电性层组所在面上的正投影重叠，所述第二子像素定义层与所述第二导电性层组紧密结合，以及
所述第二子像素定义层为无机层，所述无机层周向地紧密包围所述第二导电性层组的容纳于所述开口中的部分并且延伸至与所述发光层接触。
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