CN111948830B - 屏下成像装置、屏体模组、显示装置和滤波片的制作方法 - Google Patents
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Abstract
本申请涉及一种屏下成像装置、屏体模组、显示装置和滤波片的制作方法。应用于透过屏体成像。所述屏下成像装置包括透镜组、滤波片和感应元件。所述透镜组具有焦平面。所述滤波片设置于所述焦平面。光线通过所述屏体和所述透镜组照射至所述滤波片时,由于所述屏体内的阵列结构会形成衍射图样。所述感光元件设置于所述滤波片远离所述透镜组的一侧,用于接收经过所述滤波片的光线。当光线通过所述屏体和所述透镜组照射至所述滤波片后,通过所述滤光片能够过滤掉所述衍射图样中影响图像清晰度的高级次的频谱对应的光线,从而提高衍射现象对成像的影响,提高成像的清晰度。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别是涉及屏下成像装置、屏体模组、显示装置和滤波片的制作方法。
背景技术
随着显示技术的发展,人们对显示效果的要求越来越高。
目前,全面屏手机是各个厂商研发的重点。为了实现全面屏,将成像装置置于屏下是非常重要的技术路径。但是,由于屏体本身透光性和内部阵列结构对摄像头采光成像的质量造成了很大的影响。其中一个重要的问题是光通过屏体时会产生衍射,使成像模糊不清。
发明内容
基于此,有必要针对光通过屏体时会产生衍射,使成像模糊不清的问题,提供一种屏下成像装置、屏体模组、显示装置和滤波片的制作方法。
一种屏下成像装置,应用于透过屏体成像,包括:
透镜组,具有焦平面;
滤波片,设置于所述焦平面;以及
感光元件,设置于所述滤波片远离所述透镜组的一侧,用于接收经过所述滤波片的光线。
在一个实施例中,所述滤波片设置有遮挡图案,所述遮挡图案用于遮挡所述衍射图样的非中央亮斑区,
其中,所述衍射图样为透过所述屏体进入所述透镜组的光衍射在所述透镜组的焦平面形成的图样。
在一个实施例中,所述遮挡图案位于所述滤波片靠近所述透镜组的一侧,并位于所述滤波片的表面。
在一个实施例中,所述遮挡图案为设置于所述滤波片表面的光吸收层。
在一个实施例中,包括支撑架,所述透镜组和所述滤波片分别设置于所述支撑架的两端。
一种滤波片的制作方法,所述滤波片用于屏下成像装置,所述制作方法包括:
在透镜组的焦平面采集透过屏体进入透镜组的光衍射形成的衍射图样;
基于所述衍射图样制作滤波片,所述滤波片的表面设置有遮挡图案,所述遮挡图案用于遮挡通过所述屏体和所述透镜组入射的光线在所述滤波片形成的衍射图样的非中央亮斑区。
在一个实施例中,所述在所述透镜组的焦平面采集透过所述屏体进入所述透镜组的光衍射形成的衍射图样包括:
提供表面设置有光刻胶层的基底;
将所述基底设置于所述透镜组的焦平面;
使光线依次通过所述屏体和所述透镜组照射所述光刻胶层形成所述衍射图样。
一种滤波片的制作方法,所述滤波片用于屏下成像装置,所述制作方法包括:
提供屏体、透镜组和表面设置有光刻胶层的滤波片基体;
将所述滤波片基体设置于所述透镜组的焦平面;
使光线依次通过所述屏体和所述透镜组照射所述光刻胶层形成衍射图样;
去除所述衍射图样中的中央亮斑区对应的所述光刻胶层制成遮挡图案。
一种屏体模组,包括:
屏体;
屏下成像装置,所述屏下成像装置设置于所述屏体,包括:
透镜组,具有焦平面;
滤波片,设置于所述焦平面;以及
感光元件,设置于所述滤波片远离所述透镜组的一侧,用于接收经过所述滤波片的光线。
一种显示装置,包括所述的屏体模组。
本申请实施例提供一种屏下成像装置、屏体模组、显示装置和滤波片的制作方法。应用于透过屏体成像。所述屏下成像装置包括透镜组、滤波片和感应元件。所述透镜组具有焦平面。所述滤波片设置于所述焦平面。光线通过所述屏体和所述透镜组照射至所述滤波片时,由于所述屏体内的阵列结构会形成衍射图样。所述感光元件设置于所述滤波片远离所述透镜组的一侧,用于接收经过所述滤波片的光线。当光线通过所述屏体和所述透镜组照射至所述滤波片后,通过所述滤光片能够至少部分过滤掉所述衍射图样中影响图像清晰度的高级次的频谱对应的光线,从而提高衍射现象对成像的影响,提高成像的清晰度。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请一个实施例提供的屏下成像装置结构示意图;
图2为本申请一个实施例提供的滤波片形成的衍射图样示意图;
图3为本申请一个实施例提供的滤波片表面遮挡图案示意图;
图4为本申请另一个实施例提供的屏下成像装置结构示意图;
图5为本申请一个实施例提供的滤波片制作流程图;
图6为本申请一个实施例提供的屏体模组示意图。
附图标记说明:
屏下成像装置10
透镜组100
滤波片200
遮挡图案210
遮挡点212
透光区214
衍射图样220
亮斑222
焦平面230
滤波片基体240
光刻胶层250
感光元件300
支撑架410
聚焦马达420
壳体430
红外滤波片440
保护膜450
屏体500
屏体模组20
中央亮斑区610
非中央亮斑区620
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进,因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触,或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
需要说明的是,当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的,并不表示是唯一的实施方式。
发明人研究发现,屏下成像装置可以通过所述屏体采集外界光线,进而将光信号转换为电信号得到外界图像。即在所述屏下成像装置采集光线的过程中,光线需要首先通过屏体,然后进入所述屏下成像装置。而所述屏下成像装置通过所述屏体采集光线的位置通常会设置像素阵列结构。所述像素阵列结构行和列之间通常有缝隙,构成类似透射式的光栅结构。因此光线通过所述屏体时,光线容易发生衍射。因此成像时,衍射现象容易使成像质量变差,图像不清晰。同理,所述屏体的走线等结构也会使光通过所述屏体时产生衍射现象,从而影响衍射质量。
请参见图1,本申请实施例提供一种屏下成像装置10。所述屏下成像装置10应用于透过屏体500成像。所述屏下成像装置10包括透镜组100、滤波片200和感光元件300。所述透镜组100具有焦平面230。所述滤波片200设置于所述焦平面230。所述感光元件300设置于所述滤波片200远离所述透镜组100的一侧。所述感光元件300用于接收经过所述滤波片200的光线。
所述屏下成像装置10可以应用于所有具有显示屏的设备中。所述具有显示屏的设备可以包括移动终端、办公设备以及车载显示装置。所述移动终端包括但不限于平板电脑、智能手机、运动手环及智能手表。所述办公设备可以是笔记型电脑或者台式电脑。将所述屏下成像装置10设置于屏体500的下方,可以有效提高所述屏体500的显示面积,进而提高屏占比,实现全面屏。所述屏下成像装置10可以为屏下摄像头。
在一个实施例中,所述透镜组100可以包括多个透镜。可以理解,所述透镜可以为塑胶透镜或者玻璃透镜。所述透镜组100的焦距可以为固定焦距。所述透镜组100的焦距固定时,所述焦平面230相对于所述透镜组100的距离固定。所述焦平面230为所述透镜组100的频谱面。经过所述透镜组100的像方焦点且垂直于系统主光轴的平面为所述焦平面230。在一个实施例中,所述感光元件300可以为CCD传感器或者CMOS传感器。所述CCD传感器的成像质量好。所述CMOS影像传感器的耗电量相对较低,且成本低廉。可以理解,可以根据不用的需求选择不同的传感器作为所述感光元件300。
在一个实施例中,所述滤波片200可以为平面结构。可以将所述滤波片200放置于所述焦平面230,与所述焦平面230重合。所述滤波片200可以由聚酯或者玻璃制成。所述滤波片200的厚度可以为0.2毫米到1毫米。在其中一个实施例中,所述滤波片200的厚度可以为0.4毫米到0.8毫米。更进一步地,所述滤波片200的厚度为0.5毫米。
所述屏下成像装置10工作时,按动快门后,光线从所述屏体500进入透镜组100、经过所述滤波片200过滤后进入所述感光元件300。所述感光元件300采集、记录光线后,把光信号转换成电流信号。最后经过图像信号处理器后再由手机处理器处理储存。其中,所述图像信号处理器可以将所述感应元件输入的信号进行运算处理,最终得出经过线性纠正、噪点去除、坏点修补、颜色插值、白平衡校正、曝光校正等处理后的结果。
所述屏体500具有显示区(图未示)和非显示区(图未示)。所述非显示区与所述屏下成像装置10相对应。所述屏体500的所述非显示区可以透光。物体反射的光可以透过所述非显示区进入所述屏下成像装置10从而成像。为了节省成本,所述屏体500的所述非显示区也会保留像素阵列。进一步地,所述非显示区的像素阵列也可以在不使用所述摄像头10时起到显示的作用。可以理解,为了提高透光性能,所述非显示区的像素阵列的密度可以小于所述显示区的像素阵列的密度。
物体反射的光线透过所述屏体500的所述非显示区进入所述屏下成像装置10的所述透镜组100,所述像素阵列会在所述透镜组100的所述焦平面230出现衍射图样220。所述衍射图样220会使得所述物体在所述感光元件330上的成像质量受到影响。
本实施例中,通过所述滤波片200,能够过滤衍射图样220中的高级次的频谱对应的光线,而使低级次的频谱对应的光线通过。而低级次的频谱对应的光线是构成清晰图像的光线。因此,通过所述滤波片200对射入到所述感光元件300的光线进行过滤,从而可以提高成像清晰度。
本申请实施例提供的所述屏下成像装置10,应用于透过屏体500成像。所述屏下成像装置10包括透镜组100、滤波片200和感光元件300。所述透镜组100具有焦平面230。所述滤波片200设置于所述焦平面230。所述感光元件300设置于所述滤波片200远离所述透镜组100的一侧。所述感光元件300用于接收经过所述滤波片200的光线,并将光信号转换为电信号。光线通过所述屏体500和所述透镜组100照射至所述滤波片200时,由于所述屏体500内的阵列结构会形成衍射图样220。当光线通过所述屏体500和所述透镜组100照射至所述滤波片200后,通过所述滤波片200能够过滤掉所述衍射图样220中影响图像清晰度的高级次的频谱对应的光线,从而提高衍射现象对成像的影响,提高成像的清晰度。
在一个实施例中,所述滤波片200还可以设置有遮挡图案210。所述遮挡图案210用于遮挡非中央亮斑区620。透过所述屏体500进入所述透镜组100的光在透镜组100的焦平面衍射形成衍射图样220。所述衍射图样220包括所述非中央亮斑区。所述衍射图样220包括中央亮斑区610和周围亮度较低的所述非中央亮斑区620。所述中央亮斑区610对应的是0级频谱。而所述非中央亮斑区620对应的是1级以及1级以上的频谱。而造成成像模糊的是非中央亮斑区620对应的光线。因此,通过使所述0级频谱对应光线通过,而避免非中央亮斑区620对应的光线通过,即可以形成清晰的图像。
所述遮挡图案210可以形成于所述滤波片200的表面,也可以形成于所述滤波片200的内部。所述遮挡图案210可以由遮光涂层制成。所述遮光涂层可以阻挡光线通过。所述遮挡图案210也可以为形成在所述滤波片200表面的反光结构形成。所述反射结构的轮廓可以使光线全反射。通可以通过全反射避免光线通过所述滤波片200照射至所述感光元件300。
请参见图2,在一个实施例中,所述衍射图样220可以由多个亮斑222组成。所述多个亮斑222可以间隔设置成十字阵列排列。其中,所述衍射图样220中心的亮斑222的亮度最高,为所述衍射图样220的中央亮斑区610,即为0级频谱。而由所述中央亮斑区610到所述衍射图样220的边缘,所述亮斑222的亮度越来越低。即所述亮斑222对应的频谱级别越来越高,即为1级以及1级以上的频谱。该区域即为所述非中央亮斑区620。而所述非中央亮斑区620对应的光线会对所述屏下成像装置10的成型的清晰度带来影响。所述遮挡图案210可以遮挡所述衍射图样220中的非中央亮斑区620,从而可以提高所述屏下成像装置10成像的清晰度。
请参见图3,在一个实施例中,所述遮挡图案210可以与所述衍射图样220的形状相同。只在所述遮挡图案210对应所述衍射图样220的所述中央亮斑区610设置透光区214,以便于所述0级频谱对应的是光线通过形成图案。可以理解,所述透光区214的面积和大小可以与所述中央亮斑区610的面积和大小相同。
在一个实施例中,所述遮挡图案210也包括多个遮挡点212。在所述衍射图样220与所述遮挡图案210相对应的位置,所述遮挡点212的大小可以与所述亮斑222的大小相同。可以理解,所述遮挡图案210与所述衍射图样220的中心亮斑222的对应位置不设置所述遮挡点212。即所述中央亮斑区610对应的所述遮挡图案210的位置不设置所述遮挡点212。因此所述中央亮斑区610对应的光线可以从所述遮挡图案210的中心位置通过。
因此,通过所述遮挡图案210,将所述衍射图样220的是1级以及1级以上的频谱对应的光线遮挡,而只让0级频谱对应的是光线通过成像,进一步地提高了成像的清晰度。
请参见图4,在一个实施例中,所述遮挡图案210位于所述滤波片200靠近所述透镜组100的一侧,并位于所述滤波片200的表面。即所述遮挡图案210在所述滤波片200所在的表面靠近所述透镜组100。因此,当光线照射到所述遮挡图案210后,不经过所述滤波片200即被阻挡。可以理解,如果将所述遮挡图案210设置于所述滤波片200的内部或者设置于所述滤波片200远离所述透镜组100的一侧时,光线会通过至少部分所述滤波片200,因而由于光的传播介质变化发生光路改变,容易降低所述遮挡图案210的遮挡效果。
在一个实施例中,所述遮挡图案210为所述滤波片200的光吸收层。通过所述光吸收层可以将1级以及1级以上的频谱对应的光线吸收,进而可以避免进入所述感光元件300。在一个实施例中,所述光吸收层可以由深黑色的材料制成。在一个实施例中,所述光吸收层可以为石墨、炭黑等材料。
在一个实施例中,所述屏下成像装置10还包括支撑架410。所述透镜组100和所述滤波片200分别设置于所述支撑架410的两端。所述支撑架410可以用于限定所述透镜组100和所述滤波片200之间的相互位置关系。通过设置所述支架的尺寸,可以将所述滤波片200固定设置于所述透镜组100的焦平面230。所述支撑架410可以为中空的立方体结构,也可以为中空的圆筒结构。所述支撑架410为圆筒结构时,所述滤波片200和所述透镜组100可以分别设置于所述圆筒结构相对的两个开口处。所述圆筒结构可以为硬度较高的聚酯材料、金属材料、陶瓷材料,有机复合材料等。所述透镜组100可以与所述圆通结构的内壁螺纹配合固定。所述滤波片200可以通过粘接的方式固定于所述圆筒结构远离所述透镜组100的一端。
在一个实施例中,所述屏下成像装置10还包括聚焦马达420。所述聚焦马达420与所述支撑架410传动连接。通过所述聚焦马达420可以驱动所述支撑架410在所述透镜组100的轴线方向前后位移,进而驱动所述滤波片200和所述透镜组100前后位移,达到聚焦的目的。所述聚焦马达420可以为音圈电机等。所述聚焦马达420的外侧可以设置有壳体430。所述壳体430的轮廓可以与所述聚焦马达420的外形适配。即所述聚焦马达420可以设置于所述壳体430内。所述壳体430在远离所述透镜组100的一侧可以设置红外滤波片440。通过所述红外滤波片440可以过滤射向所述感光元件300的红外光。可以理解,所述红外滤波片440也可以设置于所述滤波片200和所述透镜组100之间。所述红外滤波片440也可以设置于所述透镜组100的入光侧。
在一个实施例中,所述透镜组100的表面还设置有保护膜450。所述保护膜450可以为高透光的聚酯膜。所述保护膜450可以为PP材质、PVC材质、PET材质、AR材质、PE材质、OPP材质或者OCA材质。所述保护膜450可以避免所述透镜组100的表面被磨损。
本申请提供所述滤波片200的制作方法所述制作方法包括:
S10,在所述透镜组100的所述焦平面230采集透过所述屏体500进入所述透镜组100的光衍射形成的所述衍射图样220;
S20,基于所述衍射图样220制作所述滤波片200。所述滤波片200的表面设置有所述遮挡图案210,所述遮挡图案210用于遮挡通过所述屏体500和所述透镜组100入射的光线在所述滤波片200形成的衍射图样220的非中央亮斑区620。
所述S10中,可以使所述屏体500和所述透镜组100的透镜所在的平面平行。先确定所述透镜组100的焦平面230的位置,然后可以在所述焦平面230放置一个采样板。光线依次通过所述屏体500和所述透镜组100照射到所述采样板后,会在所述采样板形成所述衍射图样220。在所述焦平面230的位置也可以放置一个光线感应器。通过光线感应器感应光线的位置,然后将光信号转换为电信号,通过电脑进行资料处理后显示出所述衍射图样220。
所述S20中,得到所述衍射图样220后,可以提供一个透明的石英基底,然后在所述石英基底的表面根据所述衍射图样220涂覆遮光材料层,使得所述遮光材料层形成所述遮光图案。在一个实施例中,所述遮光图案可以遮挡至少部分所述衍射图样220中1级以及1级以上的频谱对应的光线。
在一个实施例中,可以按照所述衍射图样220设置形状和大小完全一样的遮光材料层,然后再在所述遮光材料层的中部去掉所述衍射图样220中央亮斑对应位置的遮光材料层,从而形成所述遮挡图案210。通过所述遮挡图案210,将所述衍射图样220的1级以及1级以上的频谱对应的光线遮挡,而只让0级频谱对应的是光线通过成像,进一步地提高了成像的清晰度。
在一个实施例中,可以通过印刷等形式在所述石英基底的表面形成所述遮挡图案210,进而形成所述滤波片200。
在一个实施例中,所述S20包括:
S21,提供表面设置有光刻胶层250的基底;
S22,将所述基底设置于所述透镜组100的所述焦平面250;
S23,使光线依次通过所述屏体500和所述透镜组100照射所述光刻胶层250形成所述衍射图样220。
可以理解,所述基底可以为所述采样板,也可以为透明的石英基底。所述光刻胶层250可以为所述遮光材料层。所述光刻胶层250通过曝光显影形成所述衍射图样220。
请参见图5,本申请实施例还提供一种滤波片200的制作方法。所述滤波片200用于屏下成像装置10。所述制作方法包括:
S100,提供屏体500、透镜组100和表面设置有所述光刻胶层250的滤波片基体240;
S200,将所述滤波片基体240设置于所述透镜组100的所述焦平面230;
S300,使光线依次通过所述屏体500和所述透镜组100照射所述光刻胶层250形成所述衍射图样220;
S400,去除所述衍射图样220中的中央亮斑区610对应的所述光刻胶层250制成所述遮挡图案210。
所述S100中,所述滤波片基体240可以为石英片。所述石英片可以为0.5毫米到0.8毫米。所述滤波片基体240的表面均匀涂覆所述光刻胶层250。所述光刻胶层250的厚度可以为0.1毫米到0.2毫米。进一步地,所述光刻胶的厚度可以为0.2毫米。
所述S200中,可以在一固定架依次放置透镜组100和所述滤波片基体240。所述滤波片基体240放置于所述透镜组100的焦平面230。
所述S300中,可以通过屏体500和所述透镜组100对所述光刻胶层250曝光。由于光线经过所述屏体500产生的衍射图样220可以是光斑形成的。在所述光斑处光线聚集能量较高。因此所述光刻胶层250与所述衍射图样220对应的位置由于材料的物理性质变化引起形状的改变,从而形成所述衍射图样220。
在一个实施例中,所述光刻胶层250可以为负光刻胶层250。因此,被曝光后,与所述衍射图样220对应的位置的所述光刻胶层250被保留,而不与所述衍射图样220对应的位置的所述光刻胶层250被溶剂溶解。因此,在所述滤波片基体240的表面可以形成所述光刻胶层250构成的所述衍射图样220。
所述S400中,可以通过所述衍射图样220中的所述中央亮斑区610确定所述滤波片基体240的表面需要去除的光刻胶层250位置,进而可以得到所述滤波片200。可以理解,由于所述滤波片200是直接通过所述屏体500制成的,因此所述遮光图案和所述衍射图样220对应的精度更高,所述屏下成像装置10的成像的清晰度更高。
请参见图6,本申请实施例还提供一种屏体模组20。所述屏体模组20包括所述屏体500和所述屏下成像装置10。所述屏下成像装置10可以固定设置于所述屏体500的背面。所述屏下成像装置10设置于所述屏体500。所述屏下成像装置10包括所述透镜组100、所述滤波片200和所述感光元件300。所述透镜组100具有所述焦平面230。所述滤波片200设置于所述焦平面230。所述滤波片200为平面结构,所述焦平面230所在的平面和所述焦平面230重合。可以理解,当被照射物体发出的光线通过所述屏体500进入所述透镜组100后,由于所述屏体500中所述像素阵列的影响,会在所述焦平面230出现衍射图样220。通过所述滤波片200,能够过滤衍射图样220中至少部分的高级次的频谱对应的光线,而使低级次的频谱对应的光线通过。而低级次的频谱对应的光线是构成清晰图像的光线。因此,通过所述滤波片200对射入到所述感光元件300的光线进行过滤,从而可以提高成像清晰度。通过将所述屏体500和所述屏下成像装置10设置为一体,可以便于组装移动终端,提高工作效率。
所述感光元件300设置于所述滤波片200远离所述透镜组100的一侧的表面。当光线照射到所述遮挡图案210后,不经过所述滤波片200即被阻挡。该结构可以避免将所述遮挡图案210设置于所述滤波片200的内部或者设置于所述滤波片200远离所述透镜组100的一侧时,光线会通过至少部分所述滤波片200,因而由于光的传播介质变化发生光路改变,降低所述遮挡图案210的遮挡效果。所述感光元件300用于接收经过所述滤波片200的光线。所述滤波片200设置有所述遮挡图案210。所述遮挡图案210用于遮挡透过所述屏体500进入所述透镜组100的光衍射形成的衍射图样220的非中央亮斑区620。所述遮挡图案210为所述滤波片200的光吸收层。
在一个实施例中,所述遮挡图案210位于所述滤波片200靠近所述透镜组100的一侧。进一步地,所述遮挡图案210为所述滤波片200的光吸收层。通过所述光吸收层可以将1级以及1级以上的频谱对应的光线吸收,进而可以避免进入所述感光元件300。
本申请实施例还提供一种显示装置(图未示)。所述显示装置包括所述屏体模组20。所述显示装置可以为移动终端、POS机、运动手环、平板电脑、笔记型电脑等。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (9)
1.一种屏下成像装置,应用于透过屏体(500)成像,其特征在于,包括:
透镜组(100),具有焦平面(230);
滤波片(200),设置于所述焦平面(230);以及
感光元件(300),设置于所述滤波片(200)远离所述透镜组(100)的一侧,用于接收经过所述滤波片(200)的光线;
所述滤波片(200)设置有遮挡图案(210),所述遮挡图案(210)用于遮挡衍射图样的非中央亮斑区,其中,所述衍射图样为透过所述屏体(500)进入所述透镜组(100)的光衍射在所述透镜组(100)的焦平面形成的图样。
2.如权利要求1所述的屏下成像装置,其特征在于,所述遮挡图案(210)位于所述滤波片(200)靠近所述透镜组(100)的一侧,并位于所述滤波片(200)的表面。
3.如权利要求2所述的屏下成像装置,其特征在于,所述遮挡图案(210)为设置于所述滤波片(200)表面的光吸收层。
4.如权利要求1所述的屏下成像装置,其特征在于,包括支撑架(410),所述透镜组(100)和所述滤波片(200)分别设置于所述支撑架(410)的两端。
5.一种滤波片的制作方法,所述滤波片用于屏下成像装置,其特征在于,所述制作方法包括:
在透镜组(100)的焦平面(230)采集透过屏体(500)进入透镜组(100)的光衍射形成的衍射图样(220);
基于所述衍射图样(220)制作滤波片(200),所述滤波片(200)的表面设置有遮挡图案(210),所述遮挡图案(210)用于遮挡通过所述屏体(500)和所述透镜组(100)入射的光线在所述滤波片(200)形成的衍射图样(220)的非中央亮斑区。
6.如权利要求5所述的制作方法,其特征在于,所述在所述透镜组(100)的焦平面(230)采集透过所述屏体(500)进入所述透镜组(100)的光衍射形成的衍射图样(220)包括:
提供表面设置有光刻胶层(250)的基底;
将所述基底设置于所述透镜组(100)的焦平面(230 );
使光线依次通过所述屏体(500)和所述透镜组(100)照射所述光刻胶层(250)形成所述衍射图样(220)。
7.一种滤波片的制作方法,所述滤波片(200)用于屏下成像装置(10),其特征在于,所述制作方法包括:
提供屏体(500)、透镜组(100)和表面设置有光刻胶层(250)的滤波片基体(240);
将所述滤波片基体(240)设置于所述透镜组(100)的焦平面(230 );
使光线依次通过所述屏体(500)和所述透镜组(100)照射所述光刻胶层(250)形成衍射图样(220);
去除所述衍射图样(220)中的中央亮斑区对应的所述光刻胶层(250)制成遮挡图案(210)。
8.一种屏体模组,其特征在于,包括:
屏体(500);
屏下成像装置(10),所述屏下成像装置(10)设置于所述屏体(500),包括:
透镜组(100),具有焦平面(230);
滤波片(200),设置于所述焦平面(230);以及
感光元件(300),设置于所述滤波片(200)远离所述透镜组(100) 的一侧,用于接收经过所述滤波片(200)的光线;
所述滤波片(200)设置有遮挡图案(210),所述遮挡图案(210)用于遮挡衍射图样的非中央亮斑区,其中,所述衍射图样为透过所述屏体(500)进入所述透镜组(100)的光衍射在所述透镜组(100)的焦平面形成的图样。
9.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求8所述的屏体模组(20)。
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