CN111929750A - 彩色宝石光刻纳米微雕显示体与其制造方法及首饰 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种彩色宝石光刻纳米微雕显示体与其制造方法及首饰。该彩色宝石光刻纳米微雕显示体包括有平凸透镜，该平凸透镜的底部平面贴设有一半导体芯片，该半导体芯片上设置有多彩色图案；所述平凸透镜背离所述半导体芯片的一端形成有一凸起弧面，该凸起弧面电镀形成有炫彩的膜层；所述多彩色图案透过所述平凸透镜于所述凸起弧面上显示放大图像。上述的彩色宝石光刻纳米微雕显示体，平凸透镜的凸起弧面上电镀形成有炫彩的膜层，该炫彩的膜层使得彩色宝石光刻纳米微雕显示体具有炫彩的外观，与彩色宝石的外观相近，该彩色宝石光刻纳米微雕显示体镶嵌在珠宝首饰上，如同镶嵌一颗彩色宝石，从而更突显珠宝首饰美观和价值。
Description
技术领域
本发明涉及装饰品技术领域，尤其涉及一种彩色宝石光刻纳米微雕显示体与其制造方法及首饰。
背景技术
随着经济的发展，广大群众对于微雕产品的热爱愈发强烈。在当前市场中，存在许多微雕结构，微雕结构通常包括许多图形、图案、文字或色彩，在进行人为辨识观测时能够获得与众不同的视觉效果。
发明专利(CN109875202A)公开了一种3D显示立体成像图形的纳米微雕显示体与制造方法及首饰，但该纳米微雕显示体只能显示单色渐变或黑白色或单色彩色的立体图形，显示功能单一，不具备多样性；而且其显示体结构主体(平凸透镜)呈无色透明状，因此，当纳米微雕显示体镶嵌至珠宝首饰上时，纳米微雕显示体与珠宝首饰上的宝石色差明显，从而影响珠宝首饰整体的美观度。
基于此种现象，本发明提出了一种彩色宝石光刻纳米微雕显示体与其制造方法及首饰，应用于装饰品技术领域，旨在解决上述存在的问题，致力于装饰品行业的发展。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于提供一种具有炫彩外观的彩色宝石光刻纳米微雕显示体与其制造方法及首饰。
为解决上述技术问题，本发明提供了一种彩色宝石光刻纳米微雕显示体，其包括有平凸透镜，该平凸透镜的底部平面贴设有一半导体芯片，该半导体芯片上设置有多彩色图案；所述平凸透镜背离所述半导体芯片的一端形成有一凸起弧面，该凸起弧面电镀形成有炫彩的膜层。
为解决上述技术问题，本发明提供了一种彩色宝石光刻纳米微雕显示体的制造方法，其包括以下步骤：
S10、制备平凸透镜，该平凸透镜的一端形成有一凸起弧面，在凸起弧面电镀上一炫彩的膜层；
S20、在半导体芯片的表面利用直写式光刻机进行光刻套刻，形成多彩色图案；
S30、将具有多彩色图案的半导体芯片粘贴在平凸透镜的底部平面，该底部平面位于平凸透镜背离所述凸起弧面的一端。
为解决上述技术问题，本发明提供了一种首饰，所述首饰包括如以上任一项所述的彩色宝石光刻纳米微雕显示体，或者，所述首饰包括采用以上所述彩色宝石光刻纳米微雕显示体的制造方法制备的彩色宝石光刻纳米微雕显示体。
本发明的有益技术效果在于：本发明的彩色宝石光刻纳米微雕显示体，平凸透镜的凸起弧面上电镀形成有炫彩的膜层，该炫彩的膜层使得彩色宝石光刻纳米微雕显示体具有炫彩的外观，与彩色宝石的外观相近，该彩色宝石光刻纳米微雕显示体镶嵌在珠宝首饰上，如同镶嵌一颗彩色宝石，从而更突显珠宝首饰美观和价值。
附图说明
图1为本发明的彩色宝石光刻纳米微雕显示体的侧视图；
图2为本发明的彩色宝石光刻纳米微雕显示体的仰视图；
图3为本发明的彩色宝石光刻纳米微雕显示体的制造方法的流程示意图；
图4为本发明的多彩色图案的制备流程示意图。
具体实施方式
为使本领域的普通技术人员更加清楚地理解本发明的目的、技术方案和优点，以下结合附图和实施例对本发明做进一步的阐述。
如图1、2所示，在本发明一个实施例中，彩色宝石光刻纳米微雕显示体，其包括有平凸透镜10，该平凸透镜10的底部平面11贴设有一半导体芯片20，所述平凸透镜10背离所述半导体芯片20的一端形成有一凸起弧面12。所述半导体芯片20为采用半导体材料制备的片状体，例如硅晶片，所述半导体芯片20通过直写式光刻机进行光刻套刻而形成有多彩色图案。所述凸起弧面12电镀形成有炫彩的膜层，该膜层可以根据需求定制电镀不同颜色，如炫彩色、各彩色宝石色、翡翠绿色、碧玺彩色等等，使得彩色宝石光刻纳米微雕显示体具有炫彩的外观，从而使彩色宝石光刻纳米微雕显示体的外观与彩色宝石的外观相近。
所述多彩色图案设置在半导体芯片20朝向所述平凸透镜10的一侧。所述多彩色图案包括图形和/或文字，所述多彩色图案包括有3～5种颜色，可以根据需求定制不同的彩色文字内容和彩色图形照片，如同文字密语和故事背书典故等。
所述半导体芯片20的表面形成有一层保护膜，该保护膜包覆所述多彩色图案。
所述平凸透镜10的材质为人工合成蓝宝石，其折射率高于2.5。所述半导体芯片20上的多彩色图案可被所述平凸透镜折射放大300倍以上，以使能够看清多彩色图案中的内容。
优选地，所述平凸透镜10为圆柱体结构，其高度h1为5.0mm，横截面直径w为4.0mm，其中，所述凸起弧面12的高度h2为1.0mm，如此，彩色宝石光刻纳米微雕显示体结构更简单，外形更完美更美观，更适合全品类产品镶嵌。
所述半导体芯片20的形状为圆形、方形、菱形或其他形状。
如图3所示，在本发明提供了一种彩色宝石光刻纳米微雕显示体的制造方法，其包括以下步骤：
S10、制备平凸透镜，该平凸透镜的一端形成有一凸起弧面，在凸起弧面电镀上一炫彩或彩色的膜层。具体地，所述炫彩的膜层的颜色可定制为如碧玺色、翡翠色等不同彩色宝石颜色，从而使彩色宝石光刻纳米微雕显示体的外观与彩色宝石的外观相近。
S20、在半导体芯片的表面利用直写式光刻机进行光刻套刻，形成多彩色图案。
S30、将具有多彩色图案的半导体芯片粘贴在平凸透镜的底部平面，该底部平面位于平凸透镜背离所述凸起弧面的一端。
如图4所示，所述步骤S20进一步包括：
S21、将多彩色图案按颜色分解为多层子图案，每层子图案对应一种颜色；
S22、在半导体芯片的表面上均匀涂覆光刻胶，利用直写式光刻机对光刻胶进行光刻处理，形成与第一层子图案对应的光刻掩模图形；
S23、利用真空镀膜工艺在具有光刻掩模图形的表面沉积颜色与第一层子图案的颜色对应的膜层；
S24、清除光刻胶及沉积于其上的膜层，完成第一层子图案的光刻；
S25、再次在半导体芯片的表面上均匀涂覆光刻胶，利用直写式光刻机对光刻胶进行对位套刻处理，形成与第二层子图案对应的光刻掩模图形；
S26、利用真空镀膜工艺在具有光刻掩模图形的表面沉积颜色与第二层子图案的颜色对应的膜层；
S27、清除光刻胶及沉积于其上的膜层，完成第二层子图案的光刻；
S28、重复步骤S25～S27，直至完成所有层的子图案的光刻。
在本发明的一些优选实施例中，在步骤S28之后还包括步骤：在半导体芯片的表面上电镀一层保护膜，该保护膜包覆所述多彩色图案。
在本发明提供了一种首饰，其包括图1及图2所示实施例中的彩色宝石光刻纳米微雕显示体，或者，所述首饰包括采用图3及图4所示实施例中的彩色宝石光刻纳米微雕显示体的制造方法制备的彩色宝石光刻纳米微雕显示体。
本发明的有益效果在于：
1.平凸透镜10的凸起弧面12上电镀形成有炫彩膜层，该炫彩膜层使得彩色宝石光刻纳米微雕显示体具有炫彩的外观，与彩色宝石的外观相近，该彩色宝石光刻纳米微雕显示体镶嵌在珠宝首饰上，如同镶嵌一颗彩色宝石，从而更突显珠宝首饰美观和价值。
2.半导体芯片20通过光刻机反复多次光刻以及通过套色印染上色而形成有具备多种颜色的多彩色图案，从而使彩色宝石光刻纳米微雕显示体投射的内容更加丰富。
以上所述仅为本发明的优选实施例，而非对本发明做任何形式上的限制。本领域的技术人员可在上述实施例的基础上施以各种等同的更改和改进，凡在权利要求范围内所做的等同变化或修饰，均应落入本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种彩色宝石光刻纳米微雕显示体，其特征在于：所述彩色宝石光刻纳米微雕显示体包括有平凸透镜，该平凸透镜的底部平面贴设有一半导体芯片，该半导体芯片上设置有多彩色图案；所述平凸透镜背离所述半导体芯片的一端形成有一凸起弧面，该凸起弧面电镀形成有炫彩的膜层。
2.如权利要求1所述彩色宝石光刻纳米微雕显示体，其特征在于：所述多彩色图案为通过直写式光刻机进行光刻套刻而形成在半导体芯片上的多彩色图案。
3.如权利要求2所述彩色宝石光刻纳米微雕显示体，其特征在于：所述多彩色图案采用如下步骤制备：
S21、将多彩色图案按颜色分解为多层子图案，每层子图案对应一种颜色；
S22、在半导体芯片的表面上均匀涂覆光刻胶，利用直写式光刻机对光刻胶进行光刻处理，形成与第一层子图案对应的光刻掩模图形；
S23、利用真空镀膜工艺在具有光刻掩模图形的表面沉积颜色与第一层子图案的颜色对应的膜层；
S24、清除光刻胶及沉积于其上的膜层，完成第一层子图案的光刻；
S25、再次在半导体芯片的表面上均匀涂覆光刻胶，利用直写式光刻机对光刻胶进行对位套刻处理，形成与第二层子图案对应的光刻掩模图形；
S26、利用真空镀膜工艺在具有光刻掩模图形的表面沉积颜色与第二层子图案的颜色对应的膜层；
S27、清除光刻胶及沉积于其上的膜层，完成第二层子图案的光刻；
S28、重复步骤S5～S7，直至完成所有层的子图案的光刻。
4.如权利要求2所述彩色宝石光刻纳米微雕显示体，其特征在于：所述多彩色图案包括图形和/或文字，所述多彩色图案包括有3～5种颜色。
5.如权利要求1所述彩色宝石光刻纳米微雕显示体，其特征在于：所述半导体芯片的表面形成有一层保护膜，该保护膜包覆所述多彩色图案。
6.如权利要求1所述彩色宝石光刻纳米微雕显示体，其特征在于：所述平凸透镜为圆柱体结构，其高度为5.0mm，横截面直径为4.0mm，其中，所述凸起弧面的高度为1.0mm。
7.如权利要求1所述彩色宝石光刻纳米微雕显示体，其特征在于：所述平凸透镜的材质为人工合成蓝宝石，其折射率高于2.5。
8.一种彩色宝石光刻纳米微雕显示体的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括以下步骤：
S10、制备平凸透镜，该平凸透镜的一端形成有一凸起弧面，在凸起弧面电镀上一炫彩的膜层；
S20、在半导体芯片的表面利用直写式光刻机进行光刻套刻，形成多彩色图案；
S30、将具有多彩色图案的半导体芯片粘贴在平凸透镜的底部平面，该底部平面位于平凸透镜背离所述凸起弧面的一端。
9.如权利要求8所述的彩色宝石光刻纳米微雕显示体的制造方法，其特征在于，所述步骤S20进一步包括：
S21、将多彩色图案按颜色分解为多层子图案，每层子图案对应一种颜色；
S22、在半导体芯片的表面上均匀涂覆光刻胶，利用直写式光刻机对光刻胶进行光刻处理，形成与第一层子图案对应的光刻掩模图形；
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S28、重复步骤S5～S7，直至完成所有层的子图案的光刻。
10.一种首饰，其特征在于：所述首饰包括有如权利要求1～7任一项所述的彩色宝石光刻纳米微雕显示体，或者，所述首饰包括有采用如权利要求8-9任一项所述彩色宝石光刻纳米微雕显示体的制造方法制备的彩色宝石光刻纳米微雕显示体。
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