CN111916485B - 一种显示面板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开了一种显示面板及显示装置。其中，该显示面板包括透明显示区；透明显示区设置有阵列排布的若干个子像素，子像素包括依次层叠的衬底、位于衬底上的驱动阵列层、阳极块、用于界定子像素开口的像素定义层、阴极块，子像素开口内填充有发光材料；阴极块包括覆盖在发光材料上的覆盖部分和未覆盖在发光材料上的非覆盖部分，且非覆盖部分在阳极块上的投影与阳极块交叠，非覆盖部分与阳极块的非重叠部分通过阴极引线电连接驱动阵列层内的公共金属线。本发明实施例提供的技术方案可以提高显示面板的透明显示区的透过率，从而可以提高感光器件的成像质量。

Description

一种显示面板及显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及显示装置。

背景技术

随着电子设备的快速发展，用户对屏占比的要求越来越高，使得电子设备的全面屏显示受到业界越来越多的关注。传统的电子设备如手机、平板电脑等，由于需要集成诸如前置摄像头、听筒以及红外感应元件等，故而可通过在显示屏上开槽(Notch)，在开槽区域设置摄像头、听筒以及红外感应元件等，但是这些电子设备均不是真正意义上的全面屏，并不能在整个屏幕的各个区域均进行显示，如在摄像头区域不能显示画面。

为实现真正的全面屏，屏下摄像头技术应运而生，即设置显示屏中设置有摄像头的区域仍可以用于显示，即显示屏中设置有摄像头的区域仍设置有像素。但是对于显示屏设置有摄像头的区域，像素中不透光的金属结构会影响射入显示面板的设置有摄像头区域的外界光线的透过率，严重影响摄像头的拍摄效果。

发明内容

本发明实施例提供一种显示面板及显示装置，以提高显示面板的透明显示区的透过率，从而可以提高感光器件的成像质量。

第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括透明显示区；透明显示区设置有阵列排布的若干个子像素，

子像素包括依次层叠的衬底、位于衬底上的驱动阵列层、阳极块、用于界定子像素开口的像素定义层、阴极块，子像素开口内填充有发光材料；

阴极块包括覆盖在发光材料上的覆盖部分和未覆盖在发光材料上的非覆盖部分，且非覆盖部分在阳极块上的投影与阳极块交叠，非覆盖部分与阳极块的非重叠部分通过阴极引线电连接驱动阵列层内的公共金属线，以使每个子像素的阴极块单独通过阴极引线电连接至驱动阵列层内的公共金属线，而无需使用外围的阴极引线，且无需设置整面阴极，从而可以提高透明显示区的透过率，从而可以提高感光器件的成像质量。

进一步地，驱动阵列层包括：层叠设置的多个金属层，以及相邻金属层之间的无机绝缘层，公共金属线形成于多个金属层中的至少一层中。

进一步地，若干个子像素形成多个像素单元，任一像素单元中的所有子像素的阴极块连续设置。

进一步地，至少部分相邻的像素单元的阴极块搭接设置，以增大非搭接且间隔设置的阴极块之间的距离，从而可以进一步提高透明显示区的透光率。

进一步地，像素单元呈阵列排布，

沿第一方向排列的多个像素单元中，将每两个相邻的像素单元划分为一组，每组中的两个像素单元的阴极块搭接设置，不同组中的像素单元的阴极块间隔设置，其中，第一方向为行方向或列方向，以最大限度地增大发光单元对的个数，以提高透明显示区的透光效果，且方便将阴极块通过同一掩膜版分两步先后蒸镀制成。

进一步地，子像素开口的侧壁的坡度呈先逐渐增大后逐渐减小的趋势，即对子像素开口的侧壁进行缓降处理，相比于坡度恒定的侧壁，可以避免阴极断裂。

进一步地，阴极引线包括：接触电极块和过孔，接触电极块与阴极块的非覆盖部分靠近阳极块的一侧接触，接触电极块位于阴极块的非覆盖部分与像素定义层之间，接触电极块在阳极块上的投影与阳极块交叠，接触电极块与阳极块的非重叠部分通过贯穿像素定义层的过孔电连接驱动阵列层内的公共金属线。接触电极块与阳极块沿垂直于显示面板的方向上部分重叠，可以使阳极块的遮光面积与接触电极块的遮光面积重叠，进而减小阳极块和接触电极块的整体有效遮光面积，从而提高显示面板的透明显示区的透光率。

进一步地，像素定义层靠近阴极块的非覆盖部分的一侧设置有未贯穿像素定义层的凹陷结构，接触电极块位于凹陷结构内，接触电极块远离衬底的一侧的高度小于或等于凹陷结构远离衬底的一侧的高度，可避免接触电极块与蒸镀阴极或发光材料时用的掩膜板在掩膜板对位过程中产生摩擦，导致接触电极块损伤的情况发生。

进一步地，凹陷结构的侧壁的坡度呈先逐渐增大后逐渐减小的趋势，即对凹陷结构的侧壁进行缓降处理，相比于坡度恒定的侧壁，可以避免阴极断裂。

第二方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明任意实施例提供的显示面板，以及设置于透明显示区下方的感光部件。

本发明实施例的技术方案中的显示面板包括透明显示区；透明显示区设置有阵列排布的若干个子像素，子像素包括依次层叠的衬底、位于衬底上的驱动阵列层、阳极块、用于界定子像素开口的像素定义层、阴极块，子像素开口内填充有发光材料；阴极块包括覆盖在发光材料上的覆盖部分和未覆盖在发光材料上的非覆盖部分，且非覆盖部分在阳极块上的投影与阳极块交叠，非覆盖部分与阳极块的非重叠部分通过阴极引线电连接驱动阵列层内的公共金属线，以使每个子像素的阴极块单独通过阴极引线电连接至驱动阵列层内的公共金属线，而无需使用外围的阴极引线，且无需设置整面阴极，从而可以提高透明显示区的透过率，从而可以提高感光器件的成像质量。

附图说明

图1为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的一种显示面板的透明显示区的局部结构示意图；

图3为本发明实施例提供的一种显示面板的透明显示区的局部剖面结构示意图；

图4为本发明实施例提供的又一种显示面板的透明显示区的局部结构示意图；

图5为本发明实施例提供的又一种显示面板的透明显示区的局部剖面结构示意图；

图6为本发明实施例提供的又一种显示面板的透明显示区的局部结构示意图；

图7为本发明实施例提供的一种在制作阴极块时，显示面板的透明显示区的局部结构示意图；

图8为本发明实施例提供的一种掩膜版的结构示意图；

图9为本发明实施例提供的又一种在制作阴极块时，显示面板的透明显示区的局部结构示意图；

图10为本发明实施例提供的又一种掩膜版的结构示意图；

图11为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。

本发明实施例提供一种显示面板。图1为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图。图2为本发明实施例提供的一种显示面板的透明显示区的局部结构示意图。图3为本发明实施例提供的一种显示面板的透明显示区的局部剖面结构示意图。该显示面板包括透明显示区100；透明显示区100设置有阵列排布的若干个子像素2。

其中，子像素2包括依次层叠的衬底10、位于衬底10上的驱动阵列层20、阳极块30、用于界定子像素开口41的像素定义层40、阴极块50，子像素开口41内填充有发光材料60。

阴极块50包括覆盖在发光材料60上的覆盖部分51和未覆盖在发光材料60上的非覆盖部分52，且非覆盖部分52在阳极块30上的投影与阳极块30交叠，非覆盖部分52与阳极块30的非重叠部分a通过阴极引线70电连接驱动阵列层20内的公共金属线21。

其中，显示面板可为有机发光显示面板。显示面板的整个显示区可以是部分透明或是全部透明，可根据需要设置透明显示区的大小，本发明实施例对此不做限定。图1示例性的画出显示面板的整个显示区为透明显示区的情况。图2示例性的画出透明显示区100的局部区域101的俯视结构示意图。图3为沿图2中AA＇方向的剖面结构示意图。呈阵列排布的多个子像素可包括：多个红色子像素R、多个绿色子像素G和多个蓝色子像素B。阳极块30可以包括下述至少一种材料：氧化锡、氧化铟、氧化锌、铟锡氧化物、铟锌氧化物、掺杂铝的氧化锌、银、金、铂。阴极块50可以包括下述至少一种材料：氧化锡、氧化铟、氧化锌、铟锡氧化物、铟锌氧化物、掺杂铝的氧化锌、银、金、铂。发光材料60可以包括荧光染料或磷光染料等。发光材料60位于阳极块30和阴极块50之间。子像素2还可包括空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、电子注入层、电子传输层和空穴阻挡层等，其中，空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层可位于发光材料和阳极块之间，电子注入层、电子传输层和空穴阻挡层可位于发光材料和阴极块之间。衬底10可以是柔性衬底或刚性衬底。驱动阵列层20可用于形成像素驱动电路中的薄膜晶体管22、存储电容等器件，以及扫描线、数据线、发光控制线和电源线等信号线。该公共金属线21可为低电位信号线。

通过将阴极图形化，每个子像素2的阴极块30单独通过阴极引线70向下引，以电连接至驱动阵列层20内的公共金属线21，而无需使用向显示面板的边缘延伸的外围的阴极引线，且无需设置成整面阴极，从而可以提高透明显示区的透过率。透明显示区100中设置的多个阴极块50中，至少部分阴极块50之间是间隔设置的。每个阴极块50覆盖的子像素2的个数可以是一个或多个，可根据需要进行设置，本发明实施例对此不做限定。

本实施例的技术方案中的显示面板包括透明显示区；透明显示区设置有阵列排布的若干个子像素，子像素包括依次层叠的衬底、位于衬底上的驱动阵列层、阳极块、用于界定子像素开口的像素定义层、阴极块，子像素开口内填充有发光材料；阴极块包括覆盖在发光材料上的覆盖部分和未覆盖在发光材料上的非覆盖部分，且非覆盖部分在阳极块上的投影与阳极块交叠，非覆盖部分与阳极块的非重叠部分通过阴极引线电连接驱动阵列层内的公共金属线，以使每个子像素的阴极块单独通过阴极引线电连接至驱动阵列层内的公共金属线，而无需使用外围的阴极引线，且无需设置整面阴极，从而可以提高透明显示区的透过率，从而可以提高感光器件的成像质量。

可选的，在上述实施例的基础上，继续参见图3，驱动阵列层20包括：层叠设置的多个金属层，以及相邻金属层之间的无机绝缘层，公共金属线21形成于多个金属层中的至少一层中。

其中，金属层可包括下述至少一种材料：铝、铜、银和金等。无机绝缘层可包括系数至少一种材料：氮化硅和氧化硅等。可选的，公共金属线21可以与薄膜晶体管22的栅极形成于相同的金属层中。可选的，公共金属线21可以与薄膜晶体管22的源极和漏极形成于相同的金属层中。

可选的，在上述实施例的基础上，继续参见图2，若干个子像素2形成多个像素单元3，任一像素单元3中的所有子像素2的阴极块50连续设置。

其中，像素单元3中的子像素2的个数可以是一个或多个，可根据需要进行设置，本发明实施例对此不作限定。每个像素单元3中的子像素2的个数可相等。整个显示面板子像素按照预设规律排布，每个像素单元3中的子像素2的个数可为3个，可包括一个红色子像素R、一个绿色子像素G和一个蓝色子像素B，通过控制一个像素单元3中的三种颜色的子像素2发出的光的亮度，可以混合形成任意颜色的光，以使显示面板显示所需画面。间隔设置的阴极块50的个数越多，透过率越高。间隔设置的阴极块50的个数不能过多，否则阴极块50的面积越小，导致蒸镀阴极所用的掩膜版上的开口越小，会增大阴极的制作难度。

可选的，在上述实施例的基础上，图4为本发明实施例提供的又一种显示面板的透明显示区的局部结构示意图；图5为本发明实施例提供的又一种显示面板的透明显示区的局部剖面结构示意图；至少部分相邻的像素单元3的阴极块50搭接设置。

其中，图5为沿图4中AA＇方向的剖面结构示意图。阴极块50搭接的像素单元中，阴极块50搭接重叠的部分c可覆盖所有阴极引线70，以保证阴极引线70上的阴极块50的膜层均匀，避免由于阴极块50的越靠近边缘的膜层越不均匀，若将阴极块50的靠近边缘的不均匀的膜层与阴极引线70接触，电连接效果差，接触电阻大的情况发生。

可选的，在上述实施例的基础上，继续参见图4，像素单元3呈阵列排布，沿第一方向X排列的多个像素单元3中，将每两个相邻的像素单元3划分为一组(如图4中的标记4)，每组中的两个像素单元3的阴极块50搭接设置，不同组中的像素单元3的阴极块50间隔设置，其中，第一方向为行方向或列方向。

其中，图4示例性的画出第一方向X为行方向，第二方向Y为列方向的情况。方向Z垂直于显示面板，其中，方向X、方向Y和方向Z可以相互垂直。图4示例性的画出划分出4组像素单元的情况。组数越多，透明显示区的透光效果越好。图4相比于图2，图4将每组中的两个像素单元3的阴极块50重叠，使得各组的阴极块50之间的间隔D会增大，从而可以进一步提高透明显示区的透光率。

图6为本发明实施例提供的又一种显示面板的透明显示区的局部结构示意图。图6示例性的画出划分出9组像素单元的情况。图4和图6的技术方案的区别在于：像素单元3的分组方式不同。图4中沿第二方向Y上排列的每排阴极块50中，相邻的阴极块50正对设置。图4中沿第二方向Y上排列的每排阴极块50，相邻的阴极块50错位设置。

图7为本发明实施例提供的一种在制作阴极块时，显示面板的透明显示区的局部结构示意图，图8为本发明实施例提供的一种掩膜版的结构示意图，沿第一方向X排列的多排像素单元3，所有位于奇数排的像素单元3的阴极块50和所有位于偶数排的像素单元3的阴极块50通过相同的掩膜版分两步先后制成。

其中，图6对应的技术方案中的阴极块50可通过同一掩膜版分两步先后蒸镀制成。结合图7和图6所示，图7示例性的画出制备所有位于奇数排的像素单元3的阴极块50的结构示意图，先使掩膜版300上的开口301与所有位于奇数排的像素单元3的阴极块50的待形成区域沿垂直于显示面板的方向Z相对，以制备所有位于奇数排的像素单元3的阴极块50，如图6所示，之后，移动掩膜版，以使掩膜版300上的开口301与所有位于偶数排的像素单元3的阴极块50的待形成区域沿垂直于显示面板的方向Z相对，以制备所有位于偶数排的像素单元3的阴极块50。可选的，每组中的两个像素单元3的阴极块50的大小和形状相同。可选的，各像素单元3的阴极块50的大小和形状相同。掩膜版300上的开口301与像素单元3的阴极块50的大小和形状相同。像素单元3的阴极块50的形状可以是矩形等。

图9为本发明实施例提供的又一种在制作阴极块时，显示面板的透明显示区的局部结构示意图，图10为本发明实施例提供的又一种掩膜版的结构示意图，结合图4、图9和图10所示，图9示例性的画出制备所有位于奇数排的像素单元3的阴极块50的结构示意图，先使掩膜版300上的开口301与所有位于奇数排的像素单元3的阴极块50的待形成区域沿垂直于显示面板的方向Z相对，以制备所有位于奇数排的像素单元3的阴极块50，如图9所示，之后，移动掩膜版300，以使掩膜版300上的开口301与所有位于偶数排的像素单元3的阴极块50的待形成区域沿垂直于显示面板的方向Z相对，以制备所有位于偶数排的像素单元3的阴极块50。

可选的，在上述实施例的基础上，继续参见图5，子像素开口41的侧壁的坡度呈先逐渐增大后逐渐减小的趋势，即对子像素开口41的侧壁进行缓降处理，相比于坡度恒定的侧壁，可以避免阴极断裂。

可选的，在上述实施例的基础上，继续参见图5，阴极引线70包括：接触电极块71和过孔72，接触电极块71与阴极块50的非覆盖部分52靠近阳极块30的一侧接触，接触电极块71位于阴极块50的非覆盖部分52与像素定义层40之间，接触电极块71在阳极块30上的投影与阳极块30交叠，接触电极块71与阳极块30的非重叠部分通过贯穿像素定义层40的过孔72电连接驱动阵列层20内的公共金属线21。

其中，接触电极块71可以包括下述至少一种金属材料：铜、银、金和铝等。接触电极块71的设置，可以减小接触电阻，并可避免由于像素定义层40等绝缘层厚度很大，过孔太深，若过孔与阴极块直接接触，阴极断裂，进而无法实现阴极块与驱动阵列层的电连接的情况发生。阳极块30和接触电极块71的透光率较小，故将接触电极块71设置为与阳极块30部分重叠，如图3中区域b，相比于将接触电极块71与阳极块30完全错开(相当于将图3中的接触电极块71沿方向X向远离阳极块30的方向移动至与阳极块30不重叠的位置)的方式，可以使阳极块30的遮光面积与接触电极块71的遮光面积重叠，进而减小阳极块30和接触电极块71的整体有效遮光面积，从而提高透明显示区的透光率。

可选的，在上述实施例的基础上，继续参见图5，透明显示区100还包括：平坦化层80，位于驱动阵列层20和阳极块30之间，以保证制备的阳极块30的平整性。平坦化层30还位于驱动阵列层20和像素定义层40之间。可选的，继续参见图5，薄膜晶体管22可包括有源层、栅极绝缘层、栅极层、源漏极层和层间绝缘层等。有源层包括源区、沟道区和漏区。阳极块30可通过过孔与薄膜晶体管的漏极电连接。

可选的，在上述实施例的基础上，继续参见图5，像素定义层40靠近阴极块50的非覆盖部分52的一侧设置有未贯穿像素定义层40的凹陷结构42，接触电极块72位于凹陷结构42内，接触电极块72远离衬底10的一侧的高度小于或等于凹陷结构42远离衬底10的一侧的高度。

其中，通过设置凹陷结构42，以减小过孔72需要贯穿的像素定义层40的厚度，从而降低过孔制作不良的风险。接触电极块71远离驱动阵列层20的一侧的高度小于或等于凹陷结构42远离驱动阵列层20的一侧的高度，可避免接触电极块与蒸镀阴极或发光材料时用的掩膜板在掩膜板对位过程中产生摩擦，导致搭接电极损伤的情况发生。

可选的，在上述实施例的基础上，继续参见图5，凹陷结构42的侧壁的坡度呈先逐渐增大后逐渐减小的趋势，即对凹陷结构42的侧壁进行缓降处理，相比于坡度恒定的侧壁，可以避免阴极断裂。

可选的，像素单元3中的各子像素2的接触电极块71间隔设置，相比于像素单元3中的各子像素2的接触电极块71连续设置成整块电极的方式，可以提高透过率。

本发明实施例提供一种显示装置。图11为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。该显示装置1包括本发明任意实施例提供的显示面板，以及设置于透明显示区100下方的感光部件400。

其中，该显示装置1可包括：手机、平板电脑、笔记本电脑等。感光部件400可以包括摄像头、指纹识别模块等。图11示例性的画出显示面板包括透明显示区100和围绕透明显示区100的主显示区200的情况。本发明实施例提供的显示装置包括上述实施例中的显示面板，因此本发明实施例提供的显示装置也具备上述实施例中所描述的有益效果，此处不再赘述。

注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (8)

1.一种显示面板，其特征在于，包括透明显示区；所述透明显示区设置有阵列排布的若干个子像素，

所述子像素包括依次层叠的衬底、位于所述衬底上的驱动阵列层、阳极块、用于界定子像素开口的像素定义层、阴极块，所述子像素开口内填充有发光材料；

所述阴极块包括覆盖在所述发光材料上的覆盖部分和未覆盖在所述发光材料上的非覆盖部分，且所述非覆盖部分在所述阳极块上的投影与所述阳极块交叠，所述非覆盖部分与所述阳极块的非重叠部分通过阴极引线电连接所述驱动阵列层内的公共金属线；

所述若干个子像素形成多个像素单元，任一所述像素单元中的所有子像素的阴极块连续设置，至少部分相邻的像素单元的阴极块搭接设置。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述驱动阵列层包括：层叠设置的多个金属层，以及相邻金属层之间的无机绝缘层，所述公共金属线形成于所述多个金属层中的至少一层中。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述像素单元呈阵列排布，

沿第一方向排列的多个像素单元中，将每两个相邻的像素单元划分为一组，每组中的两个像素单元的阴极块搭接设置，不同组中的像素单元的阴极块间隔设置，其中，所述第一方向为行方向或列方向。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述子像素开口的侧壁的坡度呈先逐渐增大后逐渐减小的趋势。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阴极引线包括：接触电极块和过孔，所述接触电极块与所述阴极块的非覆盖部分靠近所述阳极块的一侧接触，所述接触电极块位于所述阴极块的非覆盖部分与所述像素定义层之间，所述接触电极块在所述阳极块上的投影与所述阳极块交叠，所述接触电极块与所述阳极块的非重叠部分通过贯穿所述像素定义层的过孔电连接所述驱动阵列层内的公共金属线。

6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述像素定义层靠近所述阴极块的非覆盖部分的一侧设置有未贯穿所述像素定义层的凹陷结构，所述接触电极块位于所述凹陷结构内，所述接触电极块远离所述衬底的一侧的高度小于或等于所述凹陷结构远离所述衬底的一侧的高度。

7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述凹陷结构的侧壁的坡度呈先逐渐增大后逐渐减小的趋势。

8.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-7任一所述的显示面板，以及设置于所述透明显示区下方的感光部件。

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