CN111906304A - 基于多组元材料成分自动调整的激光高通量制备送粉装置 - Google Patents
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Abstract
本发明属于材料高通量制备领域,具体为一种基于多组元材料成分配比时时自动调整的激光高通量制备送粉装置及工艺方法。所述装置主要由控制计算机、粉斗、转盘、刮板、重量传感器、集粉器和流量传感器等构成。区别于现有的转盘转速恒定的送粉装置只能用于一次性制备单一成分配比的样品,无法满足对大量不同成分配比样品的高通量制备要求。本发明所述装置通过赋予多组并联转盘以不同的初始转动速度和转动加速度同时变速转动,可以实现粉末成分配比时时自动调整和最终送粉量的实时稳定控制。本发明在无需多次人为调整送粉速度的情况下,可以实现对多组元复杂合金、金属基化合物或梯度渐变材料的激光高通量制备。
Description
技术领域
本发明属于材料高通量制备领域,具体为一种基于多组元材料成分配比时时自动调整的激光高通量制备送粉装置及工艺方法。
背景技术
“材料高通量制备”是材料基因组计划的重要组成部分和实现方式,它在改变过去以“顺序迭代”为主的试错法基础上,通过快速高效的串行或并行方式,制备出大量传统工艺手段无法短时间产生的大量样品。高通量制备不仅颠覆了旧式的材料制备方式,并且采用新的材料研发模式,缩短了研发周期,大幅提高了材料更新换代的效率。
目前常见的材料高通量制备方式有物理掩膜法、多靶顺序沉积法、多靶共沉积法和激光熔化沉积法。其中前三种主要是用来制备二维薄膜材料,而无法满足对制备块体结构材料的要求。
激光熔化沉积又称激光熔覆,它是将待熔覆材料用不同的方式放置在基体表面,经过高能激光束辐照,待熔覆材料和基体表面薄层同时熔化并快速冷凝形成组织细密,稀释率较低,呈现牢固冶金结合的涂层制备技术。它最初是作为一种新型材料表面改性技术,后被广泛应用于激光再制造或激光3D打印等新兴材料制备技术。考虑到粉体作为常见的熔覆材料,按照其不同的供给方式,激光熔化沉积法可分为同步送粉式和预置粉末式。由于同步送粉式快捷高效,便于自动化操作,实际应用较为广泛,易于实现材料的激光高通量制备,从而形成包含成分、组织结构和性能等大量数据信息广泛分布的样品数据库。
以激光同步送粉法为代表的激光高通量制备系统内,送粉器处于关键和重要地位。虽然性能优异的送粉器能保证粉末输送的稳定性和连续性。但在恒定的送粉速率条件下,仅能制备出具有单一成分或组织结构的样品,无法满足多组元复杂成分配比样品的激光高通量制备要求。
发明内容
本发明的目的在于提供一种基于多组元材料激光高通量制备的送粉装置和工艺方法,所述装置设置多组并联转盘以不同的初始转动速度和转动加速度同时变速转动,实现多组元材料成分配比时时自动调整的激光高通量制备。
本发明的技术方案如下:
一种基于多组元材料成分配比时时自动调整的激光高通量制备送粉装置,所述装置包括控制计算机1、送粉器2、粉斗3和载流气体发生装置15,其特征在于:
所述送粉器2设有若干个并联的刮板式单路送粉器,每个刮板式单路送粉器相对独立、结构相同,且均设有专用粉斗3;
每个独立的刮板式单路送粉器由转盘4、刮板5、固定轴6、重量传感器7、转动装置、集粉器10以及流量传感器11组成,其中转盘4与转动装置相连,转动装置用于控制转盘4转动;转盘4下设有重量传感器7,转盘4上表面通过固定轴6和与其表面紧密接触的刮板5相连;集粉器10的一端通过管路与转盘4相连通,另一端通过流量传感器11与混粉装置12相连通。
当送粉装置运转时,粉末经由粉斗3底端的漏粉孔通过粉末自重和载流气体的压力输送到转盘4,转盘4转动后,粉末将被固定在转盘4上方的刮板5持续刮落进入集粉器10,集粉器10内的粉末经由流量传感器7进入混粉装置12,混合均匀后,最终被输送到激光加工区域。
进一步的:所述混粉装置12通过设置在送粉器2上的多路粉量控制接口14与激光加工区域相连通。
进一步的:所述转动装置包括转动电机8和转动轴承9,其中转动电机8通过转动轴承9与转盘4固定连接,转盘4转速由转动电机8来控制。
进一步的:所述装置优选设有五组刮板式单路送粉器和粉斗3。
进一步的:转动装置、重量传感器7和流量传感器11均与控制计算机1相连,当转盘转动后,重量传感器7对与之连接的转盘4所输送粉末的重量进行信息采集,流量传感器11对粉末流量信息进行采集,重量传感器7和流量传感器11将不断变更的数据信息实时反馈给控制计算机1,控制计算机1再根据反馈信息及时调整转盘转速,进而及时调整粉末流量,保证粉末流量的稳定连续。
进一步的:载流气体发生装置15分别与粉斗3和/或混粉装置12相连。
本发明所述装置依靠控制计算机,可实现各个转盘转速非一致性时时自动调整,保障多组元材料成分配比时时自动变化,通过设置重量传感器和流量传感器,实现对粉斗储存和最后输出粉末的实时稳定精确控制。
本发明还提供了一种激光高通量制备材料的工艺方法,其特征在于:通过控制计算机1设置各组并联的转盘4以不同的初始转动速度和转动加速度同时变速转动,与各自转盘4连接的粉斗3所储存的粉末经其底端漏粉孔,依靠粉末自重和载流气体压力不断流至转盘4上,利用重量传感器7测量反馈转盘4输送粉末的重量信息,转盘4转动后,固定在转盘4上方与其紧密相连的刮板5将粉末持续刮落至集粉器10,通过流量传感器11实时监控从集粉器10流出的粉末流量,实现对其连续稳定控制,后经过混粉装置12混合均匀的粉末被输送至激光加工区域,完成材料的激光高通量制备。
利用该送粉装置和工艺方法结合后续处理,可以实现对多组元复杂合金(如非晶合金、高熵合金、高温合金等)、金属基化合物或梯度渐变材料的激光高通量制备。
本发明的设计思想是:
本发明基于气体动力学原理,提供一种将多组元合金粉末输送至待加工区域而激光熔化沉积形成所需样品的送粉装置。该装置通过赋予多组并联转盘以不同的初始转动速度和转动加速度同时变速转动,可以实现供应粉末的成分配比时时自动调整,区别现有的送粉装置只能用于一次性制备单一成分配比的样品。该装置加装重量传感器和流量传感器,可以实现对最后输出粉末的实时稳定精确控制,满足多组元复杂成分样品的激光高通量制备要求。
相对于传统的激光送粉装置和工艺方法,本发明具有以下优点:
1.本发明在无需多次调整送粉器送粉速度的情况下,实现多组元材料成分配比的时时自动调整和最终送粉量的稳定精确控制,可以满足对多组元复杂成分材料的激光高通量制备要求。
2.本发明适用于多组元复杂合金材料、金属基化合物或梯度渐变材料的激光高通量制备。
3.本发明可实现对大量成分、组织结构和性能等差异较大的材料样品在较小面积基体上的集成,所得材料样品的数据库灵活可控。
4.本发明的激光高通量制备效率较高,相对于其他种类的激光制备手段具有更强大的功能,可实现不同维度下多组元不同成分配比样品的快速制备。
5.本发明提供的激光高通量送粉装置和工艺方法操作简单,灵活性强,制备成本低,具备非常好的应用前景。
附图说明
图1为基于多组元材料成分配比时时自动调整的激光高通量制备送粉装置结构示意图;
图2为独立的刮板式单路送粉器示意图。
图中,1控制计算机;2送粉器;3粉斗;4转盘;5刮板;6固定轴;7重量传感器;8转动电机;9转动轴承;10集粉器;11流量传感器;12混粉装置;13多路检测重量数据输入接口;14多路粉量控制接口;15载流气体发生装置。
具体实施方式
如图1所示,本发明基于多组元材料成分配比时时自动调整的激光高通量制备送粉装置,主要包括控制计算机1、送粉器2、粉斗3和载流气体发生装置15,所述送粉器2设有5个并联的刮板式单路送粉器,每个刮板式单路送粉器设有专用粉斗3;
每个独立的刮板式单路送粉器由转盘4、刮板5、固定轴6、重量传感器7、转动装置、集粉器10以及流量传感器11组成,其中转盘4与转动装置相连,转动装置包括转动电机8和转动轴承9,转动电机8通过转动轴承9与转盘4固定连接,用于控制转盘4的转动;转盘4下设有重量传感器7,转盘4上表面通过固定轴6和与其表面紧密接触的刮板5相连;集粉器10的一端通过管路与转盘4相连通,另一端通过流量传感器11和混粉装置12相连通,混粉装置12通过设置在送粉器2上的多路粉量控制接口14与激光加工区域相连通;载流气体发生装置15分别与粉斗3和混粉装置12相连;
转动装置、重量传感器7和流量传感器11均与控制计算机1相连,当转盘转动后,重量传感器7对与之连接的转盘4所输送粉末的重量进行信息采集,流量传感器11对粉末流量信息进行采集,重量传感器7和流量传感器11将不断变更的数据信息实时反馈给控制计算机1,控制计算机1再根据反馈信息及时调整转盘转速,进而及时调整粉末流量,保证粉末流量的稳定连续。
该装置通过控制计算机1设置各组并联的转盘4以不同的初始转动速度和转动加速度同时变速转动,与各自转盘4连接的粉斗3所储存的粉末经其底端漏粉孔,依靠粉末自重和载流气体压力不断流至转盘4上,利用重量传感器7测量反馈转盘4输送粉末的重量信息,转盘4转动后,固定在转盘4上方与其紧密相连的刮板5将粉末持续刮落至集粉器10,通过流量传感器11实时监控从集粉器10流出的粉末流量,实现对其连续稳定控制,集粉器10收集来的粉末通过管路输送到混粉装置12并混合均匀后,借助载流气体输送到激光加工区域,完成材料的激光高通量制备,在管路末端设置混粉装置12可以保证粉末在输送到激光加工区域时能实现均匀混合,避免因粉末混合不均匀导致的成分组织偏析现象。
该装置能够实现输送粉末的成分配比时时自动调整变化,改变了过往只能一次性制备单一成分配比样品的送粉装置和制备工艺,成功实现了对多组元复杂成分材料的激光高通量制备。
实施例1:
五元锆基非晶合金Zr-Cu-Ni-Ag-Al为例,参照已报道的非晶形成能力优异的成分Zr50.12Cu35.22Ni2.69Ag2.69Al9.28,在本发明五组并联的粉斗中各自倒入数量充足的Zr粉、Cu粉、Ni粉、Ag粉和Al粉(粉末纯度和粒径满足相应实验要求)。赋予五组并联转盘以不同的初始转动速度和转动加速度同时变速转动,实现Zr-Cu-Ni-Ag-Al非晶合金不同成分配比样品的激光高通量制备,保证制备的样品库中出现成分为Zr50.12Cu35.22Ni2.69Ag2.69Al9.28的样品和最终送粉速度的稳定。该方式有望在相同实验参数条件下,寻找挖掘比已报道出的具有更为优异非晶形成能力的合金成分。
实施例2:
前期步骤与实施例1相同,赋予Zr粉、Al粉、Ni粉和Cu粉的转盘以不同的初始转动速度和转动加速度同时变速转动,而Ag粉的暂不输送至激光加工区域。测量在粉末传输过程中不同粉末相应的失重量,准确记录下来。沿已形成的Zr-Cu-Ni-Ag样品上的激光熔化沉积Al粉,其送粉量和转盘转速根据之前Zr-Cu-Ni-Ag的输送量进行协调,保证先后两者输送粉末量总和精确稳定。最后选择在Zr-Cu-Ni-Ag-Al非晶样品激光行走轨迹上进行激光重熔,这样做首先是为了改善非晶动力学条件,促进非晶的形成;其次促进合金元素在熔池内的均匀化程度,避免组织成分的偏析。
本发明未尽事宜为公知技术。
上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并据以实施,并不能以此限制本发明的保护范围。凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本发明的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种基于多组元材料成分配比时时自动调整的激光高通量制备送粉装置,所述装置包括控制计算机(1)、送粉器(2)、粉斗(3)和载流气体发生装置(15),其特征在于:
所述送粉器(2)设有若干个并联的刮板式单路送粉器,每个刮板式单路送粉器设有专用粉斗(3);
每个独立的刮板式单路送粉器由转盘(4)、刮板(5)、固定轴(6)、重量传感器(7)、转动装置、集粉器(10)以及流量传感器(11)组成,其中转盘(4)与转动装置相连,转动装置用于控制转盘(4)转动;转盘(4)下设有重量传感器(7),转盘(4)上表面通过固定轴(6)和与其表面紧密接触的刮板(5)相连;集粉器(10)的一端通过管路与转盘(4)相连通,另一端通过流量传感器(11)与混粉装置(12)相连通。
2.按照权利要求1所述基于多组元材料成分配比时时自动调整的激光高通量制备送粉装置,其特征在于:所述混粉装置(12)通过设置在送粉器(2)上的多路粉量控制接口(14)与激光加工区域相连通。
3.按照权利要求1所述基于多组元材料成分配比时时自动调整的激光高通量制备送粉装置,其特征在于:所述转动装置包括转动电机(8)和转动轴承(9),其中转动电机(8)通过转动轴承(9)与转盘(4)固定连接。
4.按照权利要求1所述基于多组元材料成分配比时时自动调整的激光高通量制备送粉装置,其特征在于:所述装置设有五组刮板式单路送粉器和粉斗(3)。
5.按照权利要求1所述基于多组元材料成分配比时时自动调整的激光高通量制备送粉装置,其特征在于:所述转动装置、重量传感器(7)和流量传感器(11)均与控制计算机(1)相连,重量传感器(7)和流量传感器(11)将不断变更的数据信息实时反馈给控制计算机(1),控制计算机(1)再根据反馈信息及时调整转盘转速。
6.按照权利要求1所述基于多组元材料成分配比时时自动调整的激光高通量制备送粉装置,其特征在于:载流气体发生装置(15)分别与粉斗(3)和/或混粉装置(12)相连。
7.一种采用权利要求1-6任一所述装置进行激光高通量制备材料的工艺方法,其特征在于:通过控制计算机(1)设置各组并联的转盘(4)以不同的初始转动速度和转动加速度同时变速转动,与各自转盘(4)连接的粉斗(3)所储存的粉末经其底端漏粉孔,依靠粉末自重和载流气体压力不断流至转盘(4)上,利用重量传感器(7)测量反馈转盘(4)输送粉末的重量信息,转盘(4)转动后,固定在转盘(4)上方的刮板(5)将粉末持续刮落至集粉器(10),通过流量传感器(11)实时监控从集粉器(10)流出的粉末流量,实现对其连续稳定控制,后经过混粉装置(12)混合均匀的粉末被输送至激光加工区域,完成材料的激光高通量制备。
8.一种权利要求1-6任一所述装置的应用,其特征在于:所述装置用于对多组元材料、金属基化合物或梯度渐变材料的激光高通量制备。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114346257A (zh) * | 2021-12-09 | 2022-04-15 | 中国科学院金属研究所 | 一种可变光斑激光高通量制备多元合金的方法及专用设备 |
CN114807884A (zh) * | 2021-01-18 | 2022-07-29 | 武汉苏泊尔炊具有限公司 | 烹饪器具的制备方法和烹饪器具 |
CN115090897A (zh) * | 2022-07-01 | 2022-09-23 | 上海交通大学 | 基于高通量混粉-送粉-打印增材制造的合金制备方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1356608A (zh) * | 2001-12-15 | 2002-07-03 | 华中科技大学 | 一种用于激光熔覆送粉系统的自动控制装置 |
JP2007260584A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Takubo Engineering Co Ltd | 粉体塗料供給装置 |
CN105965013A (zh) * | 2016-05-17 | 2016-09-28 | 南昌大学 | 一种用于金属3d打印的多组分实时控制精密送粉系统 |
CN205874541U (zh) * | 2016-08-01 | 2017-01-11 | 武汉武钢华工激光大型装备有限公司 | 一种用于激光梯度熔覆的送粉装置 |
CN108189406A (zh) * | 2018-03-16 | 2018-06-22 | 吉林大学 | 一种精量配比送粉系统及出粉量及配比量动态控制方法 |
CN208164311U (zh) * | 2018-03-16 | 2018-11-30 | 吉林大学 | 一种精量配比送粉系统 |
-
2019
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1356608A (zh) * | 2001-12-15 | 2002-07-03 | 华中科技大学 | 一种用于激光熔覆送粉系统的自动控制装置 |
JP2007260584A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Takubo Engineering Co Ltd | 粉体塗料供給装置 |
CN105965013A (zh) * | 2016-05-17 | 2016-09-28 | 南昌大学 | 一种用于金属3d打印的多组分实时控制精密送粉系统 |
CN205874541U (zh) * | 2016-08-01 | 2017-01-11 | 武汉武钢华工激光大型装备有限公司 | 一种用于激光梯度熔覆的送粉装置 |
CN108189406A (zh) * | 2018-03-16 | 2018-06-22 | 吉林大学 | 一种精量配比送粉系统及出粉量及配比量动态控制方法 |
CN208164311U (zh) * | 2018-03-16 | 2018-11-30 | 吉林大学 | 一种精量配比送粉系统 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114807884A (zh) * | 2021-01-18 | 2022-07-29 | 武汉苏泊尔炊具有限公司 | 烹饪器具的制备方法和烹饪器具 |
CN114346257A (zh) * | 2021-12-09 | 2022-04-15 | 中国科学院金属研究所 | 一种可变光斑激光高通量制备多元合金的方法及专用设备 |
CN114346257B (zh) * | 2021-12-09 | 2024-03-01 | 中国科学院金属研究所 | 一种可变光斑激光高通量制备多元合金的方法及专用设备 |
CN115090897A (zh) * | 2022-07-01 | 2022-09-23 | 上海交通大学 | 基于高通量混粉-送粉-打印增材制造的合金制备方法 |
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