CN111897165A - 超微线间距的红外液晶光阀及其制造方法 - Google Patents
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- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 33
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 36
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 11
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 11
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 7
- 239000003921 oil Substances 0.000 claims description 7
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 6
- 239000003292 glue Substances 0.000 claims description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 4
- 229920006335 epoxy glue Polymers 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 14
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 abstract description 8
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 abstract 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 4
- 238000011161 development Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 229910017083 AlN Inorganic materials 0.000 description 1
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- 230000004807 localization Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
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- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
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Abstract
本发明公开了一种能有效将线间距控制于3um之内的超微线间距红外液晶光阀,同时提供一种该超微线间距红外液晶光阀的制造方法,该制造方法包括光刻工艺,所述光刻工艺包括涂胶工序、预烘工序和曝光工序,在所述涂胶工序中,膜厚:0.9±0.15um,均匀性≥90%;预烘工序中,实测温度115℃以上≥20秒,最高温度不超过130℃,MASK曝光中,间距15‑30um,能量80‑140mj/cm2。
Description
技术领域
本发明涉及液晶光阀技术领域,尤其涉及一种超微线间距的红外液晶光阀,还涉及超微线间距红外液晶光阀的制造方法。
背景技术
红外液晶光阀(简称“WSS”)通过电压控制液晶分子折射率实现对光的相位延迟,作为高速光通信产品的关键器件,WSS系光通信产业急需的核心配套元件,超高性能的红外液晶光阀已被国家列为重点技术攻关的战略产品。决定红外液晶光阀性能的核心因素之一是对其线间距精密控制程度。超微线间距红外液晶光阀对PR膜厚、均匀性及曝光参数均有苛刻要求,因此需对工艺技术有更为严格的把控。
常规LCD生产工艺流程通常依次为:PR前清洗、涂感光胶、前烘、曝光、显影、后烘、蚀刻、脱膜”,基于工艺限制,当前绝大部分LCD线距超过10um,无法满足制造3um超微线间距目标值的精度要求。
目前超微线间距的红外液晶光阀核心工艺技术由国外掌握,并构筑技术壁垒在我国形成垄断态势,这对我国光通信产业发展造成极大限制。研究新型红外液晶光阀结构及其先进制造工艺,可实现光电型光纤开关国产化,掌握光通信核心技术,打破国外技术垄断。基于产业所面临技术瓶颈和行业现状,开发一种能够实现3um超微线间距的红外液晶光阀及其制造方法,既有十分必要,更有深远意义。
发明内容
针对现有技术所存在的上述问题,本发明提供一种能有效将线间距控制于3um之内的超微线间距红外液晶光阀,同时提供一种该超微线间距红外液晶光阀的制造方法。
为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是:
一种超微线间距的红外液晶光阀,包括上基板、底基板,所述上基板与底基板通过胶边层构成中空间隙,所述中空间隙填充液晶层,所述胶边层由4.5微米硅球含量2%的胶边油和环氧树脂胶混合制成,中空间隙的厚度<3um。
所述环氧树脂胶为XN-651。
所述胶边油与环氧树脂胶按照质量占比分别为:
胶边油 10-30%;
环氧树脂胶 0-90%;(环氧树脂胶是否为胶边油的一种)
所述上基板包括上基板SEG面和上基板COM面,所述底基板包括底基板SEG面和底基板COM面。
所述上基板SEG面、底基板SEG面均采用“彩虹TFT360”型号的玻璃基板制成;上基板COM面、底基板COM面均采用“MoALMo+ TFT360”型号的玻璃基板制成。
进一步的,所述上基板
胶边粉:2%4.5NMSIO硅球+XN-651
具体组成部分如下所示:保护膜,基板,PI ,液晶,胶边,PI,基板,保护膜
聚酰亚胺PI(定向层):JSR AL-90302(750±100Å)埃是长度单位
液晶:HHS210800-100+0.3R811、HHS210400-000+0.3R811
胶边粉:2%4.5NMSIO硅球+XN-651(环氧树脂胶的一种型号)
AR膜:氮化铝(75nm)加二氧化硅(340nm)
保护膜:PE
由上可知,红外液晶光阀类似于LCD又不同于LCD,相同之处是都需要经过光刻和烧结,不需要通过Spacer(钼层)支撑,通过注LC最终成为一个完整的Cell,不同之处是红外液晶光阀最小线距为3um,要远小于常规LCD设计值(目前最小8um),且透过率需≥97%,为了实现此目标,Air Cell()需要经过减薄、抛光及镀膜,实现最终厚度为0.58±0.02mm,结构图如下所示:
之间没夹什么,就是基板两面得涂PI,COM面印刷胶边,然后热压贴合。
本发明还提供以下技术方案:
一种超微线间距的红外液晶光阀制造方法,光刻工艺流程图如下所示:
由图2可知,红外液晶光阀的光刻工艺与正常LCD生产无异,主要区别就在于红色图形标记的工艺控制,并且不仅需要控制线条3um,同时短路比例需<40%,为了探究最佳工艺参数,需设计三因子两水平DOE试验查找,具体试验方案及结果如下所示:
由图3-4可知:涂胶膜厚对短路比例影响很大,按目前线上正常控制不可行,需降低至9000Å左右,同时考虑到玻璃分粒数众多,粒与粒之间的膜厚均匀性需保证在90%以上,为此,我们可以通过供应商订制特定膜厚及均匀性高的涂胶轮来满足要求。另外,根据工式最小线宽=(波长*曝光间隙)1/2及显影阴影区=(波长*曝光间隙)1/2 *常数(0.5-1)可知采用接触式曝光可达到波长量级的线宽,但因对MASK的损伤较大我们很难采用,可选择接近式的曝光,目前我司曝光机供应商认可的最小间距为30um,小于30um时由于铬版中间有下坠产生则中间区域将接触到玻璃,因此我们曝光间距将选用30um。最终我们输入目标值通过Minitab软件响应优化器可得出涂胶膜厚9000Å,前烘节拍15S,曝光能量9000mj/cm2可满足要求。
理说明:本方案与常规LCD 产品生产工艺流程完全一样,遵循低膜厚、高均匀、强曝光的原理。由于ITO线间距设计是3um,普通的工艺需要做出调整,对比如下所示。
附图说明
附图对本发明作进一步说明,但附图中的实施例不构成对本发明的任何限制。
图1为本发明实施例所述的超微线间距的红外液晶光阀;
图2为本发明实施例所述的光刻工艺流程图;
图3为短路效应柏拉图;
图4为显影线距柏拉图。
具体实施方式
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (5)
1.一种超微线间距的红外液晶光阀,包括上基板、底基板,所述上基板与底基板通过胶边层构成中空间隙,所述中空间隙填充液晶层,所述胶边层由4.5微米硅球含量2%的胶边油和环氧树脂胶混合制成,中空间隙的厚度<3um。
2.根据权利要求1所述的超微线间距的红外液晶光阀,其特征在于:所述环氧树脂胶为XN-651。
3.根据权利要求1或2所述的超微线间距的红外液晶光阀,其特征在于:所述胶边油与环氧树脂胶按照质量占比分别为:
根据权利要求3所述的超微线间距的红外液晶光阀,其特征在于:胶边油 10-30%;环氧树脂胶 0-90%。
4.根据权利要求4所述的超微线间距的红外液晶光阀,其特征在于:所述上基板包括上基板SEG面和上基板COM面,所述底基板包括底基板SEG面和底基板COM面。
5.根据权利要求5所述的超微线间距的红外液晶光阀,其特征在于:所述上基板SEG面、底基板SEG面均采用“彩虹TFT360”型号的玻璃基板制成;上基板COM面、底基板COM面均采用“MoALMo+ TFT360”型号的玻璃基板制成。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201910369854.XA CN111897165A (zh) | 2019-05-06 | 2019-05-06 | 超微线间距的红外液晶光阀及其制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201910369854.XA CN111897165A (zh) | 2019-05-06 | 2019-05-06 | 超微线间距的红外液晶光阀及其制造方法 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN111897165A true CN111897165A (zh) | 2020-11-06 |
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ID=73169343
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201910369854.XA Pending CN111897165A (zh) | 2019-05-06 | 2019-05-06 | 超微线间距的红外液晶光阀及其制造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN111897165A (zh) |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4559161A (en) * | 1982-02-18 | 1985-12-17 | Kabushiki Kaisha Suwa Seikosha | Liquid crystal composition |
EP0417573A2 (en) * | 1989-09-11 | 1991-03-20 | Hughes Aircraft Company | Spacing and sealing arrangement for liquid crystal light valve |
CN1054494A (zh) * | 1990-03-01 | 1991-09-11 | 上海光学仪器研究所 | 硒化镉(CdSe)交流液晶光阀 |
JP2008115057A (ja) * | 2006-11-07 | 2008-05-22 | Electric Power Dev Co Ltd | 封止材料、ガラスパネルの製造方法および色素増感太陽電池 |
CN101644843A (zh) * | 2009-09-15 | 2010-02-10 | 深圳秋田微电子有限公司 | 一种快速响应扭曲向列相液晶显示器及方法 |
CN201522602U (zh) * | 2009-10-30 | 2010-07-07 | 河北冀雅电子有限公司 | 一种立体眼镜用液晶光阀 |
CN105487305A (zh) * | 2015-11-25 | 2016-04-13 | 康惠(惠州)半导体有限公司 | 一种lcd红外光阀器件及其制作方法 |
CN107632464A (zh) * | 2017-09-26 | 2018-01-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板、显示装置及其制作方法 |
-
2019
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4559161A (en) * | 1982-02-18 | 1985-12-17 | Kabushiki Kaisha Suwa Seikosha | Liquid crystal composition |
EP0417573A2 (en) * | 1989-09-11 | 1991-03-20 | Hughes Aircraft Company | Spacing and sealing arrangement for liquid crystal light valve |
CN1054494A (zh) * | 1990-03-01 | 1991-09-11 | 上海光学仪器研究所 | 硒化镉(CdSe)交流液晶光阀 |
JP2008115057A (ja) * | 2006-11-07 | 2008-05-22 | Electric Power Dev Co Ltd | 封止材料、ガラスパネルの製造方法および色素増感太陽電池 |
CN101644843A (zh) * | 2009-09-15 | 2010-02-10 | 深圳秋田微电子有限公司 | 一种快速响应扭曲向列相液晶显示器及方法 |
CN201522602U (zh) * | 2009-10-30 | 2010-07-07 | 河北冀雅电子有限公司 | 一种立体眼镜用液晶光阀 |
CN105487305A (zh) * | 2015-11-25 | 2016-04-13 | 康惠(惠州)半导体有限公司 | 一种lcd红外光阀器件及其制作方法 |
CN107632464A (zh) * | 2017-09-26 | 2018-01-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板、显示装置及其制作方法 |
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