CN111868296A - 装饰元件的制造方法及装饰元件 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种装饰元件的制造方法以及由此制造的装饰元件，该方法包括以下步骤：在光吸收层的一个表面上沉积具有彼此间隔开的两个以上的岛部的结构的光反射层；以及使用岛部作为掩模对光吸收层进行干法蚀刻，其中，与对光吸收层进行干法蚀刻之前相比，在对光吸收层进行干法蚀刻的步骤之后装饰元件的电阻值增大了两倍以上。
Description
技术领域
本申请要求2018年8月31日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2018-0103960的优先权和权益，该专利申请的全部内容通过引用并入本文中。
本公开涉及一种装饰元件的制造方法及装饰元件。
背景技术
为了提升产品价值，需要在外观设计(颜色、形状等)中反映各种客户意见并增强产品的原功能。对于诸如化妆品铭牌或移动电话外壳的各种产品，通过附着能够获得各种颜色和纹理的装饰膜来装饰外观。通过图案层、颜色层、反射层、彩色膜和印刷层的颜色来控制装饰膜的设计因素(颜色、色感、纹理等)。
为了在移动电话外壳中使用这种装饰膜，电磁波的发射/接收需要不被干扰。这样的条件不仅限制了颜色层的制造工艺条件，而且还导致减少了每种材料可获得的颜色的数量的问题。可以通过薄膜的电阻来确定电磁波发射/接收的屏蔽，低电阻干扰发射/接收，高电阻不干扰发射/接收。
现有技术文献
专利文献
日本专利申请公开No.2007-144988
发明内容
技术问题
本公开涉及一种装饰元件的制造方法及装饰元件。
技术方案
本公开的一个实施例提供一种装饰元件的制造方法，该方法包括：在光吸收层的一个表面上沉积具有彼此间隔开的两个以上的岛部的结构的光反射层；以及使用岛部作为掩模对光吸收层进行干法蚀刻，其中，与对光吸收层进行干法蚀刻之前相比，对光吸收层进行干法蚀刻之后装饰元件的电阻值增大了两倍以上。
本说明书的另一个实施例提供一种使用上述的制造方法制造的装饰元件，该装饰元件包括：光吸收层；以及设置在光吸收层的一个表面上的光反射层，其中，装饰元件的线电阻为105Ω以上。
有益效果
根据本公开的装饰元件的制造方法，使用岛状掩模作为掩模，无需单独的掩模就可以容易地蚀刻光吸收层。
此外，根据本公开的装饰元件的制造方法，可以容易地蚀刻具有低电阻的光吸收层以制造高电阻装饰元件。
附图说明
图1示出了根据本说明书的一个实施例的装饰元件的制造方法；
图2至图4示出了比较例1的装饰元件的光反射层侧的SEM图像；
图5至图7示出了实施例1的装饰元件的光反射层侧的SEM图像；
图8和图9示出了实施例2的装饰元件的光反射层侧的SEM图像；
图10和图11示出了比较例3的装饰元件在蚀刻工艺之前和之后的图像；
图12示出了根据本说明书的一个实施例的装饰元件的层叠结构；
图13描绘了光吸收层和光反射层；
图14描绘了通过光吸收层和光反射层来显现颜色的原理；
图15至图41示出了根据本说明书的一个实施例的装饰元件；
图42和图43分别示出了氮氧化铝和铟对于蚀刻气体的反应性的测试结果。
具体实施方式
在本说明书中，除非另有定义，否则“或”表示选择性地或全部地包括所列出的项目的情况，也就是说，表示“和/或”的含义。
在本说明书中，“层”是指覆盖存在相应层的区域的70％以上。优选地，其是指覆盖75％以上，更优选地，覆盖80％以上。
在本说明书中，特定层的“厚度”是指从相应层的下表面到上表面的最短距离。
在本说明书中，可以使用空间相关术语“一个表面”和“另一个表面”来容易地描述如附图所示的一个构成要素与其他构成要素之间的相互关系。空间相关术语需要理解为除包括附图所示的方向之外还包括在使用或操作时构成要素的不同方向的术语。例如，当翻转附图所示的构成要素时，被描述为另一个构成要素的“一个表面”的构成要素可以位于另一个构成要素的“另一个表面”上。因此，示例性术语“一个表面”可以包括向下和向上两个方向。构成要素也可以以其他方向定向，因此，可以根据方向来解释空间相关术语。
本公开的一个实施例提供一种装饰元件的制造方法，该方法包括：在光吸收层的一个表面上沉积具有彼此间隔开的两个以上的岛部的结构的光反射层；以及使用岛部作为掩模对光吸收层进行干法蚀刻，其中，与对光吸收层进行干法蚀刻之前相比，在对光吸收层进行干法蚀刻之后装饰元件的电阻值增大了两倍以上。
图1示出了装饰元件的制造方法。
根据图1(A)，本说明书的装饰元件的制造方法包括：(a)在光吸收层的一个表面上沉积具有彼此间隔开的两个以上的岛部的结构的光反射层；以及(b)使用岛部作为掩模对光吸收层进行干法蚀刻。
根据图1(B)，光吸收层可以在另一个表面上包括单独的基板。
本说明书的装饰元件的制造方法可以进一步包括：在将具有彼此间隔开的两个以上的岛部的结构的光反射层沉积在光吸收层的一个表面上之前制备基板；以及在基板的一个表面上形成光吸收层。
基板可以是玻璃基板或塑料基板。作为塑料基板，可以使用包含诸如三乙酰纤维素(TAC)或二乙酰纤维素(DAC)的纤维素树脂；诸如降冰片烯衍生物的环烯烃聚合物(COP)；诸如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)的丙烯酸树脂；聚碳酸酯(PC)；诸如聚乙烯(PE)或聚丙烯(PP)的聚烯烃；聚乙烯醇(PVA)；聚醚砜(PES)；聚醚醚酮(PEEK)；聚醚酰亚胺(PEI)；聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)；诸如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)的聚酯；聚酰亚胺(PI)；聚砜(PSF)；氟树脂等的片或薄膜。
光吸收层的干法蚀刻通过蚀刻光吸收层而在光吸收层上形成图案部分。光吸收层的蚀刻部分可以称为凹部，光吸收层的未蚀刻部分可以称为凸部。
当蚀刻薄膜时，岛部起掩模的作用，使得薄膜的仅一部分被蚀刻。这里，通过调整岛部的尺寸或分布，可以控制薄膜的蚀刻程度。具体地，可以如下调整岛部的宽度、高度、水平横截面或垂直横截面。
岛部的宽度为10nm至1000nm，岛部的高度为5nm至1000nm；优选地，岛部的宽度为20nm至800nm，岛部的高度为10nm至600nm；更优选地，岛部的宽度为50nm至600nm，岛部的高度为10nm至200nm。
岛部可以具有800000nm2以下的水平横截面，具有大于或等于80nm2且小于或等于800000nm2的水平横截面，优选地具有大于或等于300nm2且小于或等于500000nm2的水平横截面，更优选地具有大于或等于1000nm2且小于或等于300000nm2的水平横截面。“水平横截面”可以指通过在与薄膜的表面方向水平的方向上切割岛部而获得的横截面区域。
岛部可以具有800000nm2以下的垂直横截面，具有大于或等于100nm2且小于或等于800000nm2的垂直横截面，优选地具有大于或等于200nm2且小于或等于600000nm2的垂直横截面，更优选地具有大于或等于300nm2且小于或等于300000nm2的垂直横截面。“垂直横截面”可以指通过在与薄膜表面方向垂直的方向上切割岛部而获得的横截面区域。
当岛部的水平横截面或垂直横截面满足上述数值范围时，可以容易地控制掩模岛部的形状和分布，并且这在要蚀刻的薄膜的蚀刻程度可控方面是有效的。此外，当满足上述数值范围时，岛部以间隔开的岛部形状沉积而不是以岛部彼此连接的薄膜形状沉积，并且每个沉积的岛部可以保持间隔开的形式而不彼此连接。
在本说明书中，可以使用本领域通常使用的方法来测量岛部的宽度和高度、岛部的水平横截面以及岛部的垂直横截面。例如，可以在测量中使用原子力显微镜(AFM)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)等。
岛部包含铟(In)。具体地，岛部的铟(In)可以具有99％以上的原子百分比(at％)。当使用铟作为岛部的材料时，获得岛状的沉积而无需进一步的热处理，并且每个岛部可以保持间隔开的形式而不彼此连接。
具体地，在本领域中，为了以岛状沉积特定材料，沉积需要在高温环境下进行，或者沉积以连续薄膜形式进行并在高温下对所得物进行热处理，薄膜形式需要使用发生在薄膜中的脱湿现象来转换为岛状。例如，为了以岛状沉积锗(Ge，Tm＝938.2℃)和硅(Si，Tm＝1414℃)，沉积需要在750℃以上的高温沉积环境下进行。此外，由于在通常的沉积环境下铝沉积为连续薄膜形式，所以通过在600℃以上的高温下热处理利用脱湿现象将铝制备为岛状。然而，当通过高温沉积环境和高温热处理方法沉积为岛状时，会出现损坏易受热影响的塑料基板的问题。
在本公开中，通过使用铟(In)作为岛部材料，在室温沉积环境下而无需进一步热处理所沉积的铟能够形成为岛状。铟的熔点为156.6℃，低于其他材料的熔点(Al：660℃，Cu：1084.6℃，Ag：961.8℃)，其具有可以在低温下焊接(冷焊)的优点。换句话说，当岛部为铟时，具有在室温沉积环境下容易地形成岛部的优点。
岛部的沉积可以在10℃至100℃的温度条件下进行，优选地高于或等于10℃且低于或等于80℃进行，更优选地高于或等于10℃且低于或等于60℃进行。在低于上述范围的温度下沉积时，对离开靶并到达薄膜的材料与薄膜的粘附力降低，导致沉积的薄膜在随后的过程中与薄膜分离的问题，在高于上述范围的温度下沉积时，可能具有离开靶的粒子在到达薄膜时具有高迁移率，存在有连续的岛部形状而不是间隔开的岛部形状的问题，在更高的温度下沉积时，可能存在沉积到薄膜上的材料再汽化或再蒸发而降低岛部的生长速率的问题。
在薄膜上沉积两个以上的岛部可以使用蒸发法或溅射法。蒸发法通过在高真空(5×10-5托至1×10-7托)腔内部使用电子束或电细丝来汽化或升华靶材料从而在粘附体上沉积。此外，溅射法是使诸如氩气的气体流入真空腔并通过施加电压产生的等离子体来将靶材料沉积在粘附体上的方法。
可以在高真空状态(5×10-5托至1×10-7托)下对位于包含钨(W)或钼(Mo)的沉积舟(蒸发舟)和坩埚中的诸如铟(In)的靶材料施加电压或增大该靶材料上电子束的电力之后，在0.1nm/sec至10nm/sec的沉积速率条件下进行蒸发法，直至发生汽化或升华。
溅射法的工艺条件可以满足特定条件，以实现上文描述的岛部的宽度、高度、垂直横截面和水平横截面。具体地，根据作为粘附体的薄膜与溅射靶之间的距离，可以将诸如施加的电力的不同条件调整为不同。
在溅射法中，薄膜与溅射靶之间的最短距离(d1)为200mm以下，并且在每单位面积的靶上施加0.1W/cm2至10W/cm2的电力的条件下施加电力10秒至1000秒；优选地，薄膜与溅射靶之间的最短距离(d1)为200mm以下，并且施加0.1W/cm2至5W/cm2的电力10秒至900秒。电力条件的分母单位cm2是指溅射靶的单位面积为1cm2。此外，薄膜与溅射靶之间的最短距离(d1)可以大于或等于10mm且小于或等于150mm，优选地大于或等于50mm且小于或等于120mm。
或者，在溅射法中，薄膜与溅射靶之间的最短距离(d2)大于200mm，并且在每单位面积靶上施加1W/cm2至10W/cm2的电力的条件下施加电力10秒至1200秒，或施加0.1W/cm2至10W/cm2的电力10秒至1000秒，或者优选地施加0.1W/cm2至5W/cm2的电力10秒至900秒。此外，薄膜与溅射靶之间的最短距离(d2)可以大于或等于250mm且小于或等于1000mm，优选地大于或等于300mm且小于或等于900mm。
在溅射法中，溅射期间的工艺压力可以是1毫托至100毫托，优选地1毫托至75毫托，更优选地1毫托至50毫托。当工艺压力高于上述范围时，腔内部存在的等离子体气体粒子的数量增加，从靶发射的粒子与损失能量的等离子体气体粒子碰撞，这降低了岛部生长速率。另一方面，当工艺压力过低时，由等离子体气体粒子引起的岛部组分粒子的能量损失减小，然而，存在具有高能量的粒子损坏薄膜或基板的缺点。因此，作为溅射工艺条件，需要通过调整诸如沉积设备的尺寸、样品位置和靶距离、靶类型和气体类型、流速、工艺期间的压力等的各种变量来找到最佳工艺条件。
溅射法可以使用氩气(Ar)、氦气(He)或氮气(N2)作为溅射气体。
在溅射法中，可以根据沉积在薄膜上的岛部的材料使用不同的靶。例如，当岛部为铟(In)时，靶可以是RND韩国公司制造的铟靶(纯度99.99％)。
本公开的装饰元件的制造方法包括通过使用岛部作为掩模对光吸收层进行干法蚀刻来形成图案部分。
“干法蚀刻”可以是使用等离子体的干法蚀刻。“等离子体”是指电离气体，当使用诸如电的能量使由原子和分子形成的气体放电时，形成由电子、离子、分解气体、光子等形成的等离子体。这些离子和分解气体在使用等离子体的干法蚀刻中使用。例如，当使用电能分解氩气(Ar)时，在产生Ar+离子和附加的电子的同时形成等离子体，当使诸如CF4的气体放电时，产生诸如CF3 +和F的离子以及分解气体。
干法蚀刻是区别于本领域已经使用的湿法蚀刻的蚀刻方法，并且作为使用反应气体或离子选择性蚀刻薄膜的方法，其不同于使用溶液来蚀刻薄膜的湿法蚀刻方法。
干法蚀刻能够进行各向异性蚀刻，湿法蚀刻具有各向同性蚀刻的特性。薄膜中的蚀刻区域通常通过光刻工艺期间使用的掩模来确定，掩模覆盖的部分不被蚀刻，不被掩模覆盖的部分被选择性地蚀刻。在各向同性蚀刻中，很可能出现被掩模覆盖的部分也被部分地蚀刻的底切现象，当底切现象过度发生时，由于不应被蚀刻的区域被蚀刻，所以存在难以形成精细图案的问题。
另一方面，本公开的干法蚀刻具有各向异性蚀刻的特性，并且具有底切出现的程度小于湿法蚀刻的优点。这具有容易形成精细图案的优点。
除此之外，干法蚀刻仅使用少量的气体进行蚀刻，这降低了工艺成本，并且由于不使用有可能环境污染的溶液而具有造成较少的环境污染的优点。
此外，可以容易地监控蚀刻工艺期间产生的等离子体特性的变化，因此，可以容易地确定工艺的稳定性，并且还可以容易地确定蚀刻工艺结束的时间点，这有利于工艺自动化。
具体地，当如本公开所述岛状掩模较小(宽度为10nm至1000nm)并且岛部之间的距离为100nm以下时，为了有效地形成精细图案，可以进行各向异性蚀刻的干法蚀刻是有利的。
干法蚀刻可以是电容耦合等离子体(CCP)蚀刻、反应离子蚀刻(RIE)、电感耦合等离子体(ICP)蚀刻、电子回旋共振(ECR)等离子体蚀刻或微波蚀刻的方法。
可以通过将薄膜引入腔中，以5sccm至100sccm的流速供应蚀刻气体，并且在0.5毫托至100毫托以下的压力条件下施加50W至1000W的电力来进行干法蚀刻。
压力条件优选地大于或等于1毫托且小于或等于90毫托，更优选地大于或等于1毫托且小于或等于80毫托。当满足上述数值范围时，具有形成稳定的等离子体的优点。
蚀刻气体的流速为10sccm至80sccm，优选地10sccm至50sccm。
根据蚀刻设备的类型，电力可以有所不同。
具体地，当蚀刻设备是RIE装置时，对电极侧(counter electrode side)保持基态，施加到基板电极侧的电力可以是10W至500W。
此外，当蚀刻设备是RIE-ICP设备时，施加到放置有要蚀刻样品的基板电极侧的电力可以是10W至500W，施加到ICP侧的电力可以是100W至1000W。
当蚀刻设备是RIE-ICP装置时，施加到基板电极侧的电力可以是10W至400W，优选地10W至300W。
此外，当蚀刻设备是RIE-ICP设备时，施加到ICP侧的电力可以是200W至1000W，优选地300W至1000W。
蚀刻气体可以各自独立地注入腔中，或者可以预先形成为混合气体然后注入到腔中。考虑到反应腔的体积、下文根据其他构成要素的性能描述的压力条件等，可以适当地选择注入到腔中的蚀刻气体的总流量。
蚀刻气体进一步包括选自由包含卤族元素的气体、氧气(O2)、氮气(N2)、氢气(H2)、碳氢化合物气体和惰性气体组成的组中的一种或两种以上。
包含卤族元素的气体为Cl2、CCl4、CCl2F2、CF4、BCl3、NF3、NF5、SF6、F2、C2F6、C3F8、C4F8或CHF3。
氧化气体为O2、O3、CO、CO2、COCl2、COF2或NO2。
惰性气体为氩气(Ar)、氙气(Xe)、氪气(Kr)或氦气(He)。
碳氢化合物气体可以是具有1个至9个碳原子的碳氢化合物气体，其示例可以包括甲烷(CH4)气体。
可以根据要蚀刻的光吸收层的类型来选择蚀刻气体。例如，当光吸收层为诸如铝(Al)的金属时，蚀刻气体包括诸如BCl3、CCl4、CF4或Cl2的包含卤族元素的气体，当光吸收层为有机材料时，蚀刻气体包括诸如CF4的包含卤族元素的气体或者氧气，当光吸收层为诸如GaAs、InP、HgCdTe或ZnS的半导体材料时，蚀刻气体包括包含卤族元素的气体、氢气或碳氢化合物气体，当光吸收层为诸如Si、SiO2或Si3N4的无机材料时，蚀刻气体可以是包含卤族元素的气体。
干法蚀刻可以进行大于或等于60秒且小于或等于600秒，优选地进行大于或等于80秒且小于或等于500秒，更优选地进行大于或等于100秒且小于或等于300秒。当满足上述数值范围时，蚀刻效果增强，并且除形成有岛状掩模的区域之外的部分与形成有岛状掩模的区域之间的差异可以在薄膜中清晰地显示出来。
光吸收层是选自由铟(In)、钛(Ti)、锡(Sn)、硅(Si)、锗(Ge)、铝(Al)、铜(Cu)、镍(Ni)、钒(V)、钨(W)、钽(Ta)、钼(Mo)、钕(Nd)、铁(Fe)、铬(Cr)、钴(Co)和银(Ag)中的任意一种的氮化物；前述金属的氧化物；以及前述金属的氮氧化物组成的组中的一种或多种。
光吸收层的厚度可以是1nm至500nm，优选地5nm至300nm，更优选地10nm至100nm。
相对于光吸收层的干法蚀刻之前，在光吸收层的干法蚀刻之后装饰元件的电阻值增大了2倍以上、5倍以上、10倍以上，优选地100倍以上，更优选地800倍以上。
当光吸收层被部分地蚀刻时，电子流过的路径减少，从而增大光吸收层的电阻，当光吸收层在厚度方向上被完全蚀刻时，可以通过阻断电子流过的路径来增大光吸收层或整个装饰元件的电阻。
在本说明书中，可以使用2点探针式电阻测量设备(HIOKI有限公司，产品名称3244-60，Card Hi-tester)来测量电阻值，电阻测量期间的样品长度可以是1cm至10cm。这里，由于电阻与样品长度成比例，所以从每个样品表面测量到相同的距离，并且基于1cm对结果进行标准化。
本说明书的装饰元件的制造方法可以在制造装饰元件的一般方法中使用。具体地，该方法可以用于需要彩色装饰的装饰膜、移动装置的外壳、电子产品外壳或家用物品。
此外，由于光吸收层可以被制备成具有高电阻，所以可以通过使由电磁屏蔽(EMI)特性引起的电磁发射和接收干扰最小化来防止对使用装饰元件的电子装置的功能的抑制。
本说明书的一个实施例提供使用上述制造方法制造的装饰元件，该装饰元件包括：光吸收层；以及设置在光吸收层的一个表面上的光反射层，其中，装饰元件具有105Ω以上的线电阻。
在本说明书中，光反射层是指在使用岛部作为掩模对光吸收层进行干法蚀刻之后仍未被蚀刻的岛部。换句话说，具有用作掩模的光反射层没有被去除并且可以用作装饰元件的光反射层的优点。
装饰元件的线电阻为106Ω以上，优选地107Ω以上。当满足上述数值范围时，装饰元件可以在需要高电阻的移动装置的外壳或电子产品的外壳中使用，并且可以通过使由电磁屏蔽(EMI)特性引起的电磁发射和接收干扰最小化来防止对使用装饰元件的电子装置的功能的抑制。
优选地，装饰元件的表面电阻(sheet resistance)可以优选地为100Ω/sq以上，优选地为500欧姆/平方以上，优选地为5000欧姆/平方以上，更优选地为10000欧姆/平方以上，最优选地为1千兆欧姆/平方以上，更优选地为4千兆欧姆/平方以上。
在本说明书中，可以使用已知的表面电阻器按照4点探针法测量表面电阻。对于表面电阻，通过使用4个探针测量电流(I)和电压(V)来测量电阻值(V/I)，并且通过使用样本的面积(单位面积，W)和用于测量电阻的电极之间的距离(L)，获得表面电阻(V/I×W/L)，然后，将其与电阻校正因子(RCF)相乘以计算为欧姆/平方(表面电阻单位)。可以使用测量时的样本尺寸、样本厚度和温度来计算电阻校正因子，并且可以使用泊松方程来计算电阻校正因子。
在本说明书中，装饰元件所表现的颜色可以由光源的光谱特性、对象的反射率和观测器的颜色观察效率来定义。对于目标颜色表现，需要用标准光源和标准观测器对颜色进行测量，颜色被表现为颜色空间的坐标。装饰元件的颜色可以由CIE Lab(L*a*b*)坐标或LCh坐标表示，CIE Lab(L*a*b*)坐标或LCh坐标提供视觉上均匀的颜色空间。L*表示亮度，+a*表示红色，-a*表示绿色，+b*表示黄色，-b*表示蓝色，C*和h*将在下文描述。在颜色空间中，取决于观测位置的总色差可以表示为
可以使用分光光度计(CM-2600d，由Konica Minolta有限公司制造)测量颜色，并且，通过分光光度计，可以获得样品的反射率作为光谱并且可以获得针对每个波长的反射率，由此可以获得光谱反射率图和转换的颜色坐标。这里，以8度视角获得数据，并且，为了观察装饰元件的二向色性，在相对于装饰元件的水平方向和垂直方向上进行测量。
视角是装饰元件的显色层表面的法线方向上的直线(d1)与穿过分光光度计和要测量的装饰元件的一点的直线(d2)形成的角度，其范围一般为0度至90度。
在本说明书中，“显色层”是包括光吸收层和光反射层的术语。
显色层可以在观察装饰元件时提供金属纹理和颜色深度。显色层使得根据视角以各种颜色看到装饰元件的图像。这是由于穿过图案层并在无机材料层的表面上反射的光的波长根据入射光的波长而改变的事实。
在本说明书中，“光吸收层”和“光反射层”是具有相对于彼此的特性的层。光吸收层可以指与光反射层相比具有更高的光吸收率的层，光反射层可以指与光吸收层相比具有更高的光反射率的层。
光吸收层和光反射层可以各自形成为单层，或者也可以形成为两层以上的多层。
在本说明书中，光吸收层和光反射层以其功能命名。对于具有特定波长的光，反射相对较多的光的层可以表述为光反射层，反射相对较少的光的层可以表述为光吸收层。
图12示出了根据本说明书的一个实施例的装饰元件的层叠结构。图12示出了包括显色层(100)和基板(101)的装饰元件。显色层(100)包括光反射层(201)和光吸收层(301)。图12示出了基板(101)设置在显色层(100)的光吸收层(301)侧的结构，然而，基板也可以设置在光反射层(201)侧。
通过图13，描述光吸收层和光反射层。在图13的装饰元件中，基于光入射方向按Li-1层、Li层和Li+1层的顺序层叠各层，界面Ii位于Li-1层与Li层之间，界面Ii+1位于Li层与Li+1层之间。
当在垂直于各层的方向上照射具有特定波长的光使得不发生薄膜干涉时，界面Ii处的反射率可以通过以下数学式1表示。
[数学式1]
在数学式1中，ni(λ)是指第i层的取决于波长(λ)的折射率，ki(λ)是指第i层的取决于波长(λ)的消光系数。消光系数是能够定义在特定波长下目标材料如何强烈地吸收光的量度，定义与上文提供的定义相同。
利用数学式1，当计算的各个波长下的界面Ii处的针对每个波长的反射率之和为Ri时，Ri如以下数学式2所示。
[数学式2]
光吸收层优选地在400nm的波长下具有0至8的折射率(n)，并且折射率可以是0至7，可以是0.01至3，可以是2至2.5。可以通过sinθa/sinθb(θa是入射到光吸收层的表面上的光的角度，θb是光在光吸收层内的折射角)来计算折射率(n)。
光吸收层优选地在380nm至780nm的波长范围内具有0至8的折射率(n)，并且折射率可以是0至7，可以是0.01至3，可以是2至2.5。
光吸收层在400nm的波长下具有大于0且小于或等于4的消光系数(k)，并且消光系数优选地为0.01至4，可以是0.01至3.5，可以是0.01至3，可以是0.1至1。消光系数(k)是-λ/4πI(dI/dx)(这里，是λ/4π与dI/I(在光吸收层中每一路径单位长度(dx)(例如，1m)的光强度的既约分数)相乘的值，这里，λ是光的波长)。
光吸收层在380nm至780nm的波长范围内具有大于0且小于或等于4的消光系数(k)，并且消光系数优选地为0.01至4，可以是0.01至3.5，可以是0.01至3，可以是0.1至1。消光系数(k)在400nm下、优选地在380nm至780nm的整个可见光波长范围内在上述范围内，因此，可以在可见光范围内执行光吸收层的作用。
上述具有特定消光系数和折射率的光吸收层显色的原理与通过向现有基板添加染料来显色的装饰元件显色的原理是不同的。例如，使用向树脂添加染料来吸收光的方法和使用具有上述消光系数的材料会导致不同的吸收光谱。当通过向树脂添加染料来吸收光时，吸收波长带是固定的，并且只会出现吸收量根据涂层厚度的变化而变化的现象。此外，为了获得目标光吸收量，至少需要几微米以上的厚度变化来调整光吸收量。另一方面，在具有消光系数的材料中，即使厚度变化了几纳米至几十纳米，对光进行吸收的波长带也会发生变化。
此外，当向现有树脂添加染料时，仅显现基于染料的特定颜色，因此，可能不能显示各种颜色。另一方面，通过使用特定材料而不使用树脂的本公开的光吸收层，通过光的干涉现象而无需添加染料获得显示各种颜色的优点。
根据实施例，光吸收发生在光在光吸收层中的入射路径和反射路径中，并且通过在光吸收层的表面和光吸收层(301)与光反射层(201)的界面中的每一个上的光反射，两个反射光进行相长干涉或相消干涉。
在本说明书中，在光吸收层表面上反射的光可以表述为表面反射光，在光吸收层与光反射层的界面上反射的光可以表述为界面反射光。图14示出了这种工作原理的模拟图。图14示出了基板(101)设置在光反射层(201)侧上的结构，然而，该结构不限于这种结构，并且基板(101)可以设置在其它位置。
在形成光吸收层时，通过调整沉积条件等，光吸收层可以具有各种形状。
在本说明书的一个实施例中，光吸收层包括具有不同厚度的两个以上的点。
在本说明书的一个实施例中，光吸收层包括具有不同厚度的两个以上的区域。
在本说明书的一个实施例中，光吸收层可以包括斜面。
图15和图16示出了根据实施例的结构的示例。图15和图16示出了光反射层(201)和光吸收层(301)被层叠的结构(不包括基板)。根据图15和图16，光吸收层(301)具有厚度不同的两个以上的点。根据图15，在光吸收层(301)中，A点和B点的厚度不同。根据图16，在光吸收层(301)中，C区域和D区域的厚度不同。
在本说明书的一个实施例中，光吸收层包括上表面具有倾斜角大于0度且小于或等于90度的斜面的一个或多个区域，并且光吸收层包括厚度不同于具有斜面的任意一个区域的厚度的一个或多个区域。对于斜面，由包含在光吸收层的上表面中的任意一条直线与平行于光反射层的直线形成的角度可以被定义为斜面。例如，图15的光吸收层的上表面的倾斜角可以是约20度。
光反射层的诸如上表面斜率的表面特性可以与光吸收层的上表面相同。例如，通过在形成光吸收层时使用沉积方法，光吸收层的上表面可以具有与光反射层的上表面相同的斜率。然而，图15的光吸收层的上表面斜率不同于光反射层的上表面斜率。
图17示出了具有上表面具有斜面的光吸收层的装饰元件的结构。该结构是层叠有基板(101)、光反射层(201)和光吸收层(301)的结构，并且在光吸收层(301)中E区域的厚度t1和F区域的厚度t2不同。
图17涉及具有彼此面对的斜面也就是说具有三角形横截面的结构的光吸收层。在如图17所示的具有彼此面对的斜面的图案的结构中，即使在相同条件下进行沉积，在具有三角形结构的两个表面中光吸收层的厚度也可以不同。因此，可以仅使用一个工艺形成具有厚度不同的两个以上区域的光吸收层。其结果，显现的颜色可以根据光吸收层的厚度而变得不同。这里，当反射层的厚度为一定厚度以上时，反射层的厚度不影响颜色的变化。
图17示出了基板(101)设置在光反射层(201)侧的结构，然而，该结构不限于此，并且如上文所述，基板(101)也可以设置在其它位置。
此外，在图17中，基板(101)的与光反射层(201)相邻的表面是平坦表面，然而，基板(101)的与光反射层(201)相邻的表面可以具有与光反射层(201)的上表面具有相同斜率的图案。这在图18中示出。这也可能由于基板图案的斜率的差异而导致光吸收层的厚度的差异。然而，本公开不限于此，即使在使用不同的沉积方法将基板和光吸收层制备为具有不同的斜率时，通过在图案的两侧具有不同的光吸收层厚度，可以获得上文所述的二向色性。
在本说明书的一个实施例中，光吸收层包括具有逐渐变化的厚度的一个或多个区域。图19示出了光吸收层(301)的厚度逐渐变化的结构。
在本说明书的一个实施例中，光吸收层包括上表面具有倾斜角大于0度且小于或等于90度的斜面的一个或多个区域，并且具有斜面的区域中的至少一个或多个具有光吸收层的厚度逐渐变化的结构。图19示出了包括上表面具有斜面的区域的光吸收层的结构。在图19中，G区域和H区域均具有光吸收层的上表面具有斜面并且光吸收层的厚度逐渐变化的结构。
在本说明书中，光吸收层厚度变化的结构是指光吸收层的厚度方向上的横截面包括光吸收层厚度最小的点和光吸收层厚度最大的点，并且光吸收层的厚度沿光吸收层厚度最小的点向光吸收层厚度最大的点的方向增大。这里，光吸收层厚度最小的点和光吸收层厚度最大的点可以指光吸收层与光反射层的界面上的任意点。
在本说明书的一个实施例中，光吸收层包括具有倾斜角在1度至90度的范围内的第一斜面的第一区域，并且可以进一步包括上表面具有倾斜方向或倾斜角与第一斜面不同的斜面、或者上表面水平的两个以上的区域。这里，在光吸收层中，第一区域和两个以上的区域的厚度可以全部彼此不同。
在本说明书的一个实施例中，装饰元件包括基板(101)，基板(101)设置在光反射层(201)的面对光吸收层(301)的表面、或者光吸收层的面对光反射层的任意一个或多个表面上。例如，基板可以设置在与光反射层的面对光吸收层的表面相对的表面上(图20(a))；或者设置在与光吸收层的面对光反射层的表面相对的表面上(图20(b))。
在本说明书的一个实施例中，基板可以包括用于化妆品容器的塑料注塑模制件或玻璃基板。
此外，塑料注塑模制件可以是没有曲线(特定图案)的板型塑料注塑模制件，或者可以是具有曲线(特定图案)的塑料注塑模制件。
可以使用塑料成型方法制备塑料注塑模制件。塑料成型方法包括压缩成型、注射成型、吹气成型、热成型、热熔成型、发泡成型、辊压成型，增强塑料成型等。压缩成型是将材料放入模具中加热并对所得物施加压力的成型方法，并且作为最古老的成型方法，其可以主要用于成型诸如酚树脂的热固化树脂。注射成型是使用输送装置挤出塑料熔体并通过喷嘴将其填充到模具的成型方法，该方法可以成型热塑性树脂和热固化树脂，是使用最多的成型方法。用作化妆品外壳的树脂是SAN。吹气成型是在将塑料型坯放置在模具中心并向其注入空气的同时使产品成型的方法，作为制造塑料瓶或小容器的成型方法，制造产品的速度非常快。
在本说明书的一个实施例中，可以使用透射率为80％以上的玻璃作为玻璃基板。
在本说明书的一个实施例中，可以根据需要选择基板厚度，例如，基板厚度可以具有50μm至200μm的范围。
在本说明书的一个实施例中，装饰元件进一步包括彩色膜，彩色膜位于与光吸收层的面对光反射层的表面相对的表面上、位于光吸收层与光反射层之间、或者位于与光反射层的面对光吸收层的表面相对的表面上。彩色膜还可以执行基板的作用。例如，可以用作基板的物质可以通过向其添加染料或颜料来用作彩色膜。
在本说明书的一个实施例中，对彩色膜没有特别的限制，只要与没有设置彩色膜相比当存在彩色膜时具有大于1的色差ΔE*ab、即显色层的颜色坐标CIE L*a*b*中的L*a*b*空间中的距离即可。
可以用CIE L*a*b*表示颜色，可以使用L*a*b*空间中的距离ΔE*ab定义色差。具体地，色差是
并且在0<ΔE*ab<1的范围内，观测器可能无法识别色差[参考文献：MachineGraphics and Vision(机器图形与视觉)20(4)：383-411]。因此，在本说明书中，可以由ΔE*ab>1定义通过彩色膜添加获得的色差。
图21示出了包括彩色膜的显色层，图21(a)示出了连续地层叠光反射层(201)、光吸收层(301)和彩色膜(401)的结构，图21(b)示出了连续地层叠光反射层(201)、彩色膜(401)和光吸收层(301)的结构，图21(c)示出了连续地层叠彩色膜(401)、光反射层(201)和光吸收层(301)的结构。
在本说明书的一个实施例中，当基板设置在与光反射层的面对光吸收层的表面相对的表面上，并且彩色膜位于与光反射层的面对光吸收层的表面相对的表面上时，彩色膜可以设置在基板与光反射层之间；或者设置在与基板的面对光反射层的表面相对的表面上。作为另一个示例，当基板设置在与光吸收层的面对光反射层的表面相对的表面上，并且彩色膜位于与光吸收层的面对光反射层的表面相对的表面上时，彩色膜可以设置在基板与光吸收层之间；或者设置在与基板的面对光吸收层的表面相对的表面上。
在本说明书的一个实施例中，基板设置在与光反射层的面对光吸收层的表面相对的表面上，并且进一步设置彩色膜。图22(a)示出了彩色膜(401)设置在光吸收层(301)的与光反射层(201)侧相对的表面上的结构，图22(b)示出了彩色膜(401)设置在光吸收层(301)与光反射层(201)之间的结构，图22(c)示出了彩色膜(401)设置在光反射层(201)与基板(101)之间的结构，图22(d)示出了彩色膜(401)设置在基板(101)的与光反射层(201)侧相对的表面上的结构。图22(e)示出了彩色膜(401a，401b，401c，401d)分别设置在光吸收层(301)的与光反射层(201)侧相对的表面上、设置在光吸收层(301)与光反射层(201)之间、设置在光反射层(201)与基板(101)之间、设置在基板(101)的与光反射层(201)侧相对的表面上的结构，然而，该结构不限于此，并且可以不包括彩色膜(401a，401b，401c，401d)中的1个至3个。
在本说明书的一个实施例中，基板设置在光吸收层的与面对光反射层的表面相对的表面上，并且进一步设置有彩色膜。图23(a)示出了彩色膜(401)设置在基板(101)的与光吸收层(301)侧相对的表面上的结构，图23(b)示出了彩色膜(401)设置在基板(101)与光吸收层(301)之间的结构，图23(c)示出了彩色膜(401)设置在光吸收层(301)与光反射层(201)之间的结构，图23(d)示出了彩色膜(401)设置在光反射层(201)的与光吸收层(301)侧相对的表面上的结构。图23(e)示出了彩色膜(401a，401b，401c，401d)分别设置在基板(101)的与光吸收层(301)侧相对的表面上、设置在基板(101)与光吸收层(301)之间、设置在光吸收层(301)与光反射层(201)之间、设置在光反射层(201)的与光吸收层(301)侧相对的表面上的结构，然而，该结构不限于此，并且可以不包括彩色膜(401a，401b，401c，401d)中的1个至3个。
在诸如图22(b)和图23(c)的结构中，当彩色膜的可见光透射率大于0％时，光反射层可以反射经由彩色膜入射的光，因此，可以通过层叠光吸收层和光反射层来获得颜色。
在诸如图22(c)、图22(d)和图23(d)的结构中，光反射层(201)的由彩色膜显色的颜色的光透射率可以是1％以上，优选地3％以上，更优选地5％以上，使得由于彩色膜追加获得的色差变化可以被识别。这是由于在这样的可见光透射范围内透射的光可以与通过彩色膜获得的颜色混合。
在本说明书的一个实施例中，彩色膜可以设置为一片，或者设置为相同类型或不同类型的两片以上的层叠体。
作为彩色膜，可以使用能够通过与从上文所述的光反射层和光吸收层的层叠结构显现的颜色相结合来显现目标颜色的彩色膜。例如，可以使用通过将一种或两种以上的颜料和染料分散到基质树脂中来表现颜色的彩色膜。可以通过在可设置彩色膜的位置上直接涂布用于形成彩色膜的组合物来形成这种彩色膜，或者可以使用通过在单独基板上涂布用于形成彩色膜的组合物或使用诸如铸造或挤压的已知成型方法制备彩色膜、然后将彩色膜设置或附着在可设置彩色膜的位置上的方法。作为涂布方法，可以使用湿法涂布或干法涂布。
可以从本领域已知的且能够从最终装饰元件获得目标颜色的颜料和染料中选择能够包含在彩色膜中的颜料和染料，并且可以使用基于红色、基于黄色、基于紫色、基于蓝色、基于粉色等的颜料和染料中的一种或两种以上。具体地，可以单独或组合使用诸如紫环酮(perinone)基红色染料、蒽醌基红色染料、甲烷基黄色染料、蒽醌基黄色染料、蒽醌基紫色染料、酞菁基蓝色染料、硫靛基粉色染料或异靛基粉色染料的染料。可以单独或组合使用诸如炭黑、铜酞菁(C.I.颜料蓝15:3)、C.I.颜料红112，颜料蓝或异吲哚啉黄的颜料。作为这种染料或颜料，可以使用市售的染料或颜料，例如，可以使用由Ciba ORACET或ChokwangPaint股份有限公司制造的材料。染料或颜料的类型及其颜色仅用于说明的目的，并且可以使用各种已知的染料或颜料，并且可以从中获得更多种的颜色。
作为包含在彩色膜中的基质树脂，可以使用已知作为透明膜、涂底层、粘合层或涂布层材料的材料，并且基质树脂并不特别局限于这些材料。例如，也可以选择诸如丙烯基树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯基树脂、氨基甲酸乙酯基树脂、线性烯烃基树脂、环烯烃基树脂、环氧基树脂或三乙酰纤维素基树脂的各种材料，也可以使用上述材料的共聚物或混合物。
当彩色膜设置为比光反射层或光吸收层更靠近观察装饰元件的位置时，例如，在图22(a)和图22(b)以及图23(a)、图23(b)和图23(c)的结构中，则由彩色膜从光反射层、光吸收层或光反射层和光吸收层的层叠结构显现的颜色的光透射率可以是1％以上，优选地3％以上，更优选地5％以上。因此，可以通过将从彩色膜显现的颜色与从光反射层、光吸收层或其层叠结构显现的颜色相结合来获得目标颜色。
对彩色膜的厚度没有特别的限制，并且本领域技术人员可以选择和设定厚度，只要能够获得目标颜色即可。例如，彩色膜的厚度可以是500nm至1mm。
在本说明书的一个实施例中，装饰元件包括图案层，所述图案层设置在与光反射层的面对光吸收层的表面相对的表面；设置在光反射层与光吸收层之间；或者设置在与光吸收层的面对光反射层的表面相对的表面中的任意一个或多个位置处。
在本说明书的一个实施例中，图案层包括具有非对称结构横截面的凸部形状或凹部形状。
在本说明书的一个实施例中，图案层包括具有非对称结构横截面的凸部形状。
在本说明书的一个实施例中，图案层包括具有非对称结构横截面的凹部形状。
在本说明书的一个实施例中，图案层包括具有非对称结构横截面的凸部形状和具有非对称结构横截面的凹部形状。
在本说明书中，“横截面”是指在任意一个方向上切割凸部或凹部时的表面。例如，横截面可以指，当将装饰元件放置在地面上时，在平行于地面的方向上或垂直于地面的方向上切割凸部或凹部时的表面。在根据实施例的装饰元件的图案层的凸部形状或凹部形状的表面中，在垂直于地面的方向上的至少一个横截面具有非对称结构。
在本说明书中，“非对称结构横截面”是指由横截面的边界形成的图形不具有线对称或点对称的结构。线对称是指以直线为中心镜像某一图形时具有重叠的性质。点对称是指当某一图形基于一点旋转180度时具有与原图形完全重叠的对称性。这里，非对称结构横截面的边界可以是直线、曲线或它们的组合。
如上所述，装饰元件可以通过包含在图案层的表面中的具有非对称结构横截面的凸部或凹部来显色二向色性。二向色性是指根据观察角度观察到的不同颜色。可以通过CIEL*a*b*表示颜色，可以使用L*a*b*空间中的距离ΔE*ab定义色差。具体地，色差是
并且色差在0<ΔE*ab<1的范围内，观测器可能无法识别色差[参考文献：MachineGraphics and Vision 20(4)：383-411]。因此，在本说明书中，可以由ΔE*ab>1定义二向色性。
在本说明书的一个实施例中，装饰元件具有ΔE*ab>1的二向色性。具体地，色差ΔE*ab、即在整个装饰元件的颜色坐标CIE L*a*b*中的L*a*b*空间中的距离可以大于1。
图24和图25分别示出了包括图案层的装饰元件(未示出显色层)，该图案层包括凸部(P1)形状的表面。
图24示出了根据本说明书的一个实施例的包括图案层的装饰元件(未示出基板和保护层)。图案层表面可以具有与凸部相比具有较小高度的第二凸部(P2)设置在凸部(P1)之间的形状。在下文中，在第二凸部之前描述的凸部可以称为第一凸部。
在本说明书中，凸部(P1)的倾斜角(a2，a3)可以指凸部(P1)的斜面(S1，S2)与图案层的水平面之间形成的角度。除非在本说明书中另外特别提及，否则在附图中，第一斜面可以定义为凸部的左斜面，第二斜面可以指凸部的右斜面。
在本说明书的一个实施例中，图案层的凸部(P1)具有多边形横截面，并且可以具有沿一个方向延伸的柱形形状。在一个实施例中，凸部(P1)的横截面可以是三角形或者是进一步包括三角形的尖端部分(尖部或顶点部)上的小凹部的形状。
在本说明书的一个实施例中，非对称结构横截面包括具有不同倾斜角的第一斜面和第二斜面。
在本说明书的一个实施例中，由第一斜面(S1)与第二斜面(S2)形成的角度(a1)可以在80度至100度的范围内。具体地，角度(a1)可以是80度以上、83度以上、86度以上或89度以上，并且可以是100度以下、97度以下、94度以下或91度以下。角度可以指由第一斜面和第二斜面形成的顶点的角度。当第一斜面和第二斜面彼此不形成顶点时，角度可以指通过虚拟地使第一斜面和第二斜面延伸而形成顶点的状态下顶点的角度。
在本说明书的一个实施例中，凸部(P1)的第一斜面的倾斜角(a2)与第二斜面的倾斜角(a3)之差可以在30度至70度的范围内。例如，第一斜面的倾斜角(a2)与第二斜面的倾斜角(a3)之差可以是30度以上、35度以上、40度以上或45度以上，并且可以是70度以下、65度以下、60度以下或55度以下。使第一斜面和第二斜面的倾斜角之差在上述范围内，可以有利于获得取决于方向的颜色表现。换句话说，更明显地出现二向色性。
在本说明书的一个实施例中，凸部(P1)的高度(H1)可以是5μm至30μm。使凸部高度在上述范围内可以有利于生产工艺方面。在本说明书中，凸部高度可以指，基于图案层的水平面的凸部的最高部分与最低部分之间的最短距离。关于与凸部高度相关的描述，相同的数值范围也可以用于上文描述的凹部的深度。
在本说明书的一个实施例中，凸部(P1)的宽度W1可以是10μm至90μm。使凸部宽度在上述范围内可以有利于处理和形成图案的工艺方面。例如，凸部(P1)的宽度可以是10μm以上、15μm以上、20μm以上或25μm以上，并且可以是90μm以下、80μm以下、70μm以下、60μm以下、50μm以下、40μm以下或35μm以下。与宽度相关的描述可以用于上文描述的凹部以及凸部。
在本说明书的一个实施例中，凸部(P1)之间的距离可以是0μm至20μm。在本说明书中，凸部之间的距离可以指在两个相邻凸部中，一个凸部结束的点与另一个凸部开始的点之间的最短距离。当适当保持凸部之间的距离时，在从具有较大倾斜角的凸部的斜面侧观察装饰元件时获得相对明亮的颜色时由于阴影而使反射区域看起来暗的现象可以得到改善。如下文所述，在凸部之间，可以存在与凸部相比具有较小高度的第二凸部。与距离相关的描述可以用于上文描述的凹部以及凸部。
在本说明书的一个实施例中，第二凸部(P2)的高度(H2)可以在第一凸部(P1)的高度(H1)的1/5至1/4的范围内。例如，第一凸部与第二凸部之间的高度差(H1-H2)可以是10μm至30μm。第二凸部的宽度(W2)可以是1μm至10μm。具体地，第二凸部的宽度(W2)可以是1μm以上、2μm以上、3μm以上、4μm以上或4.5μm以上，并且可以是10μm以下、9μm以下、8μm以下、7μm以下、6μm以下或5.5μm以下。
在本说明书的一个实施例中，第二凸部可以具有倾斜角不同的两个斜面(S3，S4)。由第二凸部的两个斜面形成的角度(a4)可以是20度至100度。具体地，角度(a4)可以是20度以上、30度以上、40度以上、50度以上、60度以上、70度以上、80度以上或85度以上，并且可以是100度以下或95度以下。第二凸部的两个斜面之间的倾斜角差(a6-a5)可以是0度至60度。倾斜角差(a6-a5)可以是0度以上、10度以上、20度以上、30度以上、40度以上或45度以上，并且可以是60度以下或55度以下。具有在上述范围内的尺寸的第二凸部可以有利于通过增加光从具有大斜面角的侧表面的入射来形成明亮的颜色。
图25示出了根据本说明书的一个实施例的包括图案层的装饰元件(未示出显色层)。图案层表面可以具有进一步包括与凸部(P1)的尖端部分(尖部)上的凸部相比具有较小高度的凹部(P3)的形状。这种装饰元件可以呈现图像颜色根据视角而柔和变化的效果。
在本说明书的一个实施例中，凹部(P3)的高度(H3)可以是3μm至15μm。具体地，凹部(P3)的高度(H3)可以是3μm以上，并且可以是15μm以下、10μm以下或5μm以下。凹部可以具有倾斜角不同的两个斜面(S5，S6)。由凹部的两个斜面形成的角度(a7)可以是20度至100度。具体地，角度(a7)可以是20度以上、30度以上、40度以上、50度以上、60度以上、70度以上、80度以上或85度以上，并且可以是100度以下或95度以下。凹部的两个斜面之间的倾斜角差(a9-a8)可以是0度至60度。倾斜角差(a9-a8)可以是0度以上、10度以上、20度以上、30度以上、40度以上或45度以上，并且可以是60度以下或55度以下。具有在上述范围内的尺寸的凹部可以有利于增加斜面上的色感。
在本说明书的一个实施例中，图案层包括凸部形状或凹部形状，并且可以以反相结构(inversed phase structure)设置每个形状。
图26示出了根据本说明书的一个实施例的包括图案层的装饰元件。如图26(a)所示，图案层表面可以具有以180度的反相结构设置的多个凸部的形状。具体地，图案层表面可以包括第二斜面与第一斜面相比具有更大的倾斜角的第一区域(C1)、以及第二斜面与第一斜面相比具有更大的倾斜角的第二区域(C2)。在一个示例中，包含在第一区域中的凸部可以称为第一凸部(P1)，包含在第二区域中的凸部可以称为第四凸部(P4)。对于第一凸部(P1)和第四凸部(P4)的高度、宽度、倾斜角和由第一斜面和第二斜面形成的角度，可以以相同方式使用在凸部(P1)中提供的描述。如图26(b)所示，可以被构成为，第一区域和第二区域中的任意一个区域对应于图像或标识，另一个区域对应于背景部分。这种装饰元件可以呈现图像或标识颜色根据视角而柔和变化的效果。此外，图像或标识部分和背景部分的颜色的装饰效果根据观察方向看上去被切换。
在本说明书的一个实施例中，第一区域和第二区域可以各自包括多个凸部。第一区域和第二区域的宽度以及凸部的数量可以根据目标图像或标识的尺寸来适当地控制。
在本说明书的一个实施例中，图案层包括凸部形状，凸部形状的横截面包括第一倾斜边和第二倾斜边，并且第一倾斜边和第二倾斜边的形状彼此相同或彼此不同，并且各自是直线形状或曲线形状。
图27示出了根据本说明书的一个实施例的包括图案层的装饰元件。图案层的横截面具有凸部形状，凸部形状的横截面包括包含第一倾斜边的第一区域(D1)和包含第二倾斜边的第二区域(D2)。第一倾斜边和第二倾斜边具有直线形状。由第一倾斜边和第二倾斜边形成的角度(c3)可以是75度至105度，或者可以是80度至100度。由第一倾斜边和地面形成的角度(c1)与由第二倾斜边和地面形成的角度(c2)不同。例如，c1和c2的组合可以是20度/80度、10度/70度或30度/70度。角度可以指由第一倾斜边和第二倾斜边形成的顶点的角度。当第一倾斜边和第二倾斜边彼此不形成顶点时，角度可以指在通过虚拟地使第一倾斜边和第二倾斜边延伸而形成顶点的状态下顶点的角度。
图28示出了根据本说明书的一个实施例的包括图案层的装饰元件。图案层的横截面包括凸部形状，凸部形状的横截面包括包含第一倾斜边的第一区域(E1)和包含第二倾斜边的第二区域(E2)。第一倾斜边和第二倾斜边中的任意一个或多个可以具有曲线形状。例如，第一倾斜边和第二倾斜边可以都具有曲线形状，或者第一倾斜边可以具有直线形状，第二倾斜边可以具有曲线形状。当第一倾斜边具有直线形状并且第二倾斜边具有曲线形状时，角度c1可以大于角度c2。图28示出了第一倾斜边具有直线形状并且第二倾斜边具有曲线形状的情况。当从倾斜边接触地面的点到第一倾斜边与第二倾斜边邻接的点绘制任意直线时，可以从由该直线和地面形成的角度来计算由具有曲线形状的倾斜边和地面形成的角度。曲线形状的第二倾斜边可以根据图案层高度而具有不同曲率，曲线可以具有曲率半径。曲率半径可以是凸部形状的宽度(E1+E2)的10倍以下。图28(a)示出了曲线的曲率半径是凸部形状宽度的两倍，图28(b)示出了曲线的曲率半径与凸部形状的宽度相同。具有曲率的部分(E2)相对于凸部的宽度(E1+E2)之比率可以是90％以下。图28(a)和图28(b)示出了具有曲率的部分(E2)相对于凸部的宽度(E1+E2)之比率是60％。
在本说明书的一个实施例中，凸部形状的横截面可以具有三角形或方形的多边形形状。
图29示出了根据本说明书的一个实施例的包括图案层的装饰元件。图案层的横截面具有凸部形状，凸部形状的横截面可以具有方形形状。方形形状可以是一般的方形形状，并且没有特别的限制，只要每个倾斜边的倾斜角不同即可。方形形状可以是部分地切割三角形之后留下的形状。例如，可以包括梯形形状(其为一对相对边平行的方形形状)，或者不存在一对相对边彼此平行的方形形状。凸部形状的横截面包括包含第一倾斜边的第一区域(F1)、包含第二倾斜边的第二区域(F2)和包含第三倾斜边的第三区域(F3)。第三倾斜边可以平行于或不平行于地面。例如，当方形形状是梯形时，第三倾斜边与地面平行。第一倾斜边至第三倾斜边中的任意一个或多个可以具有曲线形状，对曲线形状的描述与上文的描述相同。组合长度F1+F2+F3可以定义为凸部图案的宽度，并且对宽度的描述与上文提供的描述相同。
在本说明书的一个实施例中，图案层包括两个以上的凸部形状，并且可以在各凸部形状之间中的一部分或全部进一步包括平坦部。
图30示出了根据本说明书的一个实施例的包括图案层的装饰元件。可以在图案层的每个凸部之间包括平坦部。平坦部是指不存在凸部的区域。除图案层进一步包括平坦部之外，关于其余构成部分(D1，D2，c1，c2，c3，第一倾斜边和第二倾斜边)的描述与上文提供的描述相同。另一方面，组合长度D1+D2+G1被定义为图案的节距，其不同于上文描述的图案的宽度。
图31示出了根据本说明书的一个实施例的装饰元件的图案层及其制备方法。图案层的横截面具有凸部形状，凸部形状的横截面可以具有去除ABO1三角形形状的特定区域的形状。确定去除的特定区域的方法如下。倾斜角c1和c2的细节与上文提供的描述相同。
1)设定AO1线段上的以L1:L2的比率分割AO1线段的任意点P1。
2)设定BO1线段上的以m1:m2的比率分割BO1线段的任意点P2。
3)设定AB线段上的以n1:n2的比率分割AB线段的任意点O2。
4)设定O1O2线段上的以o1:o2的比率分割O2O1线段的任意点P3。
这里，L1:L2、m1:m2、n1:n2和o1:o2的比率彼此相同或不同，并且可以各自独立地为1:1000至1000:1。
5)去除由P1O1P2P3多边形形成的区域。
6)采用由ABP2P3P1多边形形成的形状作为凸部的横截面。
通过调整L1:L2、m1:m2、n1:n2和o1:o2的比率，可以将图案层修改为各种形状。例如，当L1和m1增大时，图案的高度可以增大，并且当o1增大时，形成在凸部上的凹部的高度可以减小，并且通过调整n1的比率，形成在凸部上的凹部的最低点的位置可以调整为更靠近凸部的倾斜边的任意一侧。
图32和图33示出了使用用于制备根据图31的装饰元件的图案层的方法制备的图案层。当L1:L2、m1:m2和o1:o2的比率全部相同时，横截面形状可以是梯形形状。梯形的高度(ha，hb)可以通过调整L1:L2的比率而变化。例如，图32(a)示出了当L1:L2比率为1:1时制备的图案层，图32(b)示出了当L1:L2比率为2:1时制备的图案层。
在本说明书的一个实施例中，凸部形状或凹部形状的表面包括两个以上的凸部形状或凹部形状。通过具有上述的两个以上的凸部形状或凹部形状的表面，可以进一步增强二向色性。这里，两个以上的凸部形状或凹部形状可以具有重复相同形状的形式，然而，可以包括彼此不同的形状。
在本说明书的一个实施例中，在具有非对称结构横截面的凸部形状或凹部形状中，至少一个横截面包括具有不同倾斜角、不同曲率或不同边形状的两个以上的边。例如，当形成至少一个横截面的边中的两个边具有不同的倾斜角、不同的曲率或不同的边形状时，凸部或凹部具有非对称结构。
在本说明书中，除非另有说明，否则“边”可以是直线，但不限于此，并且“边”可以部分或全部是曲线。例如，边可以包括圆或椭圆的弧的一部分的结构、波浪结构或之字形。
在本说明书中，当边包括圆或椭圆的弧的一部分时，圆或椭圆可以具有曲率半径。当将曲线的极短区段转换成弧时，可以通过弧的半径定义曲率半径。
在本说明书中，除非另有说明，否则“倾斜边”是指在将装饰元件放置在地面上时，边相对于地面形成的角度大于0度且小于或等于90度的边。这里，当边是直线时，可以测量由该直线和地面形成的角度。当边包括曲线时，可以测量在将装饰元件放置在地面上时由地面与以最短距离连接边的最靠近地面的点和边的最远离地面的点的直线形成的角度。
在本说明书中，除非另有说明，否则倾斜角是指在将装饰元件放置在地面上时，由地面和形成图案层的表面或边形成的角度，并且该倾斜角大于0度且小于或等于90度。或者，倾斜角可以指由地面和在连接形成图案层的表面或边与地面邻接处的点(a’)和形成图案层的表面或边最远离地面处的点(b’)时形成的线段(a’-b’)形成的角度。
在本说明书中，除非另有说明，否则曲率是指边或表面的连续点处的切线的斜率的变化程度。当边或表面的连续点处的切线的斜率的变化较大时，曲率高。
在本说明书的一个实施例中，图案层表面的凸部形状或凹部形状可以是从图案层表面向外突出的锥形凸部或凹入到图案层表面中的锥形凹部。
在本说明书的一个实施例中，锥形形状包括圆锥、椭圆锥或角锥(polypyramid)的形状。这里，角锥的底面的形状包括三角形形状、方形形状、具有5个以上的突出点的星形形状等。根据一个实施例，当图案层表面在将装饰元件放置在地面上时具有锥形凸部形状时，凸部形状的垂直于地面的横截面中的至少一个可以具有三角形形状。根据另一个实施例，当图案层表面在将装饰元件放置在地面上时具有锥形凹部形状时，凹部形状的垂直于地面的横截面中的至少一个可以具有倒三角形形状。
在本说明书的一个实施例中，锥形凸部或锥形凹部形状可以具有至少一个非对称结构横截面。例如，当从凸部形状或凹部形状的表面侧观察锥形凸部或凹部时，在基于锥的顶点旋转360度时具有两个以下的相同形状时有利于显现二向色性。图24示出了从凸部形状的表面侧观察到的锥形凸部形状，并且a)均示出了对称结构的锥形形状，b)示出了非对称结构的锥形形状。
在将装饰元件放置在地面上时，对称结构的锥形形状具有以下结构：在平行于地面的方向上的横截面(以下称为水平横截面)是具有相同边长的圆或正多边形，并且锥的顶点存在于相对于地面的水平横截面的重心的相对于横截面的垂直线上。然而，具有非对称结构横截面的锥形形状具有以下结构：当从锥形凸部或凹部的表面侧观察时，锥的顶点的位置存在于不是锥的水平横截面的重心的点的垂直线上；或者具有非对称结构横截面的锥形形状具有锥的水平横截面为非对称结构的多边形或椭圆的结构。当锥的水平横截面为非对称结构的多边形时，多边形的至少一个边和角度可以设计为与其他边和角度不同。
例如，如图35所示，可以改变锥的顶点的位置。具体地，当将锥的顶点设计为位于锥的相对于地面的水平横截面的重心(O1)的垂直线上时，在从如图35的第一幅图所示的锥形凸部形状的表面侧观察时，在基于锥的顶点旋转360度时可以获得4个相同结构(4重对称)。然而，通过将锥的顶点设计在不是相对于地面的水平横截面的重心(O1)的位置(O2)处，对称结构被破坏。当将相对于地面的水平横截面的一边的长度设为x，将锥的顶点的偏移距离(migration distance)设为a和b，将锥形形状的高度、即从锥的顶点(O1或O2)垂直连接到相对于地面的水平横截面的线的长度设为h，并且将由锥的水平横截面和侧表面形成的角度设为θn时，可以如下获得图35的表面1、表面2、表面3和表面4的余弦值。
这里，θ1和θ2是相同的，因此不存在二向色性。然而，θ3和θ4是不同的，并且│θ3-θ4│是指两种颜色之间的色差ΔE*ab，因此，可以得到二向色性。这里，│θ3-θ4│>0。如上文所述，可以使用由锥的相对于地面的水平横截面和锥的侧表面形成的角度来定量地表示对称结构被破坏的程度，即，非对称度，并且表示这种非对称度的值与二向色性的色差成比例。
图36示出了具有最高点具有线形状的凸部形状的表面，并且a)示出了具有不显现二向色性的凸部的图案，b)示出了具有显现二向色性的凸部的图案。图36的a)的X-X’横截面是等腰三角形或等边三角形，图36的b)的Y-Y’横截面是具有不同边长的三角形。
在本说明书的一个实施例中，图案层具有最高点具有线形状的凸部形状的表面或最低点具有线形状的凹部形状的表面。线形状可以是直线形状或曲线形状，并且可以包括曲线和直线或之字形形状。这在图37至图39中示出。当从凸部形状或凹部形状的表面侧观察最高点具有线形状的凸部形状的表面或最低点具有线形状的凹部形状的表面时，在基于凸部或凹部的相对于地面的水平横截面的重心旋转360度时仅有一个相同形状时，有利于显现二向色性。
在本说明书的一个实施例中，图案层具有锥型尖端部分被切割的凸部形状或凹部形状的表面。图40示出了在将装饰元件放置在地面上时获得垂直于地面的横截面非对称的倒梯形凹部的图像。这种非对称横截面可以具有梯形或倒梯形形状。在这种情况下，也可以通过非对称结构横截面来显现二向色性。
除上述结构之外，还可以获得如图41所示的凸部形状或凹部形状的各种表面。
在本说明书中，除非另有说明，否则“表面”可以是平坦表面，但不限于此，并且“表面”的一部分或全部可以是曲面。例如，在垂直于表面的方向上的横截面的形状可以包括圆或椭圆的弧的一部分的结构、波浪结构或之字形形状。
在本说明书中，除非另有说明，否则“斜面”是指在将装饰元件放置在地面上时，表面相对于地面形成的角度大于0度且小于或等于90度的表面。这里，当表面是平坦表面时，可以测量由平坦表面和地面形成的角度。当表面包括曲面时，可以测量在将装饰元件放置在地面上时由地面与以最短距离连接表面的最靠近地面的点和表面的最远离地面的点的直线形成的角度。
在本说明书的一个实施例中，图案层包括对称结构图案。作为对称结构，包括棱镜结构、双凸透镜结构等。
在本说明书的一个实施例中，图案层在与凸部或凹部形状形成的表面相对的表面上具有平坦部，平坦部可以形成在基板上。可以使用塑料基板作为基板层。可以使用三乙酰纤维素(TAC)；诸如降冰片烯衍生物的环烯烃共聚物(COP)；聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)；聚碳酸酯(PC)；聚乙烯(PE)；聚丙烯(PP)；聚乙烯醇(PVA)；双乙酰纤维素(DAC)；聚丙烯酸酯(Pac)；聚醚砜(PES)；聚醚醚酮(PEEK)；聚苯砜(PPS)；聚醚酰亚胺(PEI)；聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)；聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)；聚酰亚胺(PI)；聚砜(PSF)；聚芳酯(PAR)；无定形氟树脂等作为塑料基板，然而，塑料基板不限于此。
在本说明书的一个实施例中，图案层可以包括热固化树脂或紫外线固化树脂。可以使用光固化树脂或热固化树脂作为可固化树脂。可以使用紫外线固化树脂作为光固化树脂。热固化树脂的示例可以包括硅酮树脂、硅树脂、呋喃树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、氨基树脂、酚树脂、脲醛树脂、聚酯树脂、三聚氰胺树脂等，但不限于此。作为紫外线固化树脂，通常可以使用丙烯酸类聚合物，例如，聚酯丙烯酸酯聚合物、聚苯乙烯丙烯酸酯聚合物、环氧丙烯酸酯聚合物、聚氨酯丙烯酸酯聚合物或聚丁二烯丙烯酸酯聚合物、硅酮丙烯酸酯聚合物、烷基丙烯酸酯聚合物，然而，紫外线固化树脂不限于此。
在本说明书的一个实施例中，可以进一步在图案层的内部或至少一个表面上包括颜色染料。例如，在图案层的至少一个表面上包括颜色染料可以指在设置在图案层的平坦部侧的上文描述的基板层上包括颜色染料的情况。
在本说明书的一个实施例中，可以使用蒽醌基染料、酞菁基染料、硫靛基染料、紫环酮基染料、异靛基染料、甲烷基染料、单偶氮基染料、1:2金属络合物基染料等作为颜色染料。
在本说明书的一个实施例中，当在图案层内包括颜色染料时，可以将颜色染料添加到可固化树脂中。当在图案层的底部进一步包括颜色染料时，可以使用在基板层的顶部或底部涂布包含染料的层的方法。
在本说明书的一个实施例中，例如，颜色染料含量可以是0wt％至50wt％。颜色染料含量可以确定图案层或装饰元件的透射率和雾度范围，例如，透射率可以是20％至90％，例如，雾度可以是1％至40％。
在下文中，将参考实施例具体描述本说明书，然而，本说明书的范围不受以下实施例限制。
1.沉积材料对蚀刻气体的反应性的测试
确认了在使用蚀刻气体蚀刻氮氧化铝时铟可以用作掩模。具体地，测试了氮氧化铝(AlON)和铟(In)中的每一个对蚀刻气体SF6的反应性。
(1)无机材料(氮氧化铝)
为了测试氮氧化铝对蚀刻气体SF6的反应性，将铝(Al)靶安装在直列式溅射设备(in-line sputter equipment)上，将氩气(Ar)(80sccm)和氮气(N2)(14sccm)注入腔中，使腔内的压力保持在3毫托，并且施加1.86W/cm2的电力80秒以进行沉积。
然后，使用蚀刻气体SF6对氮氧化铝进行干法蚀刻工艺。具体地，通过使用RIE-ICP装置，以20sccm的流速将SF6气体注入腔中，在5毫托的压力下以RF方式对样品侧施加100W的电力，并且对ICP侧施加800W的电力，以进行蚀刻工艺120秒。在进行该工艺时，将氦气(He)施加到样品侧以进行冷却。
氮氧化铝的蚀刻结果如图42所示。当参考图42时，确认了除用于固定样品的由红色虚线形成的区域之外的部分的氮氧化铝被蚀刻。由此，确认了氮氧化铝(AlON)对蚀刻气体SF6具有良好的反应性。
(2)铟
为了测试铟对蚀刻气体(SF6)的反应性，将铟(In)靶安装在直列式溅射设备上，将氩气(Ar)(50sccm)注入腔中，使腔内的压力保持在2毫托，并且施加1.48W/cm2的电力以进行沉积100秒。
然后，使用蚀刻气体(SF6)进行干法蚀刻工艺，结果示于图43中。具体的工艺条件与上述氮氧化铝的蚀刻工艺相同。当参考图43时，确认了铟几乎没有被蚀刻。由此，确认了铟对SF6的反应性较低，是一种在使用SF6作为蚀刻气体时适合用作掩模的材料。
2.装饰元件制造实验
比较例1
将玻璃基板引入安装有铝靶的直列式溅射装置，分别以80sccm和14sccm的流速将氩气(Ar)和氮气(N2)注入腔中，并且在3毫托的压力条件下施加3.12W/cm2的电力以进行沉积工艺80秒，其结果，氮氧化铝(AlON)光吸收层形成在玻璃基板上。
然后，将形成有光吸收层的玻璃基板引入安装有铟靶的直列式溅射装置中，以50sccm的流速将氩气(Ar)注入腔中，并且在2毫托的压力条件下施加1.48W/cm2的电力以进行沉积工艺100秒，其结果，通过在光吸收层上形成铟光反射层制造了装饰元件。
装饰元件的光反射层侧的SEM图像示于图2至图4中。
对于装饰元件，使用2点探针式电阻测量装置(HIOKI有限公司，产品名称3244-60，Card Hi-tester)测量电阻。在测量电阻时在样品上彼此接触的两个探针之间的长度为1cm至10cm，并且在基于1cm标准化电阻值之后记录电阻值。
这里，电阻值为50000Ω。
比较例2
使用RIE-ICP Etcher II，通过蚀刻在比较例1中制造的装饰元件的光吸收层来制造装饰元件。形成了800W的施加到腔顶部的圆形天线的具有RF的ICP电力，并且将100W的偏置RF(RIE)施加到基板侧。
这里，通过以20sccm的流速注入SF6气体进行蚀刻大于等于30秒且小于60秒，并且在蚀刻工艺期间，通过注入氦气来冷却基板侧。这里，腔内的压力为5毫托。
以与比较例1相同的方式测量电阻，电阻值约为50000Ω，这与比较例1几乎相同。
比较例3
除在沉积铟光反射层时，通过将电力改变为0.37W/cm2来形成3nm至8nm的铟光反射层之外，以与比较例2相同的方式制造装饰元件。这里，溅射时基板(光吸收层)和溅射靶之间的距离大于200mm。
装饰元件的干法蚀刻工艺之前和之后的图像分别示于图10和图11中。通过图像，确认了铟光反射层太薄，并且铟大部分在蚀刻工艺期间消失。装饰元件由光吸收层和光反射层形成，由于光反射层消失，所以不能执行装饰元件的功能。
实施例1
除蚀刻时间调整为2分钟之外，以与比较例2相同的方式制造装饰元件。
装饰元件的光反射层侧的SEM图像示于图5至图7。
以与比较例1相同的方式测量电阻，电阻值约为500000Ω，这是比较例1的10倍。
实施例2
除蚀刻时间调整为5分钟之外，以与比较例2相同的方式制造装饰元件。
装饰元件的光反射层侧的SEM图像示于图8和图9中。
以与比较例1相同的方式测量电阻，电阻值超过测量设备的极限。测量设备的测量极限约为42×106Ω，因此，可以看出电阻增大约800倍以上。
通过实施例和比较例的电阻测量的结果，确认了，在蚀刻光吸收层时调整蚀刻条件，改变了光吸收层的蚀刻程度，并且所制造的装饰元件的电阻值也发生了显著变化。具体地，在实施例1和实施例2中，确认了与比较例1至比较例3相比电阻值显著增大，并且在比较例2中，确认了，由于没有充分地进行蚀刻，所以电阻值几乎没有增大。
Claims (14)
1.一种装饰元件的制造方法，所述制造方法包括：
在光吸收层的一个表面上沉积具有彼此间隔开的两个以上的岛部的结构的光反射层；以及
使用所述岛部作为掩模对所述光吸收层进行干法蚀刻，
其中，与对所述光吸收层进行所述干法蚀刻之前相比，在对所述光吸收层进行所述干法蚀刻之后所述装饰元件的电阻值增大了两倍以上。
2.根据权利要求1所述的装饰元件的制造方法，其中，所述岛部的宽度为10nm至1000nm，所述岛部的高度为5nm至1000nm。
3.根据权利要求1所述的装饰元件的制造方法，其中，所述岛部具有800000nm2以下的水平横截面。
4.根据权利要求1所述的装饰元件的制造方法，其中，所述岛部具有800000nm2以下的垂直横截面。
5.根据权利要求1所述的装饰元件的制造方法，其中，所述光反射层包含铟(In)。
6.根据权利要求1所述的装饰元件的制造方法，其中，在10℃至100℃的温度条件下进行所述光反射层的所述沉积。
7.根据权利要求1所述的装饰元件的制造方法，其中，所述光反射层的所述沉积使用蒸发法或溅射法。
8.根据权利要求7所述的装饰元件的制造方法，其中，在所述溅射法中，所述光吸收层与溅射靶之间的最短距离(d1)为200mm以下，并且在每单位面积的所述溅射靶上施加0.1W/cm2至10W/cm2的电力条件下施加电力10秒至1000秒。
9.根据权利要求7所述的装饰元件的制造方法，其中，在所述溅射法中，所述光吸收层与溅射靶之间的最短距离(d2)大于200mm，并且在每单位面积的所述溅射靶上施加1W/cm2至10W/cm2的电力条件下施加电力10秒至1200秒。
10.根据权利要求7所述的装饰元件的制造方法，其中，所述溅射法使用氩气(Ar)、氦气(He)或氮气(N2)作为溅射气体。
11.根据权利要求1所述的装饰元件的制造方法，其中，在所述干法蚀刻中，将所述光吸收层引入到腔中，以5sccm至100sccm的流速供应蚀刻气体，并且在0.5毫托至100毫托的压力条件下施加50W至1000W的电力。
12.根据权利要求1所述的装饰元件的制造方法，其中，所述干法蚀刻是电容耦合等离子体(CCP)蚀刻、反应离子蚀刻(RIE)、电感耦合等离子体(ICP)蚀刻、电子回旋共振(ECR)等离子体蚀刻或微波蚀刻的方法。
13.根据权利要求1所述的装饰元件的制造方法，其中，所述光吸收层是选自由铟(In)、钛(Ti)、锡(Sn)、硅(Si)、锗(Ge)、铝(Al)、铜(Cu)、镍(Ni)、钒(V)、钨(W)、钽(Ta)、钼(Mo)、钕(Nd)、铁(Fe)、铬(Cr)、钴(Co)和银(Ag)中的任意一种的氮化物；前述金属的氧化物；以及前述金属的氮氧化物组成的组中的一种或多种。
14.一种使用根据权利要求1至13中任意一项所述的制造方法制造的装饰元件，所述装饰元件包括：
光吸收层；以及
设置在所述光吸收层的一个表面上的光反射层，
其中，所述装饰元件的线电阻为105Ω以上。
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