CN111821826A - 等离子体洗涤装置 - Google Patents

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Abstract

公开一种冷却高温的分解气体时不使用水的间接冷却方式的等离子体洗涤装置。所述等离子体洗涤装置包括：反应单元，将有害气体通过等离子体的高热而热解、离子化并燃烧而生成分解气体；一次冷却单元，将高温的所述分解气体通过与冷却水间接接触的方式冷却至第一温度以下；二次冷却单元，将一次冷却后的所述分解气体通过与冷却水间接接触的方式冷却至第二温度以下；粉末收集单元，收集二次冷却后的所述分解气体中所包含的粉末；以及排出单元，将所述分解气体排出。

Description

等离子体洗涤装置
技术领域
本发明涉及一种等离子体洗涤装置，尤其涉及一种冷却高温的分解气体时不使用水的间接冷却方式的等离子体洗涤装置。
背景技术
半导体元件通过氧化、蚀刻、沉积及光刻工序等多种制造工序制造，在这些工序中使用有毒化学药品和化学气体。
最近，正在制造千兆(Giga)级半导体元件，这样的高度集成导致有毒的化学气体(例如，C2F4、CF4、C3F8、C4F10、NF3、SF6等过氟化合物或过氟化碳(Per Fluoro Compound))的使用量增加，这些化学气体的毒性非常强，因此在直接释放到大气中的情况下，可能对人体产生致命的影响或者导致严重的环境问题。
因此，必须要经过将这些有害成分的含量降低到允许浓度以下的无害化处理过程再排放到大气中。
为了无害化处理过程，较多地应用无需额外的液化天然气及氧气的等离子体(plasma)方式的洗涤器，其优点在于能够利用1000℃以上的高热量的火焰处理有害气体。
以往，通常主要使用通过利用水直接对利用等离子体分解的高温的分解气体进行冷却的方法，对于这种方式而言，使用水而导致产生大量废水，从而存在废水泄露的风险。尤其，这被认为是环境污染的主要原因，因此需要可靠的废水管理。
并且，需要有效地冷却高温的分解气体，并收集分解气体中所包含的粉末，在该过程中，需要防止分解气体造成的部件腐蚀。
发明内容
因此，本发明的目的在于提供一种冷却高温的分解气体时不使用水的间接冷却方式的等离子体洗涤装置。
本发明的另一目的在于提供一种在处理高温的分解气体的过程中能够有效地收集分解气体中所包含的粉末的等离子体洗涤装置。
本发明的另一目的在于提供一种能够防止由于高温的分解气体导致的腐蚀的等离子体洗涤装置。
所述目的通过如下的等离子体洗涤装置实现，其特征在于，包括：反应单元，将从半导体蚀刻工序排出的有害气体通过等离子体的高热而热解、离子化并燃烧而生成分解气体；一次冷却单元，将高温的所述分解气体通过与冷却水间接接触的方式冷却至第一温度以下；二次冷却单元，将一次冷却后的所述分解气体通过与冷却水间接接触的方式冷却至第二温度以下；粉末收集单元，收集二次冷却后的所述分解气体中所包含的粉末；以及排出单元，将所述分解气体排出。
优选地，所述一次冷却单元包括：冷却腔室，在上端形成有气体流入口，在侧面形成有气体流出口；冷却水流入口，形成于所述冷却腔室的下部侧面；冷却水流出口，形成于所述冷却腔室的上部；以及冷却线圈，从所述冷却腔室的内表面隔开而设置，其中，流入所述冷却水流入口的冷却水以夹套方式阻断从所述冷却腔室释放的热量并经过所述冷却线圈而通过所述冷却水流出口排出，流入的分解气体通过所述冷却线圈的内部流动而通过与所述冷却水的间接接触而被冷却。
优选地，所述冷却线圈的高度小于所述冷却腔室的高度，从而在所述冷却腔室的底部形成粉末装载空间，以装载由于自重向下方掉落的粉末。
优选地，所述二次冷却单元包括：冷却腔室，在下部侧面形成有气体流入口，在上端形成有气体流出口；多个筒状的隔壁，在所述冷却腔室的内部以同心圆形状隔开设置；以及冷却管，以线圈形状缠绕各个所述隔壁的外表面并连接于冷却水流入口及冷却水流出口，其中，通过所述气体流入口流入的分解气体通过所述隔壁之间而沿高度方向往复，进而通过所述气体流出口排出，在往复的过程中由于在所述冷却管流动的冷却水而通过间接接触方式被冷却。
优选地，在所述隔壁可以形成有开口，进而所述分解气体通过所述隔壁之间而沿高度方向流动，并且所述隔壁中的一个的高度方向的长度比其他隔壁短，进而沿高度方向形成连通的通路。
根据本发明，冷却高温的分解气体时不使用水而进行间接冷却，从而不会产生废水，因此能够防止环境污染。
并且，通过依次应用多个冷却单元，能够有效地将高温的分解气体冷却到期望的温度。
并且，在冷却分解气体的过程中，能够防止由于高温的分解气体造成的腐蚀，并且能够有效地收集分解气体中所包含的粉末。
附图说明
图1是示出根据本发明的实施例的等离子体洗涤装置的构成图。
图2的(a)及(b)分别示出反应单元。
图3的(a)及(b)分别示出一次冷却单元。
图4的(a)及(b)分别示出二次冷却单元。
图5示出粉末收集单元及排出单元。
符号说明
100：反应单元 200：一次冷却单元
300：二次冷却单元 400：粉末收集单元
500：排出单元
具体实施方式
需要注意在本发明中使用的技术术语仅用于说明特定的实施例，并非意图限定本发明。并且，在本发明中使用的技术术语，除非在本发明中特别定义为其他的含义，否则应该解释为在本发明所属技术领域中具有通常知识的技术人员通常理解的含义，不应被解释为过度概括的含义或者过度缩小的含义。
以下，参照附图，对本发明的具体实施例进行详细说明。
图1是示出根据本发明的实施例的等离子体洗涤装置的构成图。
等离子体洗涤装置包括：反应单元100，通过等离子体的高热量将有害气体热解、离子化并燃烧而转换为无害的气体；一次冷却单元200，将高温的分解气体冷却至100℃以下；二次冷却单元300，将一次冷却后的分解气体二次冷却至30℃以下；粉末收集单元400，收集分解气体中所包含的粉末；以及排出单元500，将处理后的分解气体排出。
本发明的等离子体洗涤装置可以设置于使用水的中间洗涤装置的前端而进一步提高处理效率。
以下，对各个单元的构成进行详细说明。
图2的(a)及(b)分别示出反应单元。
反应单元100配备有反应腔室110，使有害气体流入的有害气体流入口120形成于反应腔室110的侧面，在反应腔室110的上侧设置有具有用于施加高电压的负极和正极的等离子体炬130，诸如氮气等离子体生成气体被供应到等离子体炬。
如上所述，在半导体蚀刻等工序等中产生的有害气体包含过氟化合物，因此对人体极其有害且腐蚀性强。
因此，通过有害气体流入口120流入的有害气体形成涡流并被等离子体炬产生的等离子体弧热解、离子化并燃烧而转换为无害的气体。
通过使冷却水PCW以夹套方式在反应腔室110的外壁流动，从而阻断热量向外部排出，并且在反应腔室110内部应用能够防腐蚀的高温合金插座，例如铬镍铁合金插座(inconel socket)，从而能够防止反应腔室110本身由于高温或腐蚀气体而受到损伤，并且易于替换。
图3的(a)及(b)分别示出一次冷却单元。
一次冷却单元200配备有冷却腔室210，在冷却腔室210的上部形成有气体流入口212，在一侧形成有气体流出口214，进而从上部流入的分解气体的流动弯曲90度而从侧面流出。
其结果，分解气体的流速降低，进而与设置于内部的冷却线圈220的接触时间增加，从而提高冷却效率，并且流动减慢使得分解气体中所包含的粉末易于由于自重向下方掉落。
尤其，在冷却腔室210的内部底部设置有粉末装载空间211，从而收集由于自重向下方掉落的粉末230。
在冷却腔室210的下部形成有冷却水流入口222，冷却水如冷却夹套地在冷却腔室210外壁流动后经过从冷却腔室210的内表面隔开设置的冷却线圈220进而通过冷却水流出口224排出。
冷却线圈220形成为冷却线圈220的上端与气体流入口212的下端重叠，使得流入的分解气体通过冷却线圈220的内部而流动。
并且，冷却线圈220的高度小于冷却腔室210的高度，从而在冷却腔室210的底部能够形成充分的粉末装载空间211。
根据这样的构成，通过气体流入口212流入的500～600℃左右的分解气体被冷却至100℃以下的温度而通过气体流出口214流出。
由于在冷却腔室210的外壁有冷却水流动，因此自然能够阻断热量向冷却腔室210的外部释放，并且由于线圈形状的冷却线圈220增加接触于分解气体的面积，从而能够有效地冷却分解气体。
在冷却腔室210的内表面或冷却线圈220的外表面等的与分解气体接触的面可以形成有耐高温腐蚀能力强的金属涂层，例如Ni-HP涂覆层。
图4的(a)及(b)分别示出了二次冷却单元。
二次冷却单元300配备有冷却腔室310，在冷却腔室310的下部侧面形成有气体流入口312，在上侧形成有气体流出口314。
在冷却腔室310的内部以同心圆形状布置有多个圆筒形状的隔壁330，在该实施例中，布置有三个隔壁331、332、333。
中间的隔壁332的高度方向的长度相比于其他隔壁331、333短，进而沿高度方向形成连通的通路，并且在隔壁331、333的上部分别形成开口331a、333a，进而在隔壁之间形成通路。
并且，各个隔壁331、332、333的外表面被以线圈形状缠绕的冷却管321、322、323包裹，并且冷却水流入口324及冷却水流出口325设置于与各个冷却管321、322、323对应的冷却腔室310的上端。
根据这样的结构，通过形成于下部侧面的气体流入口312流入的分解气体旋转并通过外侧的隔壁333的开口333a，进而在隔壁332、333之间向下方流动，接着通过隔壁332下端的间隔而在隔壁331、332之间向上方流动，进而经过隔壁331的开口331a而通过形成于上端的气体流出口314排出。
在该过程中，分解气体与各个冷却管320间接接触而被冷却，尤其，分解气体沿以同心圆形状布置的隔壁330而沿高度方向往复，进而与冷却管320的接触时间增加，从而提高冷却效率。
在该实施例中，虽然中间隔壁332的长度比其他隔壁331、333短，从而沿高度方向形成连通的通路，但是并不局限于此，也可以在各个隔壁331、332、333形成开口并交替地形成于上端及下端，从而沿高度方向形成连通的通路，或者在隔壁330与冷却腔室310的底部或顶部之间交替地形成缝隙，从而沿高度方向形成连通的通路。
通过二次冷却单元300而使流入的150℃左右的分解气体被充分冷却至30℃左右而排出。
另外，分解气体沿隔壁330流动而使流动阻力增加，进而流速降低，从而分解气体中所包含的粉末易于由于自重向下方掉落。
尤其，中间的隔壁332的长度较短，进而在其与冷却腔室310的底部之间确保粉末装载空间，从而能够装载由于自重向下方掉落的粉末。
在冷却腔室310的内表面或隔壁330及冷却管320的外表面等的与分解气体接触的面可以形成有耐高温腐蚀能力强的Ni-HP涂层。
图5示出粉末收集单元及排出单元。
粉末收集单元400配备有收集腔室410，且在收集腔室410的下端形成有气体流入口412。
收集腔室410的直径形成为大于气体流入口412，从而分解气体的流速急剧减小，进而粉末430累积于包围气体流入口412的收集腔室410的底部。
收集腔室410可以涂覆有耐低温腐蚀能力强的特殊涂层，例如可以涂覆有特氟龙(Teflon)而防止腐蚀。
排出单元500配备有结合于收集腔室410上部的较长的烟道510，在烟道510的上端形成有气体流出口514。
根据本发明，当冷却高温的分解气体时不使用水而进行间接冷却，从而不会产生废水，因此能够防止环境污染。
并且，通过依次应用多个冷却单元，能够有效地将高温的分解气体冷却到期望的温度。
并且，在处理高温的分解气体的过程中，能够有效地收集分解气体中所包含的粉末。
以上，以本发明的实施例为中心进行了说明，但是显然可以在本领域技术人员的水平上对本发明施加多样的变形。因此，本发明的权利范围不能被限定于上述实施例而被解释，其应当根据权利要求书的范围而被解释。

Claims (6)

1.一种等离子体洗涤装置，其特征在于，包括：
反应单元，将从半导体蚀刻工序排出的有害气体通过等离子体的高热而热解、离子化并燃烧而生成分解气体；
一次冷却单元，将高温的所述分解气体通过与冷却水间接接触的方式冷却至第一温度以下；
二次冷却单元，将一次冷却后的所述分解气体通过与冷却水间接接触的方式冷却至第二温度以下；
粉末收集单元，收集二次冷却后的所述分解气体中所包含的粉末；以及
排出单元，将所述分解气体排出。
2.根据权利要求1所述的等离子体洗涤装置，其特征在于，
所述一次冷却单元包括：
冷却腔室，在上端形成有气体流入口，在侧面形成有气体流出口；
冷却水流入口，形成于所述冷却腔室的下部侧面；
冷却水流出口，形成于所述冷却腔室的上部；以及
冷却线圈，从所述冷却腔室的内表面隔开而设置，
其中，流入所述冷却水流入口的冷却水以夹套方式阻断从所述冷却腔室释放的热量并经过所述冷却线圈而通过所述冷却水流出口排出，流入的分解气体通过所述冷却线圈的内部流动而通过与所述冷却水的间接接触而被冷却。
3.根据权利要求2所述的等离子体洗涤装置，其特征在于，
所述冷却线圈的高度小于所述冷却腔室的高度，从而在所述冷却腔室的底部形成粉末装载空间，以装载由于自重向下方掉落的粉末。
4.根据权利要求1所述的等离子体洗涤装置，其特征在于，
所述二次冷却单元包括：
冷却腔室，在下部侧面形成有气体流入口，在上端形成有气体流出口；
多个筒状的隔壁，在所述冷却腔室的内部以同心圆形状隔开设置；以及
冷却管，以线圈形状缠绕各个所述隔壁的外表面并连接于冷却水流入口及冷却水流出口，
其中，通过所述气体流入口流入的分解气体通过所述隔壁之间而沿高度方向往复，进而通过所述气体流出口排出，在往复的过程中由于在所述冷却管流动的冷却水而通过间接接触方式被冷却。
5.根据权利要求4所述的等离子体洗涤装置，其特征在于，
在所述隔壁形成有开口，进而所述分解气体通过所述隔壁之间而沿高度方向流动。
6.根据权利要求5所述的等离子体洗涤装置，其特征在于，
所述隔壁中的一个的高度方向的长度比其他隔壁短，进而沿高度方向形成连通的通路。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102657614B1 (ko) * 2023-02-17 2024-04-15 주식회사 트리플코어스테크놀러지 다수 개의 반응챔버를 가진 모듈타입 폐가스 저감 장치

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001232180A (ja) * 2000-02-25 2001-08-28 Toshiba Corp 高周波プラズマによる化合物分解装置、化合物分解方法及び化合物分解システム
KR20090054743A (ko) * 2007-11-27 2009-06-01 주식회사 미래보 반도체 공정에서의 잔류 케미칼 및 부산물 포집장치
KR20090075037A (ko) * 2008-01-03 2009-07-08 유니셈(주) 플라즈마 스크러버 및 유해가스 처리 방법
KR20100003561A (ko) * 2008-07-01 2010-01-11 김재용 가스 스크러버
CN106118752A (zh) * 2016-08-30 2016-11-16 安徽科达洁能股份有限公司 一种煤气化炉
CN208599422U (zh) * 2018-06-13 2019-03-15 湖南天佑环境科技有限公司 一种复合废气净化设备

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030080447A (ko) * 2002-04-08 2003-10-17 최경수 가스 스크러버

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001232180A (ja) * 2000-02-25 2001-08-28 Toshiba Corp 高周波プラズマによる化合物分解装置、化合物分解方法及び化合物分解システム
KR20090054743A (ko) * 2007-11-27 2009-06-01 주식회사 미래보 반도체 공정에서의 잔류 케미칼 및 부산물 포집장치
KR20090075037A (ko) * 2008-01-03 2009-07-08 유니셈(주) 플라즈마 스크러버 및 유해가스 처리 방법
KR20100003561A (ko) * 2008-07-01 2010-01-11 김재용 가스 스크러버
CN106118752A (zh) * 2016-08-30 2016-11-16 安徽科达洁能股份有限公司 一种煤气化炉
CN208599422U (zh) * 2018-06-13 2019-03-15 湖南天佑环境科技有限公司 一种复合废气净化设备

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