CN111806013A - 一种高频电磁屏蔽膜及其制备方法 - Google Patents
一种高频电磁屏蔽膜及其制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN111806013A CN111806013A CN202010636548.0A CN202010636548A CN111806013A CN 111806013 A CN111806013 A CN 111806013A CN 202010636548 A CN202010636548 A CN 202010636548A CN 111806013 A CN111806013 A CN 111806013A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- layer
- electromagnetic shielding
- metal
- metal layer
- shielding film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title abstract description 13
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 201
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 114
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 114
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 61
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 36
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 51
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 50
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 45
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 45
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 44
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 33
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 33
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 16
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 15
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 14
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 9
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 5
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 4
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 99
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 29
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 29
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 28
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 26
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 14
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 12
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 7
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical group NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 7
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 6
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 5
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000007719 peel strength test Methods 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005056 compaction Methods 0.000 description 1
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 1
- 239000010865 sewage Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 239000002912 waste gas Substances 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B27/08—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/36—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
- B32B37/12—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by using adhesives
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
- B32B37/14—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers
- B32B37/24—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers with at least one layer not being coherent before laminating, e.g. made up from granular material sprinkled onto a substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K9/00—Screening of apparatus or components against electric or magnetic fields
- H05K9/0073—Shielding materials
- H05K9/0081—Electromagnetic shielding materials, e.g. EMI, RFI shielding
- H05K9/0083—Electromagnetic shielding materials, e.g. EMI, RFI shielding comprising electro-conductive non-fibrous particles embedded in an electrically insulating supporting structure, e.g. powder, flakes, whiskers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
- B32B37/14—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers
- B32B37/24—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers with at least one layer not being coherent before laminating, e.g. made up from granular material sprinkled onto a substrate
- B32B2037/243—Coating
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
本发明公开了一种高频电磁屏蔽膜,包括依次层叠的载体层、绝缘层、第一金属层、粘合层、第二金属层、导电胶层及保护膜层。该电磁屏蔽膜具有较高的屏蔽效能,同时其制备方法生产效率高,环保无污染。
Description
技术领域
本发明涉及屏蔽膜技术领域,特别是一种高频电磁屏蔽膜及其制备方法。
背景技术
随着5G技术的商业化应用,对柔性线路在高频(10GHZ以上)范围的屏蔽性能提出了更高的要求(屏蔽效能大于80dB)。行业内采用的方法为通过增加电磁屏蔽膜金属屏蔽层厚度的方法,提高屏蔽膜在高频范围内的屏蔽效能,但在实际测试中这种电磁屏蔽膜在高频范围的屏蔽效能也仅仅在80dB左右,其屏蔽性能一般,同时行业内增加金属屏蔽层厚度的方法为通过在绝缘层表面真空溅镀金属层,然后电镀增厚的工艺,但目前的溅镀方法,生产线速较低(一般2-10m/min)影响生产效率,同时在电镀增厚工艺中,有大量的污水产生,污染环境。
发明内容
本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本发明提出一种高频电磁屏蔽膜,该电磁屏蔽膜具有较高的屏蔽效能,同时其制备方法生产效率高,环保无污染。
本发明的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的:
一种高频电磁屏蔽膜,包括依次层叠的载体层、绝缘层、第一金属层、粘合层、第二金属层、导电胶层及保护膜层。
优选的,所述载体层为PET非硅离型膜。
优选的,所述绝缘层由改性环氧树脂、改性聚氨酯、改性丙烯酸酯中的一种制成。
进一步优选的,所述绝缘层由改性环氧树脂制成。
优选的,所述绝缘层的厚度为3-12μm。
优选的,所述第一金属层由铝、镍、铜、银、金中的一种制成;所述第二金属层由铝、镍、铜、银、金中的一种制成。
优选的,所述第一金属层的厚度为0.3-3μm,所述第二金属层的厚度为0.2-3μm,且第一金属层与第二金属层的厚度之和大于1.5μm。
优选的,所述粘合层由导电粘合材料制成。
优选的,所述粘合层的厚度为0.5-5μm。
优选的,所述导电胶层的厚度为3-10μm。
本发明的另一个目的在于提供一种上述高频电磁屏蔽膜的制备方法:
一种如上所述的高频电磁屏蔽膜制备方法,包括以下步骤:
(1)在载体层表面涂布绝缘物料,干燥,形成绝缘层;
(2)在绝缘层表面真空蒸镀导电金属,形成第一金属层;
(3)在第一金属层表面涂布粘合材料,形成粘合层;
(4)在粘合层表面真空蒸镀导电金属,形成第二金属层;
(5)在第二金属层表面涂布导电胶材料,形成导电胶层;
(6)在导电胶层表面贴合保护膜,形成保护膜层。
优选的,绝缘层、粘合层、导电胶层的涂布方式为挤出涂布、微凹涂布、刮刀涂布、网辊涂布中的一种。
本发明的有益效果是:
(1)本发明的高频电磁屏蔽膜具有优异的屏蔽性能,其在10GHZ以上的高频上,屏蔽效能大于85dB,最高能达到98.5dB;
(2)本发明高频电磁屏蔽膜具有较好的接地导电性,经测试本发明的高频电磁屏蔽膜的1.0mm孔径接地电阻小于0.1Ω;
(3)本发明高频电磁屏蔽膜具有较强的抗热冲击能力,其经热冲击测试后表面无变形和剥落;
(4)本发明高频磁屏蔽膜具有较强的剥离强度,经测试其剥离强度大于0.8kgf/cm;
(5)本发明高频磁屏蔽在制备过程中采用了真空蒸镀金属的方法,其线速在50-300m/min,是传统溅镀的几十倍,从而能有效提高生产效率,同时在真空蒸镀过程中全程真空,没有废气、废水产生,环保无污染。
附图说明
图1为本发明实施例1的高频电磁屏蔽膜的示意图。
附图标记:
1.载体层;2.绝缘层;3.第一金属层;4.粘合层;5.第二金属层;6.导电胶层;7.保护膜层。
具体实施方式
下面通过具体实施例并结合附图对本发明做进一步的说明。
实施例1:
一种高频电磁屏蔽膜,包括依次层叠的载体层(1)、绝缘层(2)、第一金属层(3)、粘合层(4)、第二金属层(5)、导电胶层(6)及保护膜层(7)。其制备方法包括以下步骤:
(1)将PET非硅离型膜作为载体层置于涂布机中,在其表面涂抹一层改性环氧树脂,干燥后,形成绝缘层,绝缘层厚度为3μm,其中改性环氧树脂为南亚电子材料公司生产的NPES901;
(2)通过真空蒸镀机在绝缘层表面真空蒸镀铜金属,形成第一金属层,第一金属层的厚度为0.2μm;
(3)通过涂布机在第一金属层表面涂布粘合材料,形成粘合层,粘合层的厚度为0.5μm,其中粘合材料为25份环氧树脂及10份固化剂85℃加热融化搅拌均匀后的混合物,其中环氧树脂为NIPPON KAYAKU公司的XD1000,固化剂为CRAY VALLEY CHEMICAL公司的SMA1000;
(4)通过真空蒸镀机在粘合层表面真空蒸镀镍金属,形成第二金属层,第二金属层的厚度为2μm;
(5)通过涂布机在第二金属层表面涂布导电胶材料,形成导电胶层,导电胶层的厚度为3μm,其中导电胶材料为25份环氧树脂、8份固化剂及15份导电颗粒90℃加热融化搅拌均匀后的混合物,其中环氧树脂为南亚电子材料公司生产的NPES901,固化剂为双氰胺,导电颗粒为金属铝粉;
(6)在导电胶层表面贴合保护膜,形成保护膜层,保护膜为PET表面含有氟树脂的复合膜。
实施例2:
一种高频电磁屏蔽膜,包括依次层叠的载体层、绝缘层、第一金属层、粘合层、第二金属层、导电胶层及保护膜层。其制备方法包括以下步骤:
(1)将PET非硅离型膜作为载体层置于涂布机中,在其表面涂抹一层改性环氧树脂,干燥后,形成绝缘层,绝缘层厚度为12μm,其中改性环氧树脂为南亚电子材料公司生产的NPEL128E;
(2)通过真空蒸镀机在绝缘层表面真空蒸镀铝金属,形成第一金属层,第一金属层的厚度为0.5μm;
(3)通过涂布机在第一金属层表面涂布导电粘合材料,形成粘合层,粘合层的厚度为5μm,其中导电粘合材料为25份环氧树脂、10份固化剂及20份导电颗粒85℃加热融化搅拌均匀后的混合物,其中环氧树脂为南亚电子材料公司的NPES901,固化剂为CRAY VALLEYCHEMICAL公司的SMA1000;导电颗粒为导电炭黑;
(4)通过真空蒸镀机在粘合层表面真空蒸镀铜金属,形成第二金属层,第二金属层的厚度为2.0μm;
(5)通过涂布机在第二金属层表面涂布导电胶材料,形成导电胶层,导电胶层的厚度为10μm,其中导电胶材料为25份环氧树脂、8份固化剂及15份导电颗粒90℃加热融化搅拌均匀后的混合物,其中环氧树脂为NIPPON KAYAKU生产的XD1000,固化剂为双氰胺,导电颗粒为金属镍粉;
(6)在导电胶层表面贴合保护膜,形成保护膜层,保护膜为PET表面含有氟树脂的复合膜。
实施例3:
一种高频电磁屏蔽膜,包括依次层叠的载体层、绝缘层、第一金属层、粘合层、第二金属层、导电胶层及保护膜层。其制备方法包括以下步骤:
(1)将PET非硅离型膜作为载体层置于涂布机中,在其表面涂抹一层改性环氧树脂,干燥后,形成绝缘层,绝缘层厚度为6μm,其中改性环氧树脂为湖南嘉盛德材料公司生产的BPNE3501L;
(2)通过真空蒸镀机在绝缘层表面真空蒸镀铜金属,形成第一金属层,第一金属层的厚度为1μm;
(3)通过涂布机在第一金属层表面涂布导电粘合材料,形成粘合层,粘合层的厚度为3μm,其中导电粘合材料为25份环氧树脂、10份固化剂及20份导电颗粒85℃加热融化搅拌均匀后的混合物,其中环氧树脂为NIPPON KAYAKU的XD1000,固化剂为CRAY VALLEYCHEMICAL公司的EF40;导电颗粒为金属铝粉;
(4)通过真空蒸镀机在粘合层表面真空蒸镀铜金属,形成第二金属层,第二金属层的厚度为2.0μm;
(5)通过涂布机在第二金属层表面涂布导电胶材料,形成导电胶层,导电胶层的厚度为8μm,其中导电胶材料为25份环氧树脂、8份固化剂及15份导电颗粒90℃加热融化搅拌均匀后的混合物,其中环氧树脂为深圳佳迪达新材料公司生产的HYPOX RK-8-4L PELLETS,固化剂为双氰胺,导电颗粒为金属铜粉;
(6)在导电胶层表面贴合保护膜,形成保护膜层,保护膜为PET表面含有氟树脂的复合膜。
实施例4:
一种高频电磁屏蔽膜,包括依次层叠的载体层、绝缘层、第一金属层、粘合层、第二金属层、导电胶层及保护膜层。其制备方法包括以下步骤:
(1)将PET非硅离型膜作为载体层置于涂布机中,在其表面涂抹一层改性环氧树脂,干燥后,形成绝缘层,绝缘层厚度为10μm,其中改性环氧树脂为KANEKA CORPORATION生产的MX-257;
(2)通过真空蒸镀机在绝缘层表面真空蒸镀铜金属,形成第一金属层,第一金属层的厚度为1μm;
(3)通过涂布机在第一金属层表面涂布导电粘合材料,形成粘合层,粘合层的厚度为2.5μm,其中导电粘合材料为25份环氧树脂、10份固化剂及20份导电颗粒85℃加热融化搅拌均匀后的混合物,其中环氧树脂为深圳佳迪达新材料公司的HYPOX RK-8-4L PELLETS,固化剂为CRAY VALLEY CHEMICAL公司的EF60;导电颗粒为金属镍粉;
(4)通过真空蒸镀机在粘合层表面真空蒸镀铜金属,形成第二金属层,第二金属层的厚度为1μm;
(5)通过涂布机在第二金属层表面涂布导电胶材料,形成导电胶层,导电胶层的厚度为6μm,其中导电胶材料为25份环氧树脂、8份固化剂及15份导电颗粒90℃加热融化搅拌均匀后的混合物,其中环氧树脂为湖南嘉盛德材料公司生产的DX7160,固化剂为双氰胺,导电颗粒为金属铝粉;
(6)在导电胶层表面贴合保护膜,形成保护膜层,保护膜为PET表面含有氟树脂的复合膜。
实施例5:
一种高频电磁屏蔽膜,包括依次层叠的载体层、绝缘层、第一金属层、粘合层、第二金属层、导电胶层及保护膜层。其制备方法包括以下步骤:
(1)将PET非硅离型膜作为载体层置于涂布机中,在其表面涂抹一层改性环氧树脂,干燥后,形成绝缘层,绝缘层厚度为7μm,其中改性环氧树脂为NIPPON KAYAKU生产的XD1000;
(2)通过真空蒸镀机在绝缘层表面真空蒸镀铜金属,形成第一金属层,第一金属层的厚度为0.7μm;
(3)通过涂布机在第一金属层表面涂布导电粘合材料,形成粘合层,粘合层的厚度为2.3μm,其中导电粘合材料为25份环氧树脂、10份固化剂及20份导电颗粒85℃加热融化搅拌均匀后的混合物,其中环氧树脂为NIPPON KAYAKU公司的XD1000,固化剂为CRAY VALLEYCHEMICAL公司的SMA1000;导电颗粒为导电铜粉;
(4)通过真空蒸镀机在粘合层表面真空蒸镀铜金属,形成第二金属层,第二金属层的厚度为1.5μm;
(5)通过涂布机在第二金属层表面涂布导电胶材料,形成导电胶层,导电胶层的厚度为5μm,其中导电胶材料为25份环氧树脂、8份固化剂及15份导电颗粒90℃加热融化搅拌均匀后的混合物,其中环氧树脂为南亚电子材料公司生产的NPES901,固化剂为双氰胺,导电颗粒为金属铜粉;
(6)在导电胶层表面贴合保护膜,形成保护膜层,保护膜为PET表面含有氟树脂的复合膜。
对比例1:
一种高频电磁屏蔽膜,包括依次层叠的载体层、绝缘层、粘合层、金属层、导电胶层及保护膜层。其制备方法包括以下步骤:
(1)将PET非硅离型膜作为载体层置于涂布机中,在其表面涂抹一层改性环氧树脂,干燥后,形成绝缘层,绝缘层厚度为6μm,其中改性环氧树脂为湖南嘉盛德材料公司生产的BPNE3501L;
(2)通过涂布机在绝缘层表面涂布导电粘合材料,形成粘合层,粘合层的厚度为3μm,其中导电粘合材料为25份环氧树脂、10份固化剂及20份导电颗粒85℃加热融化搅拌均匀后的混合物,其中环氧树脂为NIPPON KAYAKU的XD1000,固化剂为CRAY VALLEY CHEMICAL公司的EF40;导电颗粒为金属铝粉;
(3)通过真空蒸镀机在粘合层表面真空蒸镀铜金属,形成金属层,金属层的厚度为2.0μm;
(4)通过涂布机在金属层表面涂布导电胶材料,形成导电胶层,导电胶层的厚度为8μm,其中导电胶材料为25份环氧树脂、8份固化剂及15份导电颗粒90℃加热融化搅拌均匀后的混合物,其中环氧树脂为深圳佳迪达新材料公司生产的HYPOX RK-8-4L PELLETS,固化剂为双氰胺,导电颗粒为金属铜粉;
(5)在导电胶层表面贴合保护膜,形成保护膜层,保护膜为PET表面含有氟树脂的复合膜。
对比例2:
一种高频电磁屏蔽膜,包括依次层叠的载体层、绝缘层、金属层、粘合层、导电胶层及保护膜层。其制备方法包括以下步骤:
(1)将PET非硅离型膜作为载体层置于涂布机中,在其表面涂抹一层改性环氧树脂,干燥后,形成绝缘层,绝缘层厚度为6μm,其中改性环氧树脂为湖南嘉盛德材料公司生产的BPNE3501L;
(2)通过真空蒸镀机在绝缘层表面真空蒸镀铜金属,形成金属层,金属层的厚度为1μm;
(3)通过涂布机在金属层表面涂布导电粘合材料,形成粘合层,粘合层的厚度为3μm,其中导电粘合材料为25份环氧树脂、10份固化剂及20份导电颗粒85℃加热融化搅拌均匀后的混合物,其中环氧树脂为NIPPON KAYAKU的XD1000,固化剂为CRAY VALLEY CHEMICAL公司的EF40;导电颗粒为金属铝粉;
(4)通过涂布机在粘合层表面涂布导电胶材料,形成导电胶层,导电胶层的厚度为8μm,其中导电胶材料为25份环氧树脂、8份固化剂及15份导电颗粒90℃加热融化搅拌均匀后的混合物,其中环氧树脂为深圳佳迪达新材料公司生产的HYPOX RK-8-4L PELLETS,固化剂为双氰胺,导电颗粒为金属铜粉;
(5)在导电胶层表面贴合保护膜,形成保护膜层,保护膜为PET表面含有氟树脂的复合膜。
对比例3:
市售同类型单层金属层电磁屏蔽膜,其金属层厚度为3-5μm。
试验例:
分别对实施例1-5及对比例1-3的电磁屏蔽膜做屏蔽值测试、接地电阻测试、热冲击测试及剥离强度测试,其中屏蔽值测试方法依照GB/T 30142-2013。
接地电阻测试方法为:电磁屏蔽膜样片贴合FPC测试片,用快压机压合之后测试,160℃熟化1hr测试,然后拿到SMT回流焊设定峰值温度288℃过炉1次。用万用表根据接地点不同孔径测量阻值。
热冲击测试方法为:将基材和覆盖膜结合好的FPC贴上电磁屏蔽膜,用快压机压合,设定参数:温度180度,预压10秒,成型90秒,压力100KG进行压合,撕掉电磁屏蔽膜表层离型膜,将FPC剪成50MM*50MM的大小,然后放进恒温锡炉10秒取出连续3次,锡炉温度设定288度,观察电磁屏蔽膜外观变化。
剥离强度测试方法为:覆盖膜贴合在已压好的电磁屏蔽膜的绝缘层上压合(180℃,100kg,90sec),快压后烘烤(160℃,60分钟)将样品切割成1CM样品,用拉力机测试其剥离强度。
测试结果见表1。
表1.实施例1-5及对比例1-3的电磁屏蔽膜性能测试结果
由表1可知,本发明的电磁屏蔽膜屏蔽效能达到85dB以上,最高能达到98.5dB,且其接地电阻1.0mm孔径阻值小于0.1Ω,最小能达到0.072Ω,尤其当本发明的电磁屏蔽膜的粘合层为导电粘合材料制成时,更加有利于两金属层间导电,避免形成电容,使其具有更小的接地电阻,其剥离强度大于0.8kgf/cm,最高能达到1.06kgf/cm,此外其在热冲击测试中,无变形、无剥落,说明其具有较强的抗热冲击性能。
同时对比实施例3与对比例1-2可知,当本发明的电磁屏蔽膜的层结构发生变化,仅仅具有一层金属层时,其屏蔽效能会大幅下降,接地电阻阻值会变大,热冲击性能及剥离强度都会降低;对比实施例3与对比例3可知,本发明的电磁屏蔽膜的各项性能均优于市售的同类型产品,尤其在电磁屏蔽效能这一项,本发明的电磁屏蔽膜两层金属层厚度之和仅为1.5-3.0μm,但其电磁屏蔽效能远大于市售的金属层厚度为3-5μm的单层金属层电磁屏蔽膜。
上述实施例为本发明较佳的实施方式,但本发明的实施方式并不受上述实施例的限制,其他的任何未背离本发明的精神实质与原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化,均应为等效的置换方式,都包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种高频电磁屏蔽膜,其特征在于:包括依次层叠的载体层、绝缘层、第一金属层、粘合层、第二金属层、导电胶层及保护膜层。
2.根据权利要求1所述的一种高频电磁屏蔽膜,其特征在于:所述载体层为PET非硅离型膜。
3.根据权利要求1所述的一种高频电磁屏蔽膜,其特征在于:所述绝缘层由改性环氧树脂、改性聚氨酯、改性丙烯酸酯中的一种制成。
4.根据权利要求3所述的一种高频电磁屏蔽膜,其特征在于:所述绝缘层的厚度为3-12μm。
5.根据权利要求1所述的一种高频电磁屏蔽膜,其特征在于:所述第一金属层由铝、镍、铜、银、金中的一种制成;所述第二金属层由铝、镍、铜、银、金中的一种制成。
6.根据权利要求5所述的一种高频电磁屏蔽膜,其特征在于:所述第一金属层的厚度为0.2-3μm,所述第二金属层的厚度为0.2-3μm,且第一金属层与第二金属层的厚度之和大于1.5μm。
7.根据权利要求1所述的一种高频电磁屏蔽膜,其特征在于:所述粘合层由导电粘合材料制成。
8.根据权利要求7所述的一种高频电磁屏蔽膜,其特征在于:所述粘合层的厚度为0.5-5μm。
9.根据权利要求1所述的一种高频电磁屏蔽膜,其特征在于:所述导电胶层的厚度为3-10μm。
10.一种如权利要求1至9任一项所述高频电磁屏蔽膜的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:
(1)在载体层表面涂布绝缘物料,干燥,形成绝缘层;
(2)在绝缘层表面真空蒸镀导电金属,形成第一金属层;
(3)在第一金属层表面涂布粘合材料,形成粘合层;
(4)在粘合层表面真空蒸镀导电金属,形成第二金属层;
(5)在第二金属层表面涂布导电胶材料,形成导电胶层;
(6)在导电胶层表面贴合保护膜,形成保护膜层。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202010636548.0A CN111806013A (zh) | 2020-07-03 | 2020-07-03 | 一种高频电磁屏蔽膜及其制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202010636548.0A CN111806013A (zh) | 2020-07-03 | 2020-07-03 | 一种高频电磁屏蔽膜及其制备方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN111806013A true CN111806013A (zh) | 2020-10-23 |
Family
ID=72856039
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202010636548.0A Pending CN111806013A (zh) | 2020-07-03 | 2020-07-03 | 一种高频电磁屏蔽膜及其制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN111806013A (zh) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102047777A (zh) * | 2008-05-30 | 2011-05-04 | 大自达电线股份有限公司 | 电磁波屏蔽材料及印刷电路板 |
CN102510712A (zh) * | 2011-11-14 | 2012-06-20 | 广州方邦电子有限公司 | 一种极高屏蔽效能的极薄屏蔽膜及其制作方法 |
CN104853576A (zh) * | 2015-05-13 | 2015-08-19 | 东莞市万丰纳米材料有限公司 | 超高屏蔽性能的电磁屏蔽膜及其生产工艺 |
US20200084923A1 (en) * | 2018-01-24 | 2020-03-12 | Henan Guoan Electronic Material Co., Ltd. | Electromagnetic wave shielding film and manufacturing method and application thereof |
CN111163623A (zh) * | 2019-07-05 | 2020-05-15 | 海宁卓泰电子材料有限公司 | 一种多层金属结构的屏蔽膜 |
-
2020
- 2020-07-03 CN CN202010636548.0A patent/CN111806013A/zh active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102047777A (zh) * | 2008-05-30 | 2011-05-04 | 大自达电线股份有限公司 | 电磁波屏蔽材料及印刷电路板 |
CN102510712A (zh) * | 2011-11-14 | 2012-06-20 | 广州方邦电子有限公司 | 一种极高屏蔽效能的极薄屏蔽膜及其制作方法 |
CN104853576A (zh) * | 2015-05-13 | 2015-08-19 | 东莞市万丰纳米材料有限公司 | 超高屏蔽性能的电磁屏蔽膜及其生产工艺 |
US20200084923A1 (en) * | 2018-01-24 | 2020-03-12 | Henan Guoan Electronic Material Co., Ltd. | Electromagnetic wave shielding film and manufacturing method and application thereof |
CN111163623A (zh) * | 2019-07-05 | 2020-05-15 | 海宁卓泰电子材料有限公司 | 一种多层金属结构的屏蔽膜 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9609792B2 (en) | Electromagnetic wave shielding film and method for producing a circuit board comprising the shielding film | |
JP2020516052A (ja) | 電磁シールドフィルム、回路基板及び電磁シールドフィルムの製造方法 | |
WO2019144564A1 (zh) | 一种电磁波屏蔽膜及其制备方法和应用 | |
CN210840538U (zh) | 一种具有散热-导电层的电磁屏蔽膜 | |
CN207885103U (zh) | 一种电磁波屏蔽膜 | |
CN114670512B (zh) | 一种含玻纤布的聚四氟乙烯柔性覆铜板及其制备方法 | |
CN102300399B (zh) | 一种多功能叠层电子膜及其制作方法 | |
CN110769587A (zh) | 电磁屏蔽膜、线路板及电磁屏蔽膜的制备方法 | |
CN111826617A (zh) | 电磁波屏蔽膜及其制备方法 | |
CN210725882U (zh) | 一种具有散热功能的电磁屏蔽膜 | |
CN213029050U (zh) | 一种复合散热膜 | |
CN1705045A (zh) | 真空溅射制备柔性导电材料的工艺方法 | |
CN111806013A (zh) | 一种高频电磁屏蔽膜及其制备方法 | |
KR20060124505A (ko) | 연성금속 적층판 및 그 제조방법 | |
CN112825616A (zh) | 3d电磁屏蔽件及其制备方法 | |
CN110769667B (zh) | 电磁屏蔽膜、线路板及电磁屏蔽膜的制备方法 | |
CN111465217A (zh) | 5g通信用高频柔性基板的制作方法 | |
CN203157257U (zh) | 具有电磁屏蔽效应的复合式铜箔基板 | |
CN110784987A (zh) | 自由接地膜、线路板及自由接地膜的制备方法 | |
TW201930076A (zh) | 高頻高傳輸雙面銅箔基板、用於軟性印刷電路板之複合材料及其製法 | |
CN210432331U (zh) | 一种具有绝缘结构层的电磁屏蔽膜 | |
CN112770489B (zh) | 一种铁氟龙双面覆铜板及制备方法 | |
CN108022696A (zh) | 一种石墨烯薄膜的焊接方法 | |
CN114286581A (zh) | 一种复合散热膜及其制备方法 | |
CN114245569B (zh) | 一种lcp基高频超高频柔性线路板制造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20201023 |
|
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |