CN111725285B - 一种显示面板和显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例提供一种显示面板和显示装置。显示面板的显示区包括第一显示区和第二显示区,第一显示区的子像素密度小于第二显示区的子像素密度。在第一显示区内设置遮光结构,一个遮光结构与至少一个第一子像素的发光区交叠,并且在遮光结构构成的遮光结构组中包括形状相同的主遮光结构和副遮光结构。在同一个俯视角度观看时,副遮光结构相当于是主遮光结构在其所在平面旋转一定角度后得到的。采用本发明的设计后能够实现光线在主遮光结构周围的衍射方向与光线在副遮光结构周围的衍射方向不同,增加光线在遮光结构周围的衍射方向,降低每个衍射方向上的衍射强度,从而改善衍射现象,提升屏下光学模组的成像质量。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板和显示装置。
背景技术
对于电子产品来说,前置摄像头等模组的设置必然会在显示屏正面占据一定的空间,从而影响屏占比。而为了实现真正的全面屏,研究人员考虑屏下模组的实现方案。将光学模组比如摄像头设置在显示面板的发光器件的下方,即将光学模组设置在显示区内,光学模组所在的位置能够正常显示,当需要使用光学模组时,光线穿透显示面板到达光学模组最终被光学模组利用。目前的屏下光学模组方案在应用时,屏下光学模组的成像效果仍然较差,难以满足用户的需求。
发明内容
本发明实施例提供一种显示面板和显示装置,以解决现有技术中屏下光学模组的成像效果差的问题,改善屏下光学模组的成像效果,提升用户体验。
第一方面,本发明实施例提供一种显示面板,显示面板的显示区包括第一显示区和第二显示区,显示区包括多个子像素,多个子像素包括多个第一子像素和多个第二子像素,多个第一子像素位于第一显示区,多个第二子像素位于第二显示区,多个第一子像素的密度小于多个第二子像素的密度;其中,
显示面板包括衬底基板、以及位于衬底基板之上的遮光结构阵列,遮光结构阵列位于第一显示区,遮光结构阵列包括多个遮光结构,在垂直于显示面板方向上,一个遮光结构与至少一个第一子像素的发光区交叠;
遮光结构阵列包括至少一个遮光结构组,遮光结构组包括主遮光结构和至少一个副遮光结构,主遮光结构在衬底基板的正投影为主投影,副遮光结构在衬底基板的正投影为副投影,主投影和副投影的形状相同;
主投影包括主顶角,副投影包括副顶角,主顶角和副顶角互为对应角;其中,
主投影的重心作为起点、主顶角作为终点构成主向量;
在一个副投影中:副投影的重心作为起点、副顶角作为终点构成副向量;主向量的方向和副向量的方向不同。
基于同一发明构思,第二方面,本发明实施例还提供一种显示装置,包括本发明任意实施例提供的显示面板。
本发明实施例提供的显示面板和显示装置,具有如下有益效果:在显示区内设置第一显示区和第二显示区,第一显示区的子像素密度小于第二显示区的子像素密度,则第一显示区的透光率变大,能够应用在屏下光学模组方案中,将光学模组设置在第一显示区对应的下方,保证光学模组能够接收到足够多的光量,以满足其光学性能对光量的需求。同时在第一显示区内设置遮光结构,一个遮光结构与至少一个第一子像素的发光区交叠,并且在遮光结构组中包括形状相同的主遮光结构和副遮光结构。在同一个俯视角度观看时,副遮光结构相当于是主遮光结构在其所在平面旋转一定角度后得到的,从而主遮光结构和副遮光结构中对应边的延伸方向不同。则光线在主遮光结构周围的衍射方向与光线在副遮光结构周围的衍射方向不同。采用本发明的设计后能够增加光线在遮光结构周围的衍射方向,降低每个衍射方向上的衍射强度,从而改善衍射现象,提升屏下光学模组的成像质量。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本发明的一些实施例,对于本领域技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的显示面板的俯视示意图;
图2为图1中区域Q位置处一种放大示意图;
图3为图2中切线H-H′位置处一种截面简化示意图;
图4为本发明实施例中第一显示区的局部俯视示意图;
图5为相关技术中光线衍射原理示意图;
图6为本发明实施例中光线在遮光结构周围衍射原理示意图;
图7为本发明实施例中遮光结构组内遮光结构的一种示意图;
图8为本发明实施例中遮光结构组内遮光结构的另一种示意图;
图9为本发明实施例中遮光结构组内遮光结构的另一种示意图;
图10为本发明实施例中第一显示区内遮光结构组一种排布方式示意图;
图11为本发明实施例中第一显示区内遮光结构组另一种排布方式示意图;
图12为本发明实施例中遮光结构的另一种示意图;
图13为本发明实施例中第一显示区内遮光结构的一种排布方式示意图;
图14为本发明实施例中第一显示区内遮光结构另一种排布方式示意图;
图15为本发明实施例中第一显示区内遮光结构另一种排布方式示意图;
图16为本发明实施例中第一显示区内遮光结构另一种排布方式示意图;
图17为本发明实施例遮光结构组中遮光结构另一种排布方式示意图;
图18为本发明实施例中第一显示区内遮光结构另一种排布方式示意图;
图19为图1中区域Q位置处另一种放大示意图;
图20为图19中切线M-M′位置处截面示意图;
图21为图2中切线H-H′位置处另一种截面简化示意图;
图22为本发明实施例提供的显示装置示意图。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
在本发明实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的,而非旨在限制本发明。在本发明实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式,除非上下文清楚地表示其他含义。
显示装置的显示区包括像素发光区、金属走线区等非透光区域,而在采用屏下光学模组的设计时,光线只能穿透显示面板的透光区才能被光学模组所接收。显示区内相邻的金属走线之间的透光区或者部分相邻像素发光区之间的透光区的尺寸较小,透光区的尺寸接近可见光的波长,则光线在穿透该透光区时会出现严重的衍射现象,由此导致屏下光学模组的成像质量较差。
本发明实施例中,通过对光学模组对应的显示区内的非透光区域的结构进行设计,以改善光线穿透显示面板(本发明中显示面板中第一显示区)时产生的衍射现象,提升屏下光学模组的成像质量。本发明实施例中在第一显示区内设置多个遮光结构构成的遮光结构阵列,遮光结构阵列包括遮光结构组,在遮光结构组中:遮光结构的形状相同,且不同的遮光结构均相当于由同一个遮光结构在其所在平面内进行不同角度的旋转得到的。也就是说,在同一个俯视角度观看时,在遮光结构组中,形状相同的遮光结构的对应角的位置不同,则形状相同的遮光结构的对应边(对于对应边的理解可参考下述具体实施例中的说明)的延伸方向不同。则光线在遮光结构的对应边周围的衍射方向不同,从而能够增加衍射方向,降低衍射效果,提升屏下光学模组的成像质量。下面将以具体的实施例对本发明进行举例说明。
图1为本发明实施例提供的显示面板的俯视示意图,图2为图1中区域Q位置处一种放大示意图,图3为图2中切线H-H′位置处一种截面简化示意图,图4为本发明实施例中第一显示区的局部俯视示意图。
如图1所示,显示面板的显示区AA包括第一显示区AA1和第二显示区AA2,图1中仅以第二显示区AA2围绕第一显示区AA1为例。在另一种实施例中,第一显示区的一侧与非显示区相邻,第二显示区半围绕第一显示区。在另一种实施例中,显示区还包括第三显示区,第三显示区至少半围绕第二显示区设置。另外,本发明实施例对于第一显示区的形状不做任何限定,第一显示区可以为圆形或者任意多边形。
如图2所示的,显示区AA包括多个子像素sp,多个子像素sp包括多个第一子像素sp1和多个第二子像素sp2,多个第一子像素sp1位于第一显示区AA1,多个第二子像素sp2位于第二显示区AA2,多个第一子像素sp1的密度小于多个第二子像素sp2的密度;也就是说第一显示区AA1的子像素密度小于第二显示区AA2的子像素密度,本发明实施例提供的显示面板应用在屏下光学模组方案中时,将光学模组设置在第一显示区对应的下方,由于第一显示区的子像素密度减小,则第一显示区的透光区域的面积会相应变大,从而能够增大光线穿透第一显示区的透过率,相应的,光学模组能够接收的光量变大,有利于提升光学模组的成像效果。可选的,在显示区还包括第三显示区的实施方式中,第三显示区的子像素密度大于第二显示区的子像素密度。
显示面板还包括位于第一显示区AA1的遮光结构阵列,如图2中示意出了局部的遮光结构阵列,遮光结构阵列包括多个遮光结构Z。在显示面板中,遮光结构阵列位于衬底基板之上,也即多个遮光结构均位于衬底基板之上。如图3的截面图示意的,显示面板包括衬底基板101、遮光结构Z位于衬底基板之上。在本发明实施例中,在垂直于显示面板方向上,一个遮光结构Z与至少一个第一子像素sp1的发光区F交叠。如图3所示的,示意出了位于衬底基板101之上的阵列层102,可选的,遮光结构Z位于阵列层102。第一子像素sp1包括阳极a、发光层b和阴极c,在阳极a和阴极c分别施加电压之后,发光层b受激发发出光线,则第一子像素sp1的发光区F的面积基本等于第一子像素sp1的发光层b的面积,也就是说,发光区F与发光层b相对应。图2中仅以一个遮光结构Z与一个第一子像素sp1的发光区F交叠进行示意,可选的,一个遮光结构与两个或者三个第一子像素的发光区交叠;与同一个遮光结构交叠的发光区的个数可以根据具体的设计需求进行设定。本发明实施例中,对于第一子像素的发光区的形状不做限定,第一子像素的发光区的形状可以与遮光结构的形状相同,也可以不同。如图3中示意的,显示面板还包括封装层103和盖板104,其中,封装层103用于对子像素中的发光层进行保护,以隔绝水氧。可选的,封装层103包括至少一层有机封装层和至少一层无机封装层。可选的,在封装层103和盖板104之间还设置有触控结构层(图中未标示),触控结构层用于实现显示面板的触控功能。
另外,本发明实施例中定义的遮光结构也即能够对光线造成遮挡的结构,也就是说应用在屏下光学模组方案中时,光线不能穿透遮光结构而被光学模组所利用。在一种实施例中,遮光结构为第一显示区中额外增加的结构层,则为了保证第一显示区的正常发光显示,如图3中示意的,遮光结构Z位于第一子像素sp1的发光层b的靠近衬底基板101的一侧。可选的,本发明实施例中第一子像素的阳极为反射阳极,发光层发出的射向阳极的光线能够被阳极反射后、再经由阴极射出,从而能够提升第一子像素的出光效率,在另一种实施例中第一子像素的阳极复用为遮光结构,对于该种实施方式将在下文具体的实施例中进行说明。
继续参考图2所示的,遮光结构阵列包括至少一个遮光结构组ZZ,遮光结构组ZZ包括主遮光结构Za和至少一个副遮光结构Zb(图中仅标示出两个),主遮光结构Za在衬底基板101的正投影为主投影Ya,副遮光结构Zb在衬底基板101的正投影为副投影Yb,主投影Ya和副投影Yb的形状相同。也就是说,属于同一个遮光结构组ZZ的遮光结构Z在衬底基板上的正投影形状均相同。图2为俯视示意图,俯视方向与遮光结构向衬底基板的投影方向相同,在俯视角度观看时,主遮光结构Za与其主投影Ya重合,副遮光结构Zb与其副投影Yb重合。本发明实施例中遮光结构的投影形状可以为任意多边形,比如三角形、四边形、五边形、六边形等。图2中仅以遮光结构的正投影为正方形为例。而且在遮光结构阵列中所有的遮光结构在衬底基板的正投影的形状不一定均相同,也就是说,分别属于两个遮光结构组的遮光结构在衬底基板的正投影的形状可以不同。
需要理解的是,在本发明实施例中定义的主遮光结构和副遮光结构为两个相对的概念,是对同一个遮光结构组中的不同的遮光结构的命名。也就是,在同一个遮光结构组中,把其中一个遮光结构看成是主遮光结构,那么其他的遮光结构相对于这个主遮光结构来说都是副遮光结构。在一个遮光结构组中,主遮光结构仅有一个,而副遮光结构可以有两个或者多个。同样的,主投影和副投影也是两个相对的概念,只有属于同一个遮光结构组的两个遮光结构在衬底基板的正投影才能被分别称为主投影、副投影。
如图4的简化示意图,仅示意出了主投影Ya和一个副投影Yb,以投影形状为正方形为例,其中,主投影Ya包括主顶角∠A,主顶角∠A的顶点为A;副投影Yb包括副顶角∠B,副顶角∠B的顶点为B。主顶角∠A和副顶角∠B互为对应角;其中,对应角的定义可以参照几何数学中的定义。在两个相似图形或者两个全等图形中,对应相等的角及其顶点分别是它们的对应角和对应顶点,在两个对应角之间的边即为对应边,对应边也可以说成连接两个对应顶点的边。另外,还需要说明的是,在本发明实施例中,主投影和副投影的形状相同,而主投影和副投影的面积可以相同,也可以不同。也就是说,主投影和副投影可以为全等图形,也可以为相似图形。
主投影Ya的重心Oa作为起点、主顶角∠A作为终点构成主向量i,主向量i表示为在一个副投影Yb中:副投影Yb的重心Ob作为起点、副顶角∠B作为终点构成副向量j,副向量j表示为图中,主向量i和副向量j均以加粗实线进行示意,由图4中可以看出,主向量的方向和副向量的方向不同。对于重心的概念可参照物体的重心来理解。对于正多边形来说,其重心与几何中心重合。对于非规则多边形来说,可以采用悬挂法来确定其重心的位置。比如采用与非规则多边形形状相同且密度均一的物体(比如薄板)进行悬挂测试,在物体上找一点,用绳悬挂,划出物体静止后的重力线,同理再找一点悬挂,两条重力线的交点就是物体重心。非规则图形的重心位置与测试物体的重心位置相同。
主投影Ya的形状和副投影Yb的形状相同,但是主向量的方向和副向量的方向不同,由图中也可以看出,副投影Yb图形相当于是主投影Ya图形在投影所在平面进行旋转一定角度后得到的。由于在俯视角度观看显示面板时,主遮光结构Za与其主投影Ya重合,副遮光结构Zb与其副投影Yb重合,所以也可以说,副遮光结构Zb和主遮光结构Za的形状相同,副遮光结构Zb可以看成是主遮光结构Za在遮光结构所在平面旋转一定角度后得到的。也就是说,虽然副遮光结构Zb和主遮光结构Za的形状相同,但是在俯视且在同一个角度观看时,副遮光结构Zb和主遮光结构Za中对应角(相互对应的∠A和∠B)的位置不同。其中,对于规则形状的遮光结构来说,在俯视且在同一个角度观看时,副遮光结构和主遮光结构中任意对应边(参见图4中用∥标示出的一组对应边)的延伸方向不同;对于非规则形状的遮光结构来说,在俯视且在同一个角度观看时,副遮光结构和主遮光结构中可能存在部分的对应边的延伸方向相同的情况,此种情况下,副遮光结构仍然可以看成是主遮光结构在遮光结构所在平面旋转一定角度后得到的,所以也在本发明保护的范围之内。
以图4示意的为例,当主遮光结构Za和副遮光结构Zb的面积相同时,主遮光结构Za以其重心为轴,在纸面所在平面旋转一定角度之后,然后在图中e方向上移动到副遮光结构Zb所在位置,能够与副遮光结构Zb完全重合。
图5为相关技术中光线衍射原理示意图,图6为本发明实施例中光线在遮光结构周围衍射原理示意图。
如图5所示,相关技术中遮光的结构主要为子像素sp′,且在显示面板中子像素sp′规则排布。以子像素sp′为正方形为例,光线在穿透显示面板时,沿子像素sp′的四个边的法线方向发生衍射。将子像素sp′看成是没有厚度的遮光的结构,边的法线方向即为在子像素sp′所在平面内与边垂直的方向。光线在穿透相关技术中显示面板时,主要沿4个方向发生衍射。
如图6所示,以本发明实施例中遮光结构Z的形状与相关技术中子像素sp′的形状相同为例,主遮光结构Za在遮光结构所在平面旋转一定角度后得到的副遮光结构Zb的图形。图中,主遮光结构Za顺时针方向旋转30°得到一个副遮光结构Zb-1的图形,主遮光结构Za顺时针方向旋转60°得到另一个副遮光结构Zb-2的图形,当主遮光结构Za旋转90°时与其原来的图形重合,可以看出,在同一个俯视角度观看时,主遮光结构Za和副遮光结构Zb的对应边(图中以∥标示了一组对应边)的延伸方向不同,则在对应边周围发生衍射的衍射方向不同。光线在穿透本发明实施例提供的显示面板时,光线沿遮光结构的边的法线方向发生衍射,最终光线沿12个方向发生衍射。可见,光线在主遮光结构周围的衍射方向与光线在副遮光结构周围的衍射方向不同。采用本发明的设计后能够增加光线在遮光结构周围的衍射方向,降低每个衍射方向上的衍射强度,从而改善衍射现象,提升屏下光学模组的成像质量。
本发明实施例中,遮光结构组包括n个副遮光结构,n≥2,且n为整数。即一个遮光结构组内可以包括2个或2个以上数量的副遮光结构,副遮光结构均是主遮光结构在其所在平面内进行不同角度的旋转得到的图形。下面对本发明实施例中,遮光结构组内的遮光结构的可选设置方式进行举例说明。在俯视角度观看时,遮光结构与其在衬底基板上的正投影重合,所以在下述实施例附图中,除必要情况外,将不再对遮光结构的正投影进行标示。另外,下述实施例中,在同一个遮光结构组中,主遮光结构对应的主向量用i表示,副遮光结构对应的副向量用j表示。在下述实施例附图中均在图形中采用加粗的箭头表示相应的向量方向。
在一种实施例中,图7为本发明实施例中遮光结构组内遮光结构的一种示意图,如图7所示,遮光结构Z的形状为正方形为例,图7仅为了示意遮光结构组中遮光结构的图形,并不表示显示面板中遮光结构组内遮光结构的实际排布方式。示意出了主遮光结构Za、主向量i的起点为重心Oa,终点为主顶角∠A的顶点A,以n=5为例,示意出了5个副遮光结构Zb以及它们分别对应的副顶角∠B的顶点B,每个副遮光结构Zb均对应一个副向量。5个副遮光结构分别为Zb-1、Zb-2、Zb-3、Zb-4、Zb-5,它们分别对应的副向量为j1、j2、j3、j4、j5。可以看出,5个副遮光结构Zb分别对应的5个副向量的方向均与主向量的方向不同,而5个副遮光结构中有两个副遮光结构Zb-1和Zb-5对应的副向量的方向是相同的。也就是说,在一些实施例中一个遮光结构组中可以包括副向量方向相同的副遮光结构。在显示面板的第一显示区内,可以通过对遮光结构组中的多个副遮光结构和一个主遮光结构的相对位置关系进行排布设计,在光线穿透该遮光结构组时,增加了衍射光线在遮光结构周围的衍射方向,降低每个衍射方向上的衍射强度,从而改善衍射现象,提升屏下光学模组的成像质量。
在一种实施例中,图8为本发明实施例中遮光结构组内遮光结构的另一种示意图,如图8所示,示意出了主遮光结构Za和5个副遮光结构Zb,5个副遮光结构分别为Zb-1、Zb-2、Zb-3、Zb-4、Zb-5,它们分别对应的副向量为j1、j2、j3、j4、j5。5个副遮光结构Zb分别对应的5个副向量的方向均与主向量i的方向不同,且5个副遮光结构Zb中任意两个副遮光结构Zb分别对应的两个副向量的方向不同。图8仅示意遮光结构组中遮光结构的图形,并不表示显示面板中遮光结构组内遮光结构的实际排布方式。该实施方式中,任意两个副遮光结构的对应角的位置不同,相应的对应边的延伸方向也不同,从而光线在副遮光结构的对应边周围的衍射方向不同。在显示面板的第一显示区内,可以通过对遮光结构组中的多个副遮光结构和一个主遮光结构的相对位置关系进行排布设计,在光线穿透该遮光结构组时,不同的遮光结构周围的光线的衍射方向均不同,较大程度的增加了光线的衍射方向,从而降低每个衍射方向上的衍射强度,改善衍射现象,提升屏下光学模组的成像质量。
具体的,副向量与主向量的夹角为转角,根据数学科学中关于向量夹角的定义,两个向量之间的夹角的范围为0°~π,包括端点值。而在本发明实施例中,副向量和主向量的方向不同,则副向量与主向量的夹角范围为大于0°且小于等于π。也即本发明实施例中,转角的大小范围为:大于0°且小于等于π。主向量的方向与副向量的方向之间的关系为:主向量旋转与转角大小相同的角度之后,旋转后的主向量方向与副向量方向相同。则主遮光结构与副遮光结构的关系为:主遮光结构在其所在平面内旋转与转角大小相同的角度,旋转后的主遮光结构和副遮光结构的对应角的位置相同。
进一步的,本发明实施例中转角的大小还与遮光结构的具体形状有关。在一种实施例中,遮光结构的形状为正多边形,比如正三角形,正三角形的主遮光结构在其所在平面内绕其重心旋转120°后与其原来的图形重合,由于副向量与主向量方向不同,此时,副向量与主向量之间的夹角小于120°,也即转角的范围小于120°。在另一种实施例中,遮光结构的形状为非规则多边形,则一般情况下,主遮光结构在其所在平面内绕其重心旋转360°后才能与其原来的图形重合,该种情况下,副向量与主向量之间的夹角小于等于180°,也即转角的范围小于等于180°。
继续参考图8所示的,在一个遮光结构组中,以n=5为例,5个副遮光结构分别对应的转角的大小不同。即5个副遮光结构Zb-1、Zb-2、Zb-3、Zb-4、Zb-5分别对应的副向量为j1、j2、j3、j4、j5,每个副向量均与主向量i之间具有一个转角,该实施方式中,5个转角的大小不同,也即主遮光结构在其所在平面内旋转5个不同的角度后,得到图中5个副遮光结构。该实施方式中,各个副遮光结构相当于是主遮光结构进行不同角度的旋转得到的,各个副遮光结构的对应边的延伸方向不同,从而光线在副遮光结构的对应边周围的衍射方向均不同。在光线穿透该遮光结构组时,光线在每个遮光结构周围的衍射方向均不同,增加了光线的衍射方向,减小光线在每个衍射方向上的衍射强度,从而改善衍射现象。并且在设计时可以通过对旋转角度(也即转角的大小)进行设计,以调整光线在遮光结构周围的衍射方向。该实施方式图8仅以遮光结构的形状为正多边形进行示意,可选的,该实施方式同样适用于遮光结构的形状为非规则图形的情况。
在一种实施例中,图9为本发明实施例中遮光结构组内遮光结构的另一种示意图,如图9所示,示意出了主遮光结构Za和5个副遮光结构Zb-1、Zb-2、Zb-3、Zb-4和Zb-5。5个副遮光结构分别对应的5个副向量(j1、j2、j3、j4、j5)的方向均与主向量i的方向不同,且5个副遮光结构Zb中任意两个副遮光结构Zb分别对应的两个副向量的方向不同。其中,遮光结构组包括第一副遮光结构Zb-1和第二副遮光结构Zb-2,第一副遮光结构Zb-1的转角α1和第二副遮光结构Zb-2的转角α2的大小相同。也即,第一副遮光结构Zb-1的副向量j1和主向量i的夹角与第二副遮光结构Zb-2的副向量j2和主向量i的夹角相等。可以理解为,主遮光结构Za在其所在平面内,顺时针旋转α1角度之后得到第一副遮光结构Zb-1的图形;主遮光结构Za在其所在平面内,逆时针旋转α2角度之后得到第二副遮光结构Zb-2的图形,其中,α1=α2。也可以理解为,主遮光结构Za在其所在平面内,顺时针旋转α1角度之后得到第一副遮光结构Zb-1的图形;主遮光结构Za在其所在平面内,顺时针旋转360°-α1角度之后得到第二副遮光结构Zb-2的图形。该实施方式应用于包括非规则图形的遮光结构的显示面板中,第一副遮光结构和第二副遮光结构分别是主遮光结构进行不同程度的旋转得到的,第一副遮光结构和第二副遮光结构分别对应的副向量的方向不同,但是,两个副向量与主向量之间的夹角相同。此种情况下,第一副遮光结构和第二副遮光结构的部分对应边(如图中以∥标示出一组对应边)的延伸方向不同,光线在第一副遮光结构和第二副遮光结构的延伸方向不同的对应边周围的发生衍射的衍射方向不同,同样能够在一定程度上增加光线的衍射方向,降低每个衍射方向上的衍射强度,从而改善衍射现象,提升屏下光学模组的成像质量。
在一种实施例中,图10为本发明实施例中第一显示区内遮光结构组一种排布方式示意图,如图10所示,至少一个遮光结构组包括第一遮光结构组ZZ1;仍然以遮光结构形状为正方形进行示意,在第一遮光结构组ZZ1中:主遮光结构Za和3个(也即n=3)副遮光结构Zb沿第一方向x排列,3个副遮光结构分别为Zb-1、Zb-2、Zb-3,主遮光结构Za对应的主向量为i,3个副遮光结构分别为Zb-1、Zb-2、Zb-3对应的副向量分别为j1、j2、j3。图中示意,副向量j1与主向量i之间的夹角为β1、副向量j2与主向量i之间的夹角为β2、副向量j3与主向量i之间的夹角为β3,其中,β1<β2<β3,也即沿第一方向x排列的3个副遮光结构Zb分别对应的副向量与主向量的夹角逐渐变大。定义副向量与主向量的夹角为转角,也即,在第一遮光结构组ZZ1中:沿第一方向x排列的3个副遮光结构Zb分别对应的转角逐渐变大。在另一种实施例中,也可以是沿第一方向x排列的n个副遮光结构Zb分别对应的转角逐渐变小,在此不再附图示意。该实施方式中,属于同一遮光结构组的多个遮光结构沿同一个方向排列,且在排列方向上,副遮光结构对应的副向量与主遮光结构对应的主向量的夹角逐渐变化。能够增加光线在遮光结构周围的衍射方向,同时,遮光结构组中的遮光结构具有一定规律性,降低了遮光结构排布的复杂度,有利于简化遮光结构工艺难度。
进一步的,图11为本发明实施例中第一显示区内遮光结构组另一种排布方式示意图,如图11所示,在第一遮光结构组ZZ1中:以n=3为例,主遮光结构Za和3个副遮光结构Zb沿第一方向x排列,3个副遮光结构分别为Zb-1、Zb-2、Zb-3,主遮光结构Za对应的主向量为i,3个副遮光结构分别为Zb-1、Zb-2、Zb-3对应的副向量分别为j1、j2、j3。图中以沿第一方向x排列的3个副遮光结构Zb分别对应的转角逐渐变大为例,在3个副遮光结构Zb中对应的最小的转角为θ,相邻的副遮光结构Zb对应的两个副向量j的夹角与θ相等。该实施方式中,属于同一遮光结构组的多个遮光结构沿同一个方向排列,且在排列方向上,副遮光结构对应的副向量与主遮光结构对应的主向量的夹角逐渐变化。该实施方式中,相当于在遮光结构的排列方向上,以遮光结构的重心为轴在遮光结构所在平面内沿同一个方向进行旋转,每个遮光结构均是旋转θ角度相同后能够得到与其相邻的遮光结构的图形。则在每个遮光结构周围发生衍射的衍射方向也在遮光结构所在平面内以θ为一个旋转角度进行旋转。光线穿透该遮光结构组时,每个遮光结构周围的衍射方向进行叠加,增加了光线在遮光结构周围的衍射方向,并且有利于实现将衍射光线均匀分散在遮光结构周围,改善衍射现象。另外,遮光结构组中的遮光结构规律性排布,降低了遮光结构排布的复杂度,有利于简化遮光结构工艺难度。
在一些可选的实施方式中,主遮光结构对应的主投影为正多边形,也即在主遮光结构所在平面内,主遮光结构的形状为正多边形。比如上述图10或图11所示的正四边形,还可以是正五边形、正六边形、或者正五角星形。遮光结构的形状为正多边形,有利于降低遮光结构阵列制作的工艺难度,并且有利于实现将衍射光线均匀的分散在遮光结构周围。而且,通常情况下子像素的发光区通常为规则图形(比如矩形或圆形),遮光结构的形状设计为正多边形,能够有利于子像素的发光区形状和遮光结构形状进行配合,以保证单个遮光结构的面积最小化,从而确保第一显示区的透光率,也即在屏下光学模组方案中保证光学模组接收的光量足够大。
进一步的,主投影为正m边形,m≥3,且m为整数,则主投影包括m条边,其中,以m=4为例,当n=2时,θ≤30°。也即一个遮光结构组包括1个主遮光结构和2个副遮光结构,遮光结构的形状为正四边形,1个主遮光结构和2个副遮光结构在同一方向上排列。在同一个俯视角度观看时,这2个副遮光结构的均相当于是主遮光结构在其所在平面内进行不同角度的旋转得到的,且在排列方向上,每个副遮光结构对应的旋转角度的差值均为θ。当θ=30°时,主遮光结构在顺时针方向旋转30°得到第一个副遮光结构,主遮光结构在顺时针方向旋转60°得到第二个副遮光结构,主遮光结构在顺时针方向旋转90°时会与其原来的图形重合。该实施方式能够保证,在同一个俯视角度观看时,遮光结构组中的任意两个遮光结构的对应角的位置不同,则对应边的延伸方向也不同,实现将衍射光线分散在遮光结构周围,改善衍射现象。并且,当时,能够实现将衍射光线均匀分散在遮光结构周围,各个衍射方向上的衍射强度大致相同,能够较大程度的改善衍射现象,提升屏下光学模组的成像质量。
图10或图11实施例均以遮光结构的形状为正多边形进行示意,可选的,图10或图11实施例同样能够适用于遮光结构的形状为非规则多边形的情况,非规则多边形比如可以是图5中示意的五边形,也可以是三角形、六边形等。对于非规则多边形的遮光结构来说,一般情况下,其在遮光结构所在平面内旋转360°才能够与其自身重合。但是对于某些特殊的非规则多边形,其不属于正多边形,但是包括多对相互平行的边,旋转180°后会与其自身重合。比如图12中示意的遮光结构的形状。
图12为本发明实施例中遮光结构的另一种示意图,如图12所示,遮光结构为六边形,主遮光结构Za在纸面内顺时针方向旋转不同的角度后得到相应的副遮光结构Zb,当主遮光结构Za旋转180°后得到形图Za′与主遮光结构Za的图形重合。当遮光结构的形状为非规则多边形时,设计在一个遮光结构组中包括1个主遮光结构和n个副遮光结构,n个主遮光结构和n个副遮光结构在同一方向上排列。在同一个俯视角度观看时,保证这n个副遮光结构的均相当于是主遮光结构在其所在平面内进行不同角度的旋转得到的。进一步的,可以设置在排列方向上每个副遮光结构对应的旋转角度的差值均相等。同样能够实现将衍射光线分散在遮光结构周围,以改善衍射现象。
在一种实施例中,p个第一遮光结构组在第二方向排列构成第一重复单元,第二方向与第一方向交叉,p≥2,且p为整数;在遮光结构阵列中,多个第一重复单元周期性排列。具体的,以p=4为例进行示意。
具体的,图13为本发明实施例中第一显示区内遮光结构的一种排布方式示意图,如图13所示,4个第一遮光结构组ZZ1在第二方向y排列构成第一重复单元CC1,第二方向y与第一方向x交叉,在遮光结构阵列中,多个第一重复单元CC1周期性排列,图中仅示意出了遮光结构阵列中的4个第一重复单元CC1。该实施方式中,遮光结构阵列中的遮光结构Z呈交错排布。以在第二方向y上相邻的两个第一遮光结构组ZZ1来看,两个第一遮光结构组ZZ1在第二方向y上存在位错,遮光结构组中对应的遮光结构Z在第二方向y上没有对齐,属于一个第一遮光结构组的、且在第一方向x上相邻的两个遮光结构和属于另一个第一遮光结构组的一个遮光结构分别占据三角形的三个顶点(如图中圈出的区域Q3位置)。
在另一种实施例中,图14为本发明实施例中第一显示区内遮光结构另一种排布方式示意图,如图14所示,4个第一遮光结构组ZZ1在第二方向y排列构成第一重复单元CC1,第二方向y与第一方向x交叉,在遮光结构阵列中,多个第一重复单元CC1周期性排列,图中仅示意出了遮光结构阵列中的4个第一重复单元CC1。该实施方式中,在第一方向x上排列的遮光结构Z相互对齐,且在第二方向y上排列的遮光结构Z也相互对齐。
该实施方式中,通过遮光结构组的设置能够实现增加光线在遮光结构周围的衍射方向,降低每个衍射方向上的衍射强度,从而改善衍射现象,提升屏下光学模组的成像质量。并且在遮光结构阵列中多个遮光结构组构成的第一重复单元周期性排列,降低了遮光阵列中遮光结构排布的复杂度,降低遮光阵列工艺难度。
进一步的,在第一方向上相邻的两个遮光结构组中:两个主遮光结构在衬底基板上的两个主投影的主顶角互为对应角,且两个主投影中的两个主向量的方向相同。也即在同一个俯视角度观看时,两个主投影的对应角的位置相同。继续参考上述图13所示的,标示出了在第一方向y上相邻的两个遮光结构ZZ中的两个主遮光结构Za-1和Za-2,两个主遮光结构Za-1和Za-2分别对应的主向量的方向相同。在第一方向x上:相当于主遮光结构Za-1沿同一个方向进行不同角度的旋转之后得到依次排列的副遮光结构Zb,然后继续旋转后得到与其原来的图形重合的遮光结构,而该遮光结构作为下一个遮光结构组的主遮光结构。该实施方式中,当在一个遮光结构组中,每个遮光结构均是旋转相同角度后能够得到与其相邻的遮光结构的图形时,在排列方向上,最后一个遮光结构继续以相同的角度进行旋转后能够与主遮光结构重合。能够实现将衍射光线均匀分散在遮光结构周围,各个衍射方向上的衍射强度大致相同,能够较大程度的改善衍射现象。
进一步的,p个第一遮光结构组共包括在第二方向上排列的p个主遮光结构;其中,p个主遮光结构在衬底基板上的p个主投影的形状相同。在本发明中属于同一个遮光结构组的遮光结构在衬底基板上的正投影的形状相同,则在该实施方式中,在第一重复单元中遮光结构在衬底基板上的正投影的形状相同。继续参考图13所示的,在第一重复单元CC1中各个遮光结构均为正方形。通过对每个遮光结构组中的主遮光结构、以及副遮光结构的转角进行设计,能够实现在同一个俯视角度观看时,一个第一重复单元中的各个遮光结构的对应角的位置均不相同,有利于实现将衍射光线均匀的分散在遮光结构周围,以降低每个衍射方向的衍射强度,改善衍射现象。
在另一种实施例中,图15为本发明实施例中第一显示区内遮光结构的另一种排布方式示意图,如图15所示,以p=3为例,在第二方向y上依次排列的3个第一遮光结构组ZZ1构成一个第一重复单元CC1,三个第一遮光结构组ZZ1中的遮光结构的形状不同。
进一步的,在一个第一重复单元中,p个主遮光结构在衬底基板上的p个主投影的形状相同,P个主投影中的p个主顶角两两互为对应角;p个主遮光结构分别对应的主向量的方向不同。继续参考图13所示的,以p=4为例,一个遮光结构组ZZ1中包括1个主遮光结构和2个副遮光结构。在每一个遮光结构组ZZ1中副遮光结构均是主遮光结构进行不同程度旋转得到的。图中标示出了各个遮光结构组ZZ1中主遮光结构对应的主向量,也就是说,该实施方式中,各个主遮光结构均是同一个遮光结构图形进行不同角度的旋转得到的,相当于在第二方向y上排布的p个主遮光结构也能够构成一个遮光结构组。通过对每个遮光结构组中副遮光结构的转角进行设计,能够实现在第一重复单元中,在第一方向上和第二方向上排布的遮光结构均具有一定的规律性,能够降低遮光结构阵列设计的复杂度,从而简化制作工艺。
进一步的,在一种实施例中,在一个第一重复单元中,在第二方向上排列的p个主遮光结构依次为:第1主遮光结构、第2主遮光结构、至第p主遮光结构;第1主遮光结构对应主向量i1,第2主遮光结构对应主向量i2、至第p主遮光结构对应主向量ip;其中,主向量i1、主向量i2、至主向量ip中在第二方向上相邻的两个主向量的夹角为β,β为定值。
图16为本发明实施例中第一显示区内遮光结构的另一种排布方式示意图,如图16所示,以p=4为例,示意出2个第一重复单元CC1,在一个第一重复单元中,在第二方向y上排列的4个主遮光结构依次为:第1主遮光结构Za1、第2主遮光结构Za2、第3主遮光结构Za3和第4主遮光结构Za4;第1主遮光结构Za1对应主向量i1,第2主遮光结构Za2对应主向量i2、第3主遮光结构Za3对应主向量i3、第4主遮光结构Za4对应主向量i4;其中,主向量i1、主向量i2、主向量i3、主向量i4中在第二方向上相邻的两个主向量的夹角为β,β为定值。
该实施方式中,第一重复单元CC1中的各个主遮光结构均是同一个遮光结构图形进行不同角度的旋转得到的,在第二方向y上排布的p个主遮光结构也能够构成一个遮光结构组ZZ3。遮光结构组ZZ3中的每个遮光结构均是旋转β角度相同后能够得到与其相邻的遮光结构的图形。通过对沿第一方向排列的遮光结构组和沿第二方向上排列的遮光结构组中副遮光结构的转角进行配合设计,能够实现在同一个俯视角度观看时,第一重复单元中的各个遮光结构的对应角的位置均不相同,有利于实现将衍射光线均匀的分散在遮光结构周围,以降低每个衍射方向的衍射强度。
进一步的,继续参考图16中示意的,在第二方向y上相邻的两个第一重复单元CC1中:两个第1主遮光结构Za1对应的两个主向量i1的方向相同。在第二方向y上:相当于第1主遮光结构Za1沿同一个方向进行不同角度的旋转之后得到依次排列的第2主遮光结构Za2、第3主遮光结构Za3和第4主遮光结构Za4。然后第1主遮光结构Za1继续旋转后得到与其原来的图形重合的遮光结构,而该遮光结构作为下一个遮光结构组的主遮光结构。能够实现将衍射光线均匀分散在遮光结构周围,各个衍射方向上的衍射强度大致相同,能够较大程度的改善衍射现象。
进一步的,p个主投影的形状为正多边形。比如:正三角形、正四边形、正五边形、正六边形、或者正五角星形等。该实施方式中,第一重复单元中遮光结构在衬底基板上的正投影的形状均为正多边形,能够简化遮光结构阵列的设计方式,有利于实现将衍射光线均匀的分散在遮光结构周围。
p个主投影的形状为正多边形,主投影包括m条边,m≥3,且m为整数,其中,继续参考图16所示的,以m=4,p=4为例,则β≤22.5°。在第二方向y上排布的4个主遮光结构(Za1、Za2、Za3、Za4)构成一个遮光结构组ZZ3。遮光结构组ZZ3中的每个遮光结构均是旋转β角度相同后能够得到与其相邻的遮光结构的图形。当β=22.5°时,第1主遮光结构Za1在顺时针方向旋转22.5°得到第2主遮光结构Za2,第1主遮光结构Za1在顺时针方向旋转45°得到第3主遮光结构Za3,第1主遮光结构Za1在顺时针方向旋转67.5°得到第4主遮光结构Za4,第1主遮光结构Za1在顺时针方向旋转90°时会与其原来的图形重合。该实施方式能够保证,在同一个俯视角度观看时,在第二方向y上排列的遮光结构构成的遮光结构组中任意两个遮光结构的对应角的位置不同,则对应边的延伸方向也不同,实现将衍射光线分散在遮光结构周围,改善衍射现象。并且,当时,能够实现将衍射光线均匀分散在遮光结构周围,各个衍射方向上的衍射强度大致相同,能够较大程度的改善衍射现象,提升屏下光学模组的成像质量。
进一步的,继续参考图16所示的,遮光结构的形状为正四边形。第一遮光结构组ZZ1包括1个主遮光结构和2个副遮光结构,以每个副遮光结构对应的旋转角度的差值均为30°为例。则在第一遮光结构组ZZ1中:正四边形的主遮光结构顺时针旋转30°后得到第一个副遮光结构,正四边形的主遮光结构顺时针旋转60°后得到第二个副遮光结构,正四边形的主遮光结构顺时针旋转90°与其自身重合。在第二方向y上包括4个第一遮光结构组ZZ1,4个主遮光结构分别对应的主向量的方向不同、且在第二方向y上相邻的两个主向量的夹角相等时,以相邻的两个主向量的夹角均为22.5°为例。则在该实施方式中,第一重复单元CC1中共包括12个遮光结构,且这12个遮光结构的对应角的位置均不同,从而在这12个遮光结构周围发生衍射的衍射方向均不同,能够较大程度的增加遮光结构周围的衍射方向,降低每个衍射方向上的衍射强度,同时能够实现将衍射光线均匀的分散在遮光结构周围,以提升屏下光学模组的成像质量。
在一种实施例中,图17为本发明实施例遮光结构组中遮光结构的另一种排布方式示意图,如图17所示,遮光结构组包括第二遮光结构组ZZ2;在第二遮光结构组ZZ2中:主遮光结构Za和6个副遮光结构(Zb-1、Zb-2、Zb-3、Zb-4、Zb-5、Zb-6)沿第一方向x排列;6个副遮光结构Zb-1、Zb-2、Zb-3、Zb-4、Zb-5、Zb-6对应的副向量分别为j1、j2、j3、j4、j5、j6;副向量j与主向量i的夹角为转角,其中,在第二遮光结构组ZZ2中:沿第一方向x排列的6个副遮光结构Zb分别对应的转角先逐渐变大、后逐渐变小。对于某些形状的遮光结构来说,主遮光结构在其所在平面进行旋转360°后能够与其自身重合的,则以该种遮光结构构成的遮光结构组中,能够设置副遮光结构的个数相对较多、且各个副遮光结构的对应角的位置可以均不相同。采用该实施方式在遮光结构周围增加的衍射方向相对更多,有利于实现将衍射光线均匀的分散在遮光结构周围。
具体的,图17实施例中,主遮光结构对应的主投影为非规则多边形,则主遮光结构在其所在平面进行旋转360°后能够与其自身重合的,保证在沿排列方向上副遮光结构分别对应的转角先逐渐变大、后逐渐变小,同时各个副遮光结构的对应角的位置均不相同。
在一种实施例中,图18为本发明实施例中第一显示区内遮光结构的另一种排布方式示意图,如图18所示,遮光结构阵列包括多个第二重复单元CC2,一个第二重复单元CC2包括至少两个遮光结构Z,且至少两个遮光结构在衬底基板的正投影的形状不同;图中以一个第二重复单元CC2包括4个遮光结构Z进行示意,且4个遮光结构Z的形状均不相同。其中,遮光结构组ZZ中的遮光结构Z分别属于不同的第二重复单元CC2。该实施方式中,一个遮光结构组中的遮光结构的形状相同,而一个第二重复单元中的遮光结构的形状不完全相同,由分别属于至少两个遮光结构组中的遮光结构公共构成第二重复单元。第二重复单元在遮光结构阵列中周期性排列,在一个第二重复单元内光线在不同的遮光结构周围的衍射方向不同,且在不同第二重复单元内属于同一个遮光结构组的遮光结构周围的衍射方向也不同。能够增加光线的衍射方向,有利于实现衍射光线均匀的分散在遮光结构周围,以提升屏下光学模组的成像质量。
具体的,在一种实施例中,图19为图1中区域Q位置处另一种放大示意图,如图19所示,多个第一子像素包括多个红色第一子像素sp1R、多个绿色第一子像素sp1G和多个蓝色第一子像素sp1B;在垂直于显示面板方向上,一个遮光结构Z与一个红色第一子像素sp1R的发光区F、一个绿色第一子像素sp1G的发光区F和一个蓝色第一子像素sp1B的发光区F均交叠。该实施方式设置一个遮光结构与红、绿、蓝三种颜色第一子像素的发光区交叠,以相邻的红色第一子像素和绿色第一子像素为例,遮光结构能够将相邻的红色第一子像素和绿色第一子像素之间的透光区进行遮挡,从而减少了红色第一子像素和绿色第一子像素之间的衍射。也即该实施方式能够在一定程度上减少在相邻第一子像素之间的透光区发生的衍射。
具体的,显示面板包括多个像素电路,多个像素电路包括多个第一像素电路,一个第一像素电路与一个第一子像素电连接,多个第一像素电路位于第二显示区。图20为图19中切线M-M′位置处截面示意图,如图20示出了位于第二显示区AA2中的第一像素电路中的晶体管T,第一子像素的阳极与晶体管T电连接。将驱动第一子像素的第一像素电路设置在第二显示区,能够有利于减小第一显示区的遮光区的面积,从而提升第一显示区的透光率,应用在屏下光学模组方案中时,能够保证有足够多的光量被光学模组所接收。同时,第一像素电路设置第二显示区,则在第一显示区内也减少了金属走线之间的间隙(第一像素电路内金属走线之间的间隙),从而也有利于减少光线穿透金属走线之间的间隙时产生的衍射现象。
图20中还示意出了遮光结构Z。阵列层102包括栅极金属层1021、源漏金属层1022、电容金属层(未示出)和第三金属层1023。其中,晶体管T的栅极g位于栅极金属层1021,晶体管T的源极s和漏极d位于源漏金属层1022,像素电路中的存储电容的一个极板位于电容金属层。图中示意遮光结构Z位于第三金属层1023,第三金属层1023位于源漏金属层1022的远离衬底基板101的一侧。该实施方式中,遮光结构位于第三金属层,在制作时不需要改变阵列层中栅极金属层、源漏金属层以及电容金属层的工艺制程。
可选的,对于驱动第一子像素的第一像素电路设置在第二显示区的实施方式中,遮光结构也可以位于栅极金属层、源漏金属层、电容金属层中任意一层中,在此不再附图示意。
在一些可选的实施方式中,驱动第一子像素的像素电路位于第一显示区内,该实施方式中,可以采用第三金属层来制作遮光结构,第三金属层位于源漏金属层的远离衬底基板的一侧,从而遮光结构的设置不影响第一显示区内像素电路中布线以及器件的设置。
在一种实施例中,参考上述图2中的示意,在垂直于显示面板方向上,一个遮光结构Z与一个第一子像素sp1的发光区F交叠。该实施方式中,一个遮光结构与一个第一子像素的发光区进行交叠,在设计时,可以通过遮光结构的形状和第一子像素的发光区的形状进行配合,在改善衍射现象同时,也能够保证单个遮光结构的面积最小,以保证第一显示区的透光率。
图21为图2中切线H-H′位置处另一种截面简化示意图,如图21所示,第一子像素sp1包括阳极a、发光层b和阴极c,阳极a复用为遮光结构Z。在一个遮光结构与一个第一子像素的发光区交叠的实施方式中,可以采用子像素的阳极作为遮光结构,在显示面板制作时仅需要对阳极刻蚀工艺中用到的掩膜板的形状进行设计,而不需要改变其他工艺制程,也不需要增加额外的工艺制程,工艺相对简单。
基于同一发明构思,本发明实施例还提供一种显示装置,图22为本发明实施例提供的显示装置示意图,如图22所示,显示装置包括本发明任意实施例提供的显示面板100。对于显示面板的结构在上述实施例中已经说明,在此不再赘述。本发明实施例中显示装置可以是例如手机、平板计算机、笔记本电脑、电纸书、电视机等任何具有显示功能的设备。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明保护的范围之内。
最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明,本领域技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。
Claims (23)
1.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板的显示区包括第一显示区和第二显示区,所述显示区包括多个子像素,多个所述子像素包括多个第一子像素和多个第二子像素,多个所述第一子像素位于所述第一显示区,多个所述第二子像素位于所述第二显示区,多个所述第一子像素的密度小于多个所述第二子像素的密度;其中,
所述显示面板包括衬底基板、以及位于所述衬底基板之上的遮光结构阵列,所述遮光结构阵列位于所述第一显示区,所述遮光结构阵列包括多个遮光结构,在垂直于所述显示面板方向上,一个所述遮光结构与至少一个所述第一子像素的发光区交叠;
所述遮光结构阵列包括至少一个遮光结构组,所述遮光结构组包括主遮光结构和至少一个副遮光结构,所述主遮光结构在所述衬底基板的正投影为主投影,所述副遮光结构在所述衬底基板的正投影为副投影,所述主投影和所述副投影的形状相同;
所述主投影包括主顶角,所述副投影包括副顶角,所述主顶角和所述副顶角互为对应角;其中,
所述主投影的重心作为起点、所述主顶角作为终点构成主向量;
在一个所述副投影中:所述副投影的重心作为起点、所述副顶角作为终点构成副向量;所述主向量的方向和所述副向量的方向不同;
所述遮光结构组包括n个所述副遮光结构,n≥2,且n为整数;其中,
每个所述副遮光结构均对应一个所述副向量,所述遮光结构组中任意两个所述副遮光结构分别对应的两个所述副向量的方向不同。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述副向量与所述主向量的夹角为转角;其中,
在一个所述遮光结构组中,n个所述副遮光结构分别对应的所述转角的大小不同。
3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述副向量与所述主向量的夹角为转角;其中,
所述遮光结构组包括第一副遮光结构和第二副遮光结构,所述第一副遮光结构的所述转角和所述第二副遮光结构的所述转角的大小相同。
4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
至少一个所述遮光结构组包括第一遮光结构组;
在所述第一遮光结构组中:所述主遮光结构和n个所述副遮光结构沿第一方向排列,所述副向量与所述主向量的夹角为转角;其中,
在所述第一遮光结构组中:沿所述第一方向排列的n个所述副遮光结构分别对应的所述转角逐渐变大或者逐渐变小。
5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,
在所述第一遮光结构组中:n个所述副遮光结构中对应的最小的所述转角为θ,相邻的所述副遮光结构对应的两个所述副向量的夹角与θ相等。
6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,
所述主投影为正多边形。
8.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,
p个所述第一遮光结构组在第二方向排列构成第一重复单元,所述第二方向与所述第一方向交叉,p≥2,且p为整数;
在所述遮光结构阵列中,多个所述第一重复单元周期性排列。
9.根据权利要求8所述的显示面板,其特征在于,
在所述第一方向上相邻的两个所述遮光结构组中:两个所述主遮光结构在所述衬底基板上的两个主投影的主顶角互为对应角,且两个所述主投影中的两个所述主向量的方向相同。
10.根据权利要求8所述的显示面板,其特征在于,p个所述第一遮光结构组共包括在所述第二方向上排列的p个所述主遮光结构;其中,p个所述主遮光结构在所述衬底基板上的p个主投影的形状相同。
11.根据权利要求10所述的显示面板,其特征在于,
P个所述主投影中的p个主顶角两两互为对应角;
p个所述主遮光结构分别对应的所述主向量的方向不同。
12.根据权利要求11所述的显示面板,其特征在于,
在一个所述第一重复单元中,在所述第二方向上排列的p个所述主遮光结构依次为:第1主遮光结构、第2主遮光结构、至第p主遮光结构;
所述第1主遮光结构对应主向量i1,所述第2主遮光结构对应主向量i2、至第p主遮光结构对应主向量ip;其中,
所述主向量i1、所述主向量i2、至所述主向量ip中在所述第二方向上相邻的两个主向量的夹角为β,β为定值。
13.根据权利要求12所述的显示面板,其特征在于,
在所述第二方向上相邻的两个所述第一重复单元中:两个所述第1主遮光结构对应的两个所述主向量的方向相同。
14.根据权利要求12所述的显示面板,其特征在于,
所述主投影为正多边形。
16.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述至少一个遮光结构组包括第二遮光结构组;
在所述第二遮光结构组中:所述主遮光结构和n个所述副遮光结构沿第一方向排列;所述副向量与所述主向量的夹角为转角;其中,
在所述第二遮光结构组中:沿所述第一方向排列的n个所述副遮光结构分别对应的所述转角先逐渐变大、后逐渐变小。
17.根据权利要求16所述的显示面板,其特征在于,
所述主投影为非规则多边形。
18.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述遮光结构阵列包括多个第二重复单元,一个所述第二重复单元包括至少两个所述遮光结构,且至少两个所述遮光结构在所述衬底基板的正投影的形状不同;其中,
所述遮光结构组中的所述遮光结构分别属于不同的所述第二重复单元。
19.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
多个所述第一子像素包括多个红色第一子像素、多个绿色第一子像素和多个蓝色第一子像素;
在垂直于所述显示面板方向上,一个所述遮光结构与一个所述红色第一子像素的发光区、一个所述绿色第一子像素的发光区和一个所述蓝色第一子像素的发光区均交叠。
20.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
在垂直于所述显示面板方向上,一个所述遮光结构与一个所述第一子像素的发光区交叠。
21.根据权利要求20所述的显示面板,其特征在于,所述第一子像素包括阳极、发光层和阴极,所述阳极复用为所述遮光结构。
22.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述显示面板包括多个像素电路,多个所述像素电路包括多个第一像素电路,一个所述第一像素电路与一个所述第一子像素电连接,其中,
多个所述第一像素电路位于所述第二显示区。
23.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1至22任一项所述的显示面板。
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