CN110618557A - 一种显示面板和显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种显示面板和显示装置。显示面板包括：第一显示区和虚拟孔区，虚拟孔区的像素密度小于第一显示区的像素密度；虚拟孔区包括多个透光区和多个非透光区，非透光区包括像素区和走线区；偏光结构，位于显示面板的显示面一侧，偏光结构包括第一偏光部和第二偏光部，第一偏光部的透光率大于第二偏光部的透光率，其中，透光区包括第一透光部，像素区包括第二透光部。本发明能够增大透光区的透过率，提升屏下光学模组接收到光量。

Description

一种显示面板和显示装置

【技术领域】

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板和显示装置。

【背景技术】

对于电子产品来说，前置摄像头等光学模组的设置必然会占据一定的空间，从而影响屏占比。而为了实现真正的全面屏，研究人员考虑屏下光学模组的实现方案。将光学模组比如摄像头设置在显示面板的发光器件的下方，即将光学模组设置在显示区内，光学模组所在的位置能够正常显示，当需要使用光学模组时，光线穿透显示面板到达光学模组最终被光学模组利用。显示区中发光器件占据绝大部分的空间，显示区的透光区面积较小，光学模组能够接收到的光量较少，影响光学模组的使用性能。如何提升光线穿透显示面板的透光率，提高光学模组接收的光量，是目前亟待解决的技术问题。

【发明内容】

有鉴于此，本发明实施例提供了一种显示面板和显示装置，用以解决现有技术中屏下光学模组接收的光量较少的问题。

第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括：

第一显示区和虚拟孔区，虚拟孔区的像素密度小于第一显示区的像素密度；虚拟孔区包括多个透光区和多个非透光区，非透光区包括像素区和走线区；

偏光结构，位于显示面板的显示面一侧，偏光结构包括第一偏光部和第二偏光部，第一偏光部的透光率大于第二偏光部的透光率，其中，透光区包括第一偏光部，像素区包括第二偏光部。

第二方面，基于同一发明构思，本发明实施例提供了一种显示装置，包括：本发明任意实施例提供的显示面板。

本发明实施例提供的显示面板和显示装置，具有如下有益效果：

本发明实施例提供的显示面板和显示装置，在虚拟孔区内透光区包括的第一偏光部的透光率大于像素区包括的第二偏光部的透光率，应用在屏下光学模组方案中时，能够增大环境光穿透透光区的透过率，从而能够提升屏下光学模组接收到光量，提升光学模组的使用性能。另外，本发明实施例中偏光结构可以为一体结构，在制作时第一偏光部和第二偏光部可以一体成型，在显示面板显示面一侧的偏光结构整面是完整的，能够保证显示面板各个位置处膜厚均一，从而使显示面板各个位置处机械强度均一。

【附图说明】

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为本发明实施例提供的显示面板示意图；

图2为图1中区域Q的局部放大图；

图3为图2中切线A-A′位置处截面示意图；

图4为图2中切线B-B′位置处截面示意图；

图5为图4实施例中虚拟孔区内的偏光结构的局部俯视示意图；

图6为本发明实施例提供的显示面板的虚拟孔区的一种可选实施方式膜层结构示意图；

图7为本发明实施例提供的显示面板的虚拟孔区的另一种可选实施方式膜层结构示意图；

图8为本发明实施例提供的显示面板的虚拟孔区的另一种可选实施方式膜层结构示意图；

图9为本发明实施例提供的显示面板的虚拟孔区的另一种可选实施方式膜层结构示意图；

图10为图1中区域Q的一种可选实施方式局部放大图；

图11为本发明实施例提供的显示装置示意图。

【具体实施方式】

为了更好的理解本发明的技术方案，下面结合附图对本发明实施例进行详细描述。

应当明确，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本发明。在本发明实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。

应当理解，本文中使用的术语“和/或”仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况。另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。

本发明提供一种显示面板和显示装置，显示面板的显示区包括虚拟孔区和第一显示区，设置虚拟孔区内像素密度变小，能够提升虚拟孔区显示面板的透光率，从而能够在虚拟孔区对应的显示面板下设置光学模组，比如摄像头，形成屏下光学模组的方案。在显示面板显示时，虚拟孔区和第一显示区均能够用于显示，实现了全面屏。本发明设计在虚拟孔区内：透光区的偏光结构的透光率大于像素区的偏光结构的透光率，能够提升虚拟孔区整体的透光率，从而进一步增加屏下光学模组接收的光量，提升屏下光学模组的应用性能。

图1为本发明实施例提供的显示面板示意图，图2为图1中区域Q的局部放大图。图3为图2中切线A-A′位置处截面示意图。

如图1所示，显示面板包括第一显示区AA1和虚拟孔区AA2，图1中第一显示区AA1和虚拟孔区AA2的相对位置仅做示意性表示，第一显示区AA1可以如图中示意的包围虚拟孔区AA2；或者第一显示区AA1也可以半包围虚拟孔区AA2。图1中虚拟孔区的形状仅做示意，虚拟孔区的形状可以为圆形、椭圆形、三角形、多边形等任意形状，可根据实际需求进行设计。虚拟孔区的数量也可以为一个或者多个，可根据实际需求进行设计。可选的，虚拟孔区AA2用于显示通知栏、显示电量符号、时钟符号和网络符号等画面，这些画面对亮度和显示效果要求不太高，保证虚拟孔区的设置对整体的显示效果影响较小。

如图2所示的，虚拟孔区AA2的像素密度小于第一显示区AA1的像素密度；像素密度即每英寸所拥有的像素数目，其中，一个像素包括至少三种发光颜色各不相同的子像素。如图2示意的，虚拟孔区AA2内子像素sp2的排布比第一显示区AA1内子像素sp1的排布稀疏。虚拟孔区AA2包括多个透光区T和多个非透光区FT，非透光区FT包括像素区P和走线区S；其中，显示面板的发光器件位于像素区P，显示面板中还包括控制发光器件的像素电路，通常情况下，在如图2俯视角度观看，像素电路与发光器件至少部分交叠，图中并未示意出像素电路和发光器件。走线区S为像素电路之间的连接走线所在的区域，连接走线通常采用金属材料制作，其对光线具有一定的遮挡作用，连接走线可以包括：数据线、扫描线、电源信号线或者复位信号线中一种或多种。可选的，走线区S内可以如图2中示意的包括多条排列设置的金属线。发光器件通常包括阳极、发光层和阴极，以顶发射型发光器件为例，阳极为反射电极，阴极为透明电极，通常情况下为了提升发光器件的发光效率将阳极设置成反射阳极，所以发光器件的阳极的透光率比较低，本发明中定义的非透光区是与透光区相对的概念，非透光区并非绝对的不透光。本发明中透光区T的透光率要大于非透光区FT的透光率，在透光区T对应的位置不设置像素和电路走线。

如图3所示，显示面板还包括偏光结构G，位于显示面板的显示面一侧，其中，显示面板的显示面为发光器件J的出光面一侧。如图3中示意的发光器件J的类型为例，阴极a为透明电极，阳极b为反射电极，在发光器件J的阴极a和阳极b施加电压之后，发光层c受激发后发出的光由阴极a一侧出射，偏光结构G位于阴极a远离阳极b的一侧。偏光结构G包括第一偏光部G1和第二偏光部G2，第一偏光部G1的透光率大于第二偏光部G2的透光率，其中，透光区T包括第一偏光部G1，像素区P包括第二偏光部G2，也即，透光区T对应的偏光结构为第一偏光部G1，像素区P对应的偏光结构为第二偏光部G2。可选的，偏光结构G可以为偏光片，或者也可以为其他具有偏光功能或者可以降低自然光在显示面板上反射光干扰的结构。

偏光结构通常具有一定颜色，以偏光片为例，在偏光膜中掺入染色离子来实现偏光片的偏光功能，由于染色离子的掺入，所以偏光片通常为灰色或深灰色。本发明中在像素区和透光区都设置有相应的偏光部，也即本发明实施例中在显示面板的显示面一侧整面设置有偏光结构。发明人考虑如果将透光区内的偏光结构挖掉，即设置不完整的偏光结构，虽然能够提升透光区的透光率，但是由于偏光结构具有一定的颜色，则会导致在显示面板不显示时的透光区和像素区存在人眼能够识别的颜色差异，影响用户体验。而本发明实施例中，在显示面板的显示面一侧整面设置有偏光结构，在提升透光区的透光率的同时，也能够保证显示面板不显示时的一体黑，保证用户体验。

另外，在常规的显示面板中对偏光结构进行设计时要保证其满足偏光功能的要求，同时也要具有一定的透光性。其中，偏光功能实现由显示面板出射的光经过极化作用，防止人眼光看到产生眩晕的画面；而透光性则保证了显示面板的出光效率，避免显示面板功耗过大。在实际成品中偏光结构的性能要在偏光功能和透光性之间具有平衡，因为偏光功能越强，透光性会变差，而透光性变强之后，偏光功能会变弱。在本发明实施例提供的显示面板中，设置透光区内第一偏光部的透光率大于像素区内的第二偏光部的透光率，能够提升透光区的透光率，同时，像素区发出的光线仍然由透光区出射，像素区对应位置的偏光功能不变，从而保证显示面板的显示效果不受影响。

在一种实施例中，如图3示意的，显示面板还包括阵列基板101，阵列基板101中包括驱动发光器件J发光的像素电路(未示出)，在发光器件J之上还设置有封装结构102，封装结构102用于阻隔水氧，防止水氧对发光器件J的侵害，以保证发光器件J的使用寿命。封装结构102可以为薄膜封装，包括至少一层无机封装层和至少一层有机封装层。可选的，如图3示意的，第一显示区AA1包括第二偏光结构G2，在第一显示区AA1内发光器件J与第二偏光结构G2相对应。

可选的，本发明实施例中的偏光结构为一体结构，在偏光结构制作过程中根据虚拟孔区中透光区和像素区各自对应的位置，相应的做差异性的制作以实现透光区内的第一偏光部的透光率大于像素区内的第二偏光部的透光率。

本发明实施例提供的显示面板应用在显示装置中，可以在虚拟孔区对应的位置设置光学模组，比如摄像头。在不启用摄像功能时，虚拟孔区和第一显示区一样可以正常显示，在启用摄像功能之后，虚拟孔区内的发光器件不发光，环境光透过虚拟孔区内的透光区后进入摄像头，以实现摄像头的拍摄功能。在另一种可选的实施方式中，也可以是在启用摄像功能之后，虚拟孔区内的发光器件仍然发光以保证显示区的显示画面的完整性。

本发明实施例提供的显示面板，在虚拟孔区内透光区包括的第一偏光部的透光率大于像素区包括的第二偏光部的透光率，应用在屏下光学模组方案中时，能够增大环境光穿透透光区的透过率，从而能够提升屏下光学模组接收到光量，提升光学模组的使用性能。另外，本发明实施例中偏光结构可以为一体结构，在制作时第一偏光部和第二偏光部可以一体成型，在显示面板显示面一侧的偏光结构整面是完整的，能够保证显示面板各个位置处膜厚均一，从而使显示面板各个位置处机械强度均一。

在一种实施例中，图4为图2中切线B-B′位置处截面示意图。图5为图4实施例中虚拟孔区内的偏光结构的局部俯视示意图。如图4所示，走线区S包括第一偏光部G1；如图5所示的，在虚拟孔区AA2内，第二偏光部G2被第一偏光部G1所包围，其中，第二偏光部G2对应的位置为虚拟孔区AA2内的像素区P。该实施方式中，设置走线区包括第一偏光部，也即走线区对应的偏光结构的透光率与透光区对应的偏光结构的透光率相同，在偏光结构制作时可以将透光区和走线区划定为一个区域，比如为非像素区，可以仅对像素区和非像素区采用差异性的制作工艺来制作偏光结构。如图2中示意的，在虚拟孔区AA2内相邻的两个像素区P之间都具有走线区S，在相邻的两个透光区T之间会间隔有走线区S，且在实际的显示面板中走线区分布分散，将走线区与透光区各自对应的位置处的偏光结构做差异性设计时，制作上对精确度要求较高。而该实施方式设置走线区包括第一偏光部，设置走线区和透光区对应相同的偏光结构，在偏光结构制作时走线区和透光区对应的偏光结构可以采用相同的工艺制作，工艺相对简单。

在一种实施例中，偏光结构包括偏光片。可选的，偏光片至少包括偏光膜和位于偏光膜两侧的保护膜，其中，偏光膜包括聚乙烯醇，保护膜包括三醋酸纤维素。在偏光片制作时，通过在偏光膜中掺入染色剂离子起到线偏的作用，可选的，在制作时的染色工艺中，通过差异性设置偏光结构中透光区和像素区对应的位置处染色剂离子的掺入浓度，实现透光区和像素区对应的偏光结构的透光率的不同。

在一种实施例中，第一偏光部内染色剂离子的浓度小于第二偏光分部内染色剂离子的浓度。可选的，染色剂离子为碘离子。在偏光结构中，染色剂离子的浓度与透光率呈负相关，也即染色剂离子浓度越小则透光率越大。该实施方式通过差异性设置第一偏光部和第二偏光部中的染色剂离子浓度，来实现第一偏光部和第二偏光部的透光率的不同。在偏光结构制作时，染色剂离子的掺入浓度容易控制，制作工艺简单。

进一步的，在常规的有机发光显示面板中，以顶发射型发光器件为例，发光器件包括反射阳极、发光层和透明阴极。一般认为反射阳极是不透光的，那是因为在常规的显示面板中我们只关注面板的正常显示，将阳极设置成发射阳极保证发光器件发出的光从阴极出射。但实际反射阳极并非绝对的不透光，在发光器件发光时，也有部分光会从背面漏出，也即会有少量的光穿透阳极。发明人认为，在目前的屏下光学模组方案中，由于光学模组要利用穿透显示面板的环境光，以光学模组为摄像头为例，在摄像头开启，且虚拟孔区能够正常显示的方案中，虚拟孔区内的发光器件的阳极漏光也会被摄像头接收到，也即此时摄像头不仅能够接收穿透显示面板的环境光，也能够接收到发光器件的阳极漏光。阳极漏光对摄像头接收到的环境光造成了干扰，影响摄像头的拍摄质量。基于此，发明人进一步思考，通过在虚拟孔区设置遮光结构，以解决上述问题，防止阳极漏光对光学模组光学性能的影响。

在一种实施例中，图6为本发明实施例提供的显示面板的虚拟孔区的一种可选实施方式膜层结构示意图。如图6所示，显示面板包括显示层103，显示层103包括多个发光器件J，发光器件J位于像素区P，如图示意的发光器件J包括依次堆叠的阳极b、发光层c和阴极a，显示层103还包括像素定义层PDL，像素定义层PDL包括多个开口，一个开口对应一个发光器件J，也即相邻的发光器件J通过像素定义层PDL间隔开。如图示意的，虚拟孔区还包括遮光结构104，遮光结构位于显示层103远离显示面板的显示面一侧，其中，显示面板的显示面为发光器件J的出光面一侧。遮光结构104包括多个遮光单元104Y，一个遮光单元104Y对应一个发光器件J，在显示面板的厚度方向e上，遮光单元104Y与发光器件J交叠。该实施例中，首先设置在虚拟孔区内透光区包括的第一偏光部的透光率大于像素区包括的第二偏光部的透光率，应用在屏下光学模组方案中时，能够增大环境光穿透透光区的透过率，从而能够提升屏下光学模组接收到光量，提升光学模组的使用性能。进一步的，在显示层的远离显示面板的显示面一侧设置遮光结构，遮光结构中的遮光单元与发光器件交叠，遮光单元能遮挡发光器件的阳极漏光，显示面板应用在屏下光学模组方案中，能够防止发光器件阳极漏光对光学模组造成干扰，保证光学模组的应用性能。

在一种实施方式中，在显示面板的厚度方向上，发光器件与遮光单元完全交叠。如图6中示意的，一个遮光单元104Y与一个发光器件J完全交叠。在显示面板应用在屏下光学模组方案中时，遮光单元能遮挡发光器件的阳极漏光，能够防止发光器件阳极漏光对光学模组造成干扰，保证光学模组的应用性能。而且能够保证遮光单元不与透光区交叠，从而能够防止遮光单元遮挡环境光由透光区透过。

本发明实施例提供的显示面板中，遮光结构可以位于显示层和阵列基板之间，或者遮光结构也可以位于阵列基板远离显示面板的显示面一侧。下述实施例将对遮光结构的膜层位置和遮光结构的具体结构做详细举例说明。

在一种实施例中，图7为本发明实施例提供的显示面板的虚拟孔区的另一种可选实施方式膜层结构示意图。如图7所示，显示面板还包括阵列基板101，阵列基板101位于显示层103远离显示面一侧；遮光单元104Y位于阵列基板101远离显示层103一侧。该实施例中首先设置在虚拟孔区内透光区包括的第一偏光部的透光率大于像素区包括的第二偏光部的透光率，应用在屏下光学模组方案中时，能够增大环境光穿透透光区的透过率，从而能够提升屏下光学模组接收到光量，提升光学模组的使用性能。进一步的，在显示层的远离显示面板的显示面一侧设置遮光结构，遮光结构中的遮光单元与发光器件交叠，遮光单元能遮挡发光器件的阳极漏光，显示面板应用在屏下光学模组方案中，能够防止发光器件阳极漏光对光学模组造成干扰，保证光学模组的应用性能。另外，将遮光单元设置在阵列基板远离显示层的一侧，遮光单元的设置不影响阵列基板的结构，即不需要改变阵列基板的制作工艺，在阵列基板和其上的显示层等膜层制作完成之后，将遮光单元贴合在阵列基板的背面即可，制作工艺简单。

在一种实施例中，图8为本发明实施例提供的显示面板的虚拟孔区另一种可选实施方式膜层结构示意图。如图8所示，显示面板包括像素电路PX；像素电路PX位于阵列基板101中。在显示面板厚度方向e上，遮光单元104Y位于像素电路PX和发光器件J之间，且遮光单元104Y覆盖像素电路PX。实际像素电路PX的结构非常复杂，图中仅示意出了像素电路PX中的驱动晶体管M，像素电路PX中还包括多个开关晶体管(未示出)。像素电路PX与发光器件J电连接，用于驱动发光器件J发光，将遮光单元104Y设置在像素电路PX和发光器件J之间时，需要在遮光单元104Y上设置开孔K，保证发光器件J的阳极b能够通过开孔K穿透遮光单元104Y与驱动晶体管M电连接。像素电路中的晶体管(包括驱动晶体管和开关晶体管)均包括有源层、栅极、源极和漏极。其中，有源层为半导体层，其对光敏感，当有光照射到有源层上是可能会导致有源层的沟道区导通，影响了晶体管的开启和关闭性能。该实施例中，首先设置在虚拟孔区内透光区包括的第一偏光部的透光率大于像素区包括的第二偏光部的透光率，应用在屏下光学模组方案中时，能够增大环境光穿透透光区的透过率，从而能够提升屏下光学模组接收到光量。进一步的，设置遮光单元与发光器件交叠，遮光单元能遮挡发光器件的阳极漏光，应用在屏下光学模组方案中，能够防止发光器件阳极漏光对光学模组造成干扰，保证光学模组的应用性能。另外，将遮光单元设置在像素电路和发光器件之间，且遮光单元覆盖像素电路，遮光元件还能够防止阳极的漏光照射到像素电路中的有源层上，防止阳极漏光对像素电路中的晶体管造成损害。

可选的，遮光单元包括偏光层、反射层、吸光层中的一种或者多种。遮光单元在显示面板中的膜层位置可参考上述图6、图7和图8对应的实施例说明。遮光单元包括偏光层时，偏光层具有吸光轴，当光的振动方向与偏光层的吸光轴方向相同时光线不能穿透偏光层，当光的振动方向与偏光层的吸光轴方向不同时光线可以穿透偏光层，本发明实施例中可以利用偏光层的偏光作用来遮挡阳极的漏光。遮光单元包括吸收层时，吸光层对光具有吸收作用，本发明实施例中可以利用吸光层的吸光作用来遮挡阳极的漏光。遮光单元包括反射层时，反射层对光具有反射作用，本发明实施例中可以利用反射层的反射作用来遮挡阳极的漏光。

在一种实施例中，偏光层包括反射型偏光片。反射型偏光片可以采用现有技术中制作的反射型偏光片。反射型偏光片同时具有反射和偏光的性能。遮光结构包括反射型偏光片，反射型偏光片不仅能够遮光阳极漏光，防止阳极漏光被屏下光学模组利用，同时反射型偏光片能够对阳极漏光进行反射，经反射型偏光片反射的光线能够再次穿透阳极后由相应的阴极出射，或者能够由阳极周边的透光区穿透显示面板，总之，经反射型偏光片反射的光线能够再次被利用进行显示，该实施方式能够提升显示面板的出光效率，在一定程度上提升虚拟孔区的亮度。

在一种实施例中，图9为本发明实施例提供的显示面板的虚拟孔区的另一种可选实施方式膜层结构示意图。如图9所示，显示面板包括液晶盒H，液晶盒H位于背离显示面板的显示面的一侧，且位于虚拟孔区液晶盒中填充有散射型液晶分子。其中，散射型液晶分子为在液晶中掺入一定量的离子性杂质，通电后，电场使离子产生蜗流，引发液晶分子产生紊流，从而使液晶盒内各处的折射率不同，实现对光的散射作用。可选的，如图示意的，液晶盒H包括依次堆叠的第一基板H1、液晶层LQ和第二基板H2，其中，液晶层LQ为散射型液晶分子层；液晶盒H还包括第一电极DJ1和第二电极DJ2。该实施例中通过在第一电极DJ1和第二电极DJ2上施加电压之后，形成电场控制散射型液晶分子发生偏转，散射型液晶分子发生偏转后，使得液晶盒H对光线具有散射作用。实际在阵列层101中包括多个像素电路(图中未示意)，在相邻的两个像素电路之间具有连接走线，或者像素电路内部也具有电路走线。连接走线之间的缝隙或者电路走线之间的缝隙对光具有衍射作用，衍射作用会严重影响屏下摄像头的拍照效果。本发明实施例中在背离显示面板显示面一侧设置液晶盒，通过控制液晶盒内的散射型液晶分子发生偏转，使得位于虚拟孔区内的液晶盒对光线具有散射作用。也即应用屏下摄像头方案时，环境光在穿透虚拟孔区时，会依次穿透阵列层和散射型液晶分子的液晶盒后被摄像头利用，散射型液晶分子的液晶盒能够对发生衍射后的光线进行散射，衍射光会直接影响摄像头的成像效果，有效改善光线穿透阵列层后的衍射作用，实现最终被摄像头利用的光为散射光，有效提升拍摄效果。

可选的，本发明实施例提供的显示面板中单元电极和公共电极均采用透明材料制作。图9以第一电极DJ1位于第一基板H1、第二电极DJ2位于第二基板H2为例，在另一种实施方式中，第一电极DJ1位于第二基板H2，第二电极DJ2位于第一基板H1，在此不再赘述。

在一种实施例中，图10为图1中区域Q的一种可选实施方式局部放大图。如图10所示的，第一显示区AA1内单个子像素sp1的面积为第一面积S1，虚拟孔区AA2内单个子像素sp2的面积为第二面积S2，如图10示意的俯视角度可以看出，第二面积S2大于第一面积S1。在本发明实施例提供的显示面板中，由于虚拟孔区的像素密度小于第一显示区的像素密度，也即在单位面积内，虚拟孔区的像素个数少于第一显示区的像素个数，为了保证显示面板整体的亮度均一，需要提升虚拟孔区内单个子像素的亮度。可选的，本发明实施例中可以通过增大虚拟孔区内发光器件的工作电流密度来提升发光器件的发光亮度。发明人考虑单单增加发光器件的工作电流密度会影响发光器件的使用寿命，由此，本发明中进一步设置虚拟孔区的单个子像素的面积大于第一显示区内单个子像素的面积，在工作电流密度相同的情况下，虚拟孔区的单个子像素的亮度会大于第一显示区内单个子像素的亮度。该实施方式能够通过在虚拟孔区的单个子像素的面积大于第一显示区内单个子像素的面积基础上，进一步增大虚拟孔区的单个子像素的工作电流密度，来实现显示面板整体的亮度均一。在此基础上，虚拟孔区的单个子像素的工作电流密度增加幅度变小，能够在一定程度上延长虚拟孔区内发光器件的使用寿命。

基于同一发明构思，本发明还提供一种显示装置，图11为本发明实施例提供的显示装置示意图。如图11所示的，显示装置包括本发明任意实施例提供的显示面板100。其中，显示面板100的具体结构已经在上述实施例中进行了详细说明，此处不再赘述。当然，图11所示的显示装置仅仅为示意说明，该显示装置可以是例如手机、平板计算机、笔记本电脑、电纸书或电视机等任何具有显示功能的电子设备。

在一种实施例中，显示面板包括衬底基板，光学模组位于衬底基板远离显示面板显示面一侧，在显示面板厚度方向上，光学模组与虚拟孔区交叠。可选的，光学模组包括摄像头。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明保护的范围之内。

Claims (14)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

第一显示区和虚拟孔区，所述虚拟孔区的像素密度小于所述第一显示区的像素密度；所述虚拟孔区包括多个透光区和多个非透光区，所述非透光区包括像素区和走线区；

偏光结构，位于所述显示面板的显示面一侧，所述偏光结构包括第一偏光部和第二偏光部，所述第一偏光部的透光率大于所述第二偏光部的透光率，其中，所述透光区包括所述第一偏光部，所述像素区包括所述第二偏光部。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述走线区包括所述第一偏光部；在所述虚拟孔区内，所述第二偏光部被所述第一偏光部所包围。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述偏光结构包括偏光片。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，

所述第一偏光部内染色剂离子的浓度小于所述第二偏光部内染色剂离子的浓度。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括：显示层，所述显示层包括多个发光器件，所述发光器件位于所述像素区；

所述虚拟孔区还包括遮光结构，所述遮光结构位于所述显示层远离所述显示面板的显示面一侧，所述遮光结构包括多个遮光单元，一个所述遮光单元对应一个所述发光器件，在所述显示面板的厚度方向上，所述遮光单元与所述发光器件交叠。

6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，

在所述显示面板的厚度方向上，所述发光器件与所述遮光单元完全交叠。

7.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，

所述显示面板还包括阵列基板，所述阵列基板位于所述显示层远离所述显示面一侧；

所述遮光单元位于所述阵列基板远离所述显示层一侧。

8.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，

所述显示面板包括像素电路；

在所述显示面板厚度方向上，所述遮光单元位于所述像素电路和所述发光器件之间，且所述遮光单元覆盖所述像素电路。

9.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，

所述遮光单元包括偏光层、反射层、吸光层中的一种或者多种。

10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，

所述偏光层包括反射型偏光片。

11.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述显示面板包括液晶盒，所述液晶盒位于背离所述显示面板的显示面一侧，且位于所述虚拟孔区，其中，所述液晶盒中填充有散射型液晶分子。

12.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述第一显示区内单个子像素的面积为第一面积，所述虚拟孔区内单个子像素的面积为第二面积，所述第二面积大于所述第一面积。

13.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1至12任一项所述的显示面板。

14.根据权利要求13所述的显示装置，其特征在于，还包括光学模组；

所述显示面板包括衬底基板，所述光学模组位于所述衬底基板远离所述显示面板显示面一侧，在所述显示面板厚度方向上，所述光学模组与所述虚拟孔区交叠。