CN111617852B - 湿法研磨控制方法 - Google Patents
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Abstract
本发明适用于球磨粉碎技术领域。本发明公开一种湿法研磨控制方法，该湿法研磨控制方法包括开机步骤，出料口开关处于关闭状态，先驱动分离装置先转动至第一设定转速后，再驱动分离散器转动至第二设定转速，当分离散器和分离装置分别达到各自的额定工作转速时打位于出料口的开关。使用时，配合研磨系统在停止工作时使该分离入口位于过转轴中心的平面以下，这样可以避免在停机时研磨球通过该中心通孔进入分离通道，进入分离孔。解决分离器上的分离孔较短时，在研磨停机时研磨球容易被排出。
Description
技术领域
本发明涉及一种球磨粉碎技术领域，特别涉及一种湿法研磨控制方法。
背景技术
现有的湿法球磨粉碎设备包括研磨筒体和设置在研磨筒体与转轴连接的搅拌器或分散器，以及设置在研磨筒体内物料出料通道上的分离器。在研磨时向研磨筒体内加入的研磨球大约为研磨筒体空腔的2/3以上，当采用离心原理的分离器工作时，与主轴连接的分散器和分离器高速转动起来，研磨球分布于靠近研磨筒体内壁，处于研磨筒体中间的分离器周围分布的研磨球较少，在分离时，在离心力作用下，只有研磨完成的物料会从分离器上的分离通道进入出料通道排出。当研磨装置处于静止状态，如停止工作或初始时，由于分散器和分离器未转动，研磨球在重力作用沉淀于研磨筒体下部，分离器被研磨球浸没，部分研磨球会进入分离器的分离通道入，当再次使用时就会有部分研磨球从出料通道排出，从而减少了研磨筒体内的研磨球数量，进而影响研磨效率。
为了防止静止时研磨球进入分离器上的分离通道，采用增加分离通道的长度，如中国专利文献号为CN101385989A的搅拌式球磨机发明专利，将分离通道设置为螺旋结构，增加分离通道的长度，使得在静止时即使分离器浸没有研磨球时，由于分离通道为弯曲结构，研磨球也不容易进入分离通道并在工作时通过出料通道排出。虽然上述结构部分解决了研磨球通过分离通道排出，但由于分离器结构复杂，加工困难。同时不容易控制高速转动时的分离器动平衡，影响使用受命；同时螺旋结构的分离通道时分离路径长，容易对分离通道形成堵塞，影响分离效率。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种湿法研磨控制方法，该湿法研磨控制方法可以避免分离装置上的分离孔较短时，在研磨停机到工作过程研磨球容易被排出现象，影响研磨质量和研磨球减少导致研磨效率降低。
为了解决上述问题，本发明提供一种湿法研磨控制方法，该湿法研磨控制方法，适用于卧式研磨，包括：
开机步骤，出料口开关处于关闭状态，先驱动分离装置转动至第一设定转速后，再驱动分散装置转动至第二设定转速，当分散装置和分离装置分别达到各自的额定工作转速时打开位于出料口的开关。
进一步地说，还包括关机步骤，该关机步骤包括先将出料开关关闭，再将分散装置转轴关停后，将分离装置转轴关停，最后将与研磨腔连通的排空口开关打开泄压。
进一步地说，所述第一设定转速与第二设定转速相同。
进一步地说，所述湿法研磨控制方法还包括研磨停止时检测分离入口位置，当分散装置转轴转速小于设定值时，将对驱动分离装置的转轴进行刹车，使分离装置停止时的分离入口位置位于过分离装置转轴中心的平面以下。
进一步地说，所述分离入口与过分离装置转轴中心的平面垂直。
进一步地说，还包括刹车步骤，该刹车步骤包括检测研磨停止时分离装置转动速度，根据转动速度线性施加刹车力量，并在刹车过程中不断检测并预估停车位置，当预估的停车位置不在预设的位置时对转轴进行刹车，当分散装置转动的速度小于预设值时，分离装置上的分离孔也位于预设位置时刹车，使转轴停止转动。
本发明湿法研磨控制方法，包括开机步骤，出料口开关处于关闭状态，先驱动分离装置先转动至第一设定转速后，再驱动分散装置转动至第二设定转速，当分散装置和分离装置分别达到各自的额定工作转速时打开位于出料口的开关。使用时，配合研磨系统在停止工作时使该分离入口位于过转轴中心的平面以下，这样可以避免在停机时研磨球通过该中心通孔进入分离通道，进入分离孔。解决分离装置上的分离孔较短时，在研磨停机时研磨球容易被排出。
具体实施方式
下面结合具体实施例及图对本发明的权利要求做进一步的详细说明，显然，所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提出所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
需要理解的是，在本发明的描述中，所有方向性指示的术语，如“上”、“下”等指示的方位或位置关系基于附图所示的方位或位置关系或者是该发明产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作。仅用于解释在附图所示下各部件之产的相对位置关系，运动情况等，当该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也可能随之改变。
此外，本发明中如涉及“第一”、“第二”等描述仅用于区分，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或隐含指示所指示的技术特征的数量。由此限有“第一”、“第二”的特征可以明示或隐地和至少一个该技术特征。在本发明描述中，“多个”的含义是至少两个，即两个或两个以上，除非另有明确体的限定外；“至少一个”的含义是一个或一个以及上。
本发明提供一种湿法研磨控制方法实施例。
该湿法研磨控制方法，适用于卧式研磨，包括：
开机步骤，出料口开关处于关闭状态，先驱动分离装置转动至第一设定转速后，再驱动分散装置转动至第二设定转速，当分散装置和分离装置分别达到各自的额定工作转速时打开位于出料口的开关。
所述第一设定转速与第二设定转速不作限定，可以根据需要进行设置，在本实施中采用第一设定转速与第二设定转速相同。
具体地说，研磨时，控制分散装置使研磨筒内研磨物料和研磨球高速运动，使分离装置与分散装置同步或异步转动，使研磨完成的物料通过分离装置从研磨筒内分离；研磨停止时，先将与研磨筒连通的出料口开关密封，再将与研磨筒连通的进料口的关闭，使分离通道内的压力与研磨筒内的压力保持一致，再控制分离装置停止。
使用时，配合研磨系统在停止工作时使该分离入口位于过转轴中心的平面以下，这样可以避免在停机时研磨球通过该中心通孔进入分离通道，进入分离孔。解决分离装置上的分离孔较短时，在研磨停机时研磨球容易被排出。
所述湿法研磨控制方法还包括关机步骤，该关机步骤包括先将出料开关关闭，再将分散装置转轴关停后，将分离装置转轴关停，最后将与研磨腔连通的排空口开关打开泄压。
所述湿法研磨方法还包括研磨停止时检测分离入口位置，当转速小于设定值时，将对驱动分离装置的转轴进行刹车，使分离装置停止时的分离入口位置位于过分离装置转轴中心的平面以下。所述分离入口与过分离装置转轴中心的平面垂直。
所述湿法研磨控制方法还包括刹车步骤，该刹车步骤包括检测研磨停止时分离装置转动速度，根据转动速度线性施加刹车力量，并在刹车过程中不断检测并预估停车位置，当预估的停车位置不在预设的位置时对转轴进行刹车，当转动的速度小于预设值时，分离装置上的分离孔也位于预设位置时刹车，使转轴停止转动。
以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，而这些修改或替换，并还使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。
Claims (6)
1.一种湿法研磨控制方法，适用于卧式研磨，包括：
开机步骤，出料口开关处于关闭状态，先驱动分离装置转动至第一设定转速后，再驱动分散装置转动至第二设定转速，当分散装置和分离装置分别达到各自的额定工作转速时打开位于出料口的开关。
2.根据权利要求1所述的湿法研磨控制方法，其特征在于：还包括关机步骤，该关机步骤包括先将出料开关关闭，再将分散装置转轴关停后，将分离装置转轴关停，最后将与研磨腔连通的排空口开关打开泄压。
3.根据权利要求1所述的湿法研磨控制方法，其特征在于：所述第一设定转速与第二设定转速相同。
4.根据权利要求1所述的湿法研磨控制方法，其特征在于：所述湿法研磨控制方法还包括研磨停止时检测分离入口位置，当分散装置转轴转速小于设定值时，将对驱动分离装置的转轴进行刹车，使分离装置停止时的分离入口位置位于过分离装置转轴中心的平面以下。
5.根据权利要求4所述的湿法研磨控制方法，其特征在于：所述分离入口与过分离装置转轴中心的平面垂直。
6.根据权利要求4所述的湿法研磨控制方法，其特征在于：还包括刹车步骤，该刹车步骤包括检测研磨停止时分离装置转动速度，根据分离装置转动速度线性施加刹车力量，并在刹车过程中不断检测并预估停车位置，当预估的停车位置不在预设的位置时对转轴进行刹车，当分离装置转动速度小于预设值时，分离装置上的分离孔也位于预设位置时刹车，使转轴停止转动。
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