CN111584572B - Oled显示面板及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本申请实施例提供一种OLED显示面板及其制备方法，该OLED显示面板通过去除薄膜晶体管上方的像素定义层形成用于定义反射区的第二开口，使得公共电极层填充在像素定义层的第二开口内，从而使得即使光线向上照射到公共电极层时，位于第二开口中的公共电极层可以将光线反射回去，从而避免光线被反射到薄膜晶体管上，从而缓解了现有OLED显示器件存在发光层发出的光线被反射到薄膜晶体管，导致薄膜晶体管性质不稳定的技术问题。

Description

OLED显示面板及其制备方法

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其是涉及一种OLED显示面板及其制备方法。

背景技术

现有显示技术朝着柔性显示的方向发展，OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示器件由于自发光、对比度高、广视角、柔性较好等优点被广泛应用，但在底发射OLED显示器件中，如图1所示，发光层发出的光线会被阴极反射，部分光线被反射到薄膜晶体管上，导致薄膜晶体管的性质因为光照出现变化，导致薄膜晶体管不稳定，从而导致显示不稳定，显示效果较差。

所以，现有OLED显示器件存在发光层发出的光线被反射到薄膜晶体管，导致薄膜晶体管性质不稳定的技术问题。

发明内容

本申请实施例提供一种OLED显示面板及其制备方法，用以解决现有OLED显示器件存在发光层发出的光线被反射到薄膜晶体管，导致薄膜晶体管性质不稳定的技术问题。

本申请实施例提供一种OLED显示面板，该OLED显示面板包括：

衬底；

驱动电路层，设置于所述衬底上，所述驱动电路层形成有薄膜晶体管；

平坦化层，设置于所述驱动电路层上；

像素电极层，设置于所述平坦化层上，所述像素电极层的材料为透光材料；

像素定义层，设置于所述像素电极层上，所述像素定义层在对应发光区域的位置形成有用于定义像素区的第一开口，在对应所述薄膜晶体管的区域上方形成有用于定义反射区的第二开口；

发光层，设置于所述第一开口内；

公共电极层，平铺在所述发光层、所述像素定义层以及所述第二开口上，所述公共电极层的材料为不透光材料，位于所述第二开口内的公共电极层用于反射所述发光层发出的光线。

在一些实施例中，所述反射区在所述衬底上的投影范围，等于或者大于所述薄膜晶体管在所述衬底上的投影范围。

在一些实施例中，所述第二开口贯穿所述像素定义层。

在一些实施例中，所述第二开口的侧边与所述平坦化层的夹角的范围为30度至150度。

在一些实施例中，所述薄膜晶体管包括非晶硅薄膜晶体管、氧化物薄膜晶体管、低温多晶硅薄膜晶体管中的一种。

在一些实施例中，所述像素电极层的材料包括氧化铟锡、氧化铟锌中的一种。

在一些实施例中，所述像素电极层的厚度范围为500埃至2000埃。

在一些实施例中，所述像素定义层的材料包括感光型树脂。

在一些实施例中，所述像素定义层的厚度范围为0.5微米至3微米。

同时，本申请实施例提供一种OLED显示面板制备方法，该OLED显示面板制备方法包括：

提供衬底；

在所述衬底上形成驱动电路层；所述驱动电路层形成有薄膜晶体管；

在所述驱动电路层上形成平坦化层；

在所述平坦化层上使用透光材料形成像素电极层；

在所述像素电极层上形成像素定义层，并刻蚀所述像素定义层形成对应发光区域的用于定义像素区的第一开口、以及对应所述薄膜晶体管区域的用于定义反射区的第二开口；

在所述第一开口内形成发光层；

在所述发光层、所述像素定义层和所述第二开口上采用不透光材料形成公共电极层；位于所述第二开口内的公共电极层用于反射所述发光层发出的光线。

有益效果：本申请实施例提供一种OLED显示面板及其制备方法，该OLED显示面板包括衬底、驱动电路层、平坦化层、像素电极层、像素定义层、发光层、公共电极层，所述驱动电路层设置于所述衬底上，所述驱动电路层形成有薄膜晶体管，所述平坦化层设置于所述驱动电路层上，所述像素电极层设置于所述平坦化层上，所述像素电极层的材料为透光材料，所述像素定义层设置于所述像素电极层上，所述像素定义层在对应发光区域的位置形成有用于定义像素区的第一开口，在对应所述薄膜晶体管的区域上方形成有用于定义反射区的第二开口，所述发光层设置于所述第一开口内，所述公共电极层平铺在所述发光层、所述像素定义层以及所述第二开口上，所述公共电极层的材料为不透光材料，位于所述第二开口内的公共电极层用于反射所述发光层发出的光线；通过去除薄膜晶体管上方的像素定义层形成用于定义反射区的第二开口，使得公共电极层填充在像素定义层的第二开口内，从而使得即使光线向上照射到公共电极层时，位于第二开口中的公共电极层可以将光线反射回去，从而避免光线被反射到薄膜晶体管上，从而缓解了现有OLED显示器件存在发光层发出的光线被反射到薄膜晶体管，导致薄膜晶体管性质不稳定的技术问题。

附图说明

下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。

图1为现有OLED显示面板的示意图。

图2为本申请实施例提供的OLED显示面板的示意图。

图3为本申请实施例提供的OLED显示面板制备方法的流程图。

图4为本申请实施例提供的OLED显示面板制备方法的各个步骤对应的OLED显示面板的第一示意图。

图5为本申请实施例提供的OLED显示面板制备方法的各个步骤对应的OLED显示面板的第二示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。

本申请实施例针对现有OLED显示器件存在发光层发出的光线被反射到薄膜晶体管，导致薄膜晶体管性质不稳定的技术问题，本申请实施例用以缓解该问题。

如图1所示，现有底发射型OLED显示面板包括衬底11、薄膜晶体管12、平坦化层13、阳极层14、像素定义层15、发光层16、阴极层17，从图1中可以看到，在发光层16发出光线时，光线18会被阴极层反射，导致光线18照射到薄膜晶体管12上，导致薄膜晶体管的性质发生变化，从而在薄膜晶体管工作时，出现电压不稳定，电压与设置不符等问题，导致显示时显示效果较差，所以，现有OLED显示器件存在发光层发出的光线被反射到薄膜晶体管，导致薄膜晶体管性质不稳定的技术问题。

如图2所示，本申请实施例提供一种OLED显示面板，该OLED显示面板包括：

衬底21；

驱动电路层，设置于所述衬底21上，所述驱动电路层形成有薄膜晶体管22；

平坦化层23，设置于所述驱动电路层上；

像素电极层24，设置于所述平坦化层23上；所述像素电极层24的材料为透光材料。

像素定义层25，设置于所述像素电极层24上，所述像素定义层25在对应发光区域的位置形成有用于定义像素区的第一开口252，在对应所述薄膜晶体管22的区域上方形成有用于定义反射区的第二开口251；

发光层26，设置于所述第一开口252内；

公共电极层27，平铺在所述发光层26、所述像素定义层25以及所述第二开口251上，所述公共电极层27的材料为不透光材料，位于所述第二开口251内的公共电极层27用于反射所述发光层26发出的光线28。

本申请实施例提供一种OLED显示面板，该OLED显示面板包括衬底、驱动电路层、平坦化层、像素电极层、像素定义层、发光层、公共电极层，所述驱动电路层设置于所述衬底上，所述驱动电路层形成有薄膜晶体管，所述平坦化层设置于所述驱动电路层上，所述像素电极层设置于所述平坦化层上，所述像素电极层的材料为透光材料，所述像素定义层设置于所述像素电极层上，所述像素定义层在对应发光区域的位置形成有用于定义像素区的第一开口，在对应所述薄膜晶体管的区域上方形成有用于定义反射区的第二开口，所述发光层设置于所述第一开口内，所述公共电极层平铺在所述发光层、所述像素定义层以及所述第二开口上，所述公共电极层的材料为不透光材料，位于所述第二开口内的公共电极层用于反射所述发光层发出的光线；通过去除薄膜晶体管上方的像素定义层形成用于定义反射区的第二开口，使得公共电极层填充在像素定义层的第二开口内，从而使得即使光线向上照射到公共电极层时，位于第二开口中的公共电极层可以将光线反射回去，从而避免光线被反射到薄膜晶体管上，从而缓解了现有OLED显示器件存在发光层发出的光线被反射到薄膜晶体管，导致薄膜晶体管性质不稳定的技术问题。

需要说明的是，第二开口定义反射区，反射区的在衬底上的投影范围等于或者大于第二开口在衬底上的投影范围。

如图2所示，光线28在照射到第二开口内的公共电极层上时，会经过两次反射，使得光线不会照射到薄膜晶体管，或者光线直接照射到反射区内的公共电极层上，被反射，均不会照射到薄膜晶体管上，从而保证薄膜晶体管。

在一种实施例中，所述薄膜晶体管包括栅极层、栅极绝缘层、有源层和源漏极层。

在一种实施例中，所述驱动电路层包括缓冲层、栅极层、栅极绝缘层、有源层、层间绝缘层、源漏极层、钝化层。

在一种实施例中，所述反射区在所述衬底上的投影范围，等于或者大于所述薄膜晶体管在所述衬底上的投影范围，在设置反射区时，将反射区在衬底上的投影范围上，等于或者大于薄膜晶体管在衬底上的投影范围，使得在光线进入到薄膜晶体管上方上，反射区内的第二开口内的公共电极层会与光线接触，从而将光线反射回去，避免进行到薄膜晶体管对应的区域的光线照射到薄膜晶体管上方，因此可以使得反射区内的公共电极层保护薄膜晶体管，薄膜晶体管不会受到光照。

在一种实施例中，所述反射区在所述衬底上的投影范围，小于所述薄膜晶体管在所述衬底上的投影范围，在像素定义层上设置反射区时，可以使得反射区在衬底上的投影范围小于薄膜晶体管的在衬底上的投影范围，对反射区的深度和角度进行设计，保证照射到薄膜晶体管对应的区域的光线能够被反射区内的第二开口内的公共电极层反射，从而避免薄膜晶体管被光照射。

在一种实施例中，所述第二开口的深度等于所述像素定义层的厚度与所述像素电极层的厚度的差值，在设置第二开口的深度时，将第二开口的深度设置为像素定义层的厚度与像素电极层的厚度的差值，使得第二开口的深度较大，从而可以使得光线在照射到薄膜晶体管对应的区域时，光线会照射到反射区内的第二开口内的公共电极层上，从而被反射出去，避免光线被反射到薄膜晶体管上，对薄膜晶体管进行保护。

在一种实施例中，所述第二开口贯穿所述像素定义层，即使得所述第二开口的深度等于所述像素定义层的厚度，在设置第二开口的深度时，可以进一步的将第二开口的深度设置为像素定义层的厚度，使得光线在照射或者被反射到薄膜晶体管对应的区域时，由于像素区的角度的存在、薄膜晶体管对应区域与像素区之间距离的存在，光线会照射或者被反射到反射区中第二开口内的公共电极层上，从而使得反射区中第二开口内的公共电极层将光线反射出薄膜晶体管对应的区域，避免光线照射到薄膜晶体管上，从而对薄膜晶体管进行保护。

需要说明的是，本申请实施例中第二开口的深度可以为一个取值范围，该取值范围的下限可以设置为像素定义层的厚度减去像素电极层的厚度，再减去发光层的厚度，该取值范围的上限可以设置为像素定义层的厚度，在该取值范围内设置第二开口的深度，然后将第二开口的角度进行设置，从而保证光线能够照射或者被反射到反射区内第二开口内的公共电极层上，从而对公共电极层进行保护。

在一种实施例中，如图2所示，所述第二开口的侧边与所述平坦化层的夹角A的范围为30度至150度，在设置反射区的侧边与平坦化层形成的夹角时，不能使夹角过小，在夹角过小时会使得光线在反射到反射区内的公共电极层上时，在反射区的宽度较小时，光线可能会由于角度较小，被反射到薄膜晶体管上，无法起到保护作用，在设置反射区的侧边与平坦化层形成的夹角时，不能使夹角过大，在夹角过大时，光线可能无法被反射到反射区内的公共电极层上，设置反射层的侧边与平坦化层形成的夹角的范围为30度至150度，在夹角为锐角时，可以使得光线被反射到OLED显示面板内部，在夹角为钝角时，可以使得光线被反射到OLED显示面板外部，在选择角度时，为了避免光线对显示产生影响，可以避免光线被反射到OLED显示面板外部，因此，设置反射区的侧边与平坦化层之间的角度为锐角，从而使得光线被反射区内的公共电极层反射，对薄膜晶体管进行保护，同时，光线被反射至OLED显示面板内部，避免了光线对OLED显示面板的显示效果产生影响。

在一种实施例中，所述第二开口的侧边与所述平坦化层的夹角的范围为30度至90度，为了使得光线反射到OLED显示面板内部，将第二开口的侧边与所述平坦化层的夹角设置为锐角。

在一种实施例中，OLED显示面板包括衬底、驱动电路层、平坦化层、像素电极层、像素定义层、发光层、公共电极层，其中，在对应所述薄膜晶体管的区域，所述像素定义层形成有反射区，所述反射区内设置有反射层，所述公共电极层设置于所述反射层上，在为了避免光线照射到薄膜晶体管上时，通过将像素定义层设置反射区，在反射区内设置反射层，使得反射层可以将光线反射出薄膜晶体管对应的区域，从而对薄膜晶体管进行保护。

在一种实施例中，所述薄膜晶体管包括非晶硅薄膜晶体管、氧化物薄膜晶体管、低温多晶硅薄膜晶体管中的一种，在对薄膜晶体管进行保护时，薄膜晶体管可以为非晶硅薄膜晶体管、氧化物薄膜晶体管和低温多晶硅薄膜晶体管，即在对OLED显示面板中的薄膜晶体管进行保护，避免光照射到薄膜晶体管时，薄膜晶体管可以为非晶硅薄膜晶体管、氧化物薄膜晶体管、低温多晶硅薄膜晶体管中的任一种薄膜晶体管。

在一种实施例中，所述像素电极层的材料包括氧化铟锡、氧化铟锌中的一种，在像素电极层制备过程中，可以采用氧化铟锡、氧化铟锌制备像素电极层，即对于具有各种材料的像素电极层的OLED显示面板，均可以通过采用本申请实施例中在像素定义层上形成反射区，在反射区中填充公共电极层，对薄膜晶体管进行保护。

在一种实施例中，所述像素电极层的厚度范围为500埃至2000埃，在选择像素电极层的厚度时，可以使得像素电极层的厚度较大，从而可以使得发光层在像素定义层中所处的高度较大，从而使得在设置反射区时，反射区的深度可以设置较小，反射区内的公共电极层仍然能够对光线进行反射，从而对薄膜晶体管进行保护，同时，在反射区的深度较低时，可以保证OLED显示面板的柔性，同时，可以尽量避免OLED显示面板中出现短路，使得OLED显示面板正常工作。

在一种实施例中，所述像素定义层的材料包括感光型树脂，在选择像素定义层的材料时，选择感光型树脂作为像素定义层的材料，可以在后续形成反射区时，直接通过光照去除像素定义层的材料，从而形成反射区。

在一种实施例中，所述像素定义层的厚度范围为0.5微米至3微米。

在一种实施例中，所述公共电极层的材料包括银、镁。

在一种实施例中，所述OLED显示面板还包括封装层，所述封装层包括第一无机层、第二无机层、以及设置于所述第一无机层和所述第二无机层之间的有机层。

如图3所示，本申请实施例提供一种OLED显示面板制备方法，该OLED显示面板制备方法包括：

S1，提供衬底21；其制备结果如图4中的(a)所示；

S2，在所述衬底21上形成驱动电路层；所述驱动电路层形成有薄膜晶体管22；其制备结果如图4中的(a)所示；

S3，在所述驱动电路层上形成平坦化层23；其制备结果如图4中的(a)所示；

S4，在所述平坦化层23上使用透光材料形成像素电极层24；其制备结果如图4中的(a)所示；

S5，在所述像素电极层24上形成像素定义层25，其制备结果如图4中的(b)所示，并刻蚀所述像素定义层25形成对应发光区域的用于定义像素区的第一开口252、以及对应所述薄膜晶体管区域的用于定义反射区的第二开口251；其制备结果如图5中的(a)所示；

S6，在所述第一开口251内形成发光层26；其制备结果如图5中的(b)所示；

S7，在所述发光层26、所述像素定义层25和所述第二开口251上采用不透光材料形成公共电极层27；位于所述第二开口251内的公共电极层27用于反射所述发光层26发出的光线28；其制备结果如图5中的(b)所示；。

本申请实施例提供一种OLED显示面板制备方法，该OLED显示面板制备方法制备的OLED显示面板包括衬底、驱动电路层、平坦化层、像素电极层、像素定义层、发光层、公共电极层，所述驱动电路层设置于所述衬底上，所述驱动电路层形成有薄膜晶体管，所述平坦化层设置于所述驱动电路层上，所述像素电极层设置于所述平坦化层上，所述像素电极层的材料为透光材料，所述像素定义层设置于所述像素电极层上，所述像素定义层在对应发光区域的位置形成有用于定义像素区的第一开口，在对应所述薄膜晶体管的区域上方形成有用于定义反射区的第二开口，所述发光层设置于所述第一开口内，所述公共电极层平铺在所述发光层、所述像素定义层以及所述第二开口上，所述公共电极层的材料为不透光材料，位于所述第二开口内的公共电极层用于反射所述发光层发出的光线；通过去除薄膜晶体管上方的像素定义层形成用于定义反射区的第二开口，使得公共电极层填充在像素定义层的第二开口内，从而使得即使光线向上照射到公共电极层时，位于第二开口中的公共电极层可以将光线反射回去，从而避免光线被反射到薄膜晶体管上，从而缓解了现有OLED显示器件存在发光层发出的光线被反射到薄膜晶体管，导致薄膜晶体管性质不稳定的技术问题。

在一种实施例中，所述在所述平坦化层上形成像素电极层的步骤包括：在所述平坦化层上沉积氧化铟锡形成像素电极层，刻蚀所述像素电极层形成所述像素电极图案；在制作像素电极层时，可以采用沉积的方式形成像素电极层；具体的，可以采用物理气相沉积和化学气相沉积。

在一种实施例中，所述在所述像素电极层上形成像素定义层，并刻蚀所述像素定义层形成像素区域、以及位于所述薄膜晶体管上方的反射区的步骤包括：

在所述像素电极层上涂布一层像素定义层；

采用黄光工艺刻蚀所述像素定义层形成像素定义层图案；所述像素定义层图案包括像素区域、以及位于所述薄膜晶体管上方的反射区。

在一种实施例中，所述在所述像素区域内形成发光层的步骤包括：在所述像素区域内喷墨打印墨水，干燥所述墨水形成发光层。

在一种实施例中，在所述发光层、所述像素定义层和所述第二开口上形成公共电极层的步骤包括：在所述发光层、所述像素定义层和所述第二开口上蒸镀银，形成所述发光层。

根据以上实施例可知：

本申请实施例提供一种OLED显示面板及其制备方法，该OLED显示面板包括衬底、驱动电路层、平坦化层、像素电极层、像素定义层、发光层、公共电极层，所述驱动电路层设置于所述衬底上，所述驱动电路层形成有薄膜晶体管，所述平坦化层设置于所述驱动电路层上，所述像素电极层设置于所述平坦化层上，所述像素电极层的材料为透光材料，所述像素定义层设置于所述像素电极层上，所述像素定义层在对应发光区域的位置形成有用于定义像素区的第一开口，在对应所述薄膜晶体管的区域上方形成有用于定义反射区的第二开口，所述发光层设置于所述第一开口内，所述公共电极层平铺在所述发光层、所述像素定义层以及所述第二开口上，所述公共电极层的材料为不透光材料，位于所述第二开口内的公共电极层用于反射所述发光层发出的光线；通过去除薄膜晶体管上方的像素定义层形成用于定义反射区的第二开口，使得公共电极层填充在像素定义层的第二开口内，从而使得即使光线向上照射到公共电极层时，位于第二开口中的公共电极层可以将光线反射回去，从而避免光线被反射到薄膜晶体管上，从而缓解了现有OLED显示器件存在发光层发出的光线被反射到薄膜晶体管，导致薄膜晶体管性质不稳定的技术问题。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

以上对本申请实施例所提供的一种OLED显示面板及其制备方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (8)

1.一种OLED显示面板，其特征在于，包括：

衬底；

驱动电路层，设置于所述衬底上，所述驱动电路层形成有薄膜晶体管；

平坦化层，设置于所述驱动电路层上；

像素电极层，设置于所述平坦化层上，所述像素电极层的材料为透光材料；

像素定义层，设置于所述像素电极层上，所述像素定义层在对应发光区域的位置形成有用于定义像素区的第一开口，在对应所述薄膜晶体管的区域上方形成有用于定义反射区的第二开口；

发光层，设置于所述第一开口内；

公共电极层，平铺在所述发光层、所述像素定义层以及所述第二开口上，所述公共电极层的材料为不透光材料，位于所述第二开口内的公共电极层用于反射所述发光层发出的光线；所述反射区在所述衬底上的投影范围，等于或者大于所述薄膜晶体管在所述衬底上的投影范围，所述第二开口的侧边与所述平坦化层的夹角的范围为30度至90度。

2.如权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，所述第二开口贯穿所述像素定义层。

3.如权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，所述薄膜晶体管包括非晶硅薄膜晶体管、氧化物薄膜晶体管、低温多晶硅薄膜晶体管中的一种。

4.如权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，所述像素电极层的材料包括氧化铟锡、氧化铟锌中的一种。

5.如权利要求4所述的OLED显示面板，其特征在于，所述像素电极层的厚度范围为500埃至2000埃。

6.如权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，所述像素定义层的材料包括感光型树脂。

7.如权利要求6所述的OLED显示面板，其特征在于，所述像素定义层的厚度范围为0.5微米至3微米。

8.一种OLED显示面板制备方法，其特征在于，制备如权利要求1至7任一所述的OLED显示面板，所述OLED显示面板制备方法包括：

提供衬底；

在所述衬底上形成驱动电路层；所述驱动电路层形成有薄膜晶体管；

在所述驱动电路层上形成平坦化层；

在所述平坦化层上使用透光材料形成像素电极层；

在所述像素电极层上形成像素定义层，并刻蚀所述像素定义层形成对应发光区域的用于定义像素区的第一开口、以及对应所述薄膜晶体管区域的用于定义反射区的第二开口；

在所述第一开口内形成发光层；

在所述发光层、所述像素定义层和所述第二开口上采用不透光材料形成公共电极层；位于所述第二开口内的公共电极层用于反射所述发光层发出的光线。

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