CN111554716B - 显示装置及其制作方法、电子设备 - Google Patents

Abstract

本公开是关于一种显示装置及其制作方法、电子设备，所述显示装置包括显示面板、第一透镜和第二透镜，所述显示面板包括基板和像素定义层，所述像素定义层设于所述基板的一侧，所述基板上设置有发光单元，所述像素定义层环绕所述发光单元，所述像素定义层上和所述发光单元相邻的区域设置有容置孔；所述第一透镜设于所述容置孔，所述基板上具有透光区，所述透光区位于所述第一透镜在所述基板上的投影区域；所述第二透镜设于所述基板远离所述像素定义层的一侧，并且所述第二透镜位于所述透光区。能够提高显示装置透光区的显示效果。

Description

显示装置及其制作方法、电子设备

技术领域

本公开涉及电子设备技术领域，具体而言，涉及一种显示装置及其制作方法、电子设备。

背景技术

随着技术的发展和进步，为了实现电子设备的全屏显示，通常将电子设备的前置摄像头置于电子设备的显示屏之下。目前为了实现屏下摄像，往往在显示屏上设置透光区域，该透光区域的像素密度小于正常显示区的像素密度。由于透光区域的像素密度小，导致透光区域显示效果差。

需要说明的是，在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

本公开的目的在于提供一种显示装置及其制作方法、电子设备，进而至少在一定程度上提高显示装置屏下摄像头对应区域的显示效果。

根据本公开的第一个方面，提供一种显示装置，所述显示装置包括：

显示面板，所述显示面板包括基板和像素定义层，所述像素定义层设于所述基板的一侧，所述基板上设置有发光单元，所述像素定义层环绕所述发光单元，所述像素定义层上和所述发光单元相邻的区域设置有容置孔；

第一透镜，所述第一透镜设于所述容置孔，所述基板上具有透光区，所述透光区位于所述第一透镜在所述基板上的投影区域；

第二透镜，所述第二透镜设于所述基板远离所述像素定义层的一侧，并且所述第二透镜位于所述透光区。

根据本公开的第二个方面，提供一种显示装置的制作方法，所述制作方法包括：

提供一显示面板；

在所述显示面板的像素定义层上形成容置孔，并在容置孔内形成第一透镜；

在所述基板远离所述像素定义层的一侧形成第二透镜。

根据本公开的第三个方面，提供一种电子设备，所述电子设备包括上述的显示装置。

本公开实施例提供的显示装置，通过设置在基板两侧的第一透镜和第二透镜能够增大通过第一透镜和第二透镜的光线的视角，能够减小显示面板上的透光区，进而能够提高透光区域的像素密度，减小透光区域的像素密度和正常显示区的像素密度差异，进而提高透光区的显示效果。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本公开示例性实施例提供的第一种显示装置的结构示意图；

图2为本公开示例性实施例提供的第二种显示装置的结构示意图；

图3为本公开示例性实施例提供的第三种显示装置的结构示意图；

图4为本公开示例性实施例提供的第四种显示装置的结构示意图；

图5为本公开示例性实施例提供的第五种显示装置的结构示意图；

图6为本公开示例性实施例提供的一种显示装置制作方法的流程图；

图7为本公开示例性实施例提供的一种电子设备的示意图。

图中：

100、显示面板；110、像素定义层；111、容置孔；120、基板；121、发光单元；122、透光区；123、基底；124、像素电路层；1241、晶体管；1242、金属走线；125、平坦化层；126、第一电极层；127、第二电极层；200、第一透镜；300、第二透镜；400、摄像模组；

11、第一显示区；12、第二显示区；20、边框；30、主板；40、电池；50、后盖。

具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本发明将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略它们的详细描述。

虽然本说明书中使用相对性的用语，例如“上”“下”来描述图标的一个组件对于另一组件的相对关系，但是这些术语用于本说明书中仅出于方便，例如根据附图中所述的示例的方向。能理解的是，如果将图标的装置翻转使其上下颠倒，则所叙述在“上”的组件将会成为在“下”的组件。当某结构在其它结构“上”时，有可能是指某结构一体形成于其它结构上，或指某结构“直接”设置在其它结构上，或指某结构通过另一结构“间接”设置在其它结构上。

用语“一个”、“一”、“该”、“所述”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等；用语“包括”和“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等；用语“第一”、“第二”等仅作为标记使用，不是对其对象的数量限制。

本示例实施方式中首先提供了一种显示装置，如图1所示，该显示装置包括：显示面板100、第一透镜200和第二透镜300，显示面板100包括基板120和像素定义层110，像素定义层110设于基板120的一侧，基板120上设置有发光单元121，像素定义层110环绕发光单元121，像素定义层110上和发光单元121相邻的区域设置有容置孔111；第一透镜200设于容置孔111，基板120上具有透光区122，透光区122位于第一透镜200在基板120上的投影区域；第二透镜300设于基板120远离像素定义层110的一侧，并且第二透镜300位于透光区122。

本公开实施例提供的显示装置，通过设置在基板120两侧的第一透镜200和第二透镜300能够增大通过第一透镜200和第二透镜300的光线的视角，能够减小显示面板100上的透光区122，进而能够提高透光区122域的像素密度，减小透光区122域的像素密度和正常显示区的像素密度差异，进而提高透光区域的显示效果。

本公开实施例提供的显示装置可以是OLED显示装置。显示装置上设置有透光区122域，该显示装置可以是透明屏或者是能够用于屏下摄像的显示屏。第一透镜200设于像素定义层110，并且第一透镜200远离基板120的一侧不高于像素定义层110远离基板120的表面。

其中，显示面板100可以包括基板120、像素定义层110、第二电极层127和盖板玻璃，像素定义层110设于基板120的一侧，第二电极层127设于像素定义层110远离基板120的一侧，盖板玻璃设于第二电极层127远离基板120的一侧。发光单元121设于第一电极层126远离驱动电路层124的一侧，像素定义层110环绕发光单元121。

如图4所示，基板120可以包括玻璃基板(图中未示出)、基底123、驱动电路层124、第一电极层126和发光单元121等。驱动电路层124设于基底123靠近像素定义层110的一侧，第一电极层126设于驱动电路层124远离基底123的一侧。基底123可以是半导体衬底比如二氧化硅层和氮化硅层等。驱动电路层124包括多个晶体管1241和金属走线1242。在驱动电路层124中还填充有层间绝缘层和平坦化层125等。

如图1所示，第一透镜200为凹透镜，第二透镜300为凸透镜，凹透镜嵌于像素定义层110，并且凹透镜不高于像素定义层110远离基板120的表面。

此时，显示装置可以是用于屏下摄像的显示装置，外界的光线经过凹透镜、基板120和凸透镜进入屏下摄像头。由于凹凸透镜的作用外界光线能够进入屏下摄像头的视角增大，也即是通过显示面板100上较小的透光区122将外界的光线传输至屏下摄像头。避免了为了使外界光线进入屏下摄像头而降低屏下摄像头所对应的区域的像素密度。

其中，凹透镜不高于像素定义层110远离基板120的表面是指凹透镜远离基板120的一表面上的任意一点不高于像素定义层110远离基板120的表面。在实际应用中，由于设于像素定义层110的凹透镜的最高点为凹透镜远离基板120的边缘，因此凹透镜远离基板120的边缘不高于像素定义层110远离基板120的表面。如此可以保证凹透镜周围的发光单元121所发的光在斜视角的情况下，不被凹透镜所折射，提升了斜视角下显示面板100的显示效果。

示例的，凹透镜远离基板120一侧的边缘和像素定义层110远离基板120的一面平齐。凹透镜远离基板120一侧的边缘和像素定义层110远离基板120的一面平齐，不仅不影响显示装置显示效果的，并且会最大化屏下摄像头视角，有利于屏下摄像头的成像效果。

当显示装置为用于屏下摄像的显示装置时，显示面板100上设置有屏下摄像透光区122域。第一透镜200和第二透镜300分别设于屏下摄像透光区122域的两侧。在屏下摄像透光区122域还设置有发光单元，发光单元和第一透镜200交错分布。发光单元可以是RGB像素单元。屏下摄像透光区122域的像素密度可以和正常显示区域的像素密度相同，或者屏下摄像透光区122域的像素密度可以小于正常显示区域的像素密度。

示例的，如图3所示，显示装置包括多个第一透镜200和多个第二透镜300，多个第一透镜200在屏下摄像透光区122域对应的像素定义层110内阵列式分布，每个第一透镜200对应一个第二透镜300。

屏下摄像头在使用时，外界光线穿过凹透镜、显示面板100上凹透镜下方的透明区域和凸透镜进入屏下摄像头。摄像头通过凹透镜和凸透镜能够接收外界光线的视场角为120度。凹透镜的焦距较短，能够将外界物体缩小成正立的虚像，该正立的虚像位于凸透镜的第一焦点之内，通过凸透镜对凹透镜所成的虚像进行放大，从而得到正立的放大虚像。该正立的虚像进入屏下摄像头，形成前置摄像头拍照。

需要说明的是，由于显示面板100的厚度固定，因此可以通过调节凹透镜和凸透镜的参数实现屏下摄像头的成像。凹透镜和凸透镜被配置为凹透镜所成的外界的虚像位于凸透镜的第一焦点和凹透镜之间。

如图2所示，第一透镜200为凸透镜，第二透镜300为凹透镜，凸透镜嵌于像素定义层110，并且凸透镜不高于像素定义层110远离基板120的表面。

此时，显示装置可以是透明显示装置，显示装置背面的光线经过凹透镜、基板120和凸透镜传输至显示装置的出光侧。由于凹凸透镜的作用显示装置背面光线能够进入显示装置的视角增大，也即是通过显示面板100上较小的透光区122将显示装置背面光线传输至显示装置的出光侧。避免了为了使显示装置背面的光穿过显示装置降低透明区域的像素密度。

其中，凸透镜不高于像素定义层110远离基板120的表面是指凸透镜远离基板120的一表面上的任意一点不高于像素定义层110远离基板120的表面。在实际应用中，由于设于像素定义层110的凸透镜的最高点为凸透镜的中心位置，因此凸透镜远离基板120的中心不高于像素定义层110远离基板120的表面。如此可以保证凸透镜周围的发光单元121所发的光在斜视角的情况下，不被凸透镜所折射，提升了斜视角下显示面板100的显示效果。

示例的，凸透镜远离基板120一侧的中心和像素定义层110远离基板120的一面平齐。凹透镜远离基板120一侧的边缘和像素定义层110远离基板120的一面平齐，不仅不影响显示装置显示效果的，并且避免了像素定义层110遮挡凸透镜的出光，有利于透明显示装置的透明效果。

当显示装置为透明显示装置时，在显示装置不显示画面时，显示装置背面的光线能够穿过显示装置。显示面板100上可以设置有多个透光区122，多个透光区122可以分布于显示面板100的部分区域，比如，在悬浮显示装置中位于显示面板100下的光源所发的光需要穿过显示面板100，在显示面板100的上方形成悬浮显示图像。悬浮显示区域可以是显示面板100的部分或全部区域。或者透明显示装置可以是整板透明，在不显示时作为玻璃使用，比如商品展示窗等。透明显示面板100上布置有多个用于显示的发光单元，发光单元和透光区122域交错分布，也即是发光单元和第一透镜200交错分布。

示例的，显示装置包括多个第一透镜200和多个第二透镜300，多个第一透镜200在透光区122域对应的像素定义层110内阵列式分布，每个第一透镜200对应一个第二透镜300。

透明显示装置在使用时，显示装置背面的光线穿过凹透镜、显示面板100上凹透镜上方的透明区域和凸透镜射出显示装置。通过凹透镜和凸透镜的光线的视场角为120度。凹透镜的焦距较短，能够将显示面板100背面物体缩小成正立的虚像，该正立的虚像位于凸透镜的第一焦点之内，通过凸透镜对凹透镜所成的虚像进行放大，从而得到正立的放大虚像。该正立的虚像射出显示装置。

如图5所示，基板120包括基底123、驱动电路层124、第一电极层126、发光单元121、第二电极层127和玻璃基板(图中未示出)。驱动电路层124设于基底123靠近像素定义层110的一侧；第一电极层126设于驱动电路层124远离基底123的一侧；发光单元121设于第一电极层126远离驱动电路层124的一侧，像素定义层110环绕发光单元121，并且像素定义层110在发光单元121远离第一电极层126的一侧设置有发光开口，发光开口和容置孔111交错分布。

驱动电路层124中设置有像素驱动电路，驱动电路和第一透镜200在驱动电路层124上的投影错开分布。也即是第一透镜200在驱动电路层124上的投影和像素驱动电路不重合。其中，像素驱动电路可以包括多个晶体管1241和金属走线1242，第一透镜200在驱动电路层124的投影和驱动晶体管1241以及金属走线1242不重合。

第一电极层126可以是像素电极层，像素电极层中包括多个像素电极，第二电极层127可以是公共电极层，第二电极层127设于像素定义层110远离驱动电路层124的一侧，并且第二电极层127覆盖发光单元121，第二电极层127为透明电极。或者第二电极层127上和第一透镜200对应的区域上设置有通孔。将第二电极层127设置为透明电极或者在第二电极层127上设置通孔能够使得光线通过第二电极层127，有利于实现屏下摄像或者透明显示装置的透光功能。

第一电极层126可以设于基板120远离像素定义层110的一侧，比如，第二透镜300设于基底123远离驱动电路层124的一侧。或者当基板120还包括玻璃基板时，玻璃基板设于基底123远离驱动电路层124的一侧，第二透镜300设于玻璃基板远离基底123的一侧。第二透镜300可以设于基板120的表面，或者可以在基板120远离像素定义层110的一侧形成容置孔，将第二透镜300设于基板上的容置孔内。

需要说明的是，本公开实施例提供的第一透镜200和第二透镜300均为单面透镜。示例的，第一透镜200可以是单面凹透镜，并且第一透镜200朝向基板120下凹，第二透镜300可以是单面凸透镜，并且第二透镜300朝向远离基板120的方向凸起。或者第一透镜200可以是单面凸透镜，并且第一透镜200朝向远离基板120的方向凸起，第二透镜300为单面凹透镜，并且第二透镜300朝向基板120的方向下凹。其中，第一透镜200的曲率可以和第二透镜300的曲率相同，当然在实际应用中第一透镜200的曲率可以和第二透镜300的曲率不同，本公开实施并不以此为限。

本公开实施例提供的显示装置，通过设置在基板120两侧的第一透镜200和第二透镜300能够增大通过第一透镜200和第二透镜300的光线的视角，能够减小显示面板100上的透光区122，进而能够提高透光区122域的像素密度，减小透光区122域的像素密度和正常显示区的像素密度差异，进而提高透光区域的显示效果。

本公开示例性实施例还提供一种显示装置的制作方法，如图6所示，制作方法包括如下步骤：

步骤S610，提供一显示面板；

步骤S630，在显示面板的像素定义层上形成容置孔，并在容置孔内形成第一透镜；

步骤S650，在基板远离像素定义层的一侧形成第二透镜300。

本公开实施例提供的显示装置的制作方法，通过在显示面板100的像素定义层110内形成第一透镜200，在基板120远离像素定义层110的一侧形成第二透镜300，通过设置在基板120两侧的第一透镜200和第二透镜300能够增大通过第一透镜200和第二透镜300的光线的视角，能够减小显示面板100上的透光区122，进而能够提高透光区122域的像素密度，减小透光区122域的像素密度和正常显示区的像素密度差异，进而提高透光区122的显示效果。

在步骤S610中，可以提供一显示面板100。

其中，该显示面板100可以是OLED显示面板100。显示面板100可以包括基板120、像素定义层110、第二电极层127和盖板玻璃，像素定义层110设于基板120的一侧，第二电极层127设于像素定义层110远离基板120的一侧，盖板玻璃设于第二电极层127远离基板120的一侧。发光单元121设于第一电极层126远离驱动电路层124的一侧，像素定义层110环绕发光单元121。

基板120可以包括玻璃基板、基底123、驱动电路层124、第一电极层126和发光单元121等。驱动电路层124设于基底123靠近像素定义层110的一侧，第一电极层126设于驱动电路层124远离基底123的一侧。基底123可以是半导体衬底比如二氧化硅层和氮化硅层等。驱动电路层124包括多个晶体管和金属走线。在驱动电路层124中还填充有层间绝缘层和平坦化层等。

在步骤S630中，可以在显示面板100的像素定义层110上形成容置孔111，并在容置孔111内形成第一透镜200。

步骤S630可以通过如下方式实现：通过光刻在显示面板100的像素定义层110上形成容置孔111；通过光刻胶热回流、激光直写或者灰度掩模在容置孔111内形成第一透镜200。

基板120包括多个发光单元，容置孔111和发光单元交错分布。可以通过光刻的方式在像素定义层110上形成容置孔111。可以在显示面板100制作过程中，在显示面板100上形成容置孔111。在显示面板100制作过程中，形成像素定义层110之后，在像素定义层110上形成容置孔111。容置孔111可以通过光刻的方式形成，比如，容置孔111可以在形成发光单元121的开口时形成。

在像素定义层110上形成容置孔111后，可以通过光刻胶热回流法、激光直写法或者灰度掩模法中的任意一种形成第一透镜200。

以第一透镜200为凸透镜为例，光刻胶热回流法可以通过如下方式实现：

在基板120上涂覆光刻胶；对基板120上的光刻胶在掩模版的遮蔽下进行曝光，曝光图案呈圆形，矩形或正六边形，示例的，由于第一透镜200为圆形透镜，故曝光图案可以是圆形；对曝光后的光刻胶进行显影并清洗残余物质，此时在第一透镜200区域形成有圆柱状材料层；将基板120放置在加热平台上加热，圆柱状材料受热回流形成第一透镜200，完成热熔成型。

通过光刻胶热回流法制作第一透镜200，具有工艺简单，对材料和设备的要求较低，工艺参数稳定且易于控制，复制容易等优点。

激光直写法可以通过如下方式实现：在容置孔111内填充光刻胶，利用强度可变的激光束对在容置孔111内的光刻胶进行变剂量曝光、显影后在光刻胶表面形成所需的浮雕轮廓。示例的，该浮雕轮廓可以是凸透镜或者凹透镜。

通过激光直写技术形成第一透镜200，易于操作，形成的第一透镜200尺寸小精度高，并且激光直写技术能够在器件定位后可一次写出多个相位阶数或连续相位的二元光学器件，从而避免了多次掩模套刻丧失的共轴精度。

灰度掩模法可以通过如下方式实现：在容置孔111内填充光刻胶；根据第一透镜200的形状，形成对应灰度等级的掩模版，灰度掩模版各处的透光率不同；利用灰度掩模版通过光刻形成第一透镜200。灰度掩模法通过一次光刻能够实现多台阶衍射光学元件或连续位相变化的浮雕图形(比如，凸透镜或者凹透镜。)

其中，灰度掩模法中的掩膜板可以是彩色编码掩模版或高能电子束敏感玻璃掩模版。彩色编码掩模版利用不同颜色，表示不同的灰度等级，一种颜色代表一个灰度等级，四相位表面浮雕分布，用四种颜色表示，八相位浮雕表面分布用八种颜色表示，然后再将用颜色表示的灰度图形，用高分辨率彩色打印机打印在透明胶片上，再将此彩色胶片通过精缩转到成黑白透明胶片上，如此就形成了具有不同灰度等级掩模版，通过一次曝光可得到凸透镜或者凹透镜。

在步骤S650中，可以在基板120远离像素定义层110的一侧形成第二透镜300。

其中，可以通过光刻胶热回流、激光直写或者灰度掩模在基板120远离像素定义层110的一侧形成第二透镜300。

在基板120远离像素定义层110的一侧(基板120背面)上涂覆光刻胶；对基板120背面上的光刻胶在掩模版的遮蔽下进行曝光，曝光图案呈圆形，矩形或正六边形，示例的，由于第二透镜300为圆形透镜，故曝光图案可以是圆形；对曝光后的光刻胶进行显影并清洗残余物质，此时在第一透镜200区域形成有圆柱状材料层；将基板120放置在加热平台上加热，圆柱状材料受热回流形成第一透镜200，完成热熔成型。

通过光刻胶热回流法制作第二透镜300，具有工艺简单，对材料和设备的要求较低，工艺参数稳定且易于控制，复制容易等优点。

激光直写法可以通过如下方式实现：在基板120远离像素定义层110的一侧(基板120背面)上涂覆光刻胶，利用强度可变的激光束对基板120背面的光刻胶进行变剂量曝光、显影后在光刻胶表面形成所需的浮雕轮廓。示例的，该浮雕轮廓可以是凸透镜或者凹透镜。

通过激光直写技术形成第二透镜300，易于操作，形成的第二透镜300尺寸小精度高，并且激光直写技术能够在器件定位后可一次写出多个相位阶数或连续相位的二元光学器件，从而避免了多次掩模套刻丧失的共轴精度。

灰度掩模法可以通过如下方式实现：在基板120远离像素定义层110的一侧(基板120背面)上涂覆光刻胶；根据第二透镜300的形状，形成对应灰度等级的掩模版，灰度掩模版各处的透光率不同；利用灰度掩模版通过光刻形成第二透镜300。灰度掩模法通过一次光刻能够实现多台阶衍射光学元件或连续位相变化的浮雕图形(比如，凸透镜或者凹透镜。)

本公开实施例提供的显示装置的制作方法，通过在显示面板100的像素定义层110内形成第一透镜200，在基板120远离像素定义层110的一侧形成第二透镜300，通过设置在基板120两侧的第一透镜200和第二透镜300能够增大通过第一透镜200和第二透镜300的光线的视角，能够减小显示面板100上的透光区122，进而能够提高透光区122域的像素密度，减小透光区122域的像素密度和正常显示区的像素密度差异，进而提高透光区域的显示效果。

本公开示例性实施例还提供一种电子设备，电子设备包括上述的显示装置。

其中，本公开实施例提供的电子设备可以是手机、平板电脑、电子阅读器或者笔记本电脑等。

下面以电子设备以为手机为例进行说明，当显示装置为用于屏下摄像的显示装置时，电子设备还可以包括摄像模组，摄像模组设于显示装置的背面，并且摄像模组和显示装置屏下摄像透光区122域对应。屏下摄像透光区122域中阵列式分布的第一透镜200(凹透镜)和第二透镜300(凸透镜)能够增大进入摄像模组的外界光线的视场角，有利于摄像模组成像。

当显示装置为透明显示装置时，电子设备可以是悬浮电子设备，此时，电子设备还可以包括屏下光源。该屏下光源可以是悬浮显示面板100，该悬浮显示面板100所发的光通过透明显示装置，在透明显示装置的出光侧形成悬浮显示图像。屏下光源所发的光通过第二透镜300(凹透镜)和第一透镜200(凸透镜)，增加了光线出射的视场角，有利于悬浮显示的图像的形成。当然，在实际应用中当显示装置为透明显示装置时，电子设备还可以是商品橱窗等集显示和展示于一体的设备。

进一步的，如图7所示，本公开实施例提供的电子设备还可以包括边框20、主板30、电池40以及后盖50。其中，显示装置安装在边框20上，以形成电子设备的显示面，显示装置作为电子设备的前壳。后盖50通过双面胶粘贴在边框上，显示装置、边框20与后盖50形成一收容空间，用于容纳电子设备的其他电子元件或功能模块。同时，显示装置形成电子设备的显示面，用于显示图像、文本等信息。

显示装置可以为全面屏。此时，显示装置可以全屏显示信息，从而电子设备具有较大的屏占比。显示装置可以包括第一显示区11和第二显示区12。第一透镜和第二透镜设置于第二显示区，电子设备中的摄像模组400可以设置于第二显示区12的下方，也即是第二显示区远离出光侧的一侧，高透过率的第一显示区能够增加摄像头接收的光线的强度。其中，摄像头可以是前置摄像头。接近传感器等功能模块可以隐藏在显示装置下方，而电子设备的指纹识别模组可以设置在电子设备的背面。

边框20可以为中空的框体结构。其中，边框20的材质可以包括金属或塑胶。主板30安装在上述收容空间内部。例如，主板30可以安装在边框20上，并随边框20一同收容在上述收容空间中。主板30上设置有接地点，以实现主板30的接地。主板30上可以集成有马达、麦克风、扬声器、受话器、耳机接口、通用串行总线接口(USB接口)、摄像头、接近传感器、环境光传感器、陀螺仪以及处理器等功能模块中的一个或多个。同时，显示装置可以电连接至主板30。

主板30上设置有显示控制电路。显示控制电路向显示装置输出电信号，以控制显示装置显示信息。电池40安装在上述收容空间内部。例如，电池40可以安装在边框20上，并随边框20一同收容在上述收容空间中。电池40可以电连接至主板30，以实现电池40为电子设备供电。其中，主板30上可以设置有电源管理电路。电源管理电路用于将电池40提供的电压分配到电子设备中的各个电子元件。

后盖50用于形成电子设备的外部轮廓。后盖50可以一体成型。在后盖50的成型过程中，可以在后盖50上形成后置摄像头孔、指纹识别模组安装孔等结构。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本公开的其它实施方案。本申请旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本公开的真正范围和精神由所附的权利要求指出。

Claims (14)

1.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括：

显示面板，所述显示面板包括基板和像素定义层，所述像素定义层设于所述基板的一侧，所述基板上设置有发光单元，所述像素定义层环绕所述发光单元，所述像素定义层上和所述发光单元相邻的区域设置有容置孔；

第一透镜，所述第一透镜设于所述容置孔，所述基板上具有透光区，所述透光区位于所述第一透镜在所述基板上的投影区域；

第二透镜，所述第二透镜设于所述基板远离所述像素定义层的一侧，并且所述第二透镜位于所述透光区；

其中，所述第一透镜为凹透镜，所述第二透镜为凸透镜，所述凹透镜嵌于所述像素定义层，并且所述凹透镜不高于所述像素定义层远离所述基板的表面；或者所述第一透镜为凸透镜，所述第二透镜为凹透镜，所述凸透镜嵌于所述像素定义层，并且所述凸透镜不高于所述像素定义层远离所述基板的表面。

2.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，当所述第一透镜为凹透镜且所述第二透镜为凸透镜时，所述凹透镜远离所述基板一侧的边缘和所述像素定义层远离所述基板的一面平齐。

3.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，当所述第一透镜为凸透镜且所述第二透镜为凹透镜时，所述凸透镜远离所述基板的一面的中心和所述像素定义层远离所述基板的一面平齐。

4.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置包括多个第一透镜和多个第二透镜，多个所述第一透镜在所述像素定义层内阵列式分布，每个所述第一透镜对应一个所述第二透镜。

5.如权利要求1-4任一项所述的显示装置，其特征在于，所述基板包括：

基底；

驱动电路层，所述驱动电路层设于所述基底靠近所述像素定义层的一侧；

第一电极层，所述第一电极层设于所述驱动电路层远离所述基底的一侧；

发光单元，所述发光单元设于所述第一电极层远离所述驱动电路层的一侧，所述像素定义层环绕所述发光单元，并且所述像素定义层在所述发光单元远离所述第一电极层的一侧设置有发光开口，所述发光开口和所述容置孔交错分布。

6.如权利要求5所述的显示装置，其特征在于，所述驱动电路层中设置有像素驱动电路，所述驱动电路和所述第一透镜在所述驱动电路层上的投影错开分布。

7.如权利要求5所述的显示装置，其特征在于，所述显示面板还包括：

第二电极层，所述第二电极层设于像素定义层远离所述驱动电路层的一侧，并且第二电极层覆盖所述发光单元，所述第二电极层为透明电极。

8.如权利要求5所述的显示装置，其特征在于，所述显示面板还包括：

第二电极层，所述第二电极层设于像素定义层远离所述驱动电路层的一侧，并且第二电极层覆盖所述发光单元，所述第二电极层上和所述第一透镜对应的区域上设置有通孔。

9.如权利要求5所述的显示装置，其特征在于，所述第二透镜设于所述基底远离所述驱动电路层的一侧。

10.如权利要求5所述的显示装置，其特征在于，所述基板还包括：

玻璃基板，所述玻璃基板设于所述基底远离所述驱动电路层的一侧，所述第二透镜设于所述玻璃基板远离所述基底的一侧。

11.一种显示装置的制作方法，其特征在于，用于制作权利要求1-10任一所述的显示装置，所述制作方法包括：

提供一显示面板；

在所述显示面板的像素定义层上形成容置孔，并在容置孔内形成第一透镜；

在基板远离所述像素定义层的一侧形成第二透镜。

12.如权利要求11所述的显示装置的制作方法，其特征在于，所述在所述显示面板的像素定义层上形成容置孔，并在容置孔内形成第一透镜，包括：

通过光刻在所述显示面板的像素定义层上形成容置孔；

通过光刻胶热回流、激光直写或者灰度掩模在所述容置孔内形成第一透镜。

13.如权利要求11所述的显示装置的制作方法，其特征在于，在所述基板远离所述像素定义层的一侧形成第二透镜包括：

通过光刻胶热回流、激光直写或者灰度掩模在所述基板远离所述像素定义层的一侧形成所述第二透镜。

14.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括权利要求1-10任一所述的显示装置。

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