CN111488086B - 一种触控显示装置及其制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种触控显示装置及其制作方法，以改善现有技术的触控显示装置，在对挖孔周边的位置进行遮光处理时，存在制作成本高，工艺复杂，遮光位置的精度较难控制，占用有效显示区，以及遮光效果不佳的问题。所述触控显示装置，包括：显示模组，位于所述显示模组出光侧的触控模组，贯穿所述显示模组和所述触控模组的通孔，其中，所述触控模组具有与所述通孔接触且环绕所述通孔的遮光部。

Description

一种触控显示装置及其制作方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种触控显示装置及其制作方法。

背景技术

柔性屏和全面屏是近几年手机大热的两大主题，当前的高端手机往薄机身、高续航、更好的显示效果和全面屏方向发展。挖孔屏，作为全面屏实现方案的一种，其在设计上最趋近于完美的屏下摄像头方案。在众多的全面屏方案之中，挖孔屏不仅减少了用户的使用负担(如升降摄像头在自拍时需要等待，滑屏方案容易在手机缝隙积灰，而双面屏方案在自拍时需要来回翻转手机，无形间加重了手机使用者的负担)，而且相对于厚重的刘海屏更能体现全面屏的优势。

但现有技术的触控显示装置，在对挖孔周边的位置进行遮光处理时，存在制作成本高，工艺复杂，遮光位置的精度较难控制，占用有效显示区，以及遮光效果不佳的问题。

发明内容

本发明提供一种触控显示装置及其制作方法，以改善现有技术的触控显示装置，在对挖孔周边的位置进行遮光处理时，存在制作成本高，工艺复杂，遮光位置的精度较难控制，占用有效显示区，以及遮光效果不佳的问题。

本发明实施例提供一种触控显示装置，包括：显示模组，位于所述显示模组出光侧的触控模组，贯穿所述显示模组和所述触控模组的通孔，其中，所述触控模组具有与所述通孔接触且环绕所述通孔的遮光部。

在一种可能的实施方式中，所述触控模组包括：衬底基板，以及位于所述衬底基板一侧的触控层；所述遮光部位于所述触控层的背离所述衬底基板的一侧。

在一种可能的实施方式中，所述触控模组包括：位于所述触控层与所述遮光部之间的触控引线；所述遮光部覆盖经过所述遮光部所在区域的所述触控引线。

在一种可能的实施方式中，所述触控层包括触控电极层，以及位于所述触控电极层的背离所述显示模组一侧的桥接电极层；

所述触控电极层包括多个沿第一方向延伸的第一触控电极，以及多个沿第二方向延伸的第二触控电极，所述第一触控电极与所述第二触控电极交叉绝缘，每一所述第一触控电极包括多个相互独立的第一电极块，每一所述第二触控电极包括多个相互一体连接的第二电极块；

所述桥接电极层包括多个桥接电极，同一所述第一触控电极的相邻两个所述第一电极块通过一所述桥接电极电连接。

在一种可能的实施方式中，所述触控模组包括：位于所述触控电极层与所述桥接电极层之间的第一绝缘层，以及位于所述遮光部的背离所述触控层一侧的第二绝缘层。

在一种可能的实施方式中，所述触控显示装置包括：位于所述触控模组的背离所述显示模组一侧的偏光片，以及位于所述偏光片的背离所述触控模组一侧的盖板，其中，所述通孔还贯穿所述偏光片。

在一种可能的实施方式中，所述遮光部为环形。

在一种可能的实施方式中，环形的所述遮光部的内外直径差为0.70mm～0.8mm。

本发明实施例还提供一种如本发明实施例提供的所述触控显示装置的制作方法，所述制作方法包括：

形成显示模组；

形成在待打孔区域具有第一遮光部的触控模组，其中，所述第一遮光部覆盖所述待打孔区域；

将所述触控模组贴合于所述显示模组的出光侧；

在所述待打孔区域对贴合有所述触控模组的所述显示模组进行打孔，将打孔后的所述第一遮光部作为遮光部。

在一种可能的实施方式中，所述形成在待打孔区域具有第一遮光部的触控模组，包括：

在刚性基板的一侧形成光学胶；

在所述刚性基板的形成有所述光学胶的一侧形成柔性的衬底基板；

在所述衬底基板的背离所述刚性基板的一侧形成图案化的触控电极层；

在所述触控电极层的背离所述衬底基板的一侧形成图案化的第一绝缘层；

在所述第一绝缘层的背离所述触控电极层的一侧形成图案化的桥接电极层；

在所述桥接电极层的背离所述第一绝缘层的一侧形成触控引线；

在所述触控引线的背离所述桥接电极层的一侧形成所述第一遮光部；

在所述第一遮光部的背离所述触控引线的一侧形成第二绝缘层；

剥离所述刚性基板。

本发明实施例有益效果如下：本发明实施例提供的触控显示装置，包括：显示模组，位于所述显示模组出光侧的触控模组，贯穿所述显示模组和所述触控模组的通孔，其中，所述触控模组具有与所述通孔接触且环绕所述通孔的遮光部，即，通过在触控模组设置环绕通孔的遮光部，进而可以对通孔的周边进行遮挡，避免通孔的周边出现花纹的视觉不良，而且，通过在触控模组制作遮光部，可以使遮光部的制作工艺与触控模组的制作工艺相兼容，制作成本较低，且可以通过光刻工艺制作实现，遮光部的尺寸可以准确控制，另外，在触控模组制作遮光部时，由于触控模组距离摄像头位置较近，遮光的角度较大，可以具有较好的遮光效果。

附图说明

图1为本发明实施例提供的一种触控显示装置的结构示意图；

图2为本发明实施例中的遮光部和过孔的结构示意图；

图3为本发明实施例中触控显示装置的俯视结构示意图；

图4为本发明实施例中过孔的周边示意图；

图5为本发明实施例中遮光效果原理示意图；

图6为本发明实施例中触控层的结构示意图；

图7为本发明实施例提供的触控显示装置的制作流程示意图。

具体实施方式

为了使得本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。

除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。

为了保持本发明实施例的以下说明清楚且简明，本公开省略了已知功能和已知部件的详细说明。

参见图1、图2和图3所示，本发明实施例提供一种触控显示装置，包括：显示模组1，位于显示模组1出光侧的触控模组2，贯穿显示模组1和触控模组2的通孔5，其中，触控模组2具有与通孔5接触且环绕通孔5的遮光部6。

本发明实施例提供的触控显示装置，包括：显示模组1，位于显示模组1出光侧的触控模组2，贯穿显示模组1和触控模组2的通孔5，其中，触控模组2具有与通孔5接触且环绕通孔5的遮光部6，即，通过在触控模组2设置环绕通孔5的遮光部6，进而可以对通孔5的周边进行遮挡，避免通孔5的周边出现花纹的视觉不良，而且，通过在触控模组2制作遮光部6，可以使遮光部6的制作工艺与触控模组2的制作工艺相兼容，制作成本较低，且可以通过光刻工艺制作实现，遮光部6的尺寸可以准确控制，另外，在触控模组2制作遮光部6时，由于触控模组2距离摄像头8位置较近，遮光的角度较大，可以具有较好的遮光效果。

在具体实施时，结合图1所示，触控显示装置包括：位于触控模组2的背离显示模组1一侧的偏光片3，以及位于偏光片3的背离触控模组2一侧的盖板4，其中，通孔5还贯穿偏光片3。显示模组1具体可以包括显示衬底基板11，以及依次位于显示衬底基板11之上的晶体管层12、阳极层13、有机发光层(具有可以包括发射红光的红光发射膜层161、发射绿光的绿光发射膜层162、发射蓝光的蓝光发射膜层163)、阴极层14、薄膜封装层15。

需要说明的是，本发明实施例中的触控显示装置可以为柔性全面屏的有源矩阵有机发光显示装置(英语：Active-matrix organic light-emitting diode，AMOLED)，其中的触控模组2可以为外挂式触控。本发明实施例中的过孔为通孔，打通了除盖板4之外的触控模组2以及显示模组1中的所有层级，使摄像头无透光的损失，使得前置摄像头可以保证极高的透光率，保证前置摄像头成像的稳定性和普通摄像头无差异。但该种通孔5，如图4所示，周围需要做遮光部6来消除外观上的花纹(Mura)等视觉不良。而柔性全面屏叠层结构如图1所示，若在显示模组1制作遮光部6，则由于AMOLED的有机材料非常怕水怕氧，采用薄膜封装，若做额外的遮光部6工艺制程需要严格的工艺条件，容易造成OLED器件失效；若在偏光片3制作遮光部6，而现有的偏光片3的工艺流程为：预处理(Pretreatment)→拉伸以及贴合(Stretching&Laminating)→覆盖(Coating)，即，在偏光片3上做遮光部6无法匹配现有偏光片3生产工序；而若在盖板4制作遮光部6，而由于盖板4一般为3D盖板，做遮光部6制程成本过高，且盖板4上做遮光部6一般需要采用为网印工艺，而遮光部6(如图2)的尺寸h1约为5.26mm，通孔5(如图2)的尺寸h2约为3.76mm，遮光部6的内外半径差h3为(h1-h2)/2＝(5.26-3.76)/2≈0.75mm，网印工艺的精度在≈150um，而通孔的精度要求在≈20um，所以目前网印的工艺精度远远达不到对通孔的遮光精度要求。因而，在柔性全面屏的叠层结构中，触控模组2最适合做遮光部6，且触控模组2是离显示模组1最近的结构，摄像部件8一般位于显示模组1下方的背板(图中未示出)上，由图5的光路图可知，在同样的位置，遮光部6距离摄像部件越近，从人眼来看，遮光的角度θ越大(θ2>θ1)，遮光效果越好。且触控模组2上做遮光部6只需在触控模组2制作的工艺流程最后加一道曝光制程，即可达到遮光部6的精度要求和遮光效果，无需产生额外的设备工艺等匹配问题，是最有效便捷且成本经济的方案，也即，本发明实施例提供的触控显示装置可以具有以下优势：1、低成本简单工艺：相较其他功能层如显示模组层(易被水氧腐蚀阴极及有机层等)、偏光片(现有工艺一般不兼容黄光制程)、盖板(3D盖板，遮光部制作成本高且精度差)，在触控模组制作遮光部，仅需增加一道掩膜(Mask)工序，工艺为常规兼容工艺，无需新增设备，成本低工艺简单；2、遮光部窄化：触控模组集成遮光部制作为黄光工艺，精度(5μm)远高于网印精度(150μm)，遮光部外环宽度设计时工艺影响波动小，有利于较窄的遮光部的实现，增大有效显示区，美化外观；3、高效遮光：触控模组相较于偏光片、盖板等更靠近存在可视风险的触控显示模组，遮光效果更佳。

在具体实施时，结合图1和图6所示，触控模组2包括：衬底基板21，以及位于衬底基板21一侧的触控层；遮光部6位于触控层的背离衬底基板21的一侧。本发明实施例中，触控模组2还包括衬底基板21，以及位于衬底基板21一侧的触控层，即，触控模组2为外挂式触控模组，触控层非集成于显示模组，触控模组2可以单独制作，而遮光部6位于触控层的背离衬底基板21的一侧，即，制作完触控层以后，可以通过一道掩膜工艺实现遮光部的制作。

在具体实施时，参见图6所示，触控层包括触控电极层(可以包括第一电极块221以及第二电极块222)，以及位于触控电极层的背离显示模组一侧的桥接电极层(可以包括多个桥接电极223)；触控电极层包括多个沿第一方向(如图6中的横向)延伸的第一触控电极，以及多个沿第二方向(如图6中的竖向)延伸的第二触控电极，第一触控电极与第二触控电极交叉绝缘，每一第一触控电极包括多个相互独立的第一电极块221，每一第二触控电极包括多个相互一体连接的第二电极块222；桥接电极层包括多个桥接电极223，同一第一触控电极的相邻两个第一电极块221通过一桥接电极223电连接。第一触控电极以及第二触控电极的材质具体可以为氧化铟锡。本发明实施例中的触控方式，具体可以为互容式触控。

在具体实施时，结合图1所示，触控模组2包括：位于触控层与遮光部6之间的触控引线7；遮光部6覆盖遮光部6与触控引线7之间的间隙区域，进一步的，遮光部6也可以覆盖经过遮光部6所在区域的触控引线7，即，遮光部6可以覆盖通孔5附近的触控引线7。触控引线7的材质具体可以为金属。即，本发明实施例中，触控模组可以包括触控引线，而本发明实施例中的遮光部可以对触控引线进行遮光，以对通孔周边的金属线路进行遮挡。

在具体实施时，结合图1所示，触控模组包括：位于触控电极层与桥接电极层之间的第一绝缘层23，以及位于遮光部6的背离触控层一侧的第二绝缘层24。第一绝缘层23可以对桥接的位置处的第一触控电极和第二触控电极进行绝缘。

在具体实施时，结合图2所示，本发明实施例中的遮光部6具体可以为环形。环形的遮光部的内外直径差为0.70mm～0.8mm，进一步的，环形的遮光部的内外直径差为0.75mm。

基于同一发明构思，结合图7所示，本发明实施例还提供一种如本发明实施例提供的触控显示装置的制作方法，制作方法包括：

步骤S101、形成显示模组；

步骤S102、形成在待打孔区域具有第一遮光部的触控模组，其中，第一遮光部覆盖待打孔区域；

步骤S103、将触控模组贴合于显示模组的出光侧；

步骤S104、在待打孔区域对贴合有触控模组的显示模组进行打孔，将打孔后的第一遮光部作为遮光部。

在具体实施时，关于步骤S102、形成在待打孔区域具有第一遮光部的触控模组，包括：

步骤S1021、在刚性基板的一侧形成光学胶(Optically Clear Adhesive，OCA)，具体的，可以依次经过光学胶贴合→光学胶退火；

步骤S1022、在刚性基板的形成有光学胶的一侧形成柔性的衬底基板；

步骤S1023、在衬底基板的背离刚性基板的一侧形成图案化的触控电极层，即，ITO1层的制作，具体的，可以依次经过ITO溅射→光刻胶涂布→曝光→显影→刻蚀→光刻胶剥离；

步骤S1024、在触控电极层的背离衬底基板的一侧形成图案化的第一绝缘层，即，在ITO1上制作绝缘层OC1，一般厚度为2μm，工艺流程为涂布→曝光→显影；

步骤S1025、在第一绝缘层的背离触控电极层的一侧形成图案化的桥接电极层，即ITO2层的制作；

步骤S1026、在桥接电极层的背离第一绝缘层的一侧形成触控引线，具体的，可以依次经过金属溅射→光刻胶涂布→曝光→显影→刻蚀→光刻胶剥离；

步骤S1027、在触控引线的背离桥接电极层的一侧形成第一遮光部，具体的，可以依次通过涂布→曝光→显影→烘烤形成；

步骤S1028、在第一遮光部的背离触控引线的一侧形成第二绝缘层；

步骤S1029、剥离刚性基板。之后，触控模组2贴完偏光片和显示模组组装→激光打孔→贴盖板。

本发明实施例有益效果如下：本发明实施例提供的触控显示装置，包括：显示模组，位于显示模组出光侧的触控模组，贯穿显示模组和触控模组的通孔，其中，触控模组具有与通孔接触且环绕通孔的遮光部，即，通过在触控模组设置环绕通孔的遮光部，进而可以对通孔的周边进行遮挡，避免通孔的周边出现花纹的视觉不良，而且，通过在触控模组制作遮光部，可以使遮光部的制作工艺与触控模组的制作工艺相兼容，制作成本较低，且可以通过光刻工艺制作实现，遮光部的尺寸可以准确控制，另外，在触控模组制作遮光部时，由于触控模组距离摄像头位置较近，遮光的角度较大，可以具有较好的遮光效果。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (8)

1.一种触控显示装置，其特征在于，包括：显示模组，位于所述显示模组出光侧的触控模组，贯穿所述显示模组和所述触控模组的通孔，其中，所述触控模组具有与所述通孔接触且环绕所述通孔的遮光部；

所述触控模组包括：衬底基板，以及位于所述衬底基板一侧的触控层；所述遮光部位于所述触控层的背离所述衬底基板的一侧；

所述触控层包括触控电极层，以及位于所述触控电极层的背离所述显示模组一侧的桥接电极层；

所述触控模组还包括：位于所述触控电极层与所述桥接电极层之间的第一绝缘层，以及位于所述遮光部的背离所述触控层一侧的第二绝缘层；

在制作完所述触控层后，通过一道掩膜工艺制作所述遮光部。

2.如权利要求1所述的触控显示装置，其特征在于，所述触控模组包括：位于所述触控层与所述遮光部之间的触控引线；所述遮光部覆盖经过所述遮光部所在区域的所述触控引线。

3.如权利要求1所述的触控显示装置，其特征在于，所述触控电极层包括多个沿第一方向延伸的第一触控电极，以及多个沿第二方向延伸的第二触控电极，所述第一触控电极与所述第二触控电极交叉绝缘，每一所述第一触控电极包括多个相互独立的第一电极块，每一所述第二触控电极包括多个相互一体连接的第二电极块；

所述桥接电极层包括多个桥接电极，同一所述第一触控电极的相邻两个所述第一电极块通过一所述桥接电极电连接。

4.如权利要求1所述的触控显示装置，其特征在于，所述触控显示装置包括：位于所述触控模组的背离所述显示模组一侧的偏光片，以及位于所述偏光片的背离所述触控模组一侧的盖板，其中，所述通孔还贯穿所述偏光片。

5.如权利要求1-4任一项所述的触控显示装置，其特征在于，所述遮光部为环形。

6.如权利要求5所述的触控显示装置，其特征在于，环形的所述遮光部的内外直径差为0.70mm～0.8mm。

7.一种如权利要求1-6任一项所述的触控显示装置的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：

形成显示模组；

形成在待打孔区域具有第一遮光部的触控模组，其中，所述第一遮光部覆盖所述待打孔区域；

将所述触控模组贴合于所述显示模组的出光侧；

在所述待打孔区域对贴合有所述触控模组的所述显示模组进行打孔，将打孔后的所述第一遮光部作为遮光部。

8.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述形成在待打孔区域具有第一遮光部的触控模组，包括：

在刚性基板的一侧形成光学胶；

在所述刚性基板的形成有所述光学胶的一侧形成柔性的衬底基板；

在所述衬底基板的背离所述刚性基板的一侧形成图案化的触控电极层；

在所述触控电极层的背离所述衬底基板的一侧形成图案化的第一绝缘层；

在所述第一绝缘层的背离所述触控电极层的一侧形成图案化的桥接电极层；

在所述桥接电极层的背离所述第一绝缘层的一侧形成触控引线；

在所述触控引线的背离所述桥接电极层的一侧形成所述第一遮光部；

在所述第一遮光部的背离所述触控引线的一侧形成第二绝缘层；

剥离所述刚性基板。