CN111432942A - 介质涂覆设备 - Google Patents

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CN111432942A CN201880079078.3A CN201880079078A CN111432942A CN 111432942 A CN111432942 A CN 111432942A CN 201880079078 A CN201880079078 A CN 201880079078A CN 111432942 A CN111432942 A CN 111432942A
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Abstract

本发明涉及一种介质涂覆设备、尤其是颜料涂覆设备，该介质涂覆设备具有用于将至少一个介质输出到至少一个表面(14a；14b；14c；14d)上的至少一个介质输出单元(12a；12b；12c；12d；12e)和至少用于控制和/或调节所述至少一个介质输出单元(12a；12b；12c；12d；12e)的至少一个电子部件单元(16a；16b；16c；16d；16e)。本发明提出，设有至少一个位置和/或表面传感器单元(18a；18c；18d；18e)，该位置和/或表面传感器单元设置成用于，感测所述介质输出单元(12a；12c；12d；12e)相对于所述表面(14a；14b；14c；14d)的至少一个位置和/或定向，所述电子部件单元(16a；16c；16d；16e)根据该位置和/或定向控制和/或调节所述介质输出单元(12a；12b；12c；12d；12e)。

Description

介质涂覆设备
背景技术
已经提出一种介质涂覆设备，该介质涂覆设备具有用于将至少一个介质输出到至少一个表面上的至少一个介质输出单元和至少用于控制和/或调节所述至少一个介质输出单元的至少一个电子部件单元。
发明内容
本发明涉及一种介质涂覆设备、尤其是颜料涂覆设备，该介质涂覆设备具有用于将至少一个介质输出到至少一个表面上的至少一个介质输出单元和至少用于控制和/或调节所述至少一个介质输出单元的至少一个电子部件单元。
本发明提出，介质涂覆设备包括至少一个位置和/或表面传感器单元，该位置和/或表面传感器单元设置成用于感测介质输出单元相对于所述表面的至少一个位置和/或定向，电子部件单元根据所述位置和/或定向控制和/或调节介质输出单元。
介质涂覆设备优选构造为颜料涂覆设备。介质涂覆设备优选构造为手持的介质涂覆设备。替代地可以考虑，介质涂覆设备可以自动地和/或自主地运动。优选地，介质涂覆设备设置成用于制成尤其基于点的壁画。优选地，介质涂覆设备可以设置用于其他应用，用于制成木板画和/或窗口图、用于标记出钻孔和/或管路走向以及其他本领域技术人员认为有意义的应用。“设置”尤其应理解为特定地编程、设计和/或配备。“对象设置用于确定的功能”尤其应理解为，对象以至少一个应用和/或运行状态满足和/或实施该确定的功能。
介质输出单元优选设置成用于，将介质输出到表面上、尤其喷涂到表面上。所述表面尤其可以构造为壁、木板、窗、画布、壁纸、木头面或其他本领域技术人员认为有意义的表面。优选地，介质输出单元可以具有带着至少一个喷嘴元件的至少一个喷嘴单元。尤其地，介质可以通过喷嘴元件输出到表面上。优选地，喷嘴元件这样成形，使得介质可以点形地涂覆到表面上。
喷嘴元件尤其可以构造为超声喷嘴、优选构造为穿孔的超声薄板。构造为穿孔的超声薄板的喷嘴元件尤其为了将介质输出到表面上尤其借助于喷嘴单元的压电促动器可振动地激励。喷嘴元件尤其可以在超声频率范围中激励出振动。优选地，构造为超声薄板的喷嘴元件具有多个介质穿透开口，通过所述介质穿透开口可以施撒(ausbringbar)介质。介质穿透开口尤其构造为作为超声薄板构造的喷嘴元件的穿孔或孔洞。构造为超声薄板的喷嘴元件尤其设置成用于以每秒至少50个介质涂覆点的输出频率、优选以每秒至少100个介质涂覆点的输出频率并且特别优选以每秒至少200个介质涂覆点的输出频率输出、尤其印刷介质涂覆点。压电促动器尤其设置成用于以至少1kHz的激励频率、优选以至少16kHz的激励频率、特别优选以至少20kHz的激励频率并且完全特别优选以至少130kHz的激励频率振动地激励构造为超声薄板的喷嘴元件。压电促动器尤其设置成用于以最高200kHz的激励频率振动地激励构造为超声薄板的喷嘴元件。优选地，压电促动器设置成用于以预先确定的、优选可调节的波形、例如以正弦波形、三角波形、锯齿波形或其他本领域技术人员认为有意义的波形振动地激励构造为超声薄板的喷嘴元件。
优选地，构造为超声薄板的喷嘴元件具有介质穿透开口的至少一个穿孔网栅，该穿孔网栅这样构造，使得借助于喷嘴单元可以产生、尤其可以印刷介质涂覆点，所述介质涂覆点具有大于1mm的最大直径。穿孔网栅优选可以尤其根据介质涂覆点的要产生的形状具有不同的形状。穿孔网栅优选圆形地、椭圆形地、卵形地、多边形地、如方形地、六边形地、菱形地、三角形地或梯形地、半圆形等等地构造。构造为超声薄板的喷嘴元件尤其具有介质穿透开口的每平方毫米至少1个介质穿透开口、优选每平方毫米至少5个介质穿透开口、特别优选每平方毫米至少10个介质穿透开口并且完全特别优选每平方毫米至少20个介质穿透开口的密度。优选地，设置用于喷射地输出和/或用于使介质雾化的喷嘴单元尤其可以包括构造为超声薄板的喷嘴元件，该喷嘴元件具有介质穿透开口的每平方毫米至少80个介质穿透开口的密度。构造为超声薄板的喷嘴元件尤其具有至少50个介质穿透开口、优选至少75个介质穿透开口并且特别优选至少100个介质穿透开口。构造为超声薄板的喷嘴元件尤其具有至少1mm、优选至少2mm并且特别优选至少3mm的最大直径。
介质优选至少部分地构造为液态介质。尤其地，介质可以设置成用于喷涂涂覆。优选地，介质构造为颜料介质、例如喷漆、分散型颜料、丙烯酸类颜料、丙烯酸类漆等。替代地可以考虑，介质构造为喷涂白垩、喷涂薄膜或其他本领域技术人员认为有意义的介质。优选地，构造为超声薄板的喷嘴元件设置成用于输出基于水的颜料、尤其是基于水的丙烯酸类漆。介质涂覆设备尤其可以具有至少一个混合器单元和/或腔系统以用于调整颜料与水的混合比例。优选地，介质可以包含在容器中。介质涂覆设备尤其可以具有用于接合和/或固定包含介质的容器的接合和/或固定单元。容器尤其可以构造为胶罐、筒、箱、瓶、喷射罐或其他本领域技术人员认为有意义的容器。替代地可以考虑，介质涂覆设备具有用于直接接收介质的集成容器。优选地，介质可以借助于管路元件供应给介质输出单元。管路元件优选可以与容器连接、尤其这样连接，使得能够实现接收在容器中的介质到喷嘴元件的供应。优选地，介质尤其可以穿过管路元件例如借助于压缩空气单元的压缩空气等供应给喷嘴元件。压缩空气单元尤其可以集成到介质涂覆设备中或者构造为外部压缩空气单元。压缩空气单元例如可以构造为压缩空气压缩器等。替代地或附加地可以考虑，喷嘴单元具有至少一个尤其与喷嘴元件连接的阀元件。尤其地，可以借助于喷嘴单元的阀元件调节介质至喷嘴元件的流量和/或调整介质的输出压力。此外，替代地可以考虑，尤其构造为穿孔的超声薄板的喷嘴元件构造成至少部分集成到容器中。
优选地，介质涂覆设备具有电子部件单元，该电子部件单元尤其设置成用于控制和/或调节介质输出单元。“电子部件单元”尤其应理解为具有至少一个控制电子部件的单元。“控制电子部件”尤其应理解为具有处理器单元和存储器单元以及存储在存储器单元中的运行程序的单元。优选地，电子部件单元可以控制和/或调节介质输出单元的多个参数。优选地，电子部件单元可以控制和/或调节介质输出的进行、介质输出的持续时间、介质在介质输出期间的输出量、介质的输出压力以及其他本领域技术人员认为有意义的参数。优选地，电子部件单元可以根据另外的参数和/或特征参量控制和/或调节介质输出单元。优选地，电子部件单元为了控制和/或调节介质输出单元可以与介质输出单元连接、尤其导电地连接。
此外，介质涂覆设备优选包括位置和/或表面传感器单元。优选地，位置和/或表面传感器单元设置成用于感测介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向。优选地，介质输出单元在介质涂覆期间相对于、尤其沿着所述表面运动，其中，介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向尤其改变。介质涂覆设备、尤其是介质输出单元相对于所述表面的定向尤其也应理解为介质涂覆设备、尤其是介质输出单元相对于所述表面的取向。优选地，位置和/或表面传感器单元可以在尤其整个介质涂覆期间持续地感测介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向。位置和/或表面传感器单元尤其具有至少一个位置和/或表面传感器元件。优选地，位置和/或表面传感器单元可以构造为光学的、电磁的、声学的、机械的或其他本领域技术人员认为有意义的位置和/或表面传感器单元。尤其地，位置和/或表面传感器单元可以包括至少一个光学的、电磁的、声学的、机械的或其他本领域技术人员认为有意义的位置和/或表面传感器元件。原则上可以设想，位置和/或表面传感器单元包括多个位置和/或表面传感器元件、尤其是彼此不同的位置和/或表面传感器元件。优选地，通过使用多个位置和/或表面传感器元件相比于使用单个位置和/或表面传感器元件可以提高介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向确定的精度。
光学的位置和/或表面传感器元件尤其可以构造为摄像机、光学鼠标传感器、激光扫描器或其他本领域技术人员认为有意义的光学的位置和/或表面传感器元件。优选地，摄像机可以具有用于感测表面的大部分、特别优选地用于感测整个表面的广角镜头、尤其是鱼眼镜头。摄像机尤其可以构造为用于完整感测介质输出单元的环境的全向摄像机。优选地，摄像机可以构造为飞行时间摄像机。优选地，摄像机可以构造为用于附加地感测介质输出单元相对于所述表面的深度信息的立体摄像机。为了实现光学鼠标传感器，摄像机优选可以补充以用于照亮表面的光源、尤其是发光二极管或激光二极管。尤其地，可以在使用光学鼠标传感器的情况下进行介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向感测，而位置和/或表面传感器单元直接与所述表面接触。
电磁的位置和/或表面传感器元件尤其可以构造为雷达传感器或其他本领域技术人员认为有意义的电磁的位置和/或表面传感器元件。声学的位置和/或表面传感器元件尤其可以构造为超声传感器或其他本领域技术人员认为有意义的声学的位置和/或表面传感器元件。机械的位置和/或表面传感器元件尤其可以构造为机械的鼠标传感器、按键或其他本领域技术人员认为有意义的机械的位置和/或表面传感器元件。优选地，位置和/或表面传感器单元在使用机械的位置和/或表面传感器元件、尤其是机械的鼠标传感器时在介质输出单元沿着所述表面运动期间与所述表面接触。
优选地，电子部件单元可以处理位置和/或表面传感器单元的关于介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向的信号、尤其是电信号以用于控制和/或调节介质输出单元。优选地，位置和/或表面传感器单元为了传递信号与电子部件单元尤其导电地连接。优选地，在电子部件单元的存储器单元中关于介质输出单元相对于所述表面的每个位置和/或定向存储有用于控制和/或调节介质输出单元的程序。尤其地，所述程序对于介质输出单元的参数的每个参数包括介质输出单元的要调整的参数。优选地，电子部件单元可以这样控制和/或调节介质输出单元，使得介质输出单元的参数关于介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向适配地调整。
通过介质涂覆设备的根据本发明的构型可以有利地感测介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向。有利地，可以根据所感测的介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向控制和/或调节介质输出单元。有利地，可以取消用于位置和/或定向确定的外部单元并且提供可自给自足地运行的介质涂覆设备。
此外提出，介质涂覆设备包括至少一个位置和/或表面传感器单元，该位置和/或表面传感器单元设置成用于感测所述表面的至少一个特定于表面的特征参量，该特征参量可以由电子部件单元分析处理来确定介质输出单元的取向。可以考虑，介质涂覆设备在替代构型中与位置和/或表面传感器单元无关地构造，该位置和/或表面传感器单元设置成用于感测介质输出单元相对于所述表面的至少一个位置和/或定向，电子部件单元根据所述位置和/或定向控制和/或调节介质输出单元。优选地，介质涂覆设备在替代构型中包括用于将至少一个介质输出到至少一个表面上的至少一个介质输出单元、至少用于至少一个介质输出单元的控制和/或调节的至少一个电子部件单元和至少位置和/或表面传感器单元，该位置和/或表面传感器单元设置成用于感测所述表面的至少一个特定于表面的特征参量，该特征参量可以由电子部件单元分析处理来确定介质输出单元的取向。所述表面的特定于表面的特征参量尤其可以是在所述表面上的区域，该区域局部地、尤其显眼地与所述表面上的其余区域不同。优选地，所述表面具有所述表面的明显的边缘、所述表面的带着显眼结构的区域、所述表面的带着显眼颜色的区域、所述表面的密度、所述表面的材料类型、所述表面的粗糙度、所述表面的介质接收性能和/或其他本领域技术人员认为有意义的特定于表面的特征参量作为特定于表面的特征参量。优选地，电子部件单元可以分析处理特定于表面的特征参量来确定介质输出单元的取向。尤其地，由于局部出现特定于表面的特征参量，可以根据特定于表面的特征参量优选实现介质输出单元的取向确定。尤其地，可以根据特定于表面的特征参量将介质输出单元相对于所述表面的位置限界到小于整个表面的区域上。有利地，相比于没有特定于表面的特征参量的感测的位置确定，可以根据特定于表面的特征参量的感测提高介质输出单元相对于所述表面的位置确定的精度和/或速度。
此外提出，电子部件单元设置成用于，根据介质输出单元的至少一个借助于位置和/或表面传感器单元感测的运动特征参量、尤其是运动速度和/或运动方向预先计算出介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向。运动特征参量的感测尤其能够实现介质输出单元相对于所述表面的预先的位置和/或定向确定。优选地，电子部件单元可以根据运动特征参量计算出介质输出单元相对于所述表面的预期的位置和/或定向。附加地可以考虑，电子部件单元设置成用于，根据运动特征参量控制和/或调节介质输出单元。尤其地，可以在电子部件单元的存储器单元中存储用于至少一个运动特征参量的边界值、如介质输出单元的运动速度等，其中介质输出单元相对于所述表面的不正确的位置和/或定向感测是可能的、尤其比介质输出单元相对于所述表面的正确的位置和/或定向感测更有可能。优选地，电子部件单元设置成用于，在超出边界值时通过所感测的运动特征参量这样控制和/或调节介质输出单元，使得禁止介质输出。
优选地，介质输出单元的运动特征参量由介质输出单元的运动速度、介质输出单元的运动方向、介质输出单元的运动加速度或其他本领域技术人员认为有意义的运动特征参量示出。优选地，可以感测介质输出单元的不同运动特征参量的组合。优选地，运动特征参量的感测可以通过位置和/或表面传感器单元的尤其用于介质输出单元的位置和/或定向感测的至少一个位置和/或表面传感器元件实现。例如可以借助于超声或雷达传感器根据多普勒位移确定介质输出单元的运动速度。例如可以根据通过摄像机感测的图像的改变确定介质输出单元的运动方向。尤其地，位置和/或表面传感器单元可以包括至少一个运动传感器元件，该运动传感器元件优选设置成用于感测位置和/或表面传感器单元的运动特征参量。运动传感器元件例如可以构造为加速度传感器、如三轴加速度传感器、六轴加速度传感器、九轴加速度传感器等、位置传感器、速度传感器、陀螺传感器、地磁传感器或其他本领域技术人员认为有意义的运动传感器元件。有利地，可以实现介质输出单元相对于所述表面的预先的位置确定。有利地，可以感测介质输出单元的错误应用并且至少基本上避免错误的介质涂覆。
此外提出，位置和/或表面传感器单元设置成用于根据围绕介质输出单元的环境的至少一个参照元件感测介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向，电子部件单元根据所述位置和/或定向控制和/或调节介质输出单元。优选地，围绕介质输出单元的环境包括所述表面和另外的、尤其静止的围绕介质输出单元的物体。尤其在内室中使用介质输出单元的情况下布置在内室中的物体、如家具、墙、门或类似物可以形成围绕介质输出单元的环境。尤其在外部区域中使用介质输出单元的情况下布置在外部区域中的物体、如树、房屋或类似物可以形成围绕介质输出单元的环境。
优选地，参照元件可以构造为存在于围绕介质输出单元的环境中的参照元件和/或尤其为了介质输出单元的位置和/或定向确定而安置在围绕介质输出单元的环境中的参照元件。存在的参照元件尤其可以构造为显眼的(markant)树、显眼的室边缘或表面边缘、显眼的家具或其他本领域技术人员认为有意义的参照元件。然而也可以考虑，参照元件可以由用户手动地安置在物体上或者可以由用户尤其数字化地配属于物体。安置的和/或配属的参照元件尤其可以构造为QR码、条形码、无线电发射器、照明元件或其他本领域技术人员认为有意义的参照元件。优选地，介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向可以根据多个参照元件、尤其根据存在的和安置的和/或配属的参照元件的组合感测。
优选地，参照元件相对于所述表面的位置存储在位置和/或表面传感器单元和/或电子部件单元的存储器单元中。优选地，位置和/或表面传感器单元可以感测介质输出单元相对于参照元件的位置和/或定向。尤其地，位置和/或表面传感器单元可以根据介质输出单元相对于参照元件的位置和/或定向并且根据参照元件相对于所述表面的位置确定介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向。有利地，介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向感测可以根据围绕介质输出单元的环境的参照元件进行。
此外提出，介质涂覆设备包括至少一个全向的位置和/或距离传感器单元，该全向的位置和/或距离传感器单元设置成用于，根据围绕介质输出单元的环境的至少一个参照元件感测介质输出单元相对于所述表面的至少一个位置和/或定向，电子部件单元根据所述位置和/或定向控制和/或调节介质输出单元，其中，全向的位置和/或距离传感器单元设置成用于同时感测围绕介质输出单元的环境的多个尤其沿不同的空间方向围绕介质输出单元布置的参照元件。优选地，位置和/或距离传感器单元设置成用于，根据围绕介质输出单元的环境的参照元件感测介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向。尤其地，介质涂覆设备除了位置和/或表面传感器单元之外替代地或附加地包括位置和/或距离传感器单元。优选地，位置和/或表面传感器单元至少部分地包括位置和/或距离传感器单元。优选地，位置和/或距离传感器单元可以在尤其整个介质涂覆过程期间持续地感测介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向。介质涂覆过程尤其构造为以下过程，在该过程中用户借助于介质涂覆设备将介质涂覆到所述表面上以用于制成介质涂覆部。位置和/或距离传感器单元尤其具有至少一个位置和/或距离传感器元件。优选地，位置和/或距离传感器单元可以构造为光学的、电磁的、声学的或其他本领域技术人员认为有意义的位置和/或距离传感器单元。尤其地，位置和/或距离传感器单元可以包括至少一个光学的、电磁的、声学的或其他本领域技术人员认为有意义的位置和/或距离传感器元件。原则上可以设想，位置和/或距离传感器单元包括多个位置和/或距离传感器元件、尤其是彼此不同的位置和/或距离传感器元件。优选地，相比于使用单个位置和/或距离传感器元件，可以通过使用多个位置和/或距离传感器元件提高介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向确定的精度。
光学的位置和/或距离传感器元件尤其可以构造为摄像机、光学鼠标传感器、激光扫描器或其他本领域技术人员认为有意义的光学的位置和/或距离传感器元件。优选地，摄像机可以构造为飞行时间摄像机。优选地，摄像机可以构造为立体摄像机。为了实现光学鼠标传感器，摄像机优选可以补充以光源、尤其是照明或激光二极管以照亮围绕介质输出单元的环境的参照元件。尤其地，可以在使用光学鼠标传感器的情况下进行介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向感测，而位置和/或距离传感器单元与所述表面接触。电磁的位置和/或距离传感器元件尤其可以构造为雷达传感器或其他本领域技术人员认为有意义的电磁的位置和/或距离传感器元件。声学的位置和/或距离传感器元件尤其可以构造为超声传感器或其他本领域技术人员认为有意义的声学的位置和/或距离传感器元件。优选地，可以根据多个参照元件、尤其根据存在的和安置的和/或配属的参照元件的组合感测介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向。
优选地，参照元件相对于所述表面的位置存储在位置和/或距离传感器单元和/或电子部件单元的存储器单元中。优选地，位置和/或距离传感器单元可以感测介质输出单元相对于参照元件的位置和/或定向。尤其地，位置和/或距离传感器单元可以根据介质输出单元相对于参照元件的位置和/或定向并且根据参照元件相对于所述表面的位置确定介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向。
优选地，电子部件单元可以处理位置和/或距离传感器单元的关于介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向的信号、尤其是电信号以用于控制和/或调节介质输出单元。优选地，位置和/或距离传感器单元为了传递信号与电子部件单元尤其导电地连接。优选地，在电子部件单元的存储器单元中关于介质输出单元相对于所述表面的每个位置和/或定向存储有用于控制和/或调节介质输出单元的程序。尤其地，所述程序对于介质输出单元的参数的每个参数可以包括介质输出单元的要调整的参数。优选地，电子部件单元可以这样控制和/或调节介质输出单元，使得介质输出单元的参数关于介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向适配地调整。
优选地，全向的位置和/或距离传感器单元具有至少一个全向的位置和/或距离传感器元件。优选地，全向的位置和/或距离传感器元件可以感测围绕介质输出单元的环境在围绕位置和/或距离传感器元件的半球的所有空间方向中的参照元件。特别优选地，全向的位置和/或距离传感器元件可以感测围绕介质输出单元的环境在围绕位置和/或距离传感器元件的整个球的所有空间方向中的参照元件。优选地，全向的位置和/或距离传感器单元设置成用于，尤其同时地感测围绕介质输出单元的环境的尤其在围绕介质输出单元的不同空间方向中布置的多个参照元件。优选地，全向的位置和/或距离传感器元件构造为具有广角镜头、尤其是鱼眼镜头的摄像机、多镜头摄像机、尤其是360°摄像机、反射折射光学系统或其他本领域技术人员认为有意义的全向的位置和/或距离传感器元件。替代地或附加地可以设想，全向的位置和/或距离传感器单元具有多个尤其圆形布置的位置和/或距离传感器元件和/或至少一个尤其可电机驱动地旋转的位置和/或距离传感器元件。有利地，可以同时感测围绕介质输出单元的环境的多个参照元件。有利地，相比于围绕介质输出单元的环境的单个参照元件的感测可以提高介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向确定的精度。
此外提出，位置和/或距离传感器单元设置成用于，感测围绕介质输出单元的环境的参照元件的至少一个特定于距离的特征参量，该特征参量可以由电子部件单元分析处理来确定介质输出单元的取向。围绕介质输出单元的环境的参照元件的特定于距离的特征参量尤其可以构造为介质输出单元相对于围绕介质输出单元的环境的参照元件的间距、所述表面相对于围绕介质输出单元的环境的参照元件的间距或其他本领域技术人员认为有意义的围绕介质输出单元的环境的参照元件的特定于距离的特征参量。优选地，围绕介质输出单元的环境的参照元件的特定于距离的特征参量可以借助于设置成用于介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向确定的位置和/或距离传感器元件来感测。替代地可以设想，位置和/或距离传感器单元具有用于感测围绕介质输出单元的环境的参照元件的特定于距离的特征参量的至少一个另外的位置和/或距离传感器元件。位置和/或距离传感器元件和/或所述另外的位置和/或距离传感器元件尤其可以构造为雷达传感器、激光雷达器、超声传感器或其他本领域技术人员认为有意义的位置和/或距离传感器元件。优选地，位置和/或距离传感器单元设置成用于，尤其同时感测围绕介质输出单元的环境的多个参照元件的特定于距离的特征参量。优选地，可以通过介质输出单元相对于围绕介质输出单元的环境的至少三个参照元件的各个间距的感测对介质输出单元相对于围绕介质输出单元的环境的参照元件的位置进行三角测量。优选地，电子部件单元可以分析处理特定于距离的特征参量来确定介质输出单元的取向。尤其根据特定于距离的特征参量可以实现介质输出单元的取向确定。尤其可以根据特定于距离的特征参量将介质输出单元相对于所述表面的位置限界到小于整个表面的区域上。有利地，相比于没有感测特定于距离的特征参量的位置确定，可以根据特定于距离的特征参量的感测提高介质输出单元相对于所述表面的位置确定的精度和/或速度。
此外提出，围绕介质输出单元的环境的参照元件构造为用于产生至少一个电磁场的电磁场产生元件并且位置和/或距离传感器单元构造为电磁传感器单元，该电磁传感器单元设置成用于根据参照元件的电磁场的至少一个特征参量感测介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向，其中，电磁场的特征参量构造为电磁场的振幅分布和/或频率调制。尤其地，用于产生电磁场的电磁场产生元件利用例如在电磁线圈中的交流电或直流电，构造为永磁体、充电元件或其他本领域技术人员认为有意义的电磁场产生元件。优选地，位置和/或距离传感器单元尤其为了根据电磁场的特征参量感测介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向而具有至少一个电磁传感器元件。电磁传感器元件尤其可以构造为线圈、霍尔传感器、感应传感器或其他本领域技术人员认为有意义的电磁传感器元件。优选地，电磁场在围绕介质输出单元的环境中的分布可以存储在位置和/或距离传感器单元的存储器单元和/或电子部件单元的存储器单元中。优选地，可以根据所感测的电磁场的特征参量和所存储的电磁场在围绕介质输出单元的环境中的分布确定介质输出单元在围绕介质输出单元的环境中的、尤其相对于所述表面的位置和/或定向。有利地，可以根据电磁场的特征参量感测介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向。有利地，可以使用无源的位置和/或距离传感器单元。有利地，能够实现介质涂覆设备的更有能量效率的运行。
此外提出，围绕介质输出单元的环境的参照元件构造为用于反射电磁辐射的电磁反射器元件并且位置和/或距离传感器单元构造为用于发射和探测电磁辐射的电磁辐射单元，该电磁辐射单元设置成用于根据由电磁反射器元件反射的电磁辐射感测介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向。优选地，反射器元件设置成用于反射电磁频谱的频率范围中的电磁辐射，位置和/或距离传感器单元在该频率范围中发射电磁辐射。优选地，反射器元件设置成用于，反射穿过材料的电磁辐射。优选地，反射器元件设置成用于反射无线电波范围、微波范围、兆赫范围或其他本领域技术人员认为有意义的频率范围中的电磁辐射。尤其地，位置和/或距离传感器单元为了发射和探测电磁辐射具有至少一个电磁辐射元件。电磁辐射元件尤其设置成用于发射并且探测穿过材料的电磁辐射。优选地，电磁辐射元件设置成用于发射并且探测无线电波范围、微波范围、兆赫范围或其他本领域技术人员认为有意义的频率范围中的电磁辐射。优选地，电磁辐射元件构造为雷达传感器、微波发射器、激光雷达器或其他本领域技术人员认为有意义的电磁辐射元件。有利地，可以根据反射的电磁辐射感测介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向。有利地，可以取消在介质输出单元和围绕介质输出单元的环境的参照元件之间的直接视线连接。
此外提出，围绕介质输出单元的环境的多个参照元件框架形地围绕所述表面上的至少一个涂覆区域地布置。优选地，围绕介质输出单元的环境的多个参照元件由用户安置在所述表面上。优选地，用户可以借助于围绕介质输出单元的环境的参照元件定义和/或限界在所述表面上的涂覆区域。有利地，能够实现在所述表面上的所选择的涂覆区域上的介质涂覆。
此外提出，电子部件单元设置成用于提供介质输出单元的至少一个特定标志。优选地，介质输出单元的特定标志构造为：数字和/或字母组合、如系列数字等；机器可读编码、如QR码、条形码等；显眼的几何形状、如介质涂覆设备的壳体的至少一个部分区域的显眼的形状，在该部分区域中布置有介质输出单元；或其他本领域技术人员认为有意义的特定标志。尤其地，特定标志可以是不变的。尤其地，特定标志可以存储在电子部件单元的存储器单元中。替代地可以设想，特定标志是不变的。尤其地，特定标志可以由电子部件单元优选在介质输出单元重新启动时产生。优选地，电子部件单元提供成电子数据的形式的、尤其关于数据关系的特定标志。替代地可以考虑，电子部件单元例如通过屏幕、发光二极管等光学地提供特定标志，和/或如通过扬声器等声学地提供特定标志。优选地，电子部件单元将特定标志提供给外部单元。尤其地，可以根据特定标志识别介质输出单元。优选地，可以根据特定标志读取关于介质输出单元的信息和/或调整介质输出单元的功能。
通过介质涂覆设备的根据本发明的构型可以有利地提供介质输出单元的特定标志。有利地，可以识别介质输出单元。有利地，能够实现介质涂覆设备的舒适的和安全的使用经历。
此外提出，介质涂覆设备包括至少一个用户识别单元，该用户识别单元设置成用于感测至少一个特定于用户的特征参量。特定于用户的特征参量尤其是介质涂覆设备的用户的特征参量。特定于用户的特征参量尤其可以构造为生物统计的特征参量、尤其是用户的指纹扫描、用户脸部的脸部识别和/或用户的虹膜扫描、用户引导介质输出单元的运动特性、用户的密码或其他本领域技术人员认为有意义的特定于用户的特征参量。用户识别单元尤其可以具有至少一个用户识别元件，该用户识别元件设置成用于感测至少一个特定于用户的特征参量。原则上可以设想，用户识别单元包括多个用户识别元件、尤其是彼此不同的用户识别元件。优选地，可以通过使用多个用户识别元件同时感测多个特定于用户的特征参量。优选地，相比于使用单个用户识别元件，可以通过使用多个用户识别元件提高用户识别的精度。用户识别元件尤其可以构造为指纹扫描器、虹膜扫描器、用于脸部识别的摄像机、用于输入密码的输入区或其他本领域技术人员认为有意义的用户识别元件。替代地可以设想，用户识别元件构造为用于感测特定于用户的运动特性的运动传感器元件、如速度传感器、加速度传感器等。优选地，用户识别单元可以具有分析处理单元、如微处理器或数字电路。优选地，分析处理单元设置成用于，加工和分析处理特定于用户的运动特性、如典型的速度(用户以该速度使介质输出单元运动)、典型的加速度(用户以该加速度使介质输出单元运动)、典型的方向(用户在该方向中使介质输出单元运动)或不同特定于用户的运动特性的组合，以便识别用户。可以考虑，使用电子部件单元来加工和分析处理特定于用户的运动特性。
优选地，电子部件单元可以处理用户识别单元的包含至少一个特定于用户的特征参量的信号、尤其是电信号来控制和/或调节介质输出单元。优选地，用户识别单元为了传递信号与电子部件单元尤其导电地连接。优选地，在电子部件单元的存储器单元中关于每个特定于用户的特征参量存储有用于控制和/或调节介质输出单元的程序。尤其地，所述程序对于介质输出单元的参数的每个参数包括介质输出单元的要调整的参数。优选地，电子部件单元可以这样控制和/或调节介质输出单元，使得介质输出单元的参数关于特定于用户的特征参量适配地调整。优选地，电子部件单元可以根据特定于用户的特征参量激活或禁止介质输出单元的介质输出功能。优选地，电子部件单元可以根据特定于用户的特征参量进行介质输出单元的特定于用户的预调整。有利地，可以感测特定于用户的特征参量并且尤其用于识别用户。有利地，仅授权的用户能够实现介质涂覆设备的使用。有利地，可以提供访问安全的介质涂覆设备。有利地，使用户能够实现介质涂覆设备的特定的、尤其安全的和舒适的使用经历。
此外提出，介质涂覆设备具有至少一个用户界面，该用户界面设置成用于输出介质涂覆设备的用户的信息。信息尤其应理解为光学信息、触觉信息和/或声学信息。
此外提出，用户界面构造为光学显示设备并且输出光学信息。优选地，光学显示设备可以如下实施，其中，列举不是完全的：至少一个LED、显示器、投影仪、多个LED或其他本领域技术人员认为有意义的光学显示设备。光学信息尤其可以是白光或彩色光、投影图像、图像顺序、编号和数字或类似物。此外提出，光学显示设备构造为显示器并且光学信息作为数字、编号和/或图像的顺序输出。此外提出，光学显示设备构造为投影仪并且光学信息投影到面上。
此外提出，用户界面具有振动单元，该振动单元将触觉显示作为振动输出。尤其地，用户界面可以实施为振动单元，该振动单元将触觉显示作为振动输出。优选地，介质涂覆设备的用户可以通过皮肤接触感觉到该振动。
此外提出，用户界面构造为声学显示设备并且输出声学信息。声学显示设备尤其可以是扬声器或类似物。
此外提出，用户界面输出下列参数的至少一个参数：
·介质涂覆设备相对于要加工的面、尤其是所述表面的间距
·介质涂覆设备的运动速度，
·容器的填充高度，
·颜色。
此外，本发明涉及一种涂覆系统，该涂覆系统具有至少一个介质涂覆设备、尤其是至少一个根据本发明的介质涂覆设备和至少一个控制和/或调节单元，该介质涂覆设备具有用于将至少一个介质输出到至少一个表面上的至少一个介质输出单元和至少用于控制和/或调节所述至少一个介质输出单元的至少一个电子部件单元。
本发明提出，控制和/或调节单元具有至少一个感测设备，该感测设备设置成用于，根据介质涂覆设备的环境的至少一个参照元件和/或根据介质涂覆设备的至少一个参照元件感测介质涂覆设备相对于所述表面的至少一个位置和/或定向。“控制和/或调节单元”尤其应理解为具有至少一个控制电子部件的单元。优选地，控制和/或调节单元可以构造为外部控制和/或调节单元，该外部控制和/或调节单元尤其布置在介质涂覆设备外部。尤其地，控制和/或调节单元可以构造为移动设备、如智能手机、平板电脑或其他本领域技术人员认为有意义的移动设备。替代地或附加地可以设想，控制和/或调节单元集成到介质涂覆设备中。尤其地，控制和/或调节单元、尤其是控制和/或调节单元的感测设备可以与介质涂覆设备布置在同一个壳体中。
优选地，控制和/或调节单元具有感测设备。感测设备尤其设置成用于，根据介质涂覆设备的环境的参照元件和/或根据介质涂覆设备的参照元件感测介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向。优选地，为了感测参照元件，感测设备具有至少一个感测元件。感测元件尤其可以构造为摄像机、光学传感器、电磁传感器、声学传感器或其他本领域技术人员认为有意义的感测元件。感测设备尤其可以具有多个优选不同的感测元件。
优选地，介质涂覆设备的环境的参照元件可以类似于围绕介质输出单元的环境的参照元件地构造。尤其地，介质涂覆设备的环境至少基本上相应于围绕介质输出单元的环境。介质涂覆设备的参照元件尤其可以是存在于介质涂覆设备上的参照元件或尤其用于介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向感测的、安置在介质涂覆设备上的参照元件。优选地，存在的参照元件可以构造为介质涂覆设备的壳体的显眼的形状、介质涂覆设备的壳体的显眼的颜色或其他本领域技术人员认为有意义的参照元件。优选地，参照元件可以构造为QR码、条形码、无线电发射器、照明元件或其他本领域技术人员认为有意义的参照元件。优选地，介质涂覆设备的电子部件单元可以根据所感测的介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向控制和/或调节介质输出单元。优选地，在介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向感测例如由于介质涂覆设备从感测设备的感测区域运动出来等而出现失误时，电子部件单元设置成用于，这样控制和/或调节介质输出单元，使得禁止介质输出。有利地，可以根据介质涂覆设备的环境的参照元件和/或根据介质涂覆设备的参照元件感测介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向。有利地，可以在介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向感测出现失误时至少基本上避免错误的介质涂覆。
此外提出，介质涂覆设备的参照元件构造为至少一个发射辐射的照明元件并且对于至少一个用户至少基本上无眩光地布置在介质涂覆设备的壳体上。优选地，照明元件发射尤其在电磁频谱的具有小于紫外线辐射的频率的频谱范围中的电磁辐射。尤其地，介质涂覆设备可以具有多个尤其不同的照明元件。优选地，照明元件可以构造为灯泡、特别优选构造为发光二极管。优选地，用户可以在不被照明元件炫目的情况下操作介质涂覆设备。优选地，通过用户至少基本上不能察觉由照明元件发出的辐射。尤其地，至少基本上不发生通过由照明元件发射的辐射对用户的视觉能力的尤其暂时的损害。优选地，参照元件力锁合地、形状锁合地和/或材料锁合地布置在介质涂覆设备的壳体上。有利地，可以提供舒适地、尤其无眩光地操作的介质涂覆设备。
此外提出，介质涂覆设备的参照元件构造为至少一个发射辐射的照明元件并且介质涂覆设备具有至少一个防眩光元件，该防眩光元件至少部分地覆盖照明元件。尤其地，防眩光元件可以优选力锁合地、形状锁合地和/或材料锁合地布置在介质涂覆设备的壳体上。优选地，防眩光元件在用户的观察方向中覆盖照明元件。优选地，防眩光元件可以构造为遮盖元件、尤其是辐射不能穿透的遮盖元件，该遮盖元件尤其设置成用于封锁通过照明元件发射的辐射朝着用户的眼睛的方向的传播。优选地，防眩光元件可以构造为过滤器元件、例如颜色过滤器元件，该过滤器元件尤其设置成用于过滤通过照明元件发射的辐射并且封锁辐射的眩光强烈的分量。替代地可以设想，防眩光元件构造为散射元件、反射元件或其他本领域技术人员认为有意义的防眩光元件。有利地，尤其借助于单个元件可以实现有效的防眩光。
此外提出，介质涂覆设备的参照元件构造为发射辐射的照明元件，该照明元件设置成用于发射来自蓝色频谱范围和/或对于人眼至少基本上不可见的频谱范围中的电磁辐射。尤其地，照明元件可以构造为在蓝色频谱范围中发射的发光二极管或红外线发光二极管。替代地可以设想，照明元件发射来自比红外线波长更长的频谱范围中的电磁辐射或例如构造为无线电发射器。优选地，蓝色光对于人眼是至少基本上无眩光的。优选地，红外线辐射和波长更长的辐射对于人眼是不可见的、尤其是完全无眩光的。有利地，可以提供构造为照明元件的参照元件，该参照元件的发射的辐射是至少基本上无眩光的。有利地，可以取消用于防眩光的附加构件。有利地，介质涂覆设备可以成本有利地制造。
此外提出，介质涂覆设备的参照元件构造为发射辐射的照明元件，该照明元件设置成用于脉冲式地发射辐射。优选地，照明元件可以构造为脉冲的发光二极管或脉冲的激光二极管。尤其地，至少一个辐射脉冲、尤其是辐射脉冲的持续时间和/或强度可以这样设计，使得至少基本上不发生用户的眩目。附加地可以设想，通过照明元件的脉冲运行可以调制通过照明元件发射的辐射，尤其用于从介质涂覆设备至控制和/或调节单元的信息传递。有利地，介质涂覆设备的参照元件可以满足双重功能。
此外提出，介质涂覆设备的参照元件构造为无辐射的编码元件。编码元件尤其可以构造为施加在介质涂覆设备上的编码。优选地，编码可以由控制和/或调节单元的感测设备读取。尤其地，编码可以构造为QR码、条形码、彩色图案码或其他本领域技术人员认为有意义的编码。优选地，编码元件构造为无源的、无辐射的编码元件。有利地，可以避免用户由于缺少的辐射的眩目。
此外提出，介质涂覆设备的环境的参照元件至少基本上类似于介质涂覆设备的参照元件地构造。尤其地，参照元件可以构造为尤其无眩光的照明元件、设置成用于发射来自蓝色频谱范围和/或对于人眼至少基本上不可见的频谱范围中的电磁辐射的照明元件、设置成用于脉冲式发射辐射的照明元件、无辐射的编码元件或其他本领域技术人员认为有意义的参照元件。尤其可以设想，介质涂覆设备的环境的参照元件借助于投影仪、如激光投影仪、视频投影仪等投影到介质涂覆设备的环境中、优选投影到所述表面上。优选地，介质涂覆设备的环境的参照元件可以作为图案、尤其是条形图案、QR码、条形码或其他本领域技术人员认为有意义的介质涂覆设备的环境的参照元件投影到介质涂覆设备的环境中。有利地，可以提供多个不同的介质涂覆设备的环境的参照元件。
此外提出，介质涂覆设备具有至少一个参照元件产生单元，该参照元件产生单元设置成用于产生介质涂覆设备的环境的参照元件。优选地，参照元件产生单元设置成用于，在所述表面上产生介质涂覆设备的环境的参照元件。尤其地，参照元件产生单元可以暂时地或持久地产生参照元件。优选地，参照元件产生单元可以构造为投影仪。尤其地，可以借助于投影仪将介质涂覆设备的环境的参照元件作为图案、尤其是条形图案、QR码、条形码或其他本领域技术人员认为有意义的参照元件投影到所述表面上。尤其地，参照元件可以暂时地、尤其直至介质涂覆设备相对于所述表面的通过感测设备的位置和/或定向感测或持久地、尤其为了介质涂覆设备相对于所述表面的通过感测设备的持续的位置和/或定向感测被投影。
替代地可以设想，参照元件产生单元构造为另外的介质输出单元或集成到介质涂覆设备的存在的介质输出单元中。优选地，参照元件产生单元可以借助于介质、优选借助于用于制成介质涂覆部的介质将介质涂覆设备的环境的参照元件施加到所述表面上。优选地，参照元件产生单元可以借助于介质将QR码、条形码或其他本领域技术人员认为有意义的参照元件施加到表面上。优选地，介质涂覆设备的环境的要产生的参照元件的至少一个模型存储在参照元件产生单元的存储器单元和/或电子部件单元的存储器单元中。优选地，介质涂覆设备的环境的参照元件可以借助于介质涂覆设备的参照元件产生单元产生。有利地，可以取消在制成介质涂覆部之前的介质涂覆设备的环境的参照元件的安置。有利地，介质涂覆过程可以简单地构型。
此外提出，介质输出单元具有带着至少一个喷嘴元件的至少一个喷嘴单元，该喷嘴元件与介质涂覆设备的参照元件在同一排中布置，其中，喷嘴元件和介质涂覆设备的参照元件沿着各个假想的直线布置，所述直线在喷嘴元件相对于所述表面至少基本上垂直的介质输出方向中至少基本上垂直于所述表面地走向。优选地，介质到所述表面上的输出通过喷嘴元件进行。优选地，喷嘴元件与介质涂覆设备的参照元件在一排中布置。表述“基本上垂直”尤其应限定一方向相对于参考方向的定向，其中，所述方向和参考方向尤其在一平面中观察围成90°的角度并且所述角度具有尤其小于8°、有利地小于5°并且特别有利地小于2°的最大偏差。优选地，通过感测设备根据介质涂覆设备的参照元件感测的介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向相应于喷嘴元件相对于所述表面的位置和/或定向。有利地，可以感测介质涂覆部的精确位置。有利地，相比于介质涂覆设备的喷嘴元件和参照元件没有在同一排中布置，可以取消在介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向感测时的偏移修正。有利地，相比于介质涂覆设备相对于所述表面的具有偏移修正的位置和/或定向感测，可以通过较小的计算耗费进行介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向感测。
此外提出，感测设备至少为了介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向感测具有至少一个摄像机单元，该摄像机单元在图像分辨率为至少518.400像点时具有一秒钟至少120个图像的图像拍摄频率。尤其地，摄像机单元在图像分辨率为至少1280乘720像点时、优选在图像分辨率为至少1920乘1080像点时并且特别优选在图像分辨率为3840乘2160像点具有一秒钟至少120个图像的图像拍摄频率。在图像分辨率为至少1.1664百万像点时、尤其在图像分辨率为1920乘1080像点时，摄像机单元优选具有一秒钟120个图像的图像拍摄频率、特别优选一秒钟240个图像的图像拍摄频率。在图像分辨率为至少518.400像点、尤其在图像分辨率为1280乘720像点时，摄像机单元优选具有一秒钟240个图像的图像拍摄频率、特别优选一秒钟480个图像的图像拍摄频率。尤其在借助于介质涂覆设备的位置和/或表面传感器单元进行介质输出单元相对于所述表面的同时的位置和/或定向感测时可以考虑，摄像机单元尤其在图像分辨率为至少518.400像点时、优选在图像分辨率为至少1280乘720像点时、特别优选在图像分辨率为至少1920乘1080像点时并且完全特别优选在图像分辨率为至少3840乘2160像点时具有一秒钟至少60个图像的图像拍摄频率。摄像机单元尤其可以构造为高速摄像机或其他本领域技术人员认为有意义的摄像机单元。尤其地，摄像机单元可以在一秒钟内确定数量相应于在一秒钟内拍摄的图像的数量的介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向。有利地，尤其即使在介质涂覆设备快速运动时也可以实现介质涂覆设备相对于所述表面的准确的位置和/或定向感测。
此外提出，控制和/或调节单元具有至少一个转向单元，该转向单元设置成用于，使关于通过感测设备的位置和/或定向感测的数据转向。优选地，即使在感测设备背离所述表面定向的情况下也可以借助于转向单元进行介质涂覆设备借助于感测设备的位置和/或定向感测。优选地，转向单元至少部分地布置在感测设备上。优选地，转向单元至少部分地面向所述表面地定向。尤其地，转向单元可以构造为由光学元件如透镜和/或镜设计的单元。优选地，转向单元可以构造为潜望镜式的镜和/或棱镜设计、纤维光学元件、角形透镜或其他本领域技术人员认为有意义的转向单元。尤其地，可以借助于转向单元使所述表面前面的介质涂覆设备的要感测的图像为了通过感测设备感测而转向至感测设备。尤其地，可以用作为控制和/或调节单元的智能手机可以在智能手机的后侧上具有构造为摄像机的感测设备并且在智能手机的前侧上具有屏幕。优选地，为了感测设备和屏幕的同时的舒适的使用，可以使用转向单元。替代地可以设想，将转向单元布置在控制和/或调节单元上以用于使至少一个在屏幕上示出的图像转向。优选地，转向单元为了使在屏幕上示出的图像转向可以至少基本上类似于用于感测设备的转向单元地构造。尤其地，屏幕可以构造为可翻转的和/或可旋转的屏幕。有利地，可以借助于转向单元实现感测设备的可自由选择的定向。
此外提出，感测设备具有至少一个间距传感器单元，该间距传感器单元设置成用于，感测控制和/或调节单元相对于所述表面的至少一个间距。优选地，间距传感器单元可以构造为激光距离测量器、超声距离测量器、雷达距离测量器或其他本领域技术人员认为有意义的间距传感器单元。尤其地，构造为激光距离测量器的间距传感器单元可以具有至少一个激光二极管、尤其是VCSEL二极管(垂直腔面发射激光器)。优选地，激光二极管发射具有大于750nm的波长的电磁辐射、特别优选具有大于850nm或940nm的波长的电磁辐射。替代地可以设想，间距传感器单元构造为3D摄像机、尤其是立体摄像机。优选地，构造为3D摄像机的感测元件可以用作为间距传感器单元。此外替代地可以考虑，间距传感器单元具有投影仪和感测元件。尤其地，可以借助于投影仪将图案投影到所述表面上，该图案优选可以由感测元件感测并且感测元件根据该感测元件优选可以确定相对于所述表面的间距。优选地，投影仪构造为红外线投影仪并且感测元件构造为红外线传感器。优选地，控制和/或调节单元相对于所述表面的借助于间距传感器单元感测的间距可以被考虑到介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向感测中，尤其用于提高介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向感测的精度。有利地，可以感测控制和/或调节单元相对于所述表面的间距。有利地，可以实现介质涂覆设备相对于所述表面的精确的位置和/或定向感测。
此外提出，介质涂覆设备具有用于将控制和/或调节单元固定在介质涂覆设备上的至少一个固定单元。优选地，固定单元可以尤其力锁合地、形状锁合地和/或材料锁合地布置在介质涂覆设备的壳体上。优选地，固定单元设置成用于形状锁合地和/或力锁合地接收控制和/或调节单元、尤其是控制和/或调节单元的壳体。优选地，固定单元可校准地构造成尤其用于接收不同的控制和/或调节单元。优选地，固定单元可运动地布置在介质涂覆设备的壳体上，尤其用于控制和/或调节单元的符合人体工程学的定向。优选地，固定单元具有保护单元、如保护套、保护薄膜等用于保护控制和/或调节单元尤其免受通过介质输出单元输出的介质的影响。优选地，保护单元至少部分地包围控制和/或调节单元。替代地或附加地可以考虑，控制和/或调节单元本身具有保护单元。有利地，控制和/或调节单元可以固定在介质涂覆设备上。有利地，用户可以在介质涂覆期间使用控制和/或调节单元的屏幕。有利地，用户可以在介质涂覆期间进行控制和/或调节单元的调整。
此外提出，控制和/或调节单元具有至少一个投影单元，该投影单元设置成用于，将至少一个取向点和/或至少一个网栅投影到所述表面上。优选地，投影单元可以构造为激光投影仪、尤其是激光笔、视频投影仪或其他本领域技术人员认为有意义的投影单元。取向点尤其可以是光点，该光点优选为了用户在介质涂覆过程中的取向和/或引导对所述表面进行扫描。介质涂覆过程尤其构造为以下过程，在该过程中用户借助于介质涂覆设备将介质涂覆到所述表面上以制成介质涂覆部。优选地，网栅可以构造为围绕所述表面上的要喷射的区域的框架、图案、尤其是栅格和/或点图案或条形图案或其他本领域技术人员认为有意义的网栅。优选地，投影单元可以同时将取向点和网栅投影到所述表面上。有利地，尤其可以在介质涂覆时实现用户取向和/或引导。
此外提出，介质涂覆设备和控制和/或调节单元分别具有至少一个尤其无线的通信单元以用于彼此和/或与至少一个另外的外部单元的电子数据的加密交换，其中，通信单元设置成用于以小于30ms的延迟时间传递数据。所述另外的外部单元尤其可以构造为屏幕、投影仪如激光投影仪、视频投影仪等或其他本领域技术人员认为有意义的另外的外部单元。有利地，可以借助于通信单元将所述表面上的介质涂覆部的实时图像尤其以介质涂覆设备相对于所述表面的当前感测的位置传递到所述另外的外部单元上并且尤其通过所述另外的外部单元显示给用户。优选地，通信单元构造为蓝牙单元、无线电单元、基于光的通信单元或其他本领域技术人员认为有意义的通信单元。基于光的通信单元可以将电子数据尤其通过第三方器具如联网的灯或灯泡和/或通过调制光传递。优选地，基于光的通信单元可以构造为激光二极管、尤其是VCSEL二极管。优选地，控制和/或调节单元的存在的部件、尤其是摄像机单元的闪光灯和/或介质涂覆设备的存在的部件、尤其是照明元件也可以用作为基于光的通信单元。
替代地可以设想，通信单元线缆接合地构造。优选地，电子数据的交换通过USB线缆、以太网线缆或通过其他本领域技术人员认为有意义的线缆实现。尤其地，通信单元设置成用于以小于30ms的延迟时间、优选以小于20ms的延迟时间并且特别优选以小于10ms的延迟时间进行数据传递。尤其地，在介质输出单元相对于所述表面借助于介质涂覆设备的位置和/或表面传感器单元和控制和/或调节单元的感测设备的同时的位置和/或定向感测时可以考虑，通信单元设置成用于以小于100ms的延迟时间进行数据传递。“延迟时间”尤其应理解为在发送和接收电子数据之间流逝的时间。优选地，通信单元具有至少一个加密和/或解密元件。优选地，加密和/或解密元件设置成用于要发送的电子数据的加密和接收的电子数据的解密。尤其地，加密和/或解密元件设置成用于要发送的电子数据的对称的和/或不对称的加密。优选地，加密和/或解密元件构造为微处理器或其他本领域技术人员认为有意义的加密和/或解密元件。有利地，可以实现介质涂覆设备、控制和/或调节单元和/或另外的外部单元之间的至少基本上无延迟的通信。有利地，可以实现在介质涂覆设备、控制和/或调节单元和/或另外的外部单元之间的可靠的通信。有利地，能够实现涂覆系统的安全的使用经历。
此外提出，感测设备设置成用于感测介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向以用于介质涂覆设备的借助于节拍同步和/或开始时间触发的、尤其无线的同步。尤其地，感测设备设置成用于与介质涂覆设备的尤其构造为发射辐射的照明元件的参照元件同步。优选地，不能实时的控制和/或调节单元的感测设备设置成用于与介质涂覆设备的参照元件同步。在介质涂覆设备相对于所述表面的实时的位置和/或定向感测中，尤其相对于位置和/或定向感测至少基本上同时地和/或连续地将所感测的介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向提供给介质涂覆设备、尤其是介质涂覆设备的电子部件单元。优选地，感测设备可以通过与介质涂覆设备、尤其与介质涂覆设备的参照元件的同步将所感测的介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向连同时间戳提供给介质涂覆设备、尤其是电子部件单元。时间戳尤其设置成用于，将明确的感测时间点配属于所感测的介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向。优选地，将呈电子数据形式的时间戳与描述所感测的介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向的电子数据一起传递到介质涂覆设备上、尤其通过控制和/或调节单元的通信单元传递到介质涂覆设备的通信单元上。优选地，介质涂覆设备的参照元件和感测设备尤其在感测设备与介质涂覆设备的参照元件同步之后节拍同步地工作并且具有时间戳的相同的开始时间点。介质涂覆设备的参照元件和感测设备的节拍同步的工作尤其可以借助于节拍同步实现。替代地或附加地，介质涂覆设备的参照元件和感测设备的节拍同步的工作尤其可以借助于图案探测实现。尤其地，通过节拍同步使介质涂覆设备、尤其是介质涂覆设备的电子部件单元的工作节拍和感测设备的工作节拍同步。介质涂覆设备、尤其是介质涂覆设备的电子部件单元的工作节拍尤其构造为介质涂覆设备的电子部件单元的节拍发生器、如石英振荡器的参考频率。优选地，介质涂覆设备的计算节拍相应于介质涂覆设备的工作节拍的多倍，介质涂覆设备的电子部件单元以该计算节拍实施计算。感测设备的工作节拍尤其构造为拍摄频率、如感测设备的摄像机单元的图像拍摄频率，感测设备以该拍摄频率感测介质涂覆设备。介质涂覆设备的参照元件和感测设备的时间戳的相同的开始时间点尤其可以借助于开始时间触发实现。尤其地，通过开始时间触发调设出介质涂覆设备、尤其是介质涂覆设备的电子部件单元和感测设备的时间戳的同步的开始时间点。
优选地，感测设备尤其为了与介质涂覆设备的同步的初始化设置成用于介质涂覆设备的局部化和/或介质涂覆设备相对于介质涂覆设备的环境的图像隔离。优选地，感测设备根据介质涂覆设备的参照元件使介质涂覆设备局部化。优选地，感测设备根据介质涂覆设备的构造为发射辐射的照明元件的参照元件的最亮的区域借助于边缘探测和/或根据介质涂覆设备的参照元件的边缘过渡使介质涂覆设备局部化。为了介质涂覆设备相对于介质涂覆设备的环境的图像隔离，感测设备尤其移除至少一个拍摄图像的以下图像区域，在所述图像区域中不示出介质涂覆设备。尤其地，感测设备通过图像隔离将拍摄图像的要处理的图像区域限界到以下图像区域上，在该图像区域中在没有介质涂覆设备的环境的情况下描绘出介质涂覆设备。优选地，图像隔离能够实现快速的和/或精确的节拍同步和开始时间触发。优选地，感测设备至少为了初始化与介质涂覆设备的同步、特别优选在节拍同步和开始时间触发期间重复地实施局部化和图像隔离。替代地可以设想，感测设备在初始化与介质涂覆设备的同步期间实施单独一次局部化并且附加于初始化地在节拍同步和开始时间触发期间重复地实施图像隔离。然而也可以考虑，取消局部化和图像隔离。
优选地，感测设备为了实现节拍同步设置成用于感测介质涂覆设备、尤其是介质涂覆设备的参照元件的节拍信号并且用于将节拍误差尤其借助于控制和/或调节单元的通信单元传递到介质涂覆设备、尤其是介质涂覆设备的通信单元上。感测设备和介质涂覆设备尤其设置成用于按照相位调节回线(PLL：phase-locked loop)的原理的节拍同步。优选地，介质涂覆设备的参照元件发送节拍信号，该节拍信号相应于介质涂覆设备的电子部件单元的工作节拍或介质涂覆设备的电子部件单元的工作节拍的多倍。介质涂覆设备的发射辐射的参照元件尤其设置成用于，以相应于介质涂覆设备的电子部件单元的工作节拍或介质涂覆设备的电子部件单元的工作节拍的多倍的闪光频率闪光。优选地，介质涂覆设备的参照元件、尤其是介质涂覆设备的构造为发射辐射的照明元件的参照元件设置成用于发送频率编码的、尤其是多色的节拍信号。替代地或附加地可以考虑，介质涂覆设备的参照元件、尤其是介质涂覆设备的多个构造为发射辐射的照明元件的参照元件设置成用于发送局部的图案。感测设备尤其设置成用于，感测由介质涂覆设备的参照元件发送的节拍信号。优选地，感测设备可以在感测节拍信号之后实施介质涂覆设备的局部化和/或介质涂覆设备相对于介质涂覆设备的环境的图像隔离。替代地可以考虑，感测设备仅在节拍同步之前的初始化中实施局部化和/或图像隔离。感测设备尤其设置成用于，将介质涂覆设备的参照元件的所感测的节拍信号与感测设备的节拍相比较。尤其地，感测设备可以根据所感测的介质涂覆设备的节拍信号与感测设备的节拍的比较获得节拍误差。优选地，感测设备设置成用于，将获得的节拍误差与尤其存储在控制和/或调节单元的存储器单元中的节拍误差最大值相比较。尤其地，感测设备在节拍误差小于节拍误差最大值时设置成用于实施开始时间触发。尤其地，感测设备在节拍误差大于节拍误差最大值时设置成用于将节拍误差传递到介质涂覆设备上，尤其通过控制和/或调节单元的通信单元传递到介质涂覆设备的通信单元上。替代地可以考虑，感测设备设置成用于将转化的节拍误差传递到介质涂覆设备上。优选地，介质涂覆设备、尤其是介质涂覆设备的电子部件单元设置成用于，尤其为了再处理减小转化的节拍误差。优选地，感测设备设置成用于在介质涂覆设备的参照元件的节拍信号比感测设备的节拍超前时将负的节拍误差信号传递到介质涂覆设备上。优选地，感测设备设置成用于在介质涂覆设备的参照元件的节拍信号相比于感测设备的节拍滞后时将正的节拍误差信号传递到介质涂覆设备上。
尤其地，介质涂覆设备的电子部件单元设置成用于，根据所传递的节拍误差信号适配电子部件单元的工作节拍或介质涂覆设备的参照元件的节拍信号。优选地，电子部件单元设置成用于，根据负的节拍误差信号延缓电子部件单元的工作节拍或介质涂覆设备的参照元件的节拍信号。优选地，电子部件单元设置成用于，根据正的节拍误差信号加速电子部件单元的工作节拍或介质涂覆设备的参照元件的节拍信号。尤其地，介质涂覆设备的参照元件设置成用于，发送适配的节拍信号。优选地，重复节拍同步，直至所获得的节拍误差小于节拍误差最大值。
介质涂覆设备、尤其是介质涂覆设备的参照元件设置成用于实现开始时间触发，优选以用于生成至少一个信号图案(Signalmuster)。尤其是介质涂覆设备的构造为发射辐射的照明元件的参照元件的信号图案尤其可以构造为开关图案(Schaltmuster)、彩色图案、辐射调制图案或局部图案或其他本领域技术人员认为有意义的信号图案。优选地，介质涂覆设备的参照元件设置成在开始时间触发开始时用于生成具有大图案宽度和小图案周期间隔的信号图案。优选地，介质涂覆设备的参照元件设置成用于，在开始时间触发的过程中减小信号图案的图案宽度并且增大信号图案的图案周期间隔。信号图案的图案宽度尤其是用于发送信号图案所需的持续时间。信号图案的图案周期间隔尤其是在发送信号图案和重复发送信号图案之间流逝的持续时间。优选地，感测设备设置成用于感测信号图案。优选地，感测设备可以在感测信号图案之后实施介质涂覆设备的局部化和/或介质涂覆设备相对于介质涂覆设备的环境的图像隔离。替代地可以考虑，感测设备仅在节拍同步之前的初始化中实施局部化和/或图像隔离。优选地，感测设备设置成用于识别感测的信号图案并且根据信号图案适配时间戳的开始点。尤其地，感测设备设置成用于，将感测的信号图案的图案周期间隔与尤其存储在控制和/或调节单元的存储器单元中的图案周期间隔最小值相比较。优选地，感测设备根据感测的信号图案的图案周期间隔与图案周期间隔最小值的比较设置成用于，将尤其关于控制和/或调节单元的通信单元的信号传递到介质涂覆设备上、尤其是介质涂覆设备的通信单元上。在所感测的信号图案的图案周期间隔大于图案周期间隔最小值时，感测设备尤其设置成用于将开始信号传递到介质涂覆设备上。优选地，开始信号通知介质涂覆设备、尤其是介质涂覆设备的电子部件单元，在发送随后的信号图案时启动计数器来产生时间戳。在感测的信号图案的图案周期间隔小于图案周期间隔最小值的情况下，感测设备尤其设置成用于将重复信号传递到介质涂覆设备上。优选地，重复信号通知介质涂覆设备，将随后发送的信号图案的图案宽度调整成小于所感测的信号图案的图案宽度。优选地，重复信号通知介质涂覆设备，将随后发送的信号图案的图案周期间隔调整成大于所感测的信号图案的图案周期间隔。优选地，开始时间触发如此长时间地重复，直至所感测的信号图案的图案周期间隔小于图案周期间隔最大值。开始时间触发尤其构造为以下过程，该过程持续直至计数器开始产生时间戳、尤其能够实现计数器的启动。
优选地，感测设备和/或介质涂覆设备、尤其是介质涂覆设备的电子部件单元尤其在感测设备与介质涂覆设备的同步期间设置成用于介质涂覆设备的参照元件的强度调节。电子部件单元的感测设备和/或尤其设置成根据介质涂覆设备和/或感测设备的环境条件、如环境光强度、干扰等用于介质涂覆设备的参照元件的强度调节。优选地，感测设备可以通过适配感测设备的感测敏感性来调节介质涂覆设备的参照元件的所感测的强度。优选地，介质涂覆设备的电子部件单元可以通过调整介质涂覆设备的尤其构造为发射辐射的照明元件的参照元件来调节介质涂覆设备的参照元件的辐射的强度。优选地，通过介质涂覆设备的参照元件的强度调节可以实现介质涂覆设备的高位置精度并且实现感测设备与介质涂覆设备的同步的高精度。
优选地，控制和/或调节单元的多个感测设备和/或多个控制和/或调节单元的感测设备可以设置成用于与介质涂覆设备的借助节拍同步和/或开始时间触发的尤其无线的同步。优选地，感测设备可以设置成用于与多个介质涂覆设备的借助于节拍同步和/或开始时间触发的尤其无线的同步。优选地，控制和/或调节单元的多个感测设备和/或多个控制和/或调节单元的感测设备可以设置成用于与多个介质涂覆设备的借助于节拍同步和/或开始时间触发的尤其无线的同步。优选地，用于多个介质涂覆设备的每个介质涂覆设备的控制和/或调节单元的通信单元可以具有单独的通信通道。优选地，介质涂覆设备的用于多个感测设备的每个感测设备的通信单元可以具有单独的通信通道。优选地，多个感测设备中的一个感测设备可以构造为主感测设备，该主感测设备尤其设置成用于与介质涂覆设备或多个介质涂覆设备的同步。尤其地，多个感测设备的另外的感测设备可以构造为副感测设备，所述副感测设备尤其从主感测设备收到开始时间。尤其地，副感测设备在与介质涂覆设备通信时设置成用于考虑在所感测的信号和通过主感测设备感测的信号之间的相位差。优选地，相比于借助于单个感测设备的位置和/或定向感测，可以借助于多个感测设备提高介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向感测的稳固性和/或能够实现介质涂覆设备的绝对的空间位置和/或定向感测。有利地，借助于不能实时的控制和/或调节单元的感测设备能够实现介质涂覆设备相对于所述表面的精确的位置和/或定向感测。有利地，可以取消成本高的能实时的控制和/或调节单元。有利地，可以提供成本有利的控制和/或调节单元。
此外提出，控制和/或调节单元具有至少一个感测设备、尤其是前面提到的感测设备，该感测设备设置成用于感测介质涂覆设备相对于至少一个表面的至少一个位置和/或定向并且该感测设备设置成用于在介质涂覆设备的位置和/或定向感测期间的自身运动。尤其地，控制和/或调节单元可以构造为移动设备，优选构造为智能手机、平板电脑、增强现实眼镜或其他本领域技术人员认为有意义的移动设备。
优选地，感测设备设置成用于在介质涂覆设备的位置和/或定向感测期间的自身运动。尤其地，感测方向可以通过用户尤其有意地运动和/或为了介质涂覆设备的位置和/或定向确定尤其自动地运动。优选地，控制和/或调节单元为了感测设备的自动运动可以具有至少一个驱动单元。有利地，可以感测介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向。有利地，可以提供具有在在介质涂覆设备的位置和/或定向确定期间可运动的感测设备的控制和/或调节单元。
此外提出，控制和/或调节单元具有至少一个计算单元，该计算单元设置成用于，由于感测设备的至少一个自身运动补偿对于介质涂覆设备的位置和/或定向感测的影响。优选地，控制和/或调节单元具有至少一个运动传感器元件、如加速度传感器或斜度传感器以用于感测感测设备的自身运动。尤其地，计算单元的运动传感器元件可以提供关于感测设备的自身运动的尤其电的信号。优选地，计算单元设置成用于，由介质涂覆设备的位置和/或定向计算出所感测的介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向的通过感测设备的自身运动决定的偏移。有利地，即使存在感测设备的自身运动，可以实现介质涂覆设备相对于所述表面的准确的位置和/或定向感测。
此外提出，介质涂覆设备具有介质涂覆设备的至少一个尤其光学的参照元件、尤其是前面提到的介质涂覆设备的参照元件，并且感测设备设置成用于根据介质涂覆设备的参照元件感测介质涂覆设备在至少一个三维空间中的至少一个绝对位置。介质涂覆设备的参照元件尤其安置在介质涂覆设备的壳体上。介质涂覆设备的参照元件尤其可以构造为光学标记、如照明元件、颜色码或QR码。替代地可以考虑，介质涂覆设备的参照元件构造为无线电发射器或其他本领域技术人员认为有意义的参照元件。优选地，感测设备可以具有构造为无线追踪器、特别优选激光追踪器的感测元件。优选地，感测设备设置成用于，感测相对于介质涂覆设备的间距、介质涂覆设备相对于感测设备的仰角并且感测介质涂覆设备相对于感测设备的方位角。优选地，感测设备可以持续地、尤其在介质涂覆设备运动期间感测介质涂覆设备在三维空间中的绝对位置。优选地，感测元件为了在三维空间中跟踪介质涂覆设备围绕至少两个至少基本上彼此垂直的轴可枢转地受支承。在这里，表述“基本上垂直”尤其应限定一方向相对于参考方向的定向，其中，所述方向和参考方向尤其在一平面中观察围成90°的角度并且所述角度具有尤其小于8°、有利地小于5°并且特别有利地小于2°的最大偏差。有利地，能够实现介质涂覆设备在三维空间中的绝对位置确定。
此外提出，涂覆系统包括至少一个画架和/或画布设备，该画架和/或画布设备具有至少一个传感器和/或标记单元，该传感器和/或标记单元设置成用于感测介质涂覆设备相对于画架和/或画布设备的至少一个位置和/或定向。画架和/或画布设备尤其可以构造为用于接收作为要喷涂的表面的画布的画架、画布、画架和画布的组合或其他本领域技术人员认为有意义的画架和/或画布设备。优选地，传感器和/或标记单元设置成用于感测介质涂覆设备相对于画架和/或画布设备的位置和/或定向。尤其地，传感器和/或标记单元可以具有通信单元、尤其是无线的通信单元，该通信单元用于与涂覆系统的介质涂覆设备、控制和/或调节单元和/或其他本领域技术人员认为有意义的单元通信。
优选地，传感器和/或标记单元具有用于质涂覆设备相对于画架和/或画布设备的位置和/或定向感测的至少一个传感器和/或标记元件。尤其地，传感器和/或标记元件可以构造为光学的、电磁的、声学的、机械的或其他本领域技术人员认为有意义的传感器和/或标记元件。优选地，传感器和/或标记元件可以根据介质涂覆设备的参照元件感测介质涂覆设备的位置和/或定向。尤其地，画架和/或画布设备的画布可以由构造为传感器和/或标记元件的材料、尤其是织物形成。尤其地，画布可以由压电的、电容式的或其他本领域技术人员认为有意义的织物形成。有利地，可以借助于画架和/或画布设备感测介质涂覆设备相对于画架和/或画布设备的位置和/或定向。有利地，可以在使用画架和/或画布设备时取消控制和/或调节单元。
此外提出，画架和/或画布设备具有至少一个用户引导单元，该用户引导单元设置成用于，在画架和/或画布设备上制成介质涂覆部时引导至少一个用户。优选地，用户引导单元可以具有用于引导用户的至少一个用户引导元件。尤其地，用户引导元件可以构造为照明元件、声学元件或其他本领域技术人员认为有意义的用户引导元件。优选地，可以借助于用户引导元件向用户显示用于介质涂覆过程的开始点，尤其用于在介质涂覆过程中断之后的继续涂覆。优选地，用户引导单元可以构造为网栅。尤其地，网栅可以安置在画架和/或画布设备的画布上。有利地，用户可以在介质涂覆过程中受引导。有利地，可以实现精确的介质涂覆。
此外提出，涂覆系统包括至少一个过滤器设备，该过滤器设备设置成用于禁止通过介质涂覆设备的参照元件和/或通过介质涂覆设备的环境的参照元件发射的辐射的传输。优选地，过滤器设备可以构造为布置在介质涂覆设备的参照元件的环境中和/或介质涂覆设备的环境的参照元件中的过滤器设备。特别优选地，过滤器设备可以构造为可以由用户穿戴的过滤器设备。尤其地，过滤器设备可以构造为过滤器眼镜、过滤器面罩或其他本领域技术人员认为有意义的可以由用户穿戴的过滤器设备。为了禁止由介质涂覆设备的参照元件和/或由介质涂覆设备的环境的参照元件发射的辐射的传输、尤其为了禁止传输直到用户的至少一个眼中，过滤器设备优选可以具有至少一个过滤器元件。过滤器元件尤其可以构造为方向相关的过滤器、颜色过滤器、偏振过滤器或其他本领域技术人员认为有意义的过滤器元件。有利地，可以禁止由介质涂覆设备的参照元件和/或由介质涂覆设备的环境的参照元件发射的辐射的传输。有利地，能够实现对于用户的眼睛健康毫无问题的介质涂覆过程。
此外提出，涂覆系统包括至少一个增强现实设备，该增强现实设备设置成用于，在至少一个介质涂覆过程中提供给用户增强现实经历。优选地，增强现实设备除了真实存在的物体如介质涂覆设备和/或所述表面之外附加地插入虚拟内容，尤其插入到用户的视野中和/或与存在的物体成比例地合适地插入。增强现实设备尤其可以构造为AR眼镜(增强现实眼镜)、优选具有头部支架和/或光学器件的能增强现实的智能手机或其他本领域技术人员认为有意义的增强现实设备。优选地，增强现实设备可以具有用于与涂覆系统的介质涂覆设备、控制和/或调节单元、画架和/或画布设备和/或其他本领域技术人员认为有意义的单元通信的通信单元、尤其是无线的通信单元。尤其地，通信单元具有小于30ms、优选小于20ms并且特别优选小于10ms的延迟时间。
优选地，增强现实设备具有尤其用于显示虚拟内容的至少一个屏幕。优选地，增强现实设备具有用于感测所述表面和/或介质涂覆设备的至少一个感测元件、尤其是摄像机。尤其地，可以在屏幕上示出借助于感测元件感测的实时图像。优选地，可以在屏幕尤其附加于实时图像地插入信息、如介质涂覆过程的预估的剩余持续时间、用于制成介质涂覆部所需的颜料和/或其他本领域技术人员认为有意义的信息。优选地，最多以1秒的延迟、特别优选最多以100ms的延迟示出实时图像。尤其地，通信单元在从外部摄像机单元、如控制和/或调节单元的摄像机单元接收实时图像时具有小于1秒、优选小于100ms的延迟时间。优选地，实时图像可以放大地示出，尤其示出实时图像的确定的部分区域。尤其地，实时图像的部分区域可以手动和/或自动放大地示出。优选地，可以在屏幕上将虚拟内容插入到实时图像中并且显示。尤其地，可以插入要喷涂的题材(Motiv)的与实际存在的并且实时拍摄的表面成比例的预览。此外可以设想，插入用于介质涂覆过程开始点。有利地，能够使用户实现增强现实经历。有利地，能够实现舒适的介质涂覆过程。
此外提出，控制和/或调节单元具有至少一个感测设备、尤其是前面提到的感测设备，该感测设备设置成用于记录至少一个介质涂覆过程。控制和/或调节单元尤其具有涂覆系统的主要计算功率、优选涂覆系统的计算功率的至少60％、特别优选涂覆系统的计算功率的至少75％并且完全特别优选涂覆系统的计算功率的至少90％。在将控制和/或调节单元构型为外部控制和/或调节单元时可以有利地实现成本有利的介质涂覆设备，尤其因为介质涂覆设备可以配备有成本有利的计算单元。优选地，可以将至少一个用户的个人数据、尤其是属于介质涂覆项目的数据存储在控制和/或调节单元的存储器单元中和/或借助于控制和/或调节单元管理。优选地，将关于用于制成介质涂覆部的介质的信息存储在控制和/或调节单元的存储器单元中和/或借助于控制和/或调节单元管理。
优选地，感测元件设置成用于，记录、尤其是拍摄介质涂覆过程。优选地，感测元件为了拍摄介质涂覆过程构造为摄像机。尤其地，感测设备可以具有两个感测元件，其中，第一感测元件设置成用于感测介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向，并且其中，第二感测元件设置成用于记录介质涂覆过程。优选地，可以加工介质涂覆过程的记录。例如可以考虑，录像步骤是可以实施的，记录的延时是可完成的，记录可以提供在互联网平台上等。有利地，可以记载介质涂覆过程。优选地，感测设备的感测元件中的至少一个感测元件可以设置成用于感测布置在介质容器上的机器可读的编码、尤其是QR码、条形码等并且根据所感测的机器可读的编码将信息存储在控制和/或调节单元的存储器单元中，尤其是以下信息：所感测的介质用于制成介质涂覆部。有利地，可以实施介质涂覆部的产生。有利地，可以根据介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向自动地触发到所述表面上的介质输出。有利地，能够实现舒适的和能实施的介质涂覆过程。
此外提出，涂覆系统包括至少一个服务器单元，该服务器单元设置成用于，将至少用于功能性扩展的至少一个功能提供给介质涂覆设备和/或控制和/或调节单元。优选地，服务器单元构造为具有至少一个存储器单元和至少一个存储在存储器单元中的应用程序的计算机。尤其地，服务器单元与网络、优选与互联网连接。优选地，介质涂覆设备和/或控制和/或调节单元可以尤其借助于通信单元与服务器单元交换电子数据。尤其地，介质涂覆设备可以借助于服务器单元至少部分地通过互联网控制和/或调节。优选地，服务器单元设置成用于存储电子数据。尤其地，可以将借助于介质涂覆设备要制成的介质涂覆部的电子模型存储在服务器单元的存储器单元中，尤其用于确保和/或提供用于其他用户的模型。优选地，服务器单元设置成用于提供电子采购区域。尤其地，可以在电子采购区域中下载电子模型，订购用于介质涂覆设备的介质和/或附件，在任务中尤其通过专业代理加工、尤其是再加工电子模型，在任务中打印电子模型，提供介质涂覆的制成和/或提供其他本领域技术人员认为有意义的功能。优选地，可以在电子采购区域中订购尤其由用户构型的喷涂模板。优选地，喷涂模板可以借助于控制和/或调节单元构型。尤其地，所购买的用于介质涂覆设备的介质和/或附件使用于制成介质涂覆部的的信息可以存储在控制和/或调节单元的存储器单元中。优选地，可以通过电子采购区域提供供应用于介质涂覆设备的介质和/或附件的商人的至少一个列表。优选地，服务器单元设置成用于提供尤其用于与介质涂覆设备的其他用户和/或介质涂覆设备的制造者的公共区域。尤其地，公共区域可以具有聊天功能、尤其是视频聊天功能、语音聊天功能和/或文字聊天功能。有利地，相比于没有服务器单元的涂覆系统可以提供涂覆系统的扩宽的功能范围。有利地，能够实现与其他用户、商人和/或制造者的通信。有利地，能够实现涂覆系统的舒适的使用经历。
此外，本发明涉及一种涂覆系统、尤其是根据本发明的涂覆系统，该涂覆系统具有至少一个介质涂覆设备、尤其是至少一个根据本发明的介质涂覆设备，该介质涂覆设备具有用于将至少一个介质输出到至少一个表面上的至少一个介质输出单元和至少用于控制和/或调节所述至少一个介质输出单元的至少一个电子部件单元。
本发明提出，涂覆系统包括至少一个电子部件模块单元，该电子部件模块单元为了介质涂覆设备的充电之外(ladefremde)的功能扩展可以与电子部件单元电子地耦合。可以考虑，涂覆系统除了介质涂覆设备和电子部件模块单元之外附加地具有至少一个控制和/或调节单元、尤其是前面提到的控制和/或调节单元、至少一个画架和/或画布设备、尤其是前面提到的画架和/或画布设备、至少一个过滤器设备、尤其是前面提到的过滤器设备、至少一个增强现实设备、尤其是前面提到的增强现实设备和/或至少一个服务器单元、尤其是前面提到的服务器单元。电子部件模块单元尤其是可更换的单元，该单元包括至少一个电子构件、优选设置成用于不同电子构件在单个模块中的集中并且该单元优选可以无工具地与介质涂覆设备连接并且从介质涂覆设备松脱地构造。优选地，电子部件模块单元也可以与不同于介质涂覆设备的器具、例如工具机一起使用。电子部件模块单元尤其可以构造为控制和/或调节模块、如微控制器、集成电路等，构造为传感器模块、如湿度传感器、温度传感器、加速度传感器、陀螺传感器等，构造为定位模块、如照明元件、雷达发送器等，构造为输出模块、如状态LED、屏幕、扬声器等，构造为输入模块、如触摸屏幕、操作按钮、麦克风等，或者构造为其他本领域技术人员认为有意义的电子部件模块单元。优选地，电子部件模块单元构造为可更换的模块，该模块包括多个不同模块、尤其是上面列举的模块的功能。优选地，电子部件模块单元具有模块壳体单元，该模块壳体单元构造成尤其与介质涂覆设备的壳体可松脱地连接。尤其地，壳体可以具有用于将电子部件模块单元、尤其是模块壳体单元尤其机械地接合到介质涂覆设备上的接收单元。优选地，接收单元可以具有将电子部件模块单元尤其防丢地锁止在介质涂覆设备上和/或中的锁止机构。优选地，介质涂覆设备和电子部件模块单元包括电接触元件，所述电接触元件尤其设置成用于电子部件模块单元、尤其是电子部件模块单元的其他电子部件单元与介质涂覆设备、尤其是介质涂覆设备的电子部件单元的电子耦合。优选地，电接触元件在电子部件模块单元布置在介质涂覆设备上和/或中的位态中相互导电地连接。尤其地，可以通过电接触元件使电能、电信号和/或电子信号在电子部件模块单元和介质涂覆设备之间传递。优选地，可以借助于电子部件模块单元扩展介质涂覆设备的功能性。尤其地，电子部件模块单元设置成用于介质涂覆设备的功能扩展，该功能扩展超出介质涂覆设备的例如用于介质涂覆设备的能量存储器单元的充电的纯能量供给。优选地，为了介质涂覆设备的功能扩展，电子部件模块单元可以包括不同构件，所述构件尤其布置在模块壳体单元上和/或内部。
优选地，电子部件模块单元尤其为了所述构件以电能的能量供给而包括至少一个模块能量存储器单元。模块能量存储器单元尤其可以构造为蓄电池、电池、存储式电容器、电网供应装置或其他本领域技术人员认为有意义的模块能量存储器单元。尤其地，模块能量存储器单元可以附加地设置成用于介质涂覆设备的能量供给。优选地，可以取消介质涂覆设备的能量存储器单元。替代地可以考虑，介质涂覆设备的能量存储器单元设置成用于电子部件模块单元的能量供给。优选地，可以取消模块能量存储器单元。优选地，电子部件模块单元包括介质涂覆设备的至少一个另外的位置和/或表面传感器单元和/或至少一个另外的参照元件。尤其地，所述另外的位置和/或表面传感器单元至少基本上类似于介质涂覆设备的位置和/或表面传感器单元地构造。优选地，可以取消介质涂覆设备的位置和/或表面传感器单元。所述另外的介质涂覆设备的参照元件尤其至少基本上类似于介质涂覆设备的参照元件地构造。优选地，可以取消介质涂覆设备的参照元件。电子部件模块单元尤其可以具有另外的传感器单元、如湿度传感器、声学传感器、磁力计、温度传感器、日光传感器等。
优选地，电子部件模块单元包括用于至少与控制和/或调节单元和/或至少一个另外的外部单元交换电子数据的至少一个尤其无线的模块通信单元。尤其地，模块通信单元至少基本上类似于介质涂覆设备和控制和/或调节单元的通信单元地构造。优选地，可以取消介质涂覆设备的通信单元。优选地，电子部件模块单元具有用于控制和/或调节介质涂覆设备和/或电子部件模块单元的构件的至少一个电子部件单元。尤其地，电子部件模块单元的电子部件单元至少基本上类似于介质涂覆设备的电子部件单元地构造。优选地，电子部件模块单元的电子部件单元包括至少一个存储器单元、尤其是闪存和/或RAM存储器单元(随机存取存储器单元)。优选地，电子部件模块单元尤其为了电子部件模块单元的电子部件单元的功能和/或存储扩展具有至少一个存储扩展单元。存储扩展单元尤其可以构造为用于存储卡、如SD卡、微型SD卡、CF卡、XQD卡等的插槽、USB插槽或其他本领域技术人员认为有意义的存储扩展单元。尤其地，电子部件模块单元的电子部件单元可以控制和/或调节介质涂覆设备、尤其是介质涂覆设备的介质输出单元和电子部件模块单元的构件。优选地，可以取消介质涂覆设备的电子部件单元、尤其是介质涂覆设备的电子部件单元的控制和/或调节功能。替代地可以考虑，电子部件模块单元的电子部件单元仅设置成用于控制和/或调节电子部件模块单元的构件，并且介质涂覆设备的电子部件单元设置成用于控制和/或调节介质涂覆设备的构件、尤其是介质输出单元。
优选地，电子部件模块单元包括用于实现与用户的光学、声学和/或触觉的交互的至少一个用户交互单元。优选地，用户交互单元为了实现与用户的光学交互具有至少一个光学交互元件。优选地，光学交互元件构造为尤其用于状态信号功能的尤其可编程的照明元件、如彩色LED、屏幕或其他本领域技术人员认为有意义的光学交互元件。优选地，为了实现与用户的声学交互，用户交互单元具有至少一个声学交互元件、如扬声器、麦克风等。优选地，为了实现与用户的触觉交互，用户交互单元至少一个触觉交互元件、如尤其可编程的开关按钮、振动马达等。有利地，可以实现传感技术、通信、控制和/或调节、能量供给、参照元件和/或交互在单个尤其可跨越器具使用的电子部件模块单元中的集中。有利地，可以取消介质涂覆设备的成本高的构件并且提供成本有利的介质涂覆设备。
此外，本发明涉及一种用于运行涂覆系统、尤其是根据本发明的涂覆系统的方法。
本发明提出，尤其在至少一个方法步骤中，感测至少一个介质涂覆设备相对于至少一个表面的至少一个位置和/或定向和/或介质涂覆设备在至少一个三维空间中的至少一个绝对位置。有利地，可以感测介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向和/或介质涂覆设备在三维空间中的绝对位置。
此外，本发明涉及一种用于运行涂覆系统、尤其是根据本发明的涂覆系统的方法、尤其是前面提到的方法。
本发明提出，在至少一个方法步骤中至少一个基于像素的目标图像的至少一个模型分辨率换算成至少一个工作分辨率。优选地，基于像素的目标图像是可以通过用户选择的题材，该题材作为用于介质涂覆的模型使用并且该题材的模型分辨率以像素、例如1920乘1080像素说明。尤其地，介质输出单元基于点地工作，即题材作为介质的多个涂覆点、尤其是颜料点涂覆到所述表面上。尤其地，涂覆点具有最小要实现的直径，该直径优选可以与喷嘴元件有关。根据基于像素的目标图像的模型分辨率、在所述表面上的介质涂覆部的要达到的尺寸、在所述表面上的介质涂覆部的细化程度、由用户所期望的用于制成介质涂覆部的工作时间和/或其他本领域技术人员认为有意义的参数，可以需要基于像素的目标图像的模型分辨率到工作分辨率上的换算。优选地，参数可以由用户选择。替代地可以设想，尤其可以根据由涂覆系统的介质涂覆设备、控制和/或调节单元和/或其他单元感测的数据自动地调整参数。优选地，借助于控制和/或调节单元的计算单元实现基于像素的目标图像的模型分辨率到工作分辨率借上的换算。有利地，可以算出基于像素的目标图像的工作分辨率。有利地，尤其针对基于像素的目标图像的不同工作分辨率可以计算出用于制成介质涂覆部的预测的工作时间。
此外提出，在至少一个方法步骤中，在使用至少一个抖动算法和/或至少一个边缘平滑算法的情况下将基于像素的目标图像转换成至少一个基于涂覆点的目标图像。尤其地，将基于像素的目标图像在工作分辨率方面转换成基于涂覆点的目标图像。优选地，抖动算法和/或边缘平滑算法设置成用于，将基于像素的目标图像这样转化成基于涂覆点的目标图像，使得实现基于涂覆点的目标图像的协调的图像效果。优选地，抖动算法可以这样构造，使得尤其在基于涂覆点的目标图像的题材的边缘和/或外部边界上实现比基于涂覆点的目标图像的实际存在的分辨率更精细的痕迹(Eindruck)。尤其地，可以借助于抖动算法在题材的边缘和/或外部边界的区域中产生从高点分辨率至低点分辨率的变化。尤其地，可以借助于抖动算法在题材的边缘和/或外部边界的区域中产生从大数量使用的介质、尤其是颜料至小数量使用的介质、尤其是颜料的变化。
优选地，边缘平滑算法这样构造，使得尤其在基于涂覆点的目标图像的题材的边缘和/或外部边界上实现基于涂覆点的目标图像的协调的图像曲线的痕迹。尤其地，可以借助于边缘平滑算法使题材的边缘和/或外部边界的生硬的表现图像变平滑。尤其地，可以借助于边缘平滑算法至少减少在题材中的混叠效应。有利地，可以在转化成基于涂覆点的目标图像时至少部分地保持基于像素的目标图像的图像质量。
此外提出，尤其在至少一个方法步骤中，根据基于涂覆点的目标图像模拟至少一个误差图像并且显示给至少一个用户。优选地，在控制和/或调节单元的屏幕、介质涂覆设备的屏幕、增强现实设备的屏幕和/或其他本领域技术人员认为有意义的显示器具上将误差图像显示给用户。替代地或附加地可以考虑，尤其在模拟误差图像之前将基于涂覆点的目标图像显示给用户。优选地，在使用增强现实设备时可以将误差图像和/或基于涂覆点的目标图像虚拟地显示在要喷涂的表面上、尤其显示在计划介质涂覆的位置上。优选地，基于涂覆点的目标图像具有用于介质涂覆所期望的工作分辨率、用于介质涂覆所期望的尺寸、用于介质涂覆所期望的介质、尤其是颜料和/或逼真的点显示。尤其地，可以在尤其手动的介质涂覆期间出现相对于计算的基于涂覆点的目标图像的偏差。尤其地，所述偏差可能由于在介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向感测中的不准确性、由于用户的操作错误和/或由于其他本领域技术人员认为有意义的原因出现。优选地，可以将相对于基于涂覆点的目标图像的典型偏差考虑到基于涂覆点的目标图像中并且模拟误差图像。尤其地，误差图像显示具有所考虑的偏差的基于涂覆点的目标图像。有利地，借助于模拟的误差图像能够使用户实现预期的介质涂覆结果的比借助于基于涂覆点的目标图像更逼真的预览。
此外提出，尤其在至少一个方法步骤中，根据至少一个用户输入重新计算基于涂覆点的目标图像。尤其地，用户可以借助于用户输入实施基于涂覆点的目标图像的期望的改变。优选地，可以通过用户标记在基于涂覆点的目标图像的题材中的区域，在所述区域中期望题材的细化程度的增大或减小。尤其地，可以通过用户适配用于制成介质涂覆部的介质选择、尤其是颜料选择。尤其地，可以通过用户适配题材的尺寸。优选地，可以在重新计算基于涂覆点的目标图像时考虑通过用户进行的题材适配。优选地，根据通过用户进行的题材适配重新计算基于涂覆点的目标图像。有利地，能够使用户实现题材的个性化。
此外提出，尤其在至少一个方法步骤中，根据基于涂覆点的目标图像计算至少一个介质涂覆策略。介质涂覆策略尤其是用于介质涂覆过程的流程计划。尤其地，介质涂覆策略针对基于涂覆点的目标图像的每个介质涂覆点包括关于在所述表面上的输出位置、点尺寸和介质类型的信息。介质涂覆策略尤其包括要使用的介质的数量和关于要使用的介质的涂覆的顺序。优选地，介质涂覆策略用于控制和/或调节介质输出单元。优选地，介质涂覆策略包括至少一个面加工模式和至少一个细节加工模式。尤其地，在面加工模式中的介质涂覆策略中这样控制和/或调节介质输出单元，使得在尽可能短的持续时间中制成介质涂覆部。尤其地，在细节加工模式中的介质涂覆策略中这样控制和/或调节介质输出单元，使得尽可能精确地和/或详细地制成介质涂覆部。优选地，介质涂覆策略存储在控制和/或调节单元的存储器单元中和/或电子部件单元的存储器单元中。有利地，能够实现对于基于涂覆点的目标图像优化的介质涂覆过程。
此外提出，尤其在至少一个方法步骤中，存储至少一个介质涂覆设备相对于至少一个表面的至少一个感测的位置和/或定向以用于之后的使用、尤其用于在至少一个介质涂覆过程中断之后再发现开始点。尤其地，介质涂覆设备相对于所述表面的感测的位置和/或定向存储在控制和/或调节单元的存储器单元和/或电子部件单元的存储器单元中。优选地，介质涂覆设备相对于所述表面的所感测的位置和/或定向直接在感测之后被存储。优选地，介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向持久地尤其存储在控制和/或调节单元和/或电子部件单元的存储器单元的不可变的存储器中。优选地，存储介质涂覆设备相对于所述表面的至少一个最后感测的位置和/或定向。可以设想，存储介质涂覆设备相对于所述表面的所有位置和/或定向或仅存储介质涂覆设备相对于所述表面的最后感测的位置和/或定向并且在存介质涂覆设备相对于所述表面的当前的位置和/或定向时删除介质涂覆设备相对于所述表面的之前的位置和/或定向。
优选地，为了使用介质涂覆设备相对于所述表面的所存储的位置和/或定向可以访问介质涂覆设备相对于所述表面的存储的位置和/或定向。优选地，尤其在介质涂覆过程中断之后，可以根据介质涂覆设备相对于所述表面的所存储的位置和/或定向发现用于再拍摄介质涂覆过程的开始点。优选地，尤其在介质涂覆过程中断之前最后存储的介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向相应于用于再拍摄介质涂覆过程的开始点。有利地，能够实现无摩擦的介质涂覆过程。有利地，可以防止多重和/或错误涂覆。
此外，本发明涉及一种用于运行涂覆系统、尤其是根据本发明的涂覆系统的方法、尤其是前面提到的方法，该涂覆系统具有至少一个介质涂覆设备和至少一个控制和/或调节单元。
本发明提出，尤其在至少一个方法步骤中，至少为了识别介质输出单元和/或至少为了再建立介质输出单元的至少一个工作状态读取至少一个介质输出单元的至少一个特定标志。优选地，所述标志由电子部件单元提供。优选地，所述标志由控制和/或调节单元读取。优选地，在介质涂覆过程中断时将介质输出单元的工作状态、尤其是介质涂覆的进展、所选择的介质输出单元的调整和/或最后感测的介质输出单元相对于所述表面的位置和/或定向与介质输出单元的特定标志一起尤其存储在电子部件单元和/或控制和/或调节单元的存储器单元中。尤其地，可以根据特定标志再建立适配于介质输出单元的工作状态。有利地，可以在介质涂覆过程中断之后使介质涂覆过程以介质输出单元的和中断之前相同的调整并且在介质输出单元相对于所述表面的和中断之前相同的位置上继续。有利地，能够实现舒适的介质涂覆过程。
此外提出，尤其在至少一个方法步骤中，同时控制和/或调节至少一个介质涂覆设备和至少一个另外的外部单元、尤其是另外的介质涂覆设备。优选地，由控制和/或调节单元、尤其是单个控制和/或调节单元同时控制和/或调节介质涂覆设备和所述另外的外部单元。尤其地，可以借助于单个控制和/或调节单元的感测设备同时感测多个介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向。有利地，能够同时通过多个用户实现介质涂覆部的舒适的共同的制成。
此外提出，尤其在至少一个方法步骤中，根据控制和/或调节单元的至少一个特定于环境的特征参量和/或根据至少一个用户可选择的特征参量获得至少一个要制成的题材并且显示给至少一个用户。控制和/或调节单元的特定于环境的特征参量尤其构造为控制和/或调节单元的环境的特征参量。优选地，控制和/或调节单元的环境包括所述表面和另外的、尤其静止的、围绕控制和/或调节单元的物体。尤其地，在内室中使用控制和/或调节单元的情况下布置在内室中的物体、如家具、墙、门或类似物可以形成围绕控制和/或调节单元的环境。尤其地，在外部区域中使用控制和/或调节单元的情况下布置在外部区域中的物体、如树、房屋或类似物可以形成围绕控制和/或调节单元的环境。控制和/或调节单元的特定于环境的特征参量尤其可以构造为控制和/或调节单元的环境的特性、控制和/或调节单元的环境的尺寸、控制和/或调节单元的环境的颜色或其他本领域技术人员认为有意义的特定于环境的特征参量。优选地，用户可选择的特征参量构造为要制成的介质涂覆部的特征参量，该特征参量可以通过用户选择。用户可选择的特征参量尤其可以构造为要制成的介质涂覆部的颜色、要制成的介质涂覆部的尺寸、用于制成要制成的介质涂覆部预测所需的时间或其他本领域技术人员认为有意义的用户可选择的特征参量。优选地，通过控制和/或调节单元获得适配于特定于环境的特征参量和/或用户可选择的特征参量的要制成的题材。优选地，将要制成的题材尤其借助于控制和/或调节单元的输出单元、如屏幕、投影仪等显示给用户。替代地可以考虑，将要制成的题材尤其借助于控制和/或调节单元的通信单元传递给外部输出单元、如外部屏幕、外部投影仪等并且将要制成的题材尤其借助于外部输出单元显示给用户。优选地，可以将要制成的题材与控制和/或调节单元的环境的图像和/或控制和/或调节单元的环境本身尤其按正确比例地叠加。有利地，可以自动地获得适配于控制和/或调节单元的环境和/或用户的期望的要制成的题材。有利地，能够使用户实现对于期待的介质涂覆部的预览。有利地，在介质涂覆过程的准备阶段中已经可以使用户实现涂覆系统的舒适的使用经历。
此外提出，尤其在至少一个方法步骤中，由至少一个目标图像、尤其是目标题材提取出至少一个目标图像的外边缘以用于涂覆。优选地，目标图像、尤其是题材是可以通过用户选择的题材，该题材用作为用于介质涂覆部的模型。目标图像的外边缘尤其是目标图像在尤其通过用户可选择的厚度中的轮廓。优选地，目标图像的所提取的外边缘用作为新的目标图像。尤其地，根据介质涂覆设备相对于所述表面的位置和/或定向控制和/或调节地仅仅将目标图像的外边缘涂覆到所述表面上。优选地，可以通过用户徒手地进行介质涂覆部在涂覆到所述表面上的外边缘内部的制成。有利地，能够实现创造性的、特定的和舒适的介质涂覆过程。
此外提出，尤其在至少一个方法步骤中，借助于控制和/或调节单元提供与至少一个另外的用户和/或商人的信息和/或商品交换。优选地，可以借助于控制和/或调节单元访问服务器单元的电子采购区域和/或公共区域。优选地，可以借助于控制和/或调节单元在电子采购区域中展开与另外的用户和/或商人的商品交换、尤其是商品出售和/或商品购买。优选地，可以借助于控制和/或调节单元在公共区域中实施与另外的用户和/或商人的信息交换。有利地，可以取消用于与另外的用户和/或商人的信息和/或商品交换的其他单元。有利地，可以提供成本有利的和能舒适使用的涂覆系统。
此外提出，尤其在至少一个方法步骤中，基于至少一个用户的验证激活介质涂覆设备和/或控制和/或调节单元的操作。尤其地，用户可以通过特定于用户的特征参量的感测来验证。优选地，特定于用户的特征参量借助于介质涂覆设备的用户识别单元来感测。替代地或附加地可以考虑，控制和/或调节单元具有另外的用户识别单元、如指纹扫描器、虹膜扫描器、密码输入区等以用于感测特定于用户的特征参量。有利地，可以提供被保护的涂覆系统，尤其用于涂覆系统的安全的和舒适的使用经历。
在这里，根据本发明的介质涂覆设备、根据本发明的涂覆系统和/或根据本发明的方法不应该限制于上面所描述的应用和实施方式。尤其地，根据本发明的介质涂覆设备、根据本发明的涂覆系统和/或根据本发明的方法为了满足这里所述的功能性具有不同于各个元件、构件和单元以及方法步骤的这里提到的数量的数量。此外，在该公开中说明的数值范围中，位于所提到的界限内部的值也应视为公开并且可以任意使用。
附图说明
其他优点由下面的附图说明得出。在附图中示出本发明的五个实施例。附图、说明书和权利要求包含组合的多个特征。本领域技术人员也符合目的地单独观察所述特征并且总结成有意义的其他组合。
在附图中：
图1以立体示图示出根据本发明的介质涂覆设备，
图2a以示意性剖示图示出图1中的根据本发明的介质涂覆设备，
图2b以立体示图示出图1中的根据本发明的介质涂覆设备的替代的喷嘴单元的一部分的爆炸视图，
图3以立体示图示出控制和/或调节单元，
图4以另外的立体示图示出图3中的控制和/或调节单元，
图5以示意性示图示出根据本发明的涂覆系统，
图6以示意性示图示出节拍同步的过程，
图7以示意性示图示出开始时间触发的过程，
图8以立体示图示出画架和/或画布设备，
图9以立体示图示出增强现实设备，
图10以示意性示图示出替代的根据本发明的涂覆系统，
图11以另外的示意性示图示出图10中的替代的根据本发明的涂覆系统，
图12以立体示图示出替代的根据本发明的介质涂覆设备，
图13以示意性剖示图示出图12中的替代的根据本发明的介质涂覆设备，
图14以示意性示图示出具有图12中的替代的根据本发明的介质涂覆设备的另外的替代的根据本发明的涂覆系统，
图15以立体示图示出另外的替代的根据本发明的介质涂覆设备，
图16以示意性剖示图示出图15中的另外的替代的根据本发明的介质涂覆设备，
图17以立体示图示出替代的控制和/或调节单元，
图18以另外的立体示图示出图17中的替代的控制和/或调节单元，
图19以示意性示图示出具有图15中的另外的替代的根据本发明的介质涂覆设备和图17中的替代的控制和/或调节单元的另外的替代的根据本发明的涂覆系统，
图20以立体示图示出另外的替代的根据本发明的介质涂覆设备，和
图21以示意性剖示图示出图20中的另外的替代的根据本发明的介质涂覆设备。
具体实施方式
图1以立体示图示出介质涂覆设备10a。介质涂覆设备10a构造为手持的颜料涂覆设备。介质涂覆设备10a具有壳体38a。壳体38a由塑料形成。替代地可以设想，壳体38a由金属形成。壳体38a具有头部区域72a和接收区域74a。头部区域72a和接收区域74a一件式地构造。在头部区域42a中布置有对于介质涂覆设备10a的运行必需的构件。接收区域74a构造为一半的空心柱体。接收区域74a这样成形，使得隐含示出的、包含要涂覆的介质的容器76a在装配在介质涂覆设备10a上的状态中由接收区域74a部分地包围。容器76a构造为介质箱。介质构造为颜料介质。所述介质构造为喷漆。
壳体38a在头部区域72a上并且与接收区域74a连接地具有接合和/或固定单元78a。接合和/或固定单元78a设置用于在介质涂覆设备10a上接收容器76a。接合和/或固定单元78a具有用于紧固容器76a的适配器钩元件80a(参见图2a)。
介质涂覆设备10a具有用于将控制和/或调节单元22a固定在介质涂覆设备10a上的固定单元54a。固定单元54a布置在壳体38a的头部区域72a上。固定单元54a可柔性调整地构造。固定单元54a具有两个可校准的固定元件82a以用于接收具有不同的壳体形状和/或尺寸的不同的控制和/或调节单元。控制和/或调节单元22a可以夹紧在固定元件82a之间。
在壳体38a的头部区域72a上布置有介质涂覆设备10a的参照元件34a。介质涂覆设备10a的参照元件34a对于未进一步示出的用户36a无眩光地构造。介质涂覆设备10a的参照元件34a构造为发射辐射的照明元件，该照明元件发射电磁谱的蓝色频谱范围中的电磁辐射。介质涂覆设备10a的参照元件34a构造为蓝色发光二极管。替代地可以设想，介质涂覆设备10a的参照元件34a发射来自对于人眼不可见的频谱范围中的辐射，照明元件设置成用于脉冲式地发射辐射，或者介质涂覆设备10a的参照元件34a构造为无辐射的编码元件。
在壳体38a的头部区域72a上布置有介质涂覆设备10a的防眩光元件40a。防眩光元件40a由不透光的塑料形成。防眩光元件40a与壳体38a一件式地构造。防眩光元件40a构造为遮盖部。防眩光元件40a部分地遮盖介质涂覆设备10a的参照元件34a。介质涂覆设备10a的参照元件34a部分地布置在防眩光元件40a内部。防眩光元件40a设置成用于屏蔽由介质涂覆设备10a的参照元件34a发出的辐射以保护用户36a不受影响。
在壳体38a的头部区域72a上布置有介质涂覆设备10a的输出单元84a。输出单元84a构造为介质涂覆设备10a的用户界面198a。输出单元84a构造为屏幕。输出单元84a构造为触摸屏幕。输出单元84a与壳体38a齐平地装入头部区域72a中。输出单元84a设置用于将信息输出给用户36a和/或用于通过用户36a输入指令。
图2a以示意性剖示图示出图1中的介质涂覆设备10a。示出头部区域72a、具有适配器钩元件80a的接合和/或固定单元78a和接收区域74a的一部分。在头部区域72a上布置有介质涂覆设备10a的参照元件34a和防眩光元件40a和具有固定元件82a的固定单元54a。在壳体38a内部在接收区域74a中布置有介质涂覆设备10a的能量供给单元86a。能量供给单元86a设置成用于，为了介质涂覆设备10a的运行给介质涂覆设备10a的介质输出单元12a供应以电能。能量供给单元86a构造为蓄电池。
介质输出单元12a在壳体38a内部布置在头部区域72a中。介质输出单元12a包括喷嘴单元44a和介质供应单元88a。喷嘴单元44a具有喷嘴元件46a。喷嘴元件46a管形地构造。在当前实施例中，喷嘴单元44a附加地具有阀元件90a。然而原则上可以设想，喷嘴单元44a不包括阀元件90a。喷嘴元件46a可旋转地支承在壳体38a中。喷嘴元件46a与介质涂覆设备10a的参照元件34a布置在同一排中。喷嘴元件46a设置成用于将介质输出到未进一步示出的表面14a上。喷嘴元件46a和介质涂覆设备10a的参照元件34a沿着单个假想的直线布置，所述直线在喷嘴元件46a相对于所述表面14a至少基本上垂直的介质输出方向102a中至少基本上垂直于所述表面14a地走向。喷嘴元件46a为了输送介质通过喷嘴单元44a的管路元件92a与阀元件90a连接。替代地可以考虑，喷嘴单元44a仅包括喷嘴元件46a和管路元件92a。阀元件90a设置成用于，使介质流经喷嘴元件46a。
介质输出单元12a具有用于将介质供应至阀元件90a的介质供应单元88a。替代地可以设想，介质供应单元88a设置用于将介质直接供应至喷嘴元件46a。介质供应单元88a包括介质供应元件94a和适配器元件96a，该介质供应元件与阀元件90a连接。替代地可以考虑，介质供应元件94a与喷嘴元件46a或与管路元件92a连接。适配器元件96a与介质供应元件94a连接并且设置成用于，建立与出于概要性原因未示出的容器76a的连接。适配器元件96a设置成用于将介质从容器76a引导至介质供应元件94a。替代地可以考虑，构造为穿孔的超声薄板的喷嘴元件46a至少部分集成到容器76a中地构造。
在壳体38a内部并且安装在介质涂覆设备10a的支撑元件98a上地布置有介质涂覆设备10a的电子部件单元16a。电子部件单元16a构造为具有未进一步示出的处理器单元和未进一步示出的存储器单元的电路板。电子部件单元16a设置成用于，控制和/或调节介质输出单元12a。电子部件单元16a由能量供给单元86a供给以电能。
介质涂覆设备10a具有通信单元58a。通信单元58a布置在壳体38a内部。通信单元58a构造为无线的通信单元。通信单元58a构造为蓝牙模块。替代地可以设想，通信单元58a构造为无线电模块、基于光的通信单元或线缆连接的通信单元。通信单元58a尤其设置成用于以小于30ms的延迟时间、优选以20ms的延迟时间并且特别优选以小于10ms的延迟时间进行数据传递。在借助于介质涂覆设备10a的位置和/或表面传感器单元18a和控制和/或调节单元22a的感测设备24a进行介质输出单元12a相对于所述表面14a的同时的位置和/或定向感测时可以考虑，通信单元58a设置成用于以小于100ms的延迟时间进行数据传递。通信单元58a设置成用于与控制和/或调节单元22a和/或另外的外部单元加密地交换电子数据。通信单元58a具有至少一个加密和/或解密元件(这里未进一步示出)。加密和/或解密元件设置成用于要发送的电子数据的加密和接收的电子数据的解密。加密和/或解密元件设置成用于要发送的电子数据的对称的和/或不对称的加密。加密和/或解密元件构造为微处理器或其他本领域技术人员认为有意义的加密和/或解密元件。
介质涂覆设备10a具有位置和/或表面传感器单元18a。位置和/或表面传感器单元18a具有位置和/或表面传感器元件100a，该位置和/或表面传感器元件在壳体38a的外侧上布置在头部区域72a上。位置和/或表面传感器元件100a沿喷嘴元件46a的介质输出方向102a的方向定向。位置和/或表面传感器元件100a构造为摄像机。替代地可以设想，位置和/或表面传感器元件100a构造为光学的或机械的鼠标传感器、激光扫描器、飞行时间摄像机、雷达传感器、按键或超声传感器。位置和/或表面传感器单元18a设置成用于，感测介质输出单元12a相对于所述表面14a的位置和/或定向。构造为摄像机的位置和/或表面传感器元件100a可以通过测量光流感测介质输出单元12a相对于所述表面14a的位置和/或定向。电子部件单元16a设置成用于，根据由位置和/或表面传感器单元18a感测的介质输出单元12a相对于所述表面14a的位置和/或定向控制和/或调节介质输出单元12a。
位置和/或表面传感器单元18a设置成用于，感测所述表面14a的特定于表面的特征参量，该特征参量可以由电子部件单元16a分析处理以用于确定介质输出单元12a的取向。替代地可以设想，介质涂覆设备10a具有用于感测表面14a的特定于表面的特征参量的另外的位置和/或表面传感器单元。此外可以考虑，介质涂覆设备10a在替代的构型中与位置和/或表面传感器单元18a无关地构造，该位置和/或表面传感器单元设置成用于感测介质输出单元12a相对于所述表面14a的位置和/或定向，电子部件单元16a根据该位置和/或定向控制和/或调节介质输出单元12a。优选地，介质涂覆设备10a在替代的构型中包括位置和/或表面传感器单元，该位置和/或表面传感器单元设置成用于感测所述表面14a的特定于表面的特征参量，该特征参量可以由电子部件单元16a分析处理以用于确定介质输出单元12a的取向。
表面14a可以在确定的区域中具有表面14a的显眼的边缘、表面14a的显眼的结构、表面14a的显眼的颜色、表面14a的确定的密度、表面14a的确定的材料类型、表面14a的确定的粗糙度、表面14a的确定的介质接收特性或类似物作为特定于表面的特征参量，所述特征参量可以由位置和/或表面传感器元件100a感测。电子部件单元16a设置成用于，分析处理所述表面14a的所感测的特定于表面的特征参量以用于确定介质输出单元12a的取向。电子部件单元16a可以为了提高精度将特定于表面的特征参量考虑到介质输出单元12a的位置和/或定向感测中。
位置和/或表面传感器单元18a设置成用于，感测介质输出单元12a的运动特征参量。位置和/或表面传感器单元18a为了感测介质输出单元12a的运动特征参量具有运动传感器元件104a。运动传感器元件104a在壳体38a内部布置在接收区域74a上。运动传感器元件104a构造为速度传感器。运动传感器元件104a设置成用于，感测介质输出单元12a的构造为运动速度和运动方向的运动特征参量。电子部件单元16a设置成用于，根据所感测的介质输出单元12a的运动特征参量预先计算出介质输出单元12a相对于所述表面14a的位置和/或定向。
位置和/或表面传感器单元18a设置成用于，根据围绕介质输出单元12a的环境的参照元件感测介质输出单元12a相对于所述表面14a的位置和/或定向。围绕介质输出单元12a的环境的参照元件可以构造为存在的或安置的参照元件。围绕介质输出单元12a的环境的参照元件类似于介质涂覆设备10a的环境的参照元件26a、28a、30a、32a地构造(参见图5)。电子部件单元16a设置成用于，取决于根据围绕介质输出单元12a的环境的参照元件所感测的、介质输出单元12a相对于所述表面14a的位置和/或定向控制和/或调节介质输出单元12a。
介质涂覆设备10a具有对象传感器单元106a。对象传感器单元106a在壳体38a的外侧上布置在接收区域74a上。对象传感器单元106a沿喷嘴元件46a的介质输出方向102a的方向定向。对象传感器单元106a设置成用于，感测特定于对象的特征参量。电子部件单元16a设置成用于，根据所感测的特定于对象的特征参量控制和/或调节介质输出单元12a。特定于对象的特征参量可以构造为所述表面14a的材料、结构、特性、温度或湿度。特定于对象的特征参量可以构造为用于制成介质涂覆部所使用的介质、涂覆厚度或在介质涂覆部中的不均匀性。对象传感器单元106a构造为超声扫描器。替代地可以设想，对象传感器单元106a构造为摄像机、激光雷达器或雷达器。
介质涂覆设备10a具有环境传感器单元108a。环境传感器单元108a在壳体38a的外侧上布置在头部区域72a上。环境传感器单元108a设置成用于，感测特定于环境的特征参量、如围绕介质输出单元12a的环境的环境温度、环境空气湿度或环境亮度。环境传感器单元108a构造为温度传感器。替代地可以设想，环境传感器单元108a构造为空气湿度传感器或亮度传感器。电子部件单元16a设置成用于，根据所感测的特定于环境的特征参量控制和/或调节介质输出单元12a。
介质涂覆设备10a具有用户识别单元110a。用户识别单元110a在壳体38a的外侧上布置在头部区域72a上。用户识别单元110a设置成用于，感测和/或处理特定于用户的特征参量、如用户36a的生物统计数据和/或用户36a的密码并且根据特定于用户的特征参量识别用户36a。用户识别单元110a构造为指纹扫描器。替代地可以设想，用户识别单元110a构造为虹膜扫描器、用于脸部识别的摄像机和用于密码的输入区。
介质涂覆设备10a具有介质传感器单元112a。介质传感器单元112a在壳体38a内部布置在介质供应元件94a上。介质传感器单元112a设置成用于，感测特定于介质的特征参量、如介质类型、介质量或介质粘度。介质传感器单元112a构造为颜色传感器。替代地可以设想，介质传感器单元112a构造为填充高度传感器或化学分析传感器。电子部件单元16a设置成用于，根据所感测的特定于介质的特征参量控制和/或调节介质输出单元12a。
介质涂覆设备10a具有参照元件产生单元42a。参照元件产生单元42a在壳体38a的外侧上布置在头部区域72a上。参照元件产生单元42a沿喷嘴元件46a的介质输出方向102a的方向定向。参照元件产生单元42a设置成用于，产生介质涂覆设备10a的环境的参照元件26a、28a。参照元件产生单元42a构造为激光投影仪。替代地可以设想，参照元件产生单元42a构造为激光笔或视频投影仪。构造为激光投影仪的参照元件产生单元42a可以借助于激光射束将介质涂覆设备10a的环境的参照元件26a、28a投影到所述表面14a。参照元件产生单元42a可以通过激光射束在表面14a上的扫描来投影介质涂覆设备10a的环境的参照元件26a、28a。作为介质涂覆设备10a的环境的参照元件26a、28a可以产生QR码、条形码或颜色码。替代地可以设想，参照元件产生单元42a构造为另外的介质输出单元，该另外的介质输出单元可以将介质涂覆设备10a的环境的参照元件26a、28a借助于介质涂覆到所述表面14a上。参照元件产生单元42a也可以集成到存在的介质输出单元12a中。
优选地，介质涂覆设备10a设置成用于使用在根据图5中示出的实施例的、尤其具有控制和/或调节单元22a的涂覆系统20a中。但也可以考虑，介质涂覆设备10a可以使用在根据在图14中示出的实施例的、尤其具有控制和/或调节单元22c的涂覆系统20c和/或根据在图19中示出的实施例的、尤其具有控制和/或调节单元22d的涂覆系统20d中。
图2b以立体示图示出替代的喷嘴单元44a’的一部分的爆炸视图。喷嘴单元44a’包括喷嘴元件46a’。喷嘴元件46a’构造为超声喷嘴。喷嘴元件46a’构造为穿孔的超声薄板。喷嘴单元44a’包括压电促动器200a’。压电促动器200a’构造为压电环。喷嘴元件46a’为了将介质输出到所述表面14a上可以借助于压电促动器200a’振动地激励。喷嘴元件46a’可以激励出在超声频率范围中的振动。喷嘴元件46a’具有多个介质穿透开口202a’，通过所述介质穿透开口可以施撒介质。介质穿透开口202a’构造为作为超声薄板构造的喷嘴元件46a’的穿孔或孔洞。喷嘴元件46a’尤其设置成用于以每秒至少50个介质涂覆点的输出频率、优选以每秒至少100个介质涂覆点的输出频率并且特别优选以每秒至少200个介质涂覆点的输出频率输出、尤其印刷介质涂覆点。压电促动器200a’尤其设置成用于以至少1kHz的激励频率、优选以至少16kHz的激励频率、特别优选以至少20kHz的激励频率并且完全特别优选以至少130kHz的激励频率振动地激励喷嘴元件46a’。尤其地，压电促动器200a’设置成用于以最高200kHz的激励频率振动地激励喷嘴元件46a’。压电促动器200a’设置成用于以预先确定的、优选可调整的波形、例如以正弦波形、以三角波形、以锯齿波形或以另外的本领域技术人员认为有意义的波形振动地激励喷嘴元件46a’。
喷嘴元件46a’具有介质穿透开口202a’的至少一个穿孔网栅204a’，该穿孔网栅这样构造，使得借助于喷嘴单元44a’可以产生介质涂覆点，所述介质涂覆点具有大于1mm的最大直径。穿孔网栅204a’可以尤其根据介质涂覆点的要产生的形状而具有不同的形状。在当前实施例中，穿孔网栅204a’例如多边形地、尤其六边形地构造。替代地可以考虑，穿孔网栅204a’圆形地、椭圆形地、卵形地、多边形地、如方形地、菱形地、三角形地或梯形地、半圆形等地构造。尤其地，喷嘴元件46a’具有介质穿透开口202a’的每平方毫米至少1个介质穿透开口202a’、优选每平方毫米至少5个介质穿透开口202a’、特别优选每平方毫米至少10个介质穿透开口202a’并且完全特别优选每平方毫米至少20个介质穿透开口202a’的密度。尤其地，设置用于介质的喷射输出和/或雾化的喷嘴单元44a’可以包括构造为超声薄板的喷嘴元件46a’，该喷嘴元件具有介质穿透开口202a’的每平方毫米至少80个介质穿透开口202a’的密度。尤其地，喷嘴元件46a’具有至少50个介质穿透开口202a’、优选至少75个介质穿透开口202a’并且特别优选至少100个介质穿透开口202a’。尤其地，喷嘴元件46a’具有至少1mm、优选至少2mm并且特别优选至少3mm的最大直径。构造为超声薄板的喷嘴元件46a’设置成用于输出基于水的颜料、尤其是基于水的丙烯酸类漆。尤其地，介质涂覆设备10a可以具有用于调整颜料相对于水的混合比例的至少一个混合器单元和/或腔系统。
图3以立体示图示出控制和/或调节单元22a。示出的是控制和/或调节单元22a的后侧114a。控制和/或调节单元22a构造为智能手机。控制和/或调节单元22a具有壳体单元116a。壳体单元116a由金属形成。替代地可以设想，壳体单元116a由玻璃或塑料形成。
控制和/或调节单元22a具有另外的通信单元60a。所述另外的通信单元60a布置在壳体单元116a内部。所述另外的通信单元60a构造为无线的通信单元。所述另外的通信单元60a构造为蓝牙模块。替代地可以设想，所述另外的通信单元60a构造为无线模块、基于光的通信单元或线缆连接的通信单元。所述另外的通信单元60a尤其设置成用于以小于30ms的延迟时间、优选以小于20ms的延迟时间并且特别优选以小于10ms的延迟时间进行数据传递。所述另外的通信单元60a设置成用于以未进一步示出的介质涂覆设备10a和/或另外的外部单元进行电子数据的加密交换。所述另外的通信单元60a具有至少一个加密和/或解密元件(这里未进一步示出)。加密和/或解密元件设置成用于待发送的电子数据的加密并且用于接收的电子数据的解密。加密和/或解密元件设置成用于待发送的电子数据的对称的和/或不对称的加密。加密和/或解密元件构造为微处理器或其他本领域技术人员认为有意义的加密和/或解密元件。
控制和/或调节单元22a具有感测设备24a。感测设备24a设置成用于，根据介质涂覆设备10a的环境的参照元件26a、28a、30a、32a和/或根据介质涂覆设备10a的参照元件34a感测介质涂覆设备10a相对于所述表面14a的位置和/或定向。为了感测参照元件26a、28a、30a、32a、34a，感测设备24a具有摄像机单元48a。摄像机单元48a在控制和/或调节单元22a的后侧114a上布置在壳体单元116a上。摄像机单元48a构造为在图像分辨率为1920乘1080像点时具有每秒240个图像的图像拍摄频率的摄像机。摄像机单元48a构造为在图像分辨率为1280乘720像点时具有每秒480个图像的图像拍摄频率的摄像机。替代地或附加地可以设想，感测设备24a为了感测参照元件26a、28a、30a、32a、34a具有构造为光学传感器、电磁传感器或声学传感器的感测元件。
感测设备24a包括间距传感器单元52a。间距传感器单元52a在控制和/或调节单元22a的后侧114a上布置在壳体单元116a上。间距传感器单元52a设置成用于，感测控制和/或调节单元22a相对于所述表面14a的间距。间距传感器单元52a构造为具有VCSEL二极管的激光距离测量器。替代地可以设想，间距传感器单元52a构造为3D摄像机。
控制和/或调节单元22a具有转向单元50a。转向单元50a设置成用于，使数据转向以用于通过感测设备24a进行位置和/或定向感测。出于概要性，转向单元50a部分透明地示出。转向单元50a在控制和/或调节单元22a的后侧114a上布置在壳体单元116a上。转向单元50a与摄像机单元48a连接。替代地或附加地可以考虑，转向单元50a与间距传感器单元52a连接。转向单元50a沿着控制和/或调节单元22a的后侧114a并且围绕控制和/或调节单元22a的边缘118a延伸。转向单元50a构造为角形透镜。替代地可以设想，转向单元50a构造为潜望镜式的镜和/或棱镜设计或纤维光学元件。构造为角形透镜的转向单元50a包括未进一步示出的镜、棱镜和透镜。转向单元50a将图像从控制和/或调节单元22a的背离控制和/或调节单元22a的后侧114a的一侧反射到摄像机单元48a中以用于进行感测。
控制和/或调节单元22a具有投影单元56a。投影单元56a在控制和/或调节单元22a的后侧114a上布置在壳体单元116a上。投影单元56a设置成用于，将取向点和/或网栅投影到表面14a上。投影单元56a构造为激光投影仪。替代地可以设想，投影单元56a构造为激光笔或视频投影仪。构造为激光投影仪的投影单元56a可以借助于激光射束将激光点作为取向点或将构造为光图案的网栅投影到表面14a上。投影单元56a可以通过激光射束的激光点在所述表面14a上的扫描来投影网栅。取向点和网栅设置成用于在介质涂覆过程期间用户36a在所述表面14a上的取向。
控制和/或调节单元22a包括斜度传感器单元120a。斜度传感器单元120a布置在壳体单元116a内部。斜度传感器单元120a设置成用于，感测感测设备24a相对于所述表面14a的斜度并且补偿所感测的斜度。斜度传感器单元120a为了感测感测设备24a相对于所述表面14a的斜度具有未进一步示出的斜度感测元件。斜度感测元件构造为斜度传感器。斜度传感器单元120a为了补偿所感测的斜度具有未进一步示出的斜度补偿元件。斜度补偿元件构造为微处理器。斜度补偿元件可以根据感测设备24a的所感测的斜度计算出借助于倾斜的感测设备24a感测的、介质涂覆设备10a相对于所述表面14a的位置和/或定向的偏移。
图4以另外的立体示图示出图3中的控制和/或调节单元22a。示出的是控制和/或调节单元22a的前侧122a。
控制和/或调节单元22a具有另外的输出单元124a。所述另外的输出单元124a设置成用于将信息输出给用户36a和/或用于通过用户36a输入指令。所述另外的输出单元124a包括第一输出元件126a和第二输出元件128a。第一输出元件126a构造为屏幕。第一输出元件126a构造为触摸屏幕。第二输出元件128a构造为扬声器。第一输出元件126a和第二输出元件128a齐平地装入到壳体单元116a中。
控制和/或调节单元22a包括未进一步示出的计算单元和未进一步示出的存储器单元。计算单元和存储器单元布置在壳体单元116a内部。计算单元构造为微处理器。存储器单元构造为SSD存储器(固态驱动存储器)。
优选地，控制和/或调节单元22a设置成用于使用在根据图5中示出的实施例的、尤其具有介质涂覆设备10a的涂覆系统20a中。但也可以考虑，控制和/或调节单元22a可以使用在根据图10中示出的实施例的、尤其具有介质涂覆设备10b的涂覆系统20b中，使用在根据图14中示出的实施例的、尤其具有介质涂覆设备10c的涂覆系统20c中，使用在根据图19中示出的实施例的、尤其具有介质涂覆设备10d和/或根据图20中示出的实施例的介质涂覆设备10e的涂覆系统20d中。
图5以示意性示图示出涂覆系统20a。涂覆系统20a包括介质涂覆设备10a和控制和/或调节单元22a。介质涂覆设备10a由用户36a用手引导。用户36a借助于介质涂覆设备10a将介质涂覆到表面14a上。控制和/或调节单元22a为了感测介质涂覆设备10a相对于所述表面14a的位置和/或定向布置在所述表面14a之前的三脚架130a上。
所述表面14a构造为房间壁。在所述表面14a上施加有介质涂覆设备10a的环境的四个参照元件26a、28a、30a、32a。介质涂覆设备10a的环境的四个参照元件26a、28a、30a、32a由用户36a施加在所述表面14a上。替代地和/或附加地可以设想，已经存在于介质涂覆设备10a的环境中的介质涂覆设备10a的环境的参照元件用于介质涂覆设备10a相对于所述表面14a的位置和/或定向感测。介质涂覆设备10a的环境的四个参照元件26a、28a、30a、32a相应于围绕介质输出单元12a的环境的四个参照元件。介质涂覆设备10a的环境的四个参照元件26a、28a、30a、32a设置成用于介质涂覆设备10a相对于所述表面14a的通过感测设备24a的位置和/或定向感测和/或用于介质输出单元12a相对于所述表面14a的通过位置和/或表面传感器单元18a的位置和/或定向感测。介质涂覆设备10a的环境的四个参照元件26a、28a、30a、32a标记在所述表面14a上的施加有介质涂覆部的区域的角点。
介质涂覆设备10a的环境的第一参照元件26a构造为QR码。介质涂覆设备10a的环境的第二参照元件28a构造为条形码。介质涂覆设备10a的环境的第三参照元件30a构造为红外线发光二极管。介质涂覆设备10a的环境的第四参照元件32a构造为脉冲式发光二极管。位置和/或表面传感器单元18a可以感测介质涂覆设备10a的环境的参照元件26a、28a、30a、32a并且根据介质涂覆设备10a的环境的参照元件26a、28a、30a、32a确定介质输出单元12a相对于所述表面14a的位置和/或定向。感测设备24a可以感测介质涂覆设备10a的环境的参照元件26a、28a、30a、32a和介质涂覆设备10a的参照元件34a并且根据介质涂覆设备10a的环境的参照元件26a、28a、30a、32a确定介质涂覆设备10a相对于所述表面14a的位置和/或定向。
用户36a在头部132a上穿戴过滤器设备68a。过滤器设备68a设置成用于，禁止通过介质涂覆设备10a的参照元件34a和/或通过介质涂覆设备10a的环境的参照元件26a、28a、30a、32a发射的辐射的传输。过滤器设备68a构造为过滤器眼镜。过滤器设备68a具有构造为方向相关的过滤器的过滤器元件以用于保护用户36a的眼睛免受通过介质涂覆设备10a的参照元件34a和/或通过介质涂覆设备10a的环境的参照元件26a、28a、30a、32a发射的辐射的影响。
优选地，过滤器设备68a设置成用于使用在根据图5中示出的实施例的、尤其具有介质涂覆设备10a的涂覆系统20a中。但也可以考虑，过滤器设备68a可以使用在根据图10中示出的实施例的、尤其具有介质涂覆设备10b的涂覆系统20b中，使用在根据图14中示出的实施例的、尤其具有介质涂覆设备10c的涂覆系统20c中，使用在根据图19中示出的实施例的、尤其具有介质涂覆设备10d和/或根据图20中示出的实施例的介质涂覆设备10e的涂覆系统20d中。
图6以示意性示图示出节拍同步的过程。感测设备24a设置成用于感测介质涂覆设备10a相对于所述表面14a的位置和/或定向以用于借助节拍同步和/或开始时间触发与介质涂覆设备10a同步。感测设备24a设置成用于感测介质涂覆设备10a相对于所述表面14a的位置和/或定向以用于借助节拍同步和/或开始时间触发与介质涂覆设备10a无线地同步。感测设备24a设置成用于与介质涂覆设备10a的构造为发射辐射的照明元件的参照元件34a同步。通过与介质涂覆设备10a的参照元件34a的同步，感测设备24a可以将介质涂覆设备10a相对于所述表面14a的所感测的位置和/或定向连同时间戳提供给介质涂覆设备10a。感测设备24a可以将介质涂覆设备10a相对于所述表面14a的所感测的位置和/或定向连同时间戳提供给电子部件单元16a。时间戳设置成用于，使介质涂覆设备10a相对于所述表面14a的所感测的位置和/或定向配属有明确的感测时间点。时间戳呈电子数据的形式与描述介质涂覆设备10a相对于所述表面14a的所感测的位置和/或定向的电子数据一起传递到介质涂覆设备10a上。时间戳呈电子数据的形式通过控制和/或调节单元22a的所述另外的通信单元60a传递到介质涂覆设备10a的通信单元58a上。介质涂覆设备10a的参照元件34a和感测设备24a在感测设备24a与介质涂覆设备10a的参照元件34a同步之后节拍同步地工作并且具有时间戳的相同的开始时间点。介质涂覆设备10a的参照元件34a和感测设备24a的节拍同步的工作可以借助于节拍同步实现。替代地或附加地，介质涂覆设备10a的参照元件34a和感测设备24a的节拍同步的工作可以借助于图案探测实现。通过节拍同步使介质涂覆设备10a、尤其是介质涂覆设备10a的电子部件单元16a的工作节拍和感测设备24a的工作节拍同步。介质涂覆设备10a、尤其是介质涂覆设备10a的电子部件单元16a的工作节拍构造为介质涂覆设备10a的电子部件单元16a的节拍发生器、如石英振荡器的参考频率(这里未进一步示出)。介质涂覆设备10a的计算节拍相应于介质涂覆设备10a的工作节拍的多倍，介质涂覆设备10a的电子部件单元16a通过该计算节拍实施计算。感测设备24a的工作节拍构造为拍摄频率，感测设备24a通过该拍摄频率感测介质涂覆设备10a。介质涂覆设备10a的参照元件34a和感测设备24a的时间戳的相同开始时间点可以借助于开始时间触发实现。
感测设备24a设置成用于初始化与介质涂覆设备10a的同步以用于介质涂覆设备10a的局部化和/或介质涂覆设备10a相对于介质涂覆设备10a的环境的图像隔离。感测设备24a根据介质涂覆设备10a的参照元件34a使介质涂覆设备10a局部化。感测设备24a根据介质涂覆设备10a的构造为发射辐射的照明元件的参照元件34a的最亮的区域使介质涂覆设备10a局部化。替代地或附加地可以考虑，感测设备24a借助于边缘探测和/或根据介质涂覆设备10a的参照元件34a的边缘过渡使介质涂覆设备10a局部化。为了介质涂覆设备10a相对于介质涂覆设备10a的环境的图像隔离，感测设备24a移除至少一个拍摄图像的图像区域，在所述图像区域中没有示出介质涂覆设备10a。感测设备24a通过图像隔离将拍摄图像的要处理的图像区域限界到其中描绘介质涂覆设备10a的图像区域上。图像隔离能够实现快速的和/或精确的节拍同步和开始时间触发。感测设备24a至少为了初始化与介质涂覆设备10a的同步、优选在节拍同步和开始时间触发期间重复地实施局部化和图像隔离。替代地可以设想，感测设备24a在初始化与介质涂覆设备10a的同步期间实施单独一次局部化并且附加于初始化地在节拍同步和开始时间触发期间重复地实施图像隔离。然而也可以考虑取消局部化和图像隔离。
感测设备24a为了实现节拍同步设置成用于感测介质涂覆设备10a的节拍信号并且将节拍误差传递到介质涂覆设备10a上。感测设备24a设置成用于感测介质涂覆设备10a的参照元件34a的节拍信号并且将节拍误差借助于控制和/或调节单元22a的另外的通信单元60a传递到介质涂覆设备10a的通信单元58a上。感测设备24a和介质涂覆设备10a设置成用于按照相位调节回线的原理进行节拍同步。介质涂覆设备10a的参照元件34a发送节拍信号，该节拍信号相应于介质涂覆设备10a的电子部件单元16a的工作节拍或者介质涂覆设备10a的电子部件单元16a的工作节拍的多倍。介质涂覆设备10a的参照元件34a设置成用于，以相应于介质涂覆设备10a的电子部件单元16a的工作节拍或介质涂覆设备10a的电子部件单元16a的工作节拍的多倍的闪光频率闪光。发送的节拍信号在第一排148a和第三排150a中示出。介质涂覆设备10a的参照元件34a设置成用于，发送频率编码的节拍信号。介质涂覆设备10a的参照元件34a设置成用于，发送多色的节拍信号。替代地或附加地可以考虑，介质涂覆设备10a的参照元件34a、尤其是介质涂覆设备10a的多个构造为发射辐射的照明元件的参照元件34a设置成用于，发送局部图案。在图6中示出的节拍信号具有三个不同的辐射频率或颜色。然而，节拍信号可以具有任意多个辐射频率或颜色。在第一辐射阶段152a中，介质涂覆设备10a的参照元件34a发射第一辐射频率或颜色、例如红色。在第二辐射阶段154a中，介质涂覆设备10a的参照元件34a发射第二辐射频率或颜色、例如绿色。在第三辐射阶段156a中，介质涂覆设备10a的参照元件34a发射第三辐射频率或颜色、例如蓝色。辐射阶段152a、154a、156a分别相应于电子部件单元16a的三个拍子。感测设备24a设置成用于，感测由介质涂覆设备10a的参照元件34a发送的节拍信号。所感测的节拍信号在第二排158a和第四排160a中示出。感测设备24a可以在感测节拍信号之后实施介质涂覆设备10a的局部化和/或介质涂覆设备10a相对于介质涂覆设备10a的环境的图像隔离。替代地可以考虑，感测设备24a仅在节拍同步之前的初始化中实施局部化和/或图像隔离。感测设备24a设置成用于，将介质涂覆设备10a的参照元件34a的所感测的节拍信号与感测设备24a的节拍相比较。感测设备24a可以根据介质涂覆设备10a的所感测的节拍信号与感测设备24a的节拍的比较获得节拍误差。节拍误差根据在发送的和感测的节拍信号之间的移位162a示出。感测设备24a设置成用于，将获得的节拍误差与节拍误差最大值相比较。节拍误差最大值可以存储在控制和/或调节单元22a的存储器单元中。感测设备24a在节拍误差小于节拍误差最大值时设置成用于实施开始时间触发。感测设备24a在节拍误差大于节拍误差最大值时设置成用于将节拍误差传递给介质涂覆设备10a。感测设备24a设置成用于，将节拍误差通过控制和/或调节单元22a的所述另外的通信单元60a传递到介质涂覆设备10a的通信单元58a上。替代地可以考虑，感测设备24a设置成用于将转化的节拍误差传递到介质涂覆设备10a上。优选地，介质涂覆设备10a设置成用于，使转化的节拍误差减小(zurückbilden)以用于再处理。介质涂覆设备10a的电子部件单元16a设置成用于，减小转化的节拍误差。感测设备24a在介质涂覆设备10a的参照元件34a的节拍信号比感测设备24a的节拍超前时设置成用于将负的节拍误差信号传递到介质涂覆设备10a上。感测设备24a在介质涂覆设备10a的参照元件34a的节拍信号比感测设备24a的节拍滞后时设置成用于将正的节拍误差信号传递到介质涂覆设备10a上。
介质涂覆设备10a的电子部件单元16a设置成用于，根据所传递的节拍误差信号适配电子部件单元16a的工作节拍或介质涂覆设备10a的参照元件34a的节拍信号。电子部件单元16a设置成用于，根据负的节拍误差信号延缓电子部件单元16a的工作节拍或介质涂覆设备10a的参照元件34a的节拍信号。电子部件单元16a设置成用于，根据正的节拍误差信号加速电子部件单元16a的工作节拍或介质涂覆设备10a的参照元件34a的节拍信号。介质涂覆设备10a的参照元件34a设置成用于，发送适配的节拍信号。节拍同步重复直至获得的节拍误差小于节拍误差最大值。
图7以示意性示图示出开始时间触发的过程。介质涂覆设备10a为了实现开始时间触发设置成用于生成信号图案164a。介质涂覆设备10a的参照元件34a为了开始时间触发设置成用于生成信号图案164a。介质涂覆设备10a的参照元件34a的信号图案164a构造为彩色图案。替代地可以考虑，信号图案164a构造为开关图案、辐射调制图案、局部图案等。介质涂覆设备10a的参照元件34a为了开始时间触发的开始设置成用于生成具有大图案宽度和小图案周期间隔的信号图案164a。介质涂覆设备10a的参照元件34a设置成用于，在开始时间触发的过程中减小信号图案164a的图案宽度并且增大信号图案164a的图案周期间隔。开始时间触发的持续时间呈现在纵坐标轴166a上。用于发送信号图案164a的持续时间呈现在横坐标轴168a上。感测设备24a设置成用于，感测信号图案164a。感测设备24a可以在感测信号图案164a之后实施介质涂覆设备10a的局部化和/或介质涂覆设备10a相对于介质涂覆设备10a的环境的图像隔离。替代地可以考虑，感测设备24a仅在节拍同步之前的初始化中实施局部化和/或图像隔离。感测设备24a设置成用于，识别所感测的信号图案164a并且根据信号图案164a适配时间戳的开始点。感测设备24a设置成用于，将所感测的信号图案164a的图案周期间隔与图案周期间隔最小值相比较。图案周期间隔最小值可以存储在控制和/或调节单元22a的存储器单元中。根据所感测的信号图案164a的图案周期间隔与图案周期间隔最小值的比较，感测设备24a设置成用于，将信号传递到介质涂覆设备10a上。感测设备24a设置成用于，将信号通过控制和/或调节单元22a的所述另外的通信单元60a传递到介质涂覆设备10a的通信单元58a。在所感测的信号图案164a的图案周期间隔大于图案周期间隔最小值时，感测设备24a设置成用于将开始信号传递到介质涂覆设备10a上。开始信号通知介质涂覆设备10a的电子部件单元16a，在发送随后的信号图案170a时启动计数器以用于产生时间戳。在所感测的信号图案164a的图案周期间隔小于图案周期间隔最大值时，感测设备24a设置成用于将重复信号传递到介质涂覆设备10a上。重复信号通知介质涂覆设备10a的电子部件单元16a，将随后发送的信号图案170a的图案宽度调整成小于所感测的信号图案164a的图案宽度。重复信号通知介质涂覆设备10a的电子部件单元16a，将随后发送的信号图案170a的图案周期间隔调整成大于所感测的信号图案164a的图案周期间隔。优选地，如此长时间地重复开始时间触发，直至所感测的信号图案164a、170a的图案周期间隔大于图案周期间隔最小值。
介质涂覆设备10a的感测设备24a和/或电子部件单元16a在感测设备24a与介质涂覆设备10a同步期间设置成用于介质涂覆设备10a的参照元件34a的强度调节。感测设备24a和/或电子部件单元16a设置成用于根据介质涂覆设备10a和/或感测设备24a的环境条件、如环境光强度、干扰等进行介质涂覆设备10a的参照元件34a的强度调节。感测设备24a可以通过感测设备24a的感测敏感性的适配来调节介质涂覆设备10a的参照元件34a的所感测的强度。介质涂覆设备10a的电子部件单元16a可以通过调整介质涂覆设备10a的参照元件34a的功率来调节介质涂覆设备10a的参照元件34a的辐射的强度。通过介质涂覆设备10a的参照元件34a的强度调节可以实现介质涂覆设备10a的高位置精度和感测设备24a与介质涂覆设备10a的同步的高精度。
控制和/或调节单元22a的多个感测设备24a和/或多个控制和/或调节单元22a的感测设备24a可以设置成用于借助节拍同步和/或开始时间触发与介质涂覆设备10a同步。感测设备24a可以设置成用于借助节拍同步和/或开始时间触发与多个介质涂覆设备10a同步。控制和/或调节单元22a的多个感测设备24a和/或多个控制和/或调节单元22a的感测设备24a可以设置成借助节拍同步和/或开始时间触发与多个介质涂覆设备10a同步。控制和/或调节单元22a的所述另外的通信单元60a可以针对多个介质涂覆设备10a中的每个介质涂覆设备具有单独的通信通道。介质涂覆设备10a的通信单元58a可以针对多个感测设备24a中的每个感测设备具有单独的通信通道。多个感测设备24a中的一个感测设备可以构造为主感测设备，该主感测设备设置成用于与介质涂覆设备10a或多个介质涂覆设备10a的同步。多个感测设备24a中的另外的感测设备可以构造为副感测设备，所述副感测设备从主感测设备收到开始时间。副感测设备在与介质涂覆设备10a通信设置成用于考虑在所感测的信号和通过主感测设备感测的信号之间的相位差。相比于借助于单个感测设备24a的位置和/或定向感测，借助于多个感测设备24a可以提高介质涂覆设备10a相对于所述表面14a的位置和/或定向感测的稳固性和/或能够实现介质涂覆设备10a的绝对的空间位置和/或定向感测。
图8以立体示图示出画架和/或画布设备62a。画架和/或画布设备62a包括画架单元134a和画布单元136a。画架单元134a设置成用于接收画布单元136a。画布单元136a布置在画架单元134a上。画架单元134a具有可校准的接收元件138a以用于接收画布单元136a。在画布单元136a上借助于未进一步示出的介质涂覆设备10a制成介质涂覆部。
画架和/或画布设备62a具有传感器和/或标记单元64a。传感器和/或标记单元64a布置在画架单元134a的接收元件138a上。替代地可以设想，传感器和/或标记单元64a布置在画布单元136a上。传感器和/或标记单元64a设置成用于，感测介质涂覆设备10a相对于画架和/或画布设备62a的位置和/或定向。传感器和/或标记单元64a可以根据介质涂覆设备10a的参照元件34a感测介质涂覆设备10a相对于画架和/或画布设备62a的位置和/或定向。传感器和/或标记单元64a构造为摄像机。替代地可以设想，传感器和/或标记单元64a构造为光学的、电磁的、声学的或机械的传感器和/或标记单元。
画架和/或画布设备62a具有用户引导单元66a。用户引导单元66a设置成用于，在画架和/或画布设备62a上制成介质涂覆部时引导用户36a。用户引导单元66a包括六个用户引导元件140a。用户引导元件140a布置在画布单元136a的没有介质涂覆部的背侧上。用户引导元件140a构造为发光带元件。用户引导元件140a穿过画布单元136a发亮。用户引导元件140a为了引导用户36a形成在画布单元136a上的发光网栅。替代地可以设想，用户引导元件140a构造为声学元件。
优选地，画架和/或画布设备62a设置成用于使用在根据图5中示出的实施例的、尤其具有介质涂覆设备10a的涂覆系统20a中。但也可以考虑，画架和/或画布设备62a可以使用在根据图10中示出的实施例的、尤其具有介质涂覆设备10b的涂覆系统20b中，使用在根据图14中示出的实施例的、尤其具有介质涂覆设备10c的涂覆系统20c中，使用在根据图19中示出的实施例的、尤其具有介质涂覆设备10d和/或根据图20中示出的实施例的介质涂覆设备10e的涂覆系统20d中。
图9以立体示图示出增强现实设备70a。用户36a借助于增强现实设备70a的在头部132a上的头部固定单元142a穿戴增强现实设备70a。增强现实设备70a设置成用于，在介质涂覆过程中提供给用户36a增强现实经历。增强现实设备70a构造为AR眼镜。用户36a在借助于介质涂覆设备10a将介质涂覆到所述表面14a上时穿戴增强现实设备70a。
增强现实设备70a具有屏幕单元144a。屏幕单元144a布置在头部固定单元142a上。用户36a在介质涂覆期间看向屏幕单元144a。增强现实设备70a具有构造为摄像机的感测单元146a以用于感测所述表面14a。在屏幕单元144a中显示借助于感测单元146a感测的所述表面14a的实时图像。除了所述表面14a的实时图像附加地，在屏幕单元144a中显示虚拟物体、如对于完成制成的题材的预览和信息、如介质涂覆的预期的剩余持续时间。虚拟物体与实时图像比例正确地重叠。为了与介质涂覆设备10a和/或控制和/或调节单元22a通信，增强现实设备70a具有未进一步示出的通信单元。通信单元构造为具有小于30ms的延迟时间的无线的通信单元。
优选地，增强现实设备70a设置成用于使用在根据图5中示出的实施例的、具有介质涂覆设备10a的涂覆系统20a。但也可以考虑，增强现实设备70a可以使用在根据图10中示出的实施例的、尤其具有介质涂覆设备10b的涂覆系统20b中，使用在根据图14中示出的实施例的、尤其具有介质涂覆设备10c的涂覆系统20c中，使用在根据图19中示出的实施例的、尤其具有介质涂覆设备10d和/或根据图20中示出的实施例的介质涂覆设备10e的涂覆系统20d中。
下面描述用于运行涂覆系统20a的方法。在至少一个方法步骤中，将基于像素的目标图像的模型分辨率换算成工作分辨率。在至少一个另外的方法步骤中，在使用抖动算法和/或边缘平滑算法的情况下将基于像素的目标图像转换成基于涂覆点的目标图像。在至少一个另外的方法步骤中，根据基于涂覆点的目标图像模拟误差图像并且显示给用户36a。在至少一个另外的方法步骤中，根据用户输入重新计算基于涂覆点的目标图像。在至少一个另外的方法步骤中，根据基于涂覆点的目标图像计算介质涂覆策略。在至少一个另外的方法步骤中，介质涂覆设备10a相对于所述表面14a的所感测的位置和/或定向存储用于之后的使用、尤其用于在介质涂覆过程中断之后再发现开始点。
关于用于运行涂覆系统20a的方法的另外的方法步骤参见之前对于涂覆系统20a的描述，因为该描述也类似地适用于所述方法并且因此关于涂覆系统20a而言的所有特征也关于运行涂覆系统20a的方法视为公开。
此外也可以考虑，参照在图1至9中示出的实施例的方法的方法步骤可以与参照另外的实施例的、尤其参照在图12至14中示出的实施例和/或在15至19中示出的实施例的方法的方法步骤组合，尤其以本领域技术人员认为有意义的顺序。
在图10至21中示出本发明的四个另外的实施例。下面的描述和附图基本上局限于实施例之间的不同，其中，关于相同标明的构件、尤其关于具有相同附图标记的构件原则上也可以参见另外的实施例、尤其是图1至9的附图和/或描述。为了区分实施例，将字母a置于图1至9中的实施例的附图标记后面。在图10至21的实施例中将字母a通过字母b至e替代。
图10以示意性示图示出替代的涂覆系统20b。涂覆系统20b包括介质涂覆设备10b。介质涂覆设备10b包括用于将介质输出到未进一步示出的表面上的未进一步示出的介质输出单元和用于控制和/或调节介质输出单元的未进一步示出的电子部件单元。关于介质输出单元和介质涂覆设备10b的电子部件单元的结构特征应参见第一实施例的介质输出单元12a和介质涂覆设备10a的电子部件单元16a。涂覆系统20b包括电子部件模块单元172b。电子部件模块单元172b为了介质涂覆设备10b的充电之外的功能扩展可以与电子部件单元电子地耦合。电子部件模块单元172b使可更换的单元，该单元至少一个电子构件、优选设置成用于不同电子构件在单个模块中的集中并且该单元优选可以无工具地与介质涂覆设备10b连接并且从介质涂覆设备10b松脱地构造。电子部件模块单元172b可以通过不同于介质涂覆设备10b的器具、如工具机替代。电子部件模块单元172b可以构造为控制和/或调节模块、如微控制器、集成电路等，构造为传感器模块、如湿度传感器、温度传感器、加速度传感器、陀螺传感器等，构造为定位模块、如照明元件、雷达发送器等，构造为输出模块、如状态LED、屏幕、扬声器等，构造为输入模块、如触摸屏幕、操作按钮、麦克风等，或者构造为其他本领域技术人员认为有意义的电子部件模块单元172b。电子部件模块单元172b构造为可更换的模块，该模块包括多个不同模块的功能。电子部件模块单元172b具有模块壳体单元174b。模块壳体单元174b构造成尤其与介质涂覆设备10b的壳体38b可松脱地连接。壳体38b具有用于将电子部件模块单元172b接合到介质涂覆设备10b上的接收单元176b。接收单元176b设置成用于将模块壳体单元174b机械地接合到壳体38b上。接收单元176b具有用于将电子部件模块单元172b防丢地锁止在介质涂覆设备10b上和/或中的未进一步示出的锁止机构。介质涂覆设备10b和电子部件模块单元172b包括电接触元件178b。电子部件模块单元172b的电接触元件未进一步示出。电接触元件178b设置成用于电子部件模块单元172b与介质涂覆设备10b的电子耦合。电接触元件178b设置成用于使电子部件模块单元172b的电子部件单元180b与介质涂覆设备10b的电子部件单元电子耦合。电接触元件178b在电子部件模块单元172b布置在介质涂覆设备10b上和/或中的位态中相互导电连接。通过电接触元件178b可以使电能、电信号和/或电子信号在电子部件模块单元172b和介质涂覆设备10b之间传递。借助于电子部件模块单元172b可以扩展介质涂覆设备10b的功能性。电子部件模块单元172b设置成用于介质涂覆设备10b的功能扩展，该功能扩展超出介质涂覆设备10b的例如用于介质涂覆设备10b的能量存储器单元的充电的纯能量供给。为了介质涂覆设备10b的功能扩展，电子部件模块单元172b包括布置在模块壳体单元174b上和/或内部的不同构件。
电子部件模块单元172b包括至少一个模块能量存储器单元182b。模块能量存储器单元182b设置成用于构件以电能的能量供给。模块能量存储器单元182b构造为蓄电池。替代地可以考虑，模块能量存储器单元182b构造为电池、存储式电容器。电网供应装置等。模块能量存储器单元182b附加地设置用于介质涂覆设备10b的能量供给。介质涂覆设备10b没有构造自身的能量存储器单元。替代地可以考虑，介质涂覆设备10b包括能量存储器单元，该能量存储器单元设置成用于没有构造模块能量存储器单元182b的电子部件模块单元172b的能量供给。电子部件模块单元172b包括介质涂覆设备10b的另外的参照元件184b。介质涂覆设备10b的所述另外的参照元件184b至少基本上类似于第一实施例的介质涂覆设备10a的参照元件34a地构造。介质涂覆设备10b无参照元件地构造。电子部件模块单元172b包括另外的位置和/或表面传感器单元186b。所述另外的位置和/或表面传感器单元186b至少基本上类似于第一实施例的介质涂覆设备10a的位置和/或表面传感器单元18a地构造。介质涂覆设备10b无位置和/或表面传感器单元地构造。电子部件模块单元172b可以具有另外的未进一步示出的传感器单元、如湿度传感器、声学传感器、磁力计、温度传感器、日光传感器等。
电子部件模块单元172b包括用于与未进一步示出的控制和/或调节单元和/或未进一步示出的另外的外部单元模块交换电子数据的通信单元188b。模块通信单元188b构造为无线的通信单元。模块通信单元188b至少基本上类似于第一实施例的介质涂覆设备10a和控制和/或调节单元22a的通信单元58a、60a地构造。介质涂覆设备10b无通信单元地构造。电子部件模块单元172b具有用于控制和/或调节介质涂覆设备10b和电子部件模块单元172b的构件的电子部件单元180b。电子部件模块单元172b的电子部件单元180b至少基本上类似于第一实施例的介质涂覆设备10a的电子部件单元16a地构造。电子部件模块单元172b的电子部件单元180b包括存储器单元。电子部件模块单元172b的电子部件单元180b的存储器单元包括闪存和RAM存储器。替代地或附加地可以设想，电子部件模块单元172b为了电子部件模块单元172b的电子部件单元180b的功能和/或存储扩展具有存储扩展单元。存储扩展单元可以构造为用于存储卡、如SD卡、微型SD卡、CF卡、XQD卡等的插槽，例如构造为USB插槽等。电子部件模块单元172b的电子部件单元180b可以控制和/或调节介质涂覆设备10b、尤其是介质涂覆设备10b的介质输出单元和电子部件模块单元172b的构件。替代地可以考虑，电子部件模块单元172b的电子部件单元180b仅设置成用于控制和/或调节电子部件模块单元172b的构件并且介质涂覆设备10b的电子部件单元设置成用于控制和/或调节介质涂覆设备10b的构件、尤其是介质输出单元。
电子部件模块单元172b包括用户交互单元190b。用户交互单元190b设置成用于实现与未进一步示出的用户的光学交互。替代地可以考虑，用户交互单元190b设置成用于与用户声学和/或触觉交互。用户交互单元190b为了实现与用户的光学交互具有光学交互元件192b。光学交互元件192b构造为照明元件。光学交互元件192b构造为可编程的照明元件。光学交互元件192b构造为彩色LED。光学交互元件192b设置成用于电子部件模块单元172b的状态显示。替代地可以设想，光学交互元件192b构造为屏幕等。为了实现与用户的声学交互，用户交互单元190b可以具有声学交互元件、如扬声器、麦克风等。为实现与用户的触觉交互，用户交互单元190b可以具有触觉交互元件、如可编程的开关按钮、振动马达等。
图11以另外的示意性示图示出图10中的涂覆系统20b。电子部件模块单元172b与介质涂覆设备10b机械地和电子地耦合。介质涂覆设备10b借助于电子部件模块单元172b设置成用于自动的介质涂覆。
图12以立体示图示出另外的替代的介质涂覆设备10c。介质涂覆设备10c构造为手持的颜料涂覆设备。介质涂覆设备10c具有壳体38c。壳体38c由塑料形成。替代地可以设想，壳体38c由金属形成。壳体38c具有头部区域72c和接收区域74c。头部区域72c和接收区域74c一件式地构造。在头部区域72c中布置有用于介质涂覆设备10c的运行必需的构件。接收区域74c构造为一半的空心柱体。接收区域74c这样成形，使得隐含示出的、包含要涂覆的介质的容器76c在装配在介质涂覆设备10c上的状态中由接收区域74c部分地包围。容器76c构造为介质箱。介质构造为颜料介质。所述介质构造为喷漆。
壳体38c在头部区域72c上并且与接收区域74c连接地具有接合和/或固定单元78c。接合和/或固定单元78c设置用于在介质涂覆设备10c上接收容器76c。接合和/或固定单元78c具有用于紧固容器76c的适配器钩元件80c(参见图13)。
在壳体38c的头部区域72c布置有介质涂覆设备10c的参照元件34c。介质涂覆设备10c的参照元件34c对于未进一步示出的用户36c无眩光地构造。介质涂覆设备10c的参照元件34c构造为发射辐射的照明元件，该照明元件发射电磁谱的蓝色频谱范围中的电磁辐射。介质涂覆设备10c的参照元件34c构造为蓝色发光二极管。替代地可以设想，介质涂覆设备10c的参照元件34c发射对于人眼不可见的频谱范围中的辐射，照明元件设置成用于脉冲式地发射辐射，或者介质涂覆设备10c的参照元件34c构造为无辐射的编码元件。
在壳体38c的头部区域72c上布置有介质涂覆设备10c的防眩光元件40c。防眩光元件40c由不透光的塑料形成。防眩光元件40c与壳体38c一件式地构造。防眩光元件40c构造为遮盖部。防眩光元件40c部分地遮盖介质涂覆设备10c的参照元件34c。介质涂覆设备10c的参照元件34c部分地布置在防眩光元件40c内部。防眩光元件40c设置成用于屏蔽由介质涂覆设备10c的参照元件34c发出的辐射以保护用户36c不受影响。
在壳体38c的头部区域72c上布置有介质涂覆设备10c的位置和/或距离传感器单元194c的第一位置和/或距离传感器元件206c。第一位置和/或距离传感器元件206c布置在防眩光元件40c上。位置和/或距离传感器单元194c设置成用于，根据围绕介质输出单元12c的环境的参照元件26c、28c、30c、32c感测介质输出单元12c相对于表面14c的位置和/或定向，介质涂覆设备10c的电子部件单元16c根据所述位置和/或定向控制和/或调节介质输出单元12c。位置和/或距离传感器单元194c构造为全向的位置和/或距离传感器单元194c。第一位置和/或距离传感器元件206c设置成用于，感测围绕介质输出单元12c的环境在围绕第一位置和/或距离传感器元件206c的整个球的所有空间方向中的参照元件26c、28c、30c、32c。第一位置和/或距离传感器元件206c构造为360°摄像机。替代地可以设想，第一位置和/或距离传感器元件206c构造为具有广角镜头的摄像机或反射折射光学系统。全向的位置和/或距离传感器单元194c设置成用于，同时感测围绕介质输出单元12c的环境的、尤其沿围绕介质输出单元12c的不同空间方向布置的多个参照元件26c、28c、30c、32c。位置和/或距离传感器单元194c至少部分地构造介质涂覆设备10c的位置和/或表面传感器单元18c。
位置和/或距离传感器单元194c具有电磁传感器元件208c。电磁传感器元件208c布置在壳体38c的头部区域72c的上侧上。电磁传感器元件208c构造为感应传感器。替代地可以考虑，电磁传感器元件208c构造为电磁线圈或霍尔传感器。位置和/或距离传感器单元194c构造为电磁传感器单元。位置和/或距离传感器单元194c设置成用于，根据围绕介质输出单元12c的环境的第二参照元件28c的电磁场的特征参量感测介质输出单元12c相对于所述表面14c的位置和/或定向。围绕介质输出单元12c的环境的第二参照元件28c构造为电磁场产生元件(参见图14)。电磁场的特征参量构造为电磁场的振幅分布。替代地或附加地可以考虑，电磁场的特征参量构造为电磁场的频率调制。
位置和/或距离传感器单元194c具有电磁辐射元件210c。电磁辐射元件210c布置在壳体38c的头部区域72c的上侧上。电磁辐射元件210c构造为微波发射器。替代地可以设想，电磁辐射元件210c构造为雷达传感器或激光雷达器。位置和/或距离传感器单元194c构造为用于发射探测电磁辐射的电磁辐射单元。电磁辐射元件210c设置成用于，发射并且探测微波辐射。位置和/或距离传感器单元194c设置成用于，根据由电磁反射器元件反射的电磁辐射感测介质输出单元12c相对于所述表面14c的位置和/或定向。
图13以示意性剖示图示出图12中的介质涂覆设备10c。示出的是头部区域72c、具有适配器钩元件80c的接合和/或固定单元78c和接收区域74c的一部分。在头部区域72c上布置有介质涂覆设备10c的参照元件34c、防眩光元件40c、第一位置和/或距离传感器元件206c、电磁传感器元件208c和电磁辐射元件210c。在壳体38c内部在接收区域74c中布置有介质涂覆设备10c的能量供给单元86c。能量供给单元86c设置成用于，为了运行介质涂覆设备10c使介质涂覆设备10c的介质输出单元12c供给以电能。能量供给单元86c构造为蓄电池。
介质输出单元12c在壳体38c内部布置在头部区域72c中。介质输出单元12c包括喷嘴单元44c和介质供应单元88c。喷嘴单元44c具有喷嘴元件46c。在当前实施例中，喷嘴单元44c附加地具有阀元件90c。但原则上也可以设想，喷嘴单元44c不包括阀元件90c。喷嘴元件46c可旋转地支承在壳体38c中。喷嘴元件46c与介质涂覆设备10c的参照元件34c布置在同一排中。喷嘴元件46c设置成用于将介质输出到未进一步示出的表面14c上。喷嘴元件46c为了输送介质通过喷嘴单元44c的管路元件92c与阀元件90c连接。替代地可以考虑，喷嘴单元44c仅包括喷嘴元件46c和管路元件92c。阀元件90c设置成用于，使介质流经喷嘴元件46c。
介质输出单元12c具有用于供应介质至阀元件90c的介质供应单元88c。替代地可以设想，介质供应单元88c设置成用于将介质直接供应至喷嘴元件46c。介质供应单元88c包括介质供应元件94c和适配器元件96c，该介质供应元件与阀元件90c连接。替代地可以考虑，介质供应元件94c与喷嘴元件46c或与管路元件92c连接。适配器元件96c与介质供应元件94c连接并且设置成用于，建立与出于概要性原因未示出的容器76c的连接。适配器元件96c设置成用于将介质从容器76c引导至介质供应元件94c。
在壳体38c内部并且安置在介质涂覆设备10c的支撑元件98c上地布置有介质涂覆设备10c的电子部件单元16c。电子部件单元16c构造为具有未进一步示出的处理器单元和未进一步示出的存储器单元的电路板。电子部件单元16c设置成用于，控制和/或调节介质输出单元12c。电子部件单元16c由能量供给单元86c供给以电能。
介质涂覆设备10c具有通信单元58c。通信单元58c布置在壳体38c内部。通信单元58c构造为无线的通信单元。通信单元58c构造为蓝牙模块。替代地可以设想，通信单元58c构造为无线电模块、基于光的通信单元或线缆连接的通信单元。通信单元58c具有小于30ms的延迟时间。通信单元58c设置成用于与控制和/或调节单元22c、212c和/或另外的外部单元交换电子数据。
位置和/或距离传感器单元194c具有第二位置和/或距离传感器元件214c。第二位置和/或距离传感器元件214c布置在壳体38c的头部区域72c上。位置和/或距离传感器单元194c设置成用于，感测围绕介质输出单元12c的环境的参照元件26c、28c、30c、32c的特定于距离的特征参量。围绕介质输出单元12c的环境的参照元件26c、28c、30c、32c的所感测的特定于距离的特征参量可以由电子部件单元16c分析处理以用于确定介质输出单元12c的取向。围绕介质输出单元12c的环境的参照元件26c、28c、30c、32c的特定于距离的特征参量分别构造为围绕介质输出单元12c的环境的每个参照元件26c、28c、30c、32c相对于介质输出单元12c的间距。第二位置和/或距离传感器元件214c构造为激光雷达器。替代地可以设想，第二位置和/或距离传感器元件214c构造为雷达传感器或超声传感器。电子部件单元16c可以根据围绕介质输出单元12c的环境的参照元件26c、28c、30c、32c相对于介质输出单元12c的所感测的间距确定介质输出单元12c的取向。
优选地，介质涂覆设备10c设置成用于使用在根据图14中示出的实施例的、尤其具有控制和/或调节单元22c的涂覆系统20c中。但也可以考虑，介质涂覆设备10c可以使用在根据在图5中示出的实施例的、尤其具有控制和/或调节单元22a的涂覆系统20a和/或根据在图19中示出的实施例的、尤其具有控制和/或调节单元22d的涂覆系统20d中。
图14以示意性示图示出另外的替代的涂覆系统20c。涂覆系统20c包括介质涂覆设备10c以及第一控制和/或调节单元22c和第二控制和/或调节单元212c。介质涂覆设备10c由用户36c用手引导。用户36c借助于介质涂覆设备10c将介质涂覆到所述表面14c上。所述表面14c构造为房间壁。在所述表面14c上安置有围绕介质输出单元12c的环境的多个第一参照元件26c。围绕介质输出单元12c的环境的多个第一参照元件26c围绕涂覆区域196c框架形地布置在所述表面14c上。围绕介质输出单元12c的环境的第一参照元件26c限界涂覆区域196c。在涂覆区域196c中涂覆有介质涂覆部216c。围绕介质输出单元12c的环境的第一参照元件26c构造为QR码。替代地可以设想，围绕介质输出单元12c的环境的第一参照元件26c构造为条形码或颜色码。
在所述表面14c上安置有围绕介质输出单元12c的环境的第二参照元件28c。围绕介质输出单元12c的环境的第二参照元件28c构造为用于产生电磁场的电磁场产生元件。围绕介质输出单元12c的环境的第二参照元件28c构造为电磁线圈。替代地可以设想，围绕介质输出单元12c的环境的第二参照元件28c构造为永磁体或充电元件。围绕介质输出单元12c的环境的第二参照元件28c产生具有确定振幅分布的电磁场。电磁场的振幅分布存储在位置和/或距离传感器单元194c的存储器单元中。位置和/或距离传感器单元194c根据电磁场的振幅分布可以感测介质输出单元12c相对于所述表面14c的位置和/或定向。
围绕介质输出单元12c的环境的第三参照元件30c布置在第一三脚架218c上。围绕介质输出单元12c的环境的第四参照元件32c布置在第二三脚架220c上。围绕介质输出单元12c的环境的第三参照元件30c和围绕介质输出单元12c的环境的第四参照元件32c分别构造为电磁反射器元件。围绕介质输出单元12c的环境的第三参照元件30c和围绕介质输出单元12c的环境的第四参照元件32c设置成用于反射电磁辐射。围绕介质输出单元12c的环境的第三参照元件30c和围绕介质输出单元12c的环境的第四参照元件32c设置成用于，反射由位置和/或距离传感器单元194c的电磁辐射元件210c发射的微波辐射。根据由围绕介质输出单元12c的环境的第三参照元件30c和围绕介质输出单元12c的环境的第四参照元件32c反射的电磁辐射，位置和/或距离传感器单元194c可以感测介质输出单元12c相对于所述表面14c的位置和/或定向。
用户36c将第一控制和/或调节单元22c穿戴在头部132c上。第一控制和/或调节单元22c构造为增强现实眼镜。替代地可以设想，第一控制和/或调节单元22c构造为智能手机或平板电脑。第一控制和/或调节单元22c具有第一感测设备24c。第一感测设备24c设置成用于，感测介质涂覆设备10c相对于所述表面14c的位置和/或定向。第一感测设备24c设置成用于在介质涂覆设备10c的位置和/或定向感测期间的自身运动。第一感测设备24c可以通过用户36c的头部132c的运动而运动。第一感测设备24c具有第一感测元件222c。第一感测元件222c构造为摄像机。替代地可以设想，第一感测元件222c构造为光学传感器、电磁传感器或声学传感器。
在所述表面14c之前布置有第二控制和/或调节单元212c。第二控制和/或调节单元212c具有第二感测设备224c。第二感测设备224c设置成用于，根据介质涂覆设备10c的参照元件34c感测介质涂覆设备10c在三维空间中的绝对位置。第二感测设备224c围绕两个轴可枢转地受支承。第二感测设备224c可以借助于第二控制和/或调节单元212c的未进一步示出的驱动装置自动地运动。第二感测设备224c具有第二感测元件226c。第二感测元件226c构造为激光追踪器。替代地可以设想，第二感测元件226c构造为无线追踪器。第二感测元件226c可以在介质涂覆设备10c运动时根据介质涂覆设备10c的参照元件34c借助于激光射束228c追踪介质涂覆设备10c。第二感测设备224c持续地感测介质涂覆设备10c和第二控制和/或调节单元212c之间的间距、介质涂覆设备10c相对于第二控制和/或调节单元212c的仰角和介质涂覆设备10c相对于第二控制和/或调节单元212c的方位角。
第一控制和/或调节单元22c和第二控制和/或调节单元212c分别具有未进一步示出的计算单元。计算单元布置在第一控制和/或调节单元22c和第二控制和/或调节单元212c的壳体单元内部。计算单元构造为微处理器。替代地可以考虑，计算单元构造为专用数字电路。计算单元设置成用于，由于第一感测设备24c和/或第二感测设备224c的自身运动补偿对于介质涂覆设备10c的位置和/或定向感测的影响。第一控制和/或调节单元22c和第二控制和/或调节单元212c分别具有至少一个未进一步示出的运动传感器元件。运动传感器元件设置成用于感测感测设备24c、224c的自身运动。运动传感器元件构造为斜度传感器。运动传感器元件可以将关于感测设备24c、224c的自身运动的电信号提供给计算单元。计算单元设置成用于，计算出介质涂覆设备10c相对于所述表面14c的所感测的位置和/或定向的通过感测设备24c、224c的自身运动决定的偏移。
优选地，控制和/或调节单元22c设置成用于使用在根据图14中示出的实施例的、尤其具有介质涂覆设备10c的涂覆系统20c中。但也可以考虑，控制和/或调节单元22c可以使用在根据在图5中示出的实施例的、尤其具有介质涂覆设备10a的涂覆系统20a中，使用在根据图10中示出的实施例的、尤其具有介质涂覆设备10b的涂覆系统20b中，使用在根据在图19中示出的实施例的、尤其具有介质涂覆设备10d和/或根据图20中示出的实施例的介质涂覆设备10e的涂覆系统20d中。
下面描述用于运行涂覆系统20c的方法。在至少一个方法步骤中，感测介质涂覆设备10c相对于所述表面14c的位置和/或定向和/或介质涂覆设备10c在三维空间中的至少一个绝对位置。关于用于运行涂覆系统20c的方法的另外的方法步骤应参见涂覆系统20c的前面的描述，因为该描述也类似地适用于所述方法并且因此关于涂覆系统20c的所有特征也关于运行涂覆系统20c的方法视为公开。
此外也可以考虑，参照在图12至14中示出的实施例的方法的方法步骤可以与参照另外的实施例的、尤其参照在图1至9中示出的实施例和/或在15至19中示出的实施例的方法的方法步骤组合，尤其以本领域技术人员认为有意义的顺序。
图15以立体示图示出另外的替代的介质涂覆设备10d。介质涂覆设备10d构造为手持的颜料涂覆设备。介质涂覆设备10d具有壳体38d。壳体38d由塑料形成。替代地可以设想，壳体38d由金属形成。壳体38d具有头部区域72d和接收区域74d。头部区域72d和接收区域74d一件式地构造。在头部区域42d中布置有对于介质涂覆设备10d的运行必需的构件。接收区域74d构造为一半的空心柱体。接收区域74d这样成形，使得隐含示出的、包含要涂覆的介质的容器76d在装配在介质涂覆设备10d上的状态中由接收区域74d部分地包围。容器76d构造为介质箱。介质构造为颜料介质。所述介质构造为喷漆。
壳体38d在头部区域72d上并且与接收区域74d连接地具有接合和/或固定单元78d。接合和/或固定单元78d设置用于在介质涂覆设备10d上接收容器76d。接合和/或固定单元78d具有用于紧固容器76d的适配器钩元件80d(参见图16)。
在壳体38d的头部区域72d上布置有介质涂覆设备10d的参照元件34d。介质涂覆设备10d的参照元件34d无眩光地构造用于未进一步示出的用户36d。介质涂覆设备10d的参照元件34d构造为发射辐射的照明元件，该照明元件发射电磁谱的蓝色频谱范围中的电磁辐射。介质涂覆设备10d的参照元件34d构造为蓝色发光二极管。替代地可以设想，介质涂覆设备10d的参照元件34d发射来自对于人眼不可见的频谱范围中的辐射，照明元件设置成用于脉冲式地发射辐射，或者介质涂覆设备10d的参照元件34d构造为无辐射的编码元件。
在壳体38d的头部区域72d上布置有介质涂覆设备10d的防眩光元件40d。防眩光元件40d由不透光的塑料形成。防眩光元件40d与壳体38d一件式地构造。防眩光元件40d构造为遮盖部。防眩光元件40d部分地遮盖介质涂覆设备10d的参照元件34d。介质涂覆设备10d的参照元件34d部分地布置在防眩光元件40d内部。防眩光元件40d设置成用于屏蔽由介质涂覆设备10d的参照元件34d发出的辐射以保护用户36d不受影响。
图16以示意性剖示图示出图15中的介质涂覆设备10d。示出的是头部区域72d、具有适配器钩元件80d的接合和/或固定单元78d和接收区域74d的一部分。在头部区域72d上布置有介质涂覆设备10d的参照元件34d和防眩光元件40d。在壳体38d内部在接收区域74d中布置有介质涂覆设备10d的能量供给单元86d。能量供给单元86d设置成用于，为了运行介质涂覆设备10d使介质涂覆设备10d的介质输出单元12d供给以电能。能量供给单元86d构造为蓄电池。介质涂覆设备10d包括包括具有位置和/或表面传感器元件100d的位置和/或表面传感器单元18d。可以考虑，介质涂覆设备10d构造成用于以独立于位置和/或表面传感器单元18d的替代的构型来解决根据本发明的任务。
介质输出单元12d在壳体38d内部布置在头部区域72d中。介质输出单元12d包括喷嘴单元44d和介质供应单元88d。喷嘴单元44d具有喷嘴元件46d。在当前实施例中，喷嘴单元44d附加地具有阀元件90d。然而原则上可以设想，喷嘴单元44d不包括阀元件90d。喷嘴元件46d可旋转地支承在壳体38d中。喷嘴元件46d与介质涂覆设备10d的参照元件34d布置在同一排中。喷嘴元件46d设置成用于将介质输出到未进一步示出的表面14d上。喷嘴元件46d为了输送介质通过喷嘴单元44d的管路元件92d与阀元件90d连接。替代地可以考虑，喷嘴单元44d仅包括喷嘴元件46d和管路元件92d。阀元件90d设置成用于，使介质流经喷嘴元件46d。
介质输出单元12d具有用于将介质供应至阀元件90d的介质供应单元88d。替代地可以设想，介质供应单元88d设置用于将介质直接供应至喷嘴元件46d。介质供应单元88d包括介质供应元件94d和适配器元件96d，该介质供应元件与阀元件90d连接。替代地可以考虑，介质供应元件94d与喷嘴元件46d或与管路元件92d连接。适配器元件96d与介质供应元件94d连接并且设置成用于，建立与出于概要性原因未示出的容器76d的连接。适配器元件96d设置成用于将介质从容器76d引导至介质供应元件94d。
在壳体38d内部并且安装在介质涂覆设备10d的支撑元件98d上地布置有介质涂覆设备10d的电子部件单元16d。电子部件单元16d构造为具有未进一步示出的处理器单元和未进一步示出的存储器单元的电路板。电子部件单元16d设置成用于，控制和/或调节介质输出单元12d。电子部件单元16d由能量供给单元86d供给以电能。电子部件单元16d设置成用于，提供介质输出单元12d的特定标志。电子部件单元16d设置成用于，提供介质输出单元12d的呈电子数据的形式的特定标志。替代地可以设想，电子部件单元16d设置成用于，光学地和/或声学地提供介质输出单元12d的特定标志。介质输出单元12d的特定标志构造为介质输出单元12d的序列号。替代地可以设想，特定标志构造为机器可读的编码或显眼的几何形状。介质输出单元12d的特定标志存储在电子部件单元16d的存储器单元中。替代地可以考虑，电子部件单元16d产生介质输出单元12d的特定标志。
介质涂覆设备10d具有通信单元58d。通信单元58d布置在壳体38d内部。通信单元58d构造为无线的通信单元。通信单元58d构造为蓝牙模块。替代地可以设想，通信单元58d构造为无线电模块、基于光的通信单元或线缆连接的通信单元。通信单元58d具有小于30ms的延迟时间。通信单元58d设置成用于与控制和/或调节单元22d和/或另外的外部单元230d加密地交换电子数据(参见图19)。通信单元58d具有未进一步示出的加密和/或解密元件。加密和/或解密元件设置成用于加密和/或解密电子数据。
介质涂覆设备10d具有用户识别单元110d。用户识别单元110d在壳体38d的外侧上布置在头部区域72d上。用户识别单元110d设置成用于，感测特定于用户的特征参量。用户识别单元110d具有用户识别元件232d。用户识别元件232d设置成用于感测特定于用户的特征参量。用户识别元件232d构造为指纹扫描器。用户识别元件232d设置成用于，感测用户36d的指纹扫描。替代地可以考虑，用户识别元件232d构造为虹膜扫描器、用于密码的输入区、摄像机或运动传感器元件，并且用户识别单元110d具有分析处理单元。
电子部件单元16d可以处理用户识别单元110d的包含特定于用户的特征参量的电信号以用于控制和/或调节介质输出单元12d。在电子部件单元16d的存储器单元中针对每个特定于用户的特征参量存储有用于控制和/或调节介质输出单元12d的程序。所述程序对于介质输出单元12d的参数中的每个参数包括介质输出单元12d的要调整的参数。电子部件单元16d可以这样控制和/或调节介质输出单元12d，使得介质输出单元12d的参数关于特定于用户的特征参量适配地调整。电子部件单元16d可以根据特定于用户的特征参量激活或停止介质输出单元12d的介质输出功能。电子部件单元16d可以基于用户36d的验证激活激活介质涂覆设备10d的操作。电子部件单元16d可以根据特定于用户的特征参量进行介质输出单元12d的特定于用户的预调整。
优选地，介质涂覆设备10d设置成用于使用在根据图19中示出的实施例的、尤其具有控制和/或调节单元22d的涂覆系统20d中。但也可以考虑，介质涂覆设备10d可以使用在根据在图5中示出的实施例的、尤其具有控制和/或调节单元22a的涂覆系统20a和/或根据在图14中示出的实施例的、尤其具有控制和/或调节单元22c的涂覆系统20c中。
图17以立体示图示出替代的控制和/或调节单元22d。示出的是控制和/或调节单元22d的后侧114d。控制和/或调节单元22d构造为智能手机。控制和/或调节单元22d具有壳体单元116d。壳体单元116d由金属形成。替代地可以设想，壳体单元116d由玻璃或塑料形成。
控制和/或调节单元22d具有另外的通信单元60d。所述另外的通信单元60d布置在壳体单元116d内部。所述另外的通信单元60d构造为无线的通信单元。所述另外的通信单元60d构造为蓝牙模块。替代地可以设想，所述另外的通信单元60d构造为无线模块、基于光的通信单元或线缆连接的通信单元。所述另外的通信单元60d具有小于30ms的延迟时间。所述另外的通信单元60d设置成用于以未进一步示出的介质涂覆设备10d和/或另外的外部单元230d进行电子数据的加密交换。所述另外的通信单元60d具有未进一步示出的另外的加密和/或解密元件。所述另外的加密和/或解密元件设置成用于电子数据的加密和解密。
控制和/或调节单元22d具有感测设备24d。感测设备24d设置成用于，根据介质涂覆设备10d的环境的参照元件和/或根据介质涂覆设备10d的参照元件34d感测介质涂覆设备10d相对于所述表面14d的位置和/或定向。感测设备24d具有感测元件222d。感测元件222d在控制和/或调节单元22d的后侧114d上布置在壳体单元116d上。感测元件222d构造为摄像机。感测设备24d设置成用于，记录介质涂覆过程。感测元件222d设置成用于，拍摄介质涂覆过程。介质涂覆过程的记录可以在控制和/或调节单元22d进一步处理。替代地或附加地可以设想，感测设备24d为了感测介质涂覆设备10d的环境的参照元件和/或介质涂覆设备10d的参照元件34d具有构造为光学传感器、电磁传感器或声学传感器的感测元件。
图18以另外的立体示图示出图17中的控制和/或调节单元22d。示出的是控制和/或调节单元22d的前侧122d。
控制和/或调节单元22d具有输出单元124d。输出单元124d设置成用于将信息输出给用户36d和/或用于通过用户36d输入指令。输出单元124d包括第一输出元件126d和第二输出元件128d。第一输出元件126d构造为屏幕。第一输出元件126d构造为触摸屏幕。第一输出元件126d设置成用于，将要制成的题材显示给用户36。第二输出元件128d构造为扬声器。第一输出元件126d和第二输出元件128d齐平地装入到壳体单元116d中。
控制和/或调节单元22d包括未进一步示出的计算单元和未进一步示出的存储器单元。计算单元和存储器单元布置在壳体单元116d内部。计算单元构造为微处理器。存储器单元构造为SSD存储器(固态驱动存储器)。
优选地，控制和/或调节单元22d设置成用于使用在根据图19中示出的实施例的、尤其具有介质涂覆设备10d的涂覆系统20d中。但也可以考虑，介质涂覆设备10d可以使用在根据在图5中示出的实施例的、尤其具有介质涂覆设备10a的涂覆系统20a中，使用在根据图10中示出的实施例的、尤其具有介质涂覆设备10b的涂覆系统20b中，使用在根据图14中示出的实施例的、尤其具有介质涂覆设备10c和/或根据图20中示出的实施例的介质涂覆设备10e的涂覆系统20c中。
图19以示意性示图示出另外的替代的涂覆系统20d。涂覆系统20d包括介质涂覆设备10d和控制和/或调节单元22d。涂覆系统20d附加地包括另外的外部单元230d和服务器单元234d。所述另外的外部单元230d构造为另外的介质涂覆设备。所述另外的外部单元230d至少基本上类似于介质涂覆设备10d地构造。介质涂覆设备10d由用户36d用手引导。用户36d借助于介质涂覆设备10d将介质涂覆到所述表面14d上。所述另外的外部单元230d由另外的用户236d用手引导。所述另外的用户236d借助于所述另外的外部单元230d将另外的介质涂覆到所述表面14d上。控制和/或调节单元22d为了感测介质涂覆设备10d相对于所述表面14d的位置和/或定向并且为了感测所述另外的外部单元230d相对于所述表面14d的位置和/或定向而布置在表面14d前面的三脚架130d上。控制和/或调节单元22d设置成用于，同时控制和/或调节介质涂覆设备10d和所述另外的外部单元230d。控制和/或调节单元22d的感测设备24d设置成用于，记录介质涂覆过程。所述表面14d构造为房间壁。
服务器单元234d设置成用于，提供用于介质涂覆设备10d和/或控制和/或调节单元22d的功能性扩展的功能。服务器单元234d构造为具有存储器单元和存储在存储器单元中的应用程序的计算机。服务器单元234d与互联网连接。介质涂覆设备10d、所述另外的外部单元230d和控制和/或调节单元22d可以与服务器单元234d交换电子数据。介质涂覆设备10d和所述另外的外部单元230d可以借助于服务器单元234d至少部分地通过互联网控制和/或调节。借助于介质涂覆设备10d和/或另外的外部单元230d要制成的介质涂覆部的电子模型可以存储在服务器单元234d的存储器单元中。电子模型可以为了确保和/或提供用于用户36d、另外的用户236d和/或其他用户的模型存储在服务器单元234d的存储器单元中。服务器单元234d设置成用于提供电子采购区域。在电子采购区域中可以下载电子模型，订购用于介质涂覆设备10d和/或所述另外的外部单元230d的介质和/或附件，在任务中加工电子模型，在任务中打印电子模型和/或提供介质涂覆的制成。服务器单元234d设置成用于提供公共区域。公共区域设置成用于用户36d与所述另外的用户236d、介质涂覆设备10d的其他用户和/或介质涂覆设备10d的制造者通信。公共区域具有视频聊天功能、语音聊天功能和文字聊天功能。
优选地，服务器单元234d设置成用于使用在根据图19中示出的实施例的、尤其具有介质涂覆设备10d的涂覆系统20d中。但也可以考虑，服务器单元234d可以使用在根据在图5中示出的实施例的、尤其具有介质涂覆设备10a的涂覆系统20a中，使用在根据图10中示出的实施例的、尤其具有介质涂覆设备10b的涂覆系统20b中，使用在根据图14中示出的实施例的、尤其具有介质涂覆设备10c和/或根据图20中示出的实施例的介质涂覆设备10e的涂覆系统20c中。
下面描述用于运行涂覆系统20d的方法。在至少一个方法步骤中，读取介质输出单元12d的特定标志以用于识别介质输出单元12d和/或用于再建立介质输出单元12d的工作状态。在至少一个另外的方法步骤中，同时控制和/或调节介质涂覆设备10d和所述另外的外部单元230d。在至少一个另外的方法步骤中，根据控制和/或调节单元22d的特定于环境的特征参量和/或根据用户可选择的特征参量获得要制成的题材并且显示给用户36d。在至少一个另外的方法步骤中，从目标图像、尤其从目标题材提取出目标图像的外边缘以用于涂覆。在至少一个另外的方法步骤中，借助于控制和/或调节单元22d提供与所述另外的用户236d和/或商人的信息和/或商品交换。在至少一个另外的方法步骤中，基于用户36d的验证激活介质涂覆设备10d和/或控制和/或调节单元22d的操作。
关于用于运行涂覆系统20d的方法的另外的方法步骤参见之前对于涂覆系统20d的描述，因为该描述也类似地适用于所述方法并且因此关于涂覆系统20d而言的所有特征也关于运行涂覆系统20d的方法视为公开。
此外也可以考虑，参照在图15至19中示出的实施例的方法的方法步骤可以与参照另外的实施例的、尤其参照在图1至9中示出的实施例和/或在12至14中示出的实施例的方法的方法步骤组合，尤其以本领域技术人员认为有意义的顺序。
图20以立体示图示出另外的替代的介质涂覆设备10e。介质涂覆设备10e构造为手持的颜料涂覆设备。介质涂覆设备10e具有壳体38e。壳体38e由塑料形成。替代地可以设想，壳体38e由金属形成。壳体38e具有头部区域72e和接收区域74e。头部区域72e和接收区域74e一件式地构造。在头部区域42e中布置有对于介质涂覆设备10e的运行必需的构件。接收区域74e构造为一半的空心柱体。接收区域74e这样成形，使得隐含示出的、包含要涂覆的介质的容器76e在装配在介质涂覆设备10e上的状态中由接收区域74e部分地包围。容器76e构造为介质箱。介质构造为颜料介质。所述介质构造为喷漆。
壳体38e在头部区域72e上并且与接收区域74e连接地具有接合和/或固定单元78e。接合和/或固定单元78e设置用于在介质涂覆设备10e上接收容器76e。
在壳体38e的头部区域72e的上侧上布置有用户界面198e。用户界面198e设置成用于，将信息输出给介质涂覆设备10e的用户。用户界面198e与壳体38e齐平地装入到头部区域72e中。
用户界面198e至少部分地构造为光学显示设备。光学显示设备设置成用于，将光学信息输出给用户。用户界面198e至少部分地构造为显示器。用户界面198e设置成用于，将光学信息作为一系列数字、号码和/或图像输出。
用户界面198e至少部分地构造为投影仪。用户界面198e设置成用于，将光学信息投影到面上。但也可以考虑，用户界面198e构造为LED并且光学信息作为彩色光输出。
用户界面198e具有触觉显示设备238e。触觉显示设备238e构造为振动单元，该振动单元将触觉显示作为振动输出，介质涂覆设备10e的用户可以在触觉上感觉该振动。
此外，用户界面198e具有声学显示设备240e。声学显示设备240e输出声学信息，介质涂覆设备10e的用户可以在声学上感觉该声学信息。声学信息可以是声调或一系列声调、声学信号、旋律或类似物。
用户界面198e输出下列参数的至少一个参数，其中，列表不是最终的：
·介质涂覆设备10e相对于要加工的面、尤其是表面的间距，
·介质涂覆设备10e的运动速度，
·容器76e的填充高度
·颜色
关于介质涂覆设备10e相对于要加工的面的间距：
介质涂覆设备10e相对于要加工的面的间距影响介质输出的结果。因此有意义的是，持续地感测介质涂覆设备10e相对于要加工的面的间距。介质涂覆设备10e相对于要加工的面的间距的感测例如借助于激光技术或传感器技术实现。
关于介质涂覆设备10e的运动速度：
尤其对于用户使介质涂覆设备10e快于介质能够输出地运动的情况，可能出现介质输出的错位。借助于运动传感器例如感测，介质涂覆设备10e的运动速度是否适配于介质输出。
当要得知介质量对于工序是否足够时，关于容器76e的填充高度的说明对于用户是重要的。
图21以示意性剖示图示出图20中的介质涂覆设备10e。示出的是头部区域72e、接合和/或固定单元78e和接收区域74e的一部分。在壳体38e内部在接收区域74e中布置有介质涂覆设备10e的能量供给单元86e。能量供给单元86e设置成用于，为了介质涂覆设备10e的运行给介质涂覆设备10e的介质输出单元12e供应以电能。能量供给单元86e构造为蓄电池。介质输出单元12e在壳体38e内部布置在头部区域72e中。介质输出单元12e包括喷嘴单元44e和介质供应单元88e。喷嘴单元44e具有阀元件90e和喷嘴元件46e。喷嘴元件46e可旋转地支承在壳体38e中。喷嘴元件46e为了输送介质通过喷嘴单元44e的管路元件92e与阀元件90e连接。阀元件90e设置成用于，使介质在压力作用下流经喷嘴元件46e。
在介质涂覆设备10e的壳体38e内部布置有电子部件单元16e。电子部件单元16e安置在支撑元件98e上。电子部件单元16e构造为具有未进一步示出的处理器单元和未进一步示出的存储器单元的电路板。电子部件单元16e设置成用于，控制和/或调节介质输出单元12e。电子部件单元16e由能量供给单元86e供给以电能。介质涂覆设备10e包括具有位置和/或表面传感器元件100e的位置和/或表面传感器单元18e。
可以考虑，介质涂覆设备10e可以使用在根据图5中示出的实施例的、尤其具有控制和/或调节单元22a的涂覆系统20a中，使用在根据图14中示出的实施例的、尤其具有控制和/或调节单元22c的涂覆系统20c中，和/或，使用在根据图19中示出的实施例的、尤其具有控制和/或调节单元22d的涂覆系统20d中。

Claims (17)

1.介质涂覆设备、尤其是颜料涂覆设备，该介质涂覆设备具有用于将至少一个介质输出到至少一个表面(14a；14b；14c；14d)上的至少一个介质输出单元(12a；12b；12c；12d；12e)和至少用于控制和/或调节所述至少一个介质输出单元(12a；12b；12c；12d；12e)的至少一个电子部件单元(16a；16b；16c；16d；16e)，其特征在于，设有至少一个位置和/或表面传感器单元(18a；18c；18d；18e)，该位置和/或表面传感器单元设置成用于，感测所述介质输出单元(12a；12c；12d；12e)相对于所述表面(14a；14c；14d)的至少一个位置和/或定向，所述电子部件单元(16a；16c；16d；16e)根据该位置和/或定向控制和/或调节所述介质输出单元(12a；12c；12d；12e)。
2.根据权利要求1的前序部分、尤其根据权利要求1所述的介质涂覆设备，其特征在于，设有至少一个位置和/或表面传感器单元(18a)，该位置和/或表面传感器单元设置成用于，感测所述表面(14a)的至少一个特定于表面的特征参量，该特定于表面的特征参量能够由所述电子部件单元(16a)分析处理以用于确定所述介质输出单元(12a)的取向。
3.根据权利要求1或2所述的介质涂覆设备，其特征在于，设有至少一个全向的位置和/或距离传感器单元(194c)，该全向的位置和/或距离传感器单元设置成用于，根据围绕所述介质输出单元(12c)的环境的至少一个参照元件(26c、28c、30c、32c)感测所述介质输出单元(12c)相对于所述表面(14c)的至少一个位置和/或定向，所述电子部件单元(16c)根据该位置和/或定向控制和/或调节所述介质输出单元(12c)，其中，所述全向的位置和/或距离传感器单元(194c)设置成用于，同时感测围绕所述介质输出单元(12c)的环境的、尤其在围绕所述介质输出单元(12c)的不同空间方向上布置的多个参照元件(26c、28c、30c、32c)。
4.根据权利要求3所述的介质涂覆设备，其特征在于，围绕所述介质输出单元(12c)的所述环境的所述参照元件(28c)构造为用于产生至少一个电磁场的电磁场产生元件，并且所述位置和/或距离传感器单元(194c)构造为电磁传感器单元，该电磁传感器单元设置成用于，根据所述参照元件(28c)的电磁场的至少一个特征参量感测所述介质输出单元(12c)相对于所述表面(14c)的位置和/或定向，其中，所述电磁场的特征参量构造为电磁场的振幅分布和/或频率调制。
5.根据权利要求3或4中任一项所述的介质涂覆设备，其特征在于，围绕所述介质输出单元(12c)的所述环境的多个参照元件(26c)围绕至少一个涂覆区域(196c)框架形地布置在所述表面(14c)上。
6.涂覆系统，该涂覆系统具有至少一个介质涂覆设备、尤其是至少一个根据前述权利要求中任一项所述的介质涂覆设备和至少一个控制和/或调节单元(22a；22c；22d)，该介质涂覆设备具有用于将至少一个介质输出到至少一个表面(14a；14c；14d)上的至少一个介质输出单元(12a；12c；12d；12e)和至少用于控制和/或调节所述至少一个介质输出单元(12a；12c；12d；12e)的至少一个电子部件单元(16a；16c；16d；16e)，其特征在于，所述控制和/或调节单元(22a；22c；22d)具有至少一个感测设备(24a；24c；24d)，该感测设备设置成用于，根据所述介质涂覆设备的环境的至少一个参照元件(26a；26c、28a；28c、30a；30c、32a；32c)和/或根据所述介质涂覆设备的至少一个参照元件(34a；34c；34d；34e)感测所述介质涂覆设备相对于所述表面(14a；14c；14d)的至少一个位置和/或定向。
7.根据权利要求6所述的涂覆系统，其特征在于，所述介质涂覆设备的所述参照元件(34a；34c；34d；34e)构造为发射辐射的照明元件，该照明元件设置成用于发射蓝色频谱范围中的和/或对于人眼至少基本上不可见的频谱范围中的电磁辐射。
8.根据权利要求6或7所述的涂覆系统，其特征在于，所述介质涂覆设备的所述参照元件(34a；34c；34d；34e)构造为发射辐射的照明元件，该照明元件设置成用于脉冲式地发射辐射。
9.根据权利要求6至8中任一项所述的涂覆系统，其特征在于，所述介质涂覆设备的所述参照元件(34a)构造为无辐射的编码元件。
10.根据权利要求6至9中任一项所述的涂覆系统，其特征在于，所述介质涂覆设备具有至少一个参照元件产生单元(42a)，该参照元件产生单元设置成用于，产生所述介质涂覆设备的所述环境的所述参照元件(26a、28a)。
11.根据权利要求6至10中任一项所述的涂覆系统，其特征在于，所述介质输出单元(12a；12c；12d；12e)具有带着至少一个喷嘴元件(46a；46c；46d；46e)的至少一个喷嘴单元(44a；44c；44d；44e)，该喷嘴元件与所述介质涂覆设备的所述参照元件(34a；34c；34d；34e)在同一排中布置，其中，所述介质涂覆设备的所述喷嘴元件(46a；46c；46d；46e)和所述参照元件(34a；34c；34d；34e)沿着单个假想的直线布置，所述直线在所述喷嘴元件(46a；46c；46d；46e)的介质输出方向(102a)相对于所述表面(14a；14c；14d)至少基本上垂直的情况下至少基本上垂直于所述表面(14a；14c；14d)地走向。
12.根据权利要求6至11中任一项所述的涂覆系统，其特征在于，所述感测设备(24a)至少为了所述介质涂覆设备相对于所述表面(14a)的位置和/或定向感测而具有至少一个摄像机单元(48a)，该摄像机单元具有在图像分辨率为至少518.400像点时一秒至少120个图像的图像拍摄频率。
13.根据权利要求6至12中任一项所述的涂覆系统，其特征在于，所述介质涂覆设备和所述控制和/或调节单元(22a；22d)分别具有至少一个尤其无线的通信单元(58a；58d、60a；60d)以用于彼此和/或与至少一个另外的外部单元加密地交换电子数据，其中，所述通信单元(58a；58d、60a；60d)设置成用于以小于30ms的延迟时间进行数据传递。
14.根据权利要求6至13中任一项所述的涂覆系统，其特征在于，所述感测设备(24a)设置成用于感测所述介质涂覆设备相对于所述表面(14a)的位置和/或定向以用于借助于节拍同步和/或开始时间触发与所述介质涂覆设备尤其无线地同步。
15.根据权利要求6至14中任一项所述的涂覆系统，其特征在于，所述控制和/或调节单元(22c)具有至少一个计算单元，该计算单元设置成用于，基于所述感测设备(24c)的至少一个自身运动补偿对于所述介质涂覆设备的位置和/或定向感测的影响。
16.尤其根据权利要求6至15中任一项所述的涂覆系统，该涂覆系统具有至少一个介质涂覆设备、尤其是至少一个根据权利要求1至5中任一项所述的介质涂覆设备，该介质涂覆设备具有用于将至少一个介质输出到至少一个表面上的至少一个介质输出单元和至少用于控制和/或调节所述至少一个介质输出单元的至少一个电子部件单元，其特征在于，设有至少一个电子部件模块单元(172b)，该电子部件模块单元为了所述介质涂覆设备的充电之外的功能扩展能够与所述电子部件单元电子地耦合。
17.用于运行涂覆系统、尤其是根据权利要求6至16中任一项所述的涂覆系统的方法，其特征在于，感测至少一个介质涂覆设备相对于至少一个表面(14a；14c；14d；14e)的至少一个位置和/或定向和/或所述介质涂覆设备在至少一个三维空间中的至少一个绝对位置。
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