CN111381393A - 一种显示面板及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种显示面板及其制备方法,通过曝光蚀刻工艺将扇出区的第一金属层与直线区的第二金属层分开,避免扇出区的热量传递至直线区,避免扇出区的热量加速直线区的公共电极与第二金属层的第三过孔的热固化制程,进而避免公共电极与第二金属层的第三过孔发生侧壁陡峭的现象,改善公共电极的成膜连续性,提高显示面板的功能。

Description

一种显示面板及其制备方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域,具体涉及一种显示面板及其制备方法。
背景技术
显示装置可以把计算机的数据变换成各种文字、数字、符号或直观的图像显示出来,并且可以利用键盘等输入工具把命令或数据输入计算机,借助系统的硬件和软件随时增添、删改、变换显示内容。显示装置根据所用之显示器件分为等离子、液晶、发光二极管和阴极射线管等类型。
LCD(英文全称:Liquid Crystal Display,液晶显示器)。液晶显示器是以液晶材料为基本组件,在两块平行板之间填充液晶材料,通过电压来改变液晶材料内部分子的排列状况,以达到遮光和透光的目的来显示深浅不一,错落有致的图象,而且只要在两块平板间再加上三原色的滤光层,就可实现彩色图象的显示。
为实现液晶显示和触控功能的集成,在中小尺寸显示领域,一般通过将公共电极图案化,既作为液晶显示的公共电极,又作为触控功能的感应电极,通过分时作业同时驱动显示和触控功能。根据感应电极在液晶面板中的内嵌程度分为On Cell TP(英文全称:Touch Panel,触控面板)技术和In Cell TP技术。
其中,In Cell TP技术将触控功能完全内嵌到液晶像素中,因此具有整机厚度薄、显示效果优、穿透率佳等突出优点,是高端市场的首选方案。具体地,In Cell TP技术根据工作原理不同分为互电容式触控技术和自电容式触控技术。自电容式In Cell TP技术通过图形化方法将感应电极分割成棋盘排列的sensor pad,每个sensor pad通过布置一根或多根金属引线单独接出形成触控通道。一般地,金属引线层与公共电极层之间用平坦层间隔绝缘,通过在特定位置制作连接孔以实现金属引线层对特定sensor pad输入控制信号。平坦层通常为有机材料,其固化速率受温度影响。在实际制程中,由于触控面板扇出区的金属引线密度较大,吸热传导能力较强,因此在平坦层高温固化过程中,与金属引线层相连的连接孔由缓慢加热固化转化为快速加热固化,导致连接孔的侧壁固化过程中流动性降低,进而导致连接孔侧壁较为陡峭,导致公共电极在成膜时连续性较差,极易发生膜层断裂导致触控面板功能不良等现象。因此,需要寻求一种新型的显示面板以解决上述问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种显示面板,其能够解决现有的显示面板中存在的连接孔侧壁较为陡峭,公共电极在成膜时连续性较差,易发生膜层断裂导致触控面板功能不良现象等问题。
为了解决上述问题,本发明提供了一种显示面板,其包括:基板,包括扇出区和直线区;层间绝缘层,设置于所述基板上;第一金属层,设置于所述扇出区的所述层间绝缘层上;第二金属层,设置于所述直线区的所述层间绝缘层上,所述第二金属层与所述第一金属层之间设有间隙;平坦层,设置于所述第一金属层以及第二金属层上,且延伸至所述层间绝缘层上;钝化层,设置于所述平坦层上;以及第三金属层,设置于所述钝化层上,且通过第一过孔连接至所述第一金属层,通过第二过孔连接至所述第二金属层。
进一步的,其中所述显示面板还包括:缓冲层,设置于所述基板上;以及栅极绝缘层,设置于所述缓冲层上;其中,所述层间绝缘层设置于所述栅极绝缘层上。
进一步的,其中所述显示面板还包括:公共电极,其设置于所述直线区远离所述扇出区的一侧的平坦层上,且通过第三过孔连接至所述第二金属层上;其中,所述钝化层设置于所述公共电极上。
进一步的,其中所述第一金属层与所述第二金属层的材质均包括:铝、铜、银、钼中的一种或多种。
进一步的,其中所述第三金属层的材质包括:铝、铜、银、钼、氧化铟锡中的一种或多种。
为了解决上述问题,本发明还提供了一种本发明所涉及的显示面板的制备方法,其包括以下步骤:提供一基板,包括扇出区和直线区;在所述基板上表面制备层间绝缘层;在所述扇出区的所述层间绝缘层上表面制备第一金属层,在所述直线区的所述层间绝缘层上表面制备第二金属层,所述第二金属层与所述第一金属层之间设有间隙;在所述第一金属层以及第二金属层上表面制备平坦层,所述平坦层延伸至所述层间绝缘层上;在所述平坦层上表面制备钝化层;以及在所述钝化层上表面制备第三金属层,所述第三金属层通过第一过孔连接至所述第一金属层,且通过第二过孔连接至所述第二金属层。
进一步的,在所述第一金属层、所述第二金属层的制备步骤中,具体包括如下步骤:利用物理气相沉积工艺在所述层间绝缘层上制备金属层薄膜;利用曝光蚀刻工艺将金属层薄膜进行图案化处理;以及将扇出区的金属层薄膜与直线区的金属层薄膜进行断开处理。
进一步的,在所述平坦层的制备步骤中,具体包括如下步骤:在所述第一金属层、第二金属层以及层间绝缘层上涂布有机平坦层材料;使用曝光显影工艺在对应于所述第一金属层以及第二金属层的位置处分别形成第一通孔和第二通孔;以及利用快速退火炉加热使平坦层、第一通孔以及第二通孔固化成型。
进一步的,在所述钝化层的制备步骤中,具体包括:利用化学气相沉积工艺在所述平坦层、第一通孔内以及第二通孔内制备钝化层,利用曝光蚀刻工艺在对应于所述第一通孔以及第二通孔的位置处分别形成贯穿所述钝化层、所述平坦层的第一过孔和第二过孔。
进一步的,在所述第三金属层的制备步骤中,具体包括:利用物理气相沉积工艺在所述钝化层、第一过孔以及第二过孔内制备第三金属层。
本发明的优点是:本发明涉及一种显示面板及其制备方法,通过曝光蚀刻工艺将扇出区的第一金属层与直线区的第二金属层分开,避免扇出区的热量传递至直线区,避免扇出区的热量加速直线区的公共电极与第二金属层的第三过孔的热固化制程,进而避免公共电极与第二金属层的第三过孔发生侧壁陡峭的现象,改善公共电极的成膜连续性,提高显示面板的功能。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一个优选实施例,对于本领域技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实施例所述显示面板的结构示意图。
图2为本实施例所述显示面板的制备方法的步骤流程图。
图中部件标识如下:
100、显示面板 101、扇出区
102、直线区
1、基板 2、缓冲层
3、栅极绝缘层 4、层间绝缘层
5、第一金属层 6、第二金属层
7、平坦层 8、公共电极
9、钝化层 10、第三金属层
具体实施方式
以下结合说明书附图详细说明本发明的优选实施例,以向本领域中的技术人员完整介绍本发明的技术内容,以举例证明本发明可以实施,使得本发明公开的技术内容更加清楚,使得本领域的技术人员更容易理解如何实施本发明。然而本发明可以通过许多不同形式的实施例来得以体现,本发明的保护范围并非仅限于文中提到的实施例,下文实施例的说明并非用来限制本发明的范围。
本发明所提到的方向用语,例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等,仅是附图中的方向,本文所使用的方向用语是用来解释和说明本发明,而不是用来限定本发明的保护范围。
在附图中,结构相同的部件以相同数字标号表示,各处结构或功能相似的组件以相似数字标号表示。此外,为了便于理解和描述,附图所示的每一组件的尺寸和厚度是任意示出的,本发明并没有限定每个组件的尺寸和厚度。
当某些组件,被描述为“在”另一组件“上”时,所述组件可以直接置于所述另一组件上;也可以存在一中间组件,所述组件置于所述中间组件上,且所述中间组件置于另一组件上。当一个组件被描述为“安装至”或“连接至”另一组件时,二者可以理解为直接“安装”或“连接”,或者一个组件通过一中间组件“安装至”或“连接至”另一个组件。
如图1所示,本实施例提供了一种显示面板100,所述显示面板100包括:基板1、缓冲层2、栅极绝缘层3、层间绝缘层4、第一金属层5、第二金属层6、平坦层7、公共电极8、钝化层9以及第三金属层10。
其中所述基板1包括第一衬底、中间层以及第二衬底。其中所述第一衬底与所述第二衬底的组成材料可以选择聚酰亚胺,由此制成的所述第一衬底与所述第二衬底柔韧性好。其中所述中间层的组成材料可以是SiO2也可以是SiNx,还可以是SiO2与SiNx的叠层结构,由此制备的所述中间层阻水氧性能好,还可以提高第一衬底与第二衬底之间的信耐性。其中所述基板1包括扇出区101和直线区102。
其中所述缓冲层2设置于所述基板1上,主要是充当缓冲及保护作用。
其中所述栅极绝缘层3设置于所述缓冲层2上。事实上,在所述缓冲层2与所述栅极绝缘层3之间还设有有源层(图未示),在所述栅极绝缘层3上设有栅极层(图未示),所述栅极绝缘层3主要是防止有源层与栅极层之间的接触产生短路现象。
其中所述层间绝缘层4设置于所述栅极绝缘层3上。
其中所述第一金属层5设置于扇出区101的所述层间绝缘层4上;所述第二金属层6设置于直线区102的所述层间绝缘层4上,且与所述第一金属层5之间设有间隙。其中所述第一金属层5与所述第二金属层6的材质均包括:铝、铜、银、钼中的一种或多种。通过将第一金属层5与第二金属层6分开,可以有效避免扇出区101的热量传递至直线区102,从而避免扇出区101的热量加速直线区102的公共电极8与第二金属层6的第三过孔的热固化制程,进而避免公共电极与第二金属层的第三过孔发生侧壁陡峭的现象,改善公共电极8的成膜连续性,提高显示面板的功能。
其中所述平坦层7设置于所述第一金属层5以及第二金属层6上,且延伸至所述层间绝缘层4上。所述平坦层7主要是起平整作用,便于平坦层7之上的膜层的制备。
其中所述公共电极8设置于所述直线区102远离所述扇出区101的一侧的平坦层7上,且通过第三过孔连接至所述第二金属层6上;以此实现公共电极8与第二金属层6之间的信号传递。
其中所述钝化层9设置于所述公共电极8以及所述平坦层7上。
其中所述第三金属层10设置于所述钝化层9上,且通过第一过孔连接至所述第一金属层5,通过第二过孔连接至所述第二金属层6。通过第三金属层10实现第一金属层5与第二金属层6之间的电连接。其中第三金属层10的材质可以选择与第一金属层5以及第二金属层6相同的材质,也可以选择与第一金属层5以及第二金属层6不同的材质。由于显示面板100中会设置像素电极,像素电极同样具备导电功能,因此,可以通过像素电极实现第一金属层5与第二金属层之间6的连接。由于像素电极多采用氧化铟锡制备,因此第三金属层10的材质还可以包括氧化铟锡。
如图2所示,本实施例还提供前文所述的显示面板100的制备方法,其包括以下步骤:步骤S1,提供一基板1,包括扇出区101和直线区102;步骤S2,在所述基板1上表面制备缓冲层2;步骤S3,在所述缓冲层2上表面制备栅极绝缘层3;步骤S4,在所述栅极绝缘层3上表面制备层间绝缘层4;步骤S5,在所述扇出区101的所述层间绝缘层4上表面制备第一金属层5,在所述直线区102的所述层间绝缘层4上表面制备第二金属层6,所述第二金属层6与所述第一金属层5之间设有间隙;步骤S6,在所述第一金属层5以及第二金属层6上表面制备平坦层7,所述平坦层7延伸至所述层间绝缘层4上;步骤S7,在所述平坦层7上制备公共电极8,所述公共电极8通过第三过孔连接至所述第二金属层6;步骤S8,在所述平坦层7以及公共电极8上表面制备钝化层9;以及步骤S9,在所述钝化层9上表面制备第三金属层10,所述第三金属层10通过第一过孔连接至所述第一金属层5,且通过第二过孔连接至所述第二金属层2。
其中,步骤S5中包括:利用物理气相沉积工艺在所述层间绝缘层4上制备金属层薄膜;利用曝光蚀刻工艺将金属层薄膜进行图案化处理;以及将扇出区101的金属层薄膜与直线区102的金属层薄膜进行断开处理。
其中,步骤S6中包括:在所述第一金属层5、第二金属层6以及层间绝缘层4上涂布有机平坦层材料;使用曝光显影工艺在对应于所述第一金属层5以及第二金属层6的位置处分别形成第一通孔和第二通孔;以及利用快速退火炉加热使平坦层7、第一通孔以及第二通孔固化成型。
其中,步骤S8中包括:利用化学气相沉积工艺在所述平坦层7、第一通孔内以及第二通孔内制备钝化层9,利用曝光蚀刻工艺在对应于所述第一通孔以及第二通孔的位置处分别形成贯穿所述钝化层、所述平坦层的第一过孔和第二过孔。
其中,步骤S9中包括:利用物理气相沉积工艺在所述钝化层9、第一过孔以及第二过孔内制备第三金属层10。
通过上述方法制备显示面板100,将第一金属层5与第二金属层6分开,可以有效避免扇出区101的热量传递至直线区102,从而避免扇出区101的热量加速直线区102的公共电极8与第二金属层6的第三过孔的热固化制程,进而避免公共电极与第二金属层的第三过孔发生侧壁陡峭的现象,改善公共电极8的成膜连续性,提高显示面板的功能。
以上对本申请所提供的显示面板及其制备方法进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想;本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种显示面板,其特征在于,包括:
基板,包括扇出区和直线区;
层间绝缘层,设置于所述基板上;
第一金属层,设置于所述扇出区的所述层间绝缘层上;
第二金属层,设置于所述直线区的所述层间绝缘层上,所述第二金属层与所述第一金属层之间设有间隙;
平坦层,设置于所述第一金属层以及第二金属层上,且延伸至所述层间绝缘层上;
钝化层,设置于所述平坦层上;以及
第三金属层,设置于所述钝化层上,且通过第一过孔连接至所述第一金属层,通过第二过孔连接至所述第二金属层。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,还包括:
缓冲层,设置于所述基板上;以及
栅极绝缘层,设置于所述缓冲层上;
其中,所述层间绝缘层设置于所述栅极绝缘层上。
3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,还包括:
公共电极,其设置于所述直线区远离所述扇出区的一侧的平坦层上,且通过第三过孔连接至所述第二金属层上;
其中,所述钝化层设置于所述公共电极上。
4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一金属层与所述第二金属层的材质均包括:铝、铜、银、钼中的一种或多种。
5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第三金属层的材质包括:铝、铜、银、钼、氧化铟锡中的一种或多种。
6.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
提供一基板,包括扇出区和直线区;
在所述基板上表面制备层间绝缘层;
在所述扇出区的所述层间绝缘层上表面制备第一金属层,在所述直线区的所述层间绝缘层上表面制备第二金属层,所述第二金属层与所述第一金属层之间设有间隙;
在所述第一金属层以及第二金属层上表面制备平坦层,所述平坦层延伸至所述层间绝缘层上;
在所述平坦层上表面制备钝化层;以及
在所述钝化层上表面制备第三金属层,所述第三金属层通过第一过孔连接至所述第一金属层,且通过第二过孔连接至所述第二金属层。
7.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述第一金属层、所述第二金属层的制备步骤中,具体包括如下步骤:
利用物理气相沉积工艺在所述层间绝缘层上制备金属层薄膜;
利用曝光蚀刻工艺将金属层薄膜进行图案化处理;以及
将扇出区的金属层薄膜与直线区的金属层薄膜进行断开处理。
8.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述平坦层的制备步骤中,具体包括如下步骤:
在所述第一金属层、第二金属层以及层间绝缘层上涂布有机平坦层材料;
使用曝光显影工艺在对应于所述第一金属层以及第二金属层的位置处分别形成第一通孔和第二通孔;以及
利用快速退火炉加热使平坦层、第一通孔以及第二通孔固化成型。
9.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述钝化层的制备步骤中,具体包括:
利用化学气相沉积工艺在所述平坦层、第一通孔内以及第二通孔内制备钝化层,利用曝光蚀刻工艺在对应于所述第一通孔以及第二通孔的位置处分别形成贯穿所述钝化层、所述平坦层的第一过孔和第二过孔。
10.根据权利要求9所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述第三金属层的制备步骤中,具体包括:
利用物理气相沉积工艺在所述钝化层、第一过孔以及第二过孔内制备第三金属层。
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