CN111381052A - 一种自动化学分析系统 - Google Patents

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CN111381052A CN201811616871.0A CN201811616871A CN111381052A CN 111381052 A CN111381052 A CN 111381052A CN 201811616871 A CN201811616871 A CN 201811616871A CN 111381052 A CN111381052 A CN 111381052A
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张伟
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Abstract

本发明公开了一种自动化学分析系统,包括分析系统,操作系统,腐蚀系统,所述分析系统放置样品便于化学分析,样品需要腐蚀的系统下方设有操作系统,所述操作系统设有盛装混合腐蚀液的内腔结构,所述内腔结构上方靠近样品处设有喷嘴,所述内腔结构内设有泵,泵与腐蚀系统的腐蚀液盛装瓶相连接,所述腐蚀液盛装瓶设有2个,2个腐蚀液盛装瓶分别为发烟硝酸瓶和硫酸瓶,所述腐蚀系统还包括废液瓶,所述废液瓶与内腔结构通过泵连接,所述操作系统上方设有化学烟雾排放口,此系统全部化学分析工作在设备密封的状态下进行,人员安全得到保障,设备可以依据设定自动进行,不依赖于人员经验,分析成功率100%。

Description

一种自动化学分析系统
技术领域
本发明属于半导体分析领域,尤其涉及一种自动化学分析系统。
背景技术
半导体失效分析过程中,需要进行化学分析,但是海太现在全部采用人员手动操作,操作人员长期接触化学品,有安全隐患,且由于人员经验差异,分析效果不能保证。
在申请号为:CN201711472606.5,申请日为:20171229,名称为:一种半导体器件的失效分析方法及其设备的专利中,公开了一种半导体器件的失效分析方法及其设备,该方法包括以下步骤:S1:对半导体器件进行失效位置分析确认失效信息;S2:确认目标位置的观测对象包括单个对象还是多个对象;S3:如确定观测对象包括单个对象,则检测单个对象的X和Y方向边界尺寸和方向;S4:如确定观测对象包括多个对象确认观测单个对象,检测单个对象的X和Y方向边界尺寸和方向;选择对应单个对象的电路布局图,根据检测到的边界尺寸和方向,对单个对象的观测画面与其电路布局图进行匹配,使单个对象在观测画面上各个组件与其电路布局图上的位置一一对应。该方法可将观测画面的位置与实际电路布局图上的位置匹配,快速找到观测对象目标,提高了失效分析效率。
发明内容
本发明的目的就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种自动化学分析系统。
本发明的的目的可以通过以下技术方案来实现:
一种自动化学分析系统,包括分析系统,操作系统3,腐蚀系统,所述分析系统放置样品1便于化学分析,样品需要腐蚀的系统下方设有操作系统3,所述操作系统3设有盛装混合腐蚀液的内腔结构,所述内腔结构上方靠近样品处设有喷嘴31,所述内腔结构内设有泵,泵与腐蚀系统的腐蚀液盛装瓶相连接,所述腐蚀液盛装瓶设有2个,2个腐蚀液盛装瓶分别为发烟硝酸瓶4和硫酸瓶5,所述腐蚀系统还包括废液瓶6,所述废液瓶6与内腔结构通过泵连接,所述操作系统上方设有化学烟雾排放口。
优选的,样品下方设有包装膜2覆盖不需要腐蚀的样品系统。
优选的,所述操作系统3的内腔结构下方设有加热装置。
优选的,所述自动化学分析系统还包括废气处理系统,所述废气处理系统与操作系统3的化学烟雾排放口连接。
更优选的,所述废气处理系统上方设置通风罩。
更优选的,所述废气处理系统包括水槽7,所述水槽7连接在操作系统3的化学烟雾排放口。
更优选的,所述水槽7里装有去离子水。
本发明的有益效果:
1.全部化学分析工作在设备密封的状态下进行,人员安全得到保障
2.设备可以依据设定自动进行,不依赖于人员经验,分析成功率100%。
附图说明
图1为一种自动化学分析系统的结构示意图。
具体实施方式
结合附图所示,本发明的技术方案作进一步的描述:
一种自动化学分析系统,包括分析系统,操作系统3,腐蚀系统,所述分析系统放置样品1便于化学分析,样品需要腐蚀的系统下方设有操作系统3,所述操作系统3设有盛装混合腐蚀液的内腔结构,所述内腔结构上方靠近样品处设有喷嘴31,所述内腔结构内设有泵,泵与腐蚀系统的腐蚀液盛装瓶相连接,所述腐蚀液盛装瓶设有2个,2个腐蚀液盛装瓶分别为发烟硝酸瓶4和硫酸瓶5,所述腐蚀系统还包括废液瓶6,所述废液瓶6与内腔结构通过泵连接,所述操作系统上方设有化学烟雾排放口。
本实施例中,优选的,样品下方设有包装膜2覆盖不需要腐蚀的样品系统。
本实施例中,优选的,所述操作系统3的内腔结构下方设有加热装置。
本实施例中,优选的,所述自动化学分析系统还包括废气处理系统,所述废气处理系统与操作系统3的化学烟雾排放口连接。
本实施例中,优选的,所述废气处理系统上方设置通风罩。
本实施例中,优选的,所述废气处理系统包括水槽7,所述水槽7连接在操作系统3的化学烟雾排放口。
本实施例中,优选的,所述水槽7里装有去离子水。
自动化学系统的操作流程
1.将样品放在分析系统上,利用包装膜2将不需要腐蚀的系统覆盖保护起来,需要腐蚀的系统裸露在外面。
2.操作系统3的内腔结构设有有酸泵和加热装置,酸泵自动抽取腐蚀液盛装瓶中的发烟硝酸和硫酸,加热至一定温度后喷向样品,进行腐蚀(密封环境中系统自动进行)。
3.腐蚀结束后,设备自动抽水对样品清洗,并将废酸混合后排入废酸瓶。
4.将样品取出进行观察。
使用的是发烟硝酸,有部分挥发气体,利用去离子水进行中和,排放至通风柜,利用通风柜吸力吸走。
最后应说明的是:以上实施例仅用以说明而非限制本发明的技术方案,尽管参照上述实施例对本发明进行了详细说明,本领域的普通技术人员应当理解:依然可以对本发明进行修改或者等同替换,而不脱离本发明的精神和范围,而所附权利要求意在涵盖落入本发明精神和范围中的这些修改或者等同替换。

Claims (7)

1.一种自动化学分析系统,其特征在于:包括分析系统,操作系统(3),腐蚀系统,所述分析系统放置样品(1)便于化学分析,样品需要腐蚀的系统下方设有操作系统(3),所述操作系统(3)设有盛装混合腐蚀液的内腔结构,所述内腔结构上方靠近样品处设有喷嘴(31),所述内腔结构内设有泵,泵与腐蚀系统的腐蚀液盛装瓶相连接,所述腐蚀液盛装瓶设有2个,2个腐蚀液盛装瓶分别为发烟硝酸瓶(4)和硫酸瓶(5),所述腐蚀系统还包括废液瓶(6),所述废液瓶(6)与内腔结构通过泵连接,所述操作系统上方设有化学烟雾排放口。
2.如权利要求1所述的自动化学分析系统,其特征在于:样品下方设有包装膜(2)覆盖不需要腐蚀的样品系统。
3.如权利要求1所述的自动化学分析系统,其特征在于:所述操作系统(3)的内腔结构下方设有加热装置。
4.如权利要求1所述的自动化学分析系统,其特征在于:所述自动化学分析系统还包括废气处理系统,所述废气处理系统与操作系统(3)的化学烟雾排放口连接。
5.如权利要求4所述的自动化学分析系统,其特征在于:所述废气处理系统上方设置通风罩。
6.如权利要求5所述的自动化学分析系统,其特征在于:所述废气处理系统包括水槽(7),所述水槽(7)连接在操作系统(3)的化学烟雾排放口。
7.如权利要求6所述的自动化学分析系统,其特征在于:所述水槽(7)里装有去离子水。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102212824A (zh) * 2010-04-09 2011-10-12 中国科学院微电子研究所 一种单侧硅片湿法腐蚀设备
CN105118797A (zh) * 2015-08-20 2015-12-02 上海华力微电子有限公司 一种栅氧化层缺陷的分析方法

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