CN111349903B - 用于提升靶材利用率的导磁板 - Google Patents
用于提升靶材利用率的导磁板 Download PDFInfo
- Publication number
- CN111349903B CN111349903B CN202010381305.7A CN202010381305A CN111349903B CN 111349903 B CN111349903 B CN 111349903B CN 202010381305 A CN202010381305 A CN 202010381305A CN 111349903 B CN111349903 B CN 111349903B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- target
- magnetic
- magnetic steel
- magnetic conduction
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明公开了用于提升靶材利用率的导磁板,包括靶材溅射结构和动力弹性机构;所述靶材溅射结构包括靶材溅射结构顶部设置的导磁板以及底部设置的磁钢体;驱动装置驱动伸缩杆带动导磁板在水平面内往复滑动;所述动力弹性机构推拉磁钢体在水平面方向上往复滑移;竖向上多个磁钢体之间的中心和所述导磁板的中心之间相对交错运动。本发明提供用于提升靶材利用率的导磁板,能有效的增大靶材的利用率,降低生产和保养的成本。
Description
技术领域
本发明涉及溅射靶材领域,尤其涉及提升靶材利用率的导磁板。
背景技术
靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料,用于高能激光武器中,不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时,会产生不同的杀伤破坏效应。而现有技术中镀膜线平面阴极靶材利用率低,残靶比重大,生产周期短;并且在LOW-E玻璃生产过程中平面阴极靶材的刻蚀槽为“V”字型,造成靶材利用率低,限制了生产周期,增加了生产成本和保养成本。
发明内容
发明目的:为了克服现有技术中存在的不足,本发明提供用于提升靶材利用率的导磁板,能有效的增大靶材的利用率,降低生产和保养的成本。
技术方案:为实现上述目的,本发明的技术方案如下:
用于提升靶材利用率的导磁板,包括靶材溅射结构和动力弹性机构;所述靶材溅射结构包括靶材溅射结构顶部设置的导磁板以及底部设置的磁钢体;驱动装置驱动伸缩杆带动导磁板在水平面内往复滑动;所述动力弹性机构推拉磁钢体在水平面方向上往复滑移;竖向上多个磁钢体之间的中心和所述导磁板的中心之间相对交错运动。
进一步的,所述靶材溅射结构还包括靶材和铜背板;所述靶材溅射结构顶端设置所述靶材;所述靶材下端固设铜背板;所述铜背板上端内部挖设有多个对称的滑动槽;所述导磁板嵌合设置在滑动槽内,且所述滑动槽上下面与导磁板之间垫设有石墨箔垫片;所述导磁板远离铜背板中心的一侧固定连接伸缩杆;所述驱动装置驱动伸缩杆带动导磁板在滑动槽内往复滑动。
进一步的,若干所述磁钢体的下端固设有滑动块,所述磁钢体的上端支托接触铜背板。
进一步的,所述动力弹性机构包括固定槽、动力机构和弹簧体;所述固定槽为上端敞开的箱体结构;所述滑动块与磁钢体设置于固定槽内;所述固定槽内壁与弹簧体的一端固定连接;所述弹簧体的另一端固设有隔片;所述隔片远离弹簧体的一侧与磁钢体贴合;所述固定槽内与弹簧体相对的一侧设置动力机构;所述动力机构与弹簧体相互配合推拉滑动块与磁钢体在固定槽内滑动。
进一步的,所述动力机构包括移动板和连接柱;所述移动板设置于固定槽内;所述移动板的一侧与磁钢体的一侧面相接触碰撞,且接触端面上布置夹设有若干弹性块;所述移动板的另一侧与连接柱的一端固定连接;伸缩动力装置与连接柱的另一端驱动连接;所述伸缩动力装置驱动连接柱带动移动板推挤磁钢体和滑动块。
进一步的,多组所述驱动装置对称布置于靶材两端,且固设于固定槽上端。
有益效果:本发明的用于提升靶材利用率的导磁板能有效增加靶材刻蚀的范围,提升靶材利用率的效果;包括但不限于以下技术效果:
1)通过将导磁板设置在铜背板和靶材之间的位置上,减低了靶材刻蚀位置处水平磁场中部的强度,起到了均磁的作用,减弱了刻蚀的程度,降低了生产的成本;
2)导磁板和磁钢体之间相互交错的移动,改变了靶材的刻蚀位置,增加了刻蚀的范围,提高了靶材的利用率,降低了保养的成本。
附图说明
附图1为本发明的结构截面图;
附图2为导磁板截面图;
附图3为动力机构截面图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作更进一步的说明。
如附图1-3:用于提升靶材利用率的导磁板,包括靶材溅射结构1和动力弹性机构2;所述靶材溅射结构1包括靶材溅射结构1顶部设置的导磁板11以及底部设置的磁钢体12;驱动装置驱动伸缩杆3带动导磁板11在水平面内往复滑动;所述动力弹性机构2推拉磁钢体12在水平面方向上往复滑移;竖向上多个磁钢体12之间的中心和所述导磁板11的中心之间相对交错运动。两个磁钢体12的上端之间存在磁场,这个磁场水平方向上的水平磁场的磁力线在横向溅射区域内中部呈下凹分部,因为水平磁场中部的磁性强,所以水平磁场的磁力线中部下凹;将导磁板11置于这个磁场之中,导磁板11减弱了水平磁场中部的磁通量,进而减弱了水平磁场的强度,达到均磁的效果;磁钢体12和导磁板11分别在动力弹性机构2和驱动装置的作用下相互交错移动,在移动过程中,水平磁场也跟随在水平方向上移动,进而均磁的位置也在变化,均磁的范围也增加了,最终扩大了磁场的溅射范围。
所述靶材溅射结构1还包括靶材13和铜背板14;所述靶材溅射结构1顶端设置所述靶材13;所述靶材13下端固设铜背板14;所述铜背板14上端内部挖设有多个对称的滑动槽141;所述导磁板11嵌合设置在滑动槽141内,且所述滑动槽141上下面与导磁板11之间垫设有石墨箔垫片142具有隔热保护的作用;所述导磁板11远离铜背板14中心的一侧固定连接伸缩杆3;所述驱动装置驱动伸缩杆3带动导磁板11在滑动槽141内往复滑动;驱动装置驱动伸缩杆3伸长回缩,从而推拉导磁板11在滑动槽141内滑动。当靶材13和铜背板14处于磁场之中,磁场磁力引导粒子冲击到靶材13上,由于水平磁场中部的磁性强,所以靶材13上位于水平磁场中部的地方受到的冲击多,因此靶材13上受冲击多的地方消耗严重,遭受的刻蚀程度大,滑动槽141内设置导磁板11,起到均磁的作用,减弱了水平磁场中部的磁性,进而减小了粒子冲击,减弱了刻蚀程度,动力弹性机构2带动磁钢体12往复移动,改变了水平磁场中部粒子在靶材13上刻蚀的位置,动力机构驱动伸缩杆3带动导磁板11在滑动槽141内移动,且导磁板11在移动方向的两端不超过水平磁场的中部,且导磁板13和磁钢体12的移动距离不同,因而水平磁场中部粒子在靶材13上刻蚀位置的程度也不同,进而增加了刻蚀的范围,增加了靶材13的利用率。
若干所述磁钢体12的下端固设有滑动块121,所述磁钢体12的上端支托接触铜背板14。若干磁钢体12固定设置在滑动块121上,这样设计能使多个磁钢体12同步移动,同时也能保证产生的磁场只在靶材13上的水平位置上发生改变,增加稳定性,磁钢体12上端面与铜背板14的底面相接触,并且磁钢体12的上端在铜背板14的底面上滑动,这样设计能使磁钢体12产生的水平磁场的中部处于靶材13上不同位置处,就能刻蚀多个位置,提高靶材利用率。
所述动力弹性机构2包括固定槽21、动力机构22和弹簧体23;所述固定槽21为上端敞开的箱体结构;所述滑动块121与磁钢体12设置于固定槽21内;所述固定槽21内壁与弹簧体23的一端固定连接;所述弹簧体23的另一端固设有隔片24,增加弹簧体23对磁钢体12的受力面积;所述隔片24远离弹簧体23的一侧与磁钢体12贴合,当动力机构22推着磁钢体12靠近隔片24时,是贴合的;所述固定槽21内与弹簧体23相对的一侧设置动力机构22;所述动力机构22与弹簧体23相互配合推拉滑动块121与磁钢体12在固定槽21内滑动。动力机构22朝弹簧体23方向推动滑动块121和磁钢体12,弹簧体23收缩;当动力机构22回收时,弹簧体23伸长顶动隔片24推动滑动块121和磁钢体12滑动,从而达到改变磁场位置的效果,增大了刻蚀靶材13的范围,进而提升了靶材的利用率。
所述动力机构22包括移动板221和连接柱222;所述移动板221设置于固定槽21内;所述移动板221的一侧与磁钢体12的一侧面相接触碰撞,且接触端面上布置夹设有若干弹性块223,减缓接触时的冲击力,保护磁钢体12;所述移动板221的另一侧与连接柱222的一端固定连接;伸缩动力装置与连接柱222的另一端驱动连接;所述伸缩动力装置驱动连接柱222带动移动板221推挤磁钢体12和滑动块121,磁钢体12和滑动块121在固定槽21内朝向隔板24滑动并挤压,弹簧体23收缩;伸缩动力装置拉回移动板221时,弹簧体23伸长顶动磁钢体12和活动块121在固定槽21内滑动;这样往复循环就能达到磁钢体12和活动块121在水平方向上的往复滑动,从而实现改变磁场位置的效果,就能增大靶材13上刻蚀的范围,提高靶材利用率。
多组所述驱动装置对称布置于靶材13两端,且固设于固定槽21上端。驱动装置驱动伸缩杆3带动导磁板11在滑动槽141内移动;导磁板11能够降低水平磁场中部的磁性,从而达到均磁的效果,这样就能减小靶材13上处于水平磁场中部位置的刻蚀程度;当磁场位置移动时,即水平磁场中部的位置移动,导磁板11也是在移动的,但导磁板11始终没有脱离水平磁场中部的位置,也存在水平磁场中部两侧的磁场强度不同,所以靶材13上刻蚀的程度也不同,磁场强的位置刻蚀得就多一点,实际上是增加了靶材13的利用率。
动力弹性机构2促使磁钢体12在水平方向运动,改变磁场在靶材13上的位置,即水平磁场中部下凹的位置就对应在靶材13上的不同位置,因而刻蚀的位置也就增多了,从而提高了靶材13的利用率;驱动装置促使导磁板11在水平方向上运动,而导磁板11能够减弱水平磁场中部的磁场强度,达到均磁的效果,减弱了靶材13上刻蚀的程度,这需要改变导磁板11的宽度或者磁钢体12的高度和宽度来做出判断,需要在靶材13上刻蚀多深;导磁板11和磁钢体12在竖向上呈相对交错的运动,当运动到导磁板11的中心和磁钢体12的中心之间的距离最远时的极端情况下,水平磁场中部两侧的磁场强度不同,靶材13上被刻蚀的程度也不同,也就是说靶材13上被刻蚀的深浅不同,实际上是增加了靶材的利用率的。
上述描述是本发明的优选实施例,对于本领域普通技术人员而言,不脱离本发明的原理还可以做出若干改进和修饰,这些改进和修饰还视为本发明的保护范围。
Claims (1)
1.用于提升靶材利用率的导磁板,其特征在于:包括靶材溅射结构(1)和动力弹性机构(2);所述靶材溅射结构(1)包括靶材溅射结构(1)顶部设置的导磁板(11)以及底部设置的磁钢体(12);驱动装置驱动伸缩杆(3)带动导磁板(11)在水平面内往复滑动;所述动力弹性机构(2)推拉磁钢体(12)在水平面方向上往复滑移;竖向上多个磁钢体(12)之间的中心和所述导磁板(11)的中心之间相对交错运动;
所述靶材溅射结构(1)还包括靶材(13)和铜背板(14);所述靶材溅射结构(1)顶端设置所述靶材(13);所述靶材(13)下端固设铜背板(14);所述铜背板(14)上端内部挖设有多个对称的滑动槽(141);所述导磁板(11)嵌合设置在滑动槽(141)内,且所述滑动槽(141)上下面与导磁板(11)之间垫设有石墨箔垫片(142);所述导磁板(11)远离铜背板(14)中心的一侧固定连接伸缩杆(3);所述驱动装置驱动伸缩杆(3)带动导磁板(11)在滑动槽(141)内往复滑动;
若干所述磁钢体(12)的下端固设有滑动块(121),所述磁钢体(12)的上端支托接触铜背板(14);
所述动力弹性机构(2)包括固定槽(21)、动力机构(22)和弹簧体(23);所述固定槽(21)为上端敞开的箱体结构;所述滑动块(121)与磁钢体(12)设置于固定槽(21)内;所述固定槽(21)内壁与弹簧体(23)的一端固定连接;所述弹簧体(23)的另一端固设有隔片(24);所述隔片(24)远离弹簧体(23)的一侧与磁钢体(12)贴合;所述固定槽(21)内与弹簧体(23)相对的一侧设置动力机构(22);所述动力机构(22)与弹簧体(23)相互配合推拉滑动块(121)与磁钢体(12)在固定槽(21)内滑动;
所述动力机构(22)包括移动板(221)和连接柱(222);所述移动板(221)设置于固定槽(21)内;所述移动板(221)的一侧与磁钢体(12)的一侧面相接触碰撞,且接触端面上布置夹设有若干弹性块(223);所述移动板(221)的另一侧与连接柱(222)的一端固定连接;伸缩动力装置与连接柱(222)的另一端驱动连接;所述伸缩动力装置驱动连接柱(222)带动移动板(221)推挤磁钢体(12)和滑动块(121);
多组所述驱动装置对称布置于靶材(13)两端,且固设于固定槽(21)上端。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202010381305.7A CN111349903B (zh) | 2020-05-08 | 2020-05-08 | 用于提升靶材利用率的导磁板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202010381305.7A CN111349903B (zh) | 2020-05-08 | 2020-05-08 | 用于提升靶材利用率的导磁板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN111349903A CN111349903A (zh) | 2020-06-30 |
CN111349903B true CN111349903B (zh) | 2023-09-05 |
Family
ID=71196634
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202010381305.7A Active CN111349903B (zh) | 2020-05-08 | 2020-05-08 | 用于提升靶材利用率的导磁板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN111349903B (zh) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116445874B (zh) * | 2023-05-09 | 2023-09-05 | 宁波招宝磁业有限公司 | 一种用于钕铁硼磁体的磁控溅射靶装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008127602A (ja) * | 2006-11-17 | 2008-06-05 | Ulvac Japan Ltd | マグネトロンスパッタ電極及びマグネトロンスパッタ電極を備えたスパッタリング装置 |
CN201924073U (zh) * | 2010-12-30 | 2011-08-10 | 河北东旭投资集团有限公司 | 一种平面矩形磁控溅射靶装置 |
CN105734516A (zh) * | 2016-05-04 | 2016-07-06 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种磁控溅射用的靶背板及磁控溅射装置 |
CN208151473U (zh) * | 2018-01-25 | 2018-11-27 | 张家港市铭斯特光电科技有限公司 | 一种磁场可调的磁控溅射装置 |
CN213086093U (zh) * | 2020-05-08 | 2021-04-30 | 台玻太仓工程玻璃有限公司 | 一种提升靶材利用率的导磁板 |
-
2020
- 2020-05-08 CN CN202010381305.7A patent/CN111349903B/zh active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008127602A (ja) * | 2006-11-17 | 2008-06-05 | Ulvac Japan Ltd | マグネトロンスパッタ電極及びマグネトロンスパッタ電極を備えたスパッタリング装置 |
CN201924073U (zh) * | 2010-12-30 | 2011-08-10 | 河北东旭投资集团有限公司 | 一种平面矩形磁控溅射靶装置 |
CN105734516A (zh) * | 2016-05-04 | 2016-07-06 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种磁控溅射用的靶背板及磁控溅射装置 |
CN208151473U (zh) * | 2018-01-25 | 2018-11-27 | 张家港市铭斯特光电科技有限公司 | 一种磁场可调的磁控溅射装置 |
CN213086093U (zh) * | 2020-05-08 | 2021-04-30 | 台玻太仓工程玻璃有限公司 | 一种提升靶材利用率的导磁板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN111349903A (zh) | 2020-06-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN111349903B (zh) | 用于提升靶材利用率的导磁板 | |
CN213086093U (zh) | 一种提升靶材利用率的导磁板 | |
CN209454330U (zh) | 一种新型压合机 | |
CN109591737A (zh) | 一种汽车防撞横梁总成 | |
CN111884412A (zh) | 一种带减震重力压铸电机固定架 | |
CN202155461U (zh) | 四锤头锻造单元及锻造机 | |
CN105436278A (zh) | 一种用于生产制冷冲压件的冲压机 | |
CN203021645U (zh) | 一种移动磁场平面溅射靶 | |
CN111342699B (zh) | 一种基于动态磁力耦合的驰振能量收集装置 | |
CN216707367U (zh) | 一种磁控溅射磁铁装配工装 | |
CN114976430B (zh) | 一种电池包下箱体 | |
CN212350809U (zh) | 一种具有限位结构的激光切割机横梁 | |
CN201069687Y (zh) | 双推电磁铁的减震机构 | |
CN214108503U (zh) | 一种高精密五金件加工用冲压模具 | |
US7000537B2 (en) | Press and machine tool | |
CN204375682U (zh) | 一种塑壳断路器中的灭弧室结构 | |
CN210415414U (zh) | 一种抱闸组件 | |
CN209156888U (zh) | 一种用于多角度侧冲孔、侧修边加工的模具 | |
CN209324901U (zh) | 一种具有缓冲功能的可调式刹车保险装置 | |
CN219499880U (zh) | 一种环保型功率放大器 | |
CN203910685U (zh) | 一种微机械rf开关 | |
CN217533909U (zh) | 一种高效缓冲吸能的活动挡板装置 | |
CN210156785U (zh) | 一种轨道交通抗冲击电气控制柜 | |
CN216412899U (zh) | 一种强电流大开距电气件开闭器 | |
CN216253618U (zh) | 一种防冲击的炖锅电路板结构 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |