CN111349888A - 一种金属掩膜板 - Google Patents

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谢毅
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Abstract

本申请涉及显示器件技术领域，公开了一种金属掩膜板，包括：遮光板和掩膜板框架，掩膜板框架包括多个依次首尾相连的边框，其中，至少一部分边框背离边框围设区域的一侧设有用于避让搬运卡夹上设有的限位块的凹陷部。本申请公开的金属掩膜板，通过在掩膜板框架的边框上设置凹陷部以增加金属掩膜板与限位块之间的距离，从而避免金属掩膜板与限位块之间产生摩擦，进而有效确保金属掩膜板在使用过程中不会因摩擦而对生产的产品造成不良影响，确保了产品品质。

Description

一种金属掩膜板
技术领域
本申请涉及显示器件技术领域，特别涉及一种金属掩膜板。
背景技术
金属掩膜板在使用过程中，掩膜板自准备好到使用再到下一次准备好，会经历多个搬送过程(以G6H蒸镀机为例，掩膜板的使用会经过清洗机台——CST(搬运卡夹)、CST——检修机台、CST——储存室、CST——蒸镀机四个双向搬送过程)由于CST PIN(限位块)与Mask(掩膜板)的设计不合理，各机台搬送方式、搬送精度不同，CST PIN与Mask之间有摩擦发生。
发明内容
本申请提供一种金属掩膜板，能够有效解决掩膜板在搬运过程中产生摩擦的技术问题。
为了达到上述目的，本申请提供了一种金属掩膜板，包括：
遮光板和掩膜板框架，所述掩膜板框架包括多个依次首尾相连的边框，其中，至少一部分所述边框背离所述边框围设区域的一侧设有用于避让搬运卡夹上设有的限位块的凹陷部。
上述金属掩膜板，由于在掩膜板框架的边框上设置了凹陷部，当金属掩膜板处于搬运过程中时，凹陷部能够增加金属掩膜板与用于承载金属掩膜板的搬运卡夹上设置的限位块之间的距离，从而避免金属掩膜板与限位块之间产生摩擦，从而有效确保金属掩膜板在使用过程中不会因摩擦而对生产的产品造成不良影响，确保了产品品质。
此外，上述金属掩膜板还有效确保了在使用过程中不会因摩擦产生的粒子对金属掩膜板自身造成的不良影响，既降低了金属掩膜板的清洗次数，减少对清洗药液的污染，延长了药液和药液过滤器的使用寿命，也减少了对金属掩膜板的修复工序。
因此，本发明提供的金属掩膜板通过设置凹陷部以调节掩膜板与限位块之间的间距，从而有效解决了金属掩膜板与限位块之间存在摩擦的技术问题，从而确保了金属掩膜板自身的产品品质以及生产的产品品质。
优选地，所述掩膜板框架的每一个边框均设有所述凹陷部。
优选地，至少一部分所述边框设置的凹陷部包括与所述搬运卡夹上设有的限位块一一对应的凹槽。
优选地，所述掩膜板框架包括两个相对设置的长边框和两个相对设置的短边框，所述搬运卡夹与所述长边框对应的侧边设有多个第一限位块，且与所述短边框对应的侧边设有多个第二限位块，其中，每一个所述长边框设有多个所述凹槽，每一个所述短边框设有多个所述凹槽。
优选地，每一个所述长边框上设有的凹槽沿所述掩膜板框架高度方向的尺寸与所述掩膜板框架的高度相同，和/或，每一个所述短边框上设有的凹槽沿所述掩膜板框架高度方向的尺寸与所述掩膜板框架的高度相同。
优选地，当所述长边框设有的凹槽和所述短边框设有的凹槽沿所述掩膜板框架高度方向的尺寸与所述掩膜板框架的高度均相同时，满足：
沿长边框方向：Amax＜C1+A1＜Bmin，L1＞C2+A2，L2＞C2+A2；
沿短边框方向：Amax＜C2+A2＜Bmin，L3＞C1+A1，L4＞C1+A1；
其中，上述公式中：Amax为各限位块与掩膜板之间不产生摩擦间距的最大值，Bmin为各机台能吸收的限位块与掩膜板之间的最大间距的最小值，C1为长边框上凹槽的深度，A1为第一限位块与掩膜板之间的间距，C2为短边框上凹槽的深度，A2为第二限位块与掩膜板之间的间距，L1为第一限位块左端到长边框上凹槽左端的间距，L2为第一限位块右端到长边框上凹槽右端的间距，L3为第二限位块左端到短边框上凹槽左端的间距，L4为第二限位块右端到短边框上凹槽右端的间距。
优选地，每一个所述长边框设有的凹槽的顶端低于所述掩膜板框架的顶端，和/或，每一个所述短边框设有的凹槽的顶端低于所述掩膜板框架的顶端。
优选地，当所述长边框设有的凹槽和所述短边框设有的凹槽的顶端均低于所述掩膜板框架的顶端时，满足：
沿长边框方向：Amax＜C1+A1＜Bmin，H1＞H2，L1＞C2+A2，L2＞C2+A2；
沿短边框方向：Amax＜C2+A2＜Bmin，H3＞H4，L3＞C1+A1，L4＞C1+A1；
其中，上述公式中：Amax为各限位块与掩膜板之间不产生摩擦间距的最大值，Bmin为各机台能吸收的限位块与掩膜板之间的最大间距的最小值，C1为长边框上凹槽的深度，A1为第一限位块与掩膜板之间的间距，C2为短边框上凹槽的深度，A2为第二限位块与掩膜板之间的间距，H1为长边框上凹槽的高度，H2为第一限位块顶端到掩膜板框架底端的高度，L1为第一限位块左端到长边框上凹槽左端的间距，L2为第一限位块右端到长边框上凹槽右端的间距，H3为短边框上凹槽的高度，H4为第二限位块顶端到掩膜板框架底端的高度，L3为第二限位块左端到短边框上凹槽左端的间距，L4为第二限位块右端到短边框上凹槽右端的间距。
优选地，所述掩膜板框架的边框的底部与所述搬运卡夹上设有的限位块一一对应的部位设有倒角结构以形成所述凹槽。
优选地，所述掩膜板框架的边框的底部设有绕所述掩膜板框架一周的倒角结构以避让所述搬运卡夹上设有的限位块。
附图说明
图1为本申请中金属掩膜板与搬运卡夹的一种结构示意图；
图2为本申请中金属掩膜板的结构示意图；
图3a-图3b为本申请中第一限位块与对应的凹槽的一种结构示意图；
图3c-图3e为本申请中第二限位块与对应的凹槽的一种结构示意图；
图4a-图4b为本申请中第一限位块与对应的凹槽的一种结构示意图；
图4c-图4e为本申请中第二限位块与对应的凹槽的一种结构示意图；
图5为本申请中金属掩膜板与搬运卡夹的一种结构示意图。
图中：
1-金属掩膜板；11-遮光板；12-掩膜板框架；13-凹槽；2-搬运卡夹；21-第一限位块；22-第二限位块。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
金属掩膜板在使用过程中，掩膜板自准备好到使用再到下一次准备好，会经历多个搬送过程。根据每一次搬送时机台的搬送能力计算：1、各机台的限位块与金属掩膜板之间不产生摩擦间距A，各机台能吸收的限位块与金属掩膜板之间的最大间距B，则限位块与金属掩膜板之间不产生摩擦间距范围为Amax-Bmin。
请参考图1及图2，本发明提供了一种金属掩膜板1，包括：遮光板11和掩膜板框架12，掩膜板框架12包括多个依次首尾相连的边框以形成内部中空的空间，其中，至少一部分边框背离该空间的一侧设有用于避让搬运卡夹2上设有的限位块的凹陷部。
上述金属掩膜板1，由于在边框朝向限位块的一侧设置了凹陷部，能够增加金属掩膜板1与限位块之间的距离，从而有效避免金属掩膜板1在搬运过程中与限位块之间产生摩擦，从而有效确保金属掩膜板1在使用过程中不会因摩擦而对生产的产品造成不良影响，确保了产品品质。
此外，上述金属掩膜板1还有效确保了在使用过程中不会因摩擦产生的粒子对金属掩膜板1自身造成的不良影响，既降低了金属掩膜板1的清洗次数，减少对清洗药液的污染，延长了药液和药液过滤器的使用寿命，也减少了对金属掩膜板1的修复工序。
因此，本发明提供的金属掩膜板1通过设置凹陷部以调节掩膜板与限位块之间的间距，从而有效解决了金属掩膜板1与限位块之间存在摩擦的技术问题，从而确保了金属掩膜板1自身的产品品质以及生产的产品品质。
一种可选的方案中，本发明实施例提供的金属掩膜板1的每一个边框均设置凹陷部，由于搬运卡夹2的每一个侧边都设置有限位块，因此，在金属掩膜板1的每一个边框设置凹陷部，可以有效避免金属掩膜板1的每一个边框与搬运卡夹2之间产生摩擦，进一步降低因摩擦对掩膜板自身造成的不良影响。
一种可选的方案中，上述金属掩膜板1的至少一部分边框设置的凹陷部可以是与搬运卡夹2上设有的限位块一一对应的凹槽13，在边框与限位块对应的部位形成凹槽13，既可有效避免在搬运过程中金属掩膜板1与限位块之间产生摩擦，且对掩膜板框架12自身结构没有很大影响。
上述凹槽13可以是通槽，也可以是非通槽；可以是直角槽，也可以是其它形状槽，以下以凹槽13为方形槽为例来说明。
一种可选的方案中，参考图1，本发明实施例中的掩膜板框架12包括两个相对设置的长边框和像个相对设置的短边框，搬运卡夹2与长边框对应的侧边设有多个第一限位块21，且与短边框对应的侧边设有多个第二限位块22，每一个长边框上设有与第一限位块21一一对应的凹槽13，且每一个短边框上设有与第二限位块22一一对应的凹槽13。通过设置与搬运卡夹2上设有的第一限位块21和第二限位块22一一对应的凹槽13，可有效避免在搬运过程中金属掩膜板1与搬运卡夹2之间产生摩擦。
进一步地，可参考图3a-图3e，上述长边框上设有的凹槽13沿掩膜板框架12高度方向的尺寸与掩膜板框架12自身高度相同，和/或，每一个短边框上设有的凹槽13沿掩膜板框架12高度方向的尺寸与掩膜板框架12自身的高度相同，上述凹槽13由于高度与掩膜板框架12高度一致，可方便对掩膜板框架12开槽，便于实施。
进一步地，当长边框设有的凹槽13与短边框设有的凹槽13沿掩膜板框架12高度方向均与掩膜板框架12的高度相同时，满足：
沿长边框方向：Amax＜C1+A1＜Bmin，L1＞C2+A2，L2＞C2+A2；
沿短边框方向：Amax＜C2+A2＜Bmin，L3＞C1+A1，L4＞C1+A1；
上述公式中：Amax为各限位块与掩膜板之间不产生摩擦间距的最大值，Bmin为各机台能吸收的限位块与掩膜板之间的最大间距的最小值，C1为长边框上凹槽的深度，A1为第一限位块与掩膜板之间的间距，C2为短边框上凹槽的深度，A2为第二限位块与掩膜板之间的间距，L1为第一限位块左端到长边框上凹槽13左端的间距，L2为第一限位块21右端到长边框上凹槽右端的间距，L4为第二限位块22右端到短边框上凹槽右端的间距。
以长边框为例，在凹槽13的深度方向上，凹槽13的深度加上第一限位块21与掩膜板之间的距离需满足不产生摩擦的要求，且第一限位块21的左右两端分别到凹槽13的左右两端的间距大于第二限位块22到掩膜板的距离加上第二限位块22对应的凹槽13的深度，由于在搬运过程中，金属掩膜板1也会左右晃动，通过上述限定，还能防止金属掩膜板1因左右晃动而产生的摩擦。同理，第二限位块22也是如此。
一种可选的方案中，可参考图4a-图4e，上述每一个长边框上设有的凹槽13的顶端低于掩膜板框架12的顶端，和/或，每一个短边框设有的凹槽13的顶端低于掩膜板框架12的顶端，也可有效避免金属掩膜板1与搬运卡夹2之间产生摩擦。
进一步地，当上述长边框设有的凹槽13和短边框设有的凹槽13的顶端均低于掩膜板框架12的顶端时，满足：
沿长边框方向：Amax＜C1+A1＜Bmin，H1＞H2，L1＞C2+A2，L2＞C2+A2；
沿短边框方向：Amax＜C2+A2＜Bmin，H3＞H4，L3＞C1+A1，L4＞C1+A1；
上述公式中：Amax为各限位块与掩膜板之间不产生摩擦间距的最大值Bmin为各机台能吸收的限位块与掩膜板之间的最大间距的最小值，C1为长边框上凹槽的深度，A1为第一限位块与掩膜板之间的间距，C2为短边框上凹槽的深度，A2为第二限位块与掩膜板之间的间距，H1为长边框上凹槽的高度，H2为第一限位块顶端到掩膜板框架底端的高度，L1为第一限位块左端到长边框上凹槽左端的间距，L2为第一限位块右端到长边框上凹槽右端的间距，H3为短边框上凹槽的高度，H4为第二限位块顶端到掩膜板框架底端的高度，L3为第二限位块左端到短边框上凹槽左端的间距，L4为第二限位块右端到短边框上凹槽右端的间距。
上述公式中，以长边框为例，凹槽13的深度加第一限位块21与掩膜板之间的距离满足不产生摩擦的条件，且还需满足第一限位块21的左右两端到凹槽13的左右两端的距离大于第二限位块22与掩膜板之间的距离加第二限位块22对应的凹槽13的深度，由于在搬运过程中，金属掩膜板1也会左右晃动，通过上述限定，还能防止金属掩膜板1因左右晃动而产生的摩擦。同理，第二限位块22也是如此。
一种可选的方案中，本发明实施例中的凹槽13还可以是整体开槽，即围绕掩膜板框架12一周设置凹槽13，且该凹槽13的顶端低于掩膜板框架12的顶端，上述设置也可有效避免金属掩膜板1在搬运过程中与搬运卡夹2之间产生摩擦，且由于整体开槽，便于实施。
一种可选的方案中，可参考图5，本发明实施例中的掩膜板框架12的边框的底部与搬运卡夹2上设有的限位块一一对应的部位设有倒角结构以形成凹槽13，通过形成倒角结构能够增大限位块与掩膜板之间的间距，从而能够有效避免金属掩膜板1与搬运卡夹2之间产生摩擦。
一种可选的方案中，本发明实施例中的掩膜板框架12的边框的底部可设置绕掩膜板框架12一周的倒角结构，以避让搬运卡夹2上设有的限位块，通过形成倒角结构能够增大限位块与掩膜板之间的间距，且整体开倒角，不仅可避免金属掩膜板1与搬运卡夹2之间产生摩擦，还便于实施。
显然，本领域的技术人员可以对本发明实施例进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种金属掩膜板，其特征在于，包括：
遮光板和掩膜板框架，所述掩膜板框架包括多个依次首尾相连的边框，其中，至少一部分所述边框背离所述边框围设区域的一侧设有用于避让搬运卡夹上设有的限位块的凹陷部。
2.根据权利要求1所述的金属掩膜板，其特征在于，所述掩膜板框架的每一个边框均设有所述凹陷部。
3.根据权利要求2所述的金属掩膜板，其特征在于，至少一部分所述边框设置的凹陷部包括与所述搬运卡夹上设有的限位块一一对应的凹槽。
4.根据权利要求3所述的金属掩膜板，其特征在于，所述掩膜板框架包括两个相对设置的长边框和两个相对设置的短边框，所述搬运卡夹与所述长边框对应的侧边设有多个第一限位块，且与所述短边框对应的侧边设有多个第二限位块，其中，每一个所述长边框设有多个所述凹槽，每一个所述短边框设有多个所述凹槽。
5.根据权利要求4所述的金属掩膜板，其特征在于，每一个所述长边框上设有的凹槽沿所述掩膜板框架高度方向的尺寸与所述掩膜板框架的高度相同，和/或，每一个所述短边框上设有的凹槽沿所述掩膜板框架高度方向的尺寸与所述掩膜板框架的高度相同。
6.根据权利要求5所述的金属掩膜板，其特征在于，当所述长边框设有的凹槽和所述短边框设有的凹槽沿所述掩膜板框架高度方向的尺寸与所述掩膜板框架的高度均相同时，满足：
沿长边框方向：Amax＜C1+A1＜Bmin，L1＞C2+A2，L2＞C2+A2；
沿短边框方向：Amax＜C2+A2＜Bmin，L3＞C1+A1，L4＞C1+A1；
其中，上述公式中：Amax为各限位块与掩膜板之间不产生摩擦间距的最大值，Bmin为各机台能吸收的限位块与掩膜板之间的最大间距的最小值，C1为长边框上凹槽的深度，A1为第一限位块与掩膜板之间的间距，C2为短边框上凹槽的深度，A2为第二限位块与掩膜板之间的间距，L1为第一限位块左端到长边框上凹槽左端的间距，L2为第一限位块右端到长边框上凹槽右端的间距，L3为第二限位块左端到短边框上凹槽左端的间距，L4为第二限位块右端到短边框上凹槽右端的间距。
7.根据权利要求4所述的金属掩膜板，其特征在于，每一个所述长边框设有的凹槽的顶端低于所述掩膜板框架的顶端，和/或，每一个所述短边框设有的凹槽的顶端低于所述掩膜板框架的顶端。
8.根据权利要求7所述的金属掩膜板，其特征在于，当所述长边框设有的凹槽和所述短边框设有的凹槽的顶端均低于所述掩膜板框架的顶端时，满足：
沿长边框方向：Amax＜C1+A1＜Bmin，H1＞H2，L1＞C2+A2，L2＞C2+A2；
沿短边框方向：Amax＜C2+A2＜Bmin，H3＞H4，L3＞C1+A1，L4＞C1+A1；
其中，上述公式中：Amax为各限位块与掩膜板之间不产生摩擦间距的最大值，Bmin为各机台能吸收的限位块与掩膜板之间的最大间距的最小值，C1为长边框上凹槽的深度，A1为第一限位块与掩膜板之间的间距，C2为短边框上凹槽的深度，A2为第二限位块与掩膜板之间的间距，H1为长边框上凹槽的高度，H2为第一限位块顶端到掩膜板框架底端的高度，L1为第一限位块左端到长边框上凹槽左端的间距，L2为第一限位块右端到长边框上凹槽右端的间距，H3为短边框上凹槽的高度，H4为第二限位块顶端到掩膜板框架底端的高度，L3为第二限位块左端到短边框上凹槽左端的间距，L4为第二限位块右端到短边框上凹槽右端的间距。
9.根据权利要求3所述的金属掩膜板，其特征在于，所述掩膜板框架的边框的底部与所述搬运卡夹上设有的限位块一一对应的部位设有倒角结构以形成所述凹槽。
10.根据权利要求1所述的金属掩膜板，其特征在于，所述掩膜板框架的边框的底部设有绕所述掩膜板框架一周的倒角结构以避让所述搬运卡夹上设有的限位块。
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