CN111339962A - 识别基板、显示面板及其制作方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种识别基板,用于识别指纹信息和触控信息中的一项或多项,所述识别基板包括衬底基板以及位于所述衬底基板上的多条第一信号线、第二信号线和栅线,所述第一信号线和所述第二信号线平行设置,所述栅线与所述第一信号线和所述第二信号线交叉设置,所述栅线、所述第一信号线和所述第二信号线限定出多个识别区域,每一所述识别区域内设置有薄膜晶体管,所述薄膜晶体管的栅极与所述栅线连接,源极与第一信号线连接,漏极与第二信号线连接。本发明实施例的识别基板能够根据光线变化引起的有源层中电流变化,方便快捷的实现对于指纹信息和触控位置中的一项或多项的识别。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板及其制作方法、显示装置和触控识别方法。
背景技术
现有的显示面板可以实现识别功能,其中,识别功能包括触控位置的识别以及指纹的识别等,触控位置识别主要通过检测电容变化等方式实现,触控指纹识别主要通过超声指纹识别或光学指纹识别进行。超声指纹识别的精度和速度较差,而光学指纹识别仅能在固定的位置进行,且应用范围有限,仅能应用于OLED(OrganicLight-Emitting Diode,有机发光二极管)显示面板,难以应用于LCD(Liquid Crystal Display,液晶显示面板)显示面板。
由上述分析可知,所以现有的显示面板难以方便快捷的进行信息的识别。
发明内容
本发明实施例提供一种识别基板、显示面板及其制作方法、显示装置,以解决现有的显示面板难以方便快捷的进行信息的识别的问题。
第一方面,本发明实施例提供了一种识别基板,用于识别指纹信息和触控信息中的一项或多项,所述识别基板包括衬底基板以及位于所述衬底基板上的多条第一信号线、第二信号线和栅线,所述第一信号线和所述第二信号线平行设置,所述栅线与所述第一信号线和所述第二信号线交叉设置,所述栅线、所述第一信号线和所述第二信号线限定出多个识别区域,每一所述识别区域内设置有薄膜晶体管,所述薄膜晶体管的栅极与所述栅线连接,源极与第一信号线连接,漏极与第二信号线连接。
可选的,所述薄膜晶体管还包括有源层,每一所述薄膜晶体管的有源层覆盖所述薄膜晶体管所在的所述识别区域的全部区域。
第二方面,本发明实施例提供了一种显示面板,包括显示基板和识别基板,所述识别基板为以上所述的识别基板,所述显示面板包括多个子像素,所述识别基板中的每一识别区域与一个所述子像素的位置相对应,且所述子像素在所述识别基板的衬底基板上的正投影位于相对应的所述识别区域在所述识别基板的衬底基板上的正投影的范围内。
可选的,所述显示面板包括阵列基板,所述识别基板的衬底基板复用所述阵列基板的衬底基板;或者
所述显示面板包括彩膜基板,所述识别基板的衬底基板复用所述彩膜基板的衬底基板。
可选的,所述显示面板包括彩膜区域,所述薄膜晶体管的栅极在所述识别基板的衬底基板上的正投影与所述彩膜区域在所述识别基板的衬底基板上的正投影重合。
第三方面,本发明实施例提供了一种显示装置,包括以上任一项所述的显示面板。
第四方面,本发明实施例提供了一种显示面板的制作方法,包括制作子像素的步骤,以及制作识别基板的步骤,
其中,所述识别基板用于识别指纹信息和触控信息中的一项或多项,所述识别基板包括衬底基板以及位于所述衬底基板上的多条第一信号线、第二信号线和栅线,所述第一信号线和所述第二信号线平行设置,所述栅线与所述第一信号线和所述第二信号线交叉设置,所述栅线、所述第一信号线和所述第二信号线限定出多个识别区域,每一所述识别区域内设置有薄膜晶体管,所述薄膜晶体管的栅极与所述栅线连接,源极与第一信号线连接,漏极与第二信号线连接,所述识别基板中的每一识别区域与一个所述子像素的位置相对应,且所述子像素在所述识别基板的衬底基板上的正投影位于相对应的所述识别区域在所述识别基板的衬底基板上的正投影的范围内。
可选的,所述显示面板包括阵列基板,所述制作识别基板的步骤,包括:
复用所述阵列基板的衬底基板作为衬底基板制作所述识别基板;或者
所述显示面板包括彩膜基板,所述制作识别基板的步骤,包括:
复用所述彩膜基板的衬底基板作为衬底基板制作所述识别基板
可选的,所述显示面板包括黑矩阵,所述制作识别基板的步骤,包括:
利用制作所述黑矩阵的掩膜版制作所述识别基板的薄膜晶体管的有源层,以使所述有源层的位置与所述显示面板的子像素的位置相对应,并通过调节工艺参数,使得所述有源层在所述衬底基板上的正投影的面积大于相对应的子像素在所述衬底基板上的正投影的面积。
可选的,所述显示面板包括彩膜区域,所述指纹识别模组的薄膜晶体管包括栅极,所述制作指纹识别模组的步骤,包括:
制作透明电极层,并利用制作所述彩膜区域的掩膜版刻蚀所述透明电极层形成所述薄膜晶体管的栅极,以使所述栅极在所述衬底基板上的正投影与所述彩膜区域在所述衬底基板上的正投影重合。
本发明实施例的识别基板,利用薄膜晶体管进行识别,由于薄膜晶体管的有源层为光敏半导体,所以有源层中的电流会随着关照变化而产生变化,这样,由于触控区域受到遮挡,所以光线亮度与其他区域不同,所以可以通过检测这种光线变化进行触控位置的识别,同时,指纹的谷和脊对于光线反射的强度不同,所以,通过检测这种光线反射强度引起的有源层中电流变化,能够实现对指纹的谷和脊的识别,这样,本发明实施例的识别基板能够方便快捷的实现对于指纹信息和触控位置中的一项或多项的识别。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对本发明实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例提供的识别基板的结构示意图;
图2是本发明实施例提供的识别基板的工作原理示意图;
图3是本发明实施例提供的识别基板和子像素的位置关系示意图;
图4是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图;
图5是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图;
图6是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图;
图7是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
本发明提供了一种识别基板100,用于识别指纹信息和触控信息中的一项或多项。
如图1所示,在一个实施例中,该识别基板100包括衬底基板110以及位于衬底基板110上的多条第一信号线111、第二信号线112和栅线113,第一信号线111和第二信号线112平行设置,栅线113与第一信号线111和第二信号线112交叉设置,栅线113、第一信号线111和第二信号线112限定出多个识别区域,每一识别区域内设置有薄膜晶体管(TFT),薄膜晶体管的栅极与栅线113连接,源极与第一信号线111连接,漏极与第二信号线112连接。
使用时,第一信号线111和第二信号线112中的一根作为输入信号线提供输入的电信号,另一根作为输出信号线接收输出的电信号,这里,输入的电信号和输出的电信号具体可以是电流信号,也可以是电压信号。
由于薄膜晶体管的有源层114(Active)为半导体,且具有光敏特性,所以当给薄膜晶体管的栅极施加一负压时,有源层114中的电流(或称光电流)会随着光强变化,且随着光强的增加而增大,而根据已知的输入的电信号和接收到的输出的电信号就能够计算出该光电流的大小。
如图2所示,这样,当触控某一区域时,该区域的光线遮挡和反射情况与其他区域存在一定的差异,所以会导致光电流的变化存在差异,通过检测这种差异,能够实现对于触控信息的识别,其中,触控信息可能包括触控次数、触控位置、触控时间等。
请继续参阅图2,指纹信息包括谷和脊两种特征,在其他条件一定的情况下,这两种特征对于光线的反射强度是不同的,所以其对应的光电流的变化也是不同的,因此,通过所获得的光电流的大小,能够确定相应的位置的指纹特征,从而实现对于指纹信息的识别,并且,对于指纹的识别可以在各个位置进行,而并不局限于其中某一区域。同时,如果能够获取到指纹信息,则说明存在针对该区域的触控操作。
由上述分析可知,利用薄膜晶体管有源层114的光敏特性,通过对于光电流的检测,能够实现对于触控信息和指纹信息中一项或多项的检测。
本发明实施例的识别基板100,利用薄膜晶体管进行识别,由于薄膜晶体管的有源层114为光敏半导体,所以有源层114中的电流会随着关照变化而产生变化,这样,由于触控区域受到遮挡,所以光线亮度与其他区域不同,所以可以通过检测这种光线变化进行触控位置的识别,同时,指纹的谷和脊对于光线反射的强度不同,所以,通过检测这种光线反射强度引起的有源层114中电流变化,能够实现对指纹的谷和脊的识别,这样,本发明实施例的识别基板100能够方便快捷的实现对于指纹信息和触控位置中的一项或多项的识别。
此外如图1所示,该识别基板100还可能包括一些其他膜层,例如作为保护层的栅极绝缘层(GI)115、钝化层(PVX)116、封装盖板117等,具体可以根据实际情况有选择的设置,此处不作进一步限定和描述。
可选的,薄膜晶体管还包括有源层114,每一薄膜晶体管的有源层114覆盖薄膜晶体管所在的识别区域的全部区域,这样,对于每一个识别区域来说,其光电流的变化相对均一,有助于提高检测精度,从而提高识别结果的可靠性。
本发明实施例提供了一种显示面板。
本实施例中的显示面板可以是包括但不限于OLED(OrganicLight-EmittingDiode,有机发光二极管)显示面板、LCD(Liquid Crystal Display,液晶显示装置)显示面板,其应用范围较广。
该显示面板包括显示基板和识别基板100,其中,显示基板可一定程度上参考相关技术,此处不对显示基板的结构做进一步限定,识别基板100则为以上的识别基板100。
如图3和图4所示,显示面板包括多个子像素210,其中,不同的填充方式代表不同颜色的子像素210。
识别基板100中的每一识别区域与一个子像素210的位置相对应,且子像素210在识别基板100的衬底基板110上的正投影位于相对应的识别区域在识别基板100的衬底基板110上的正投影的范围内。
本实施例的技术方案中,进行指纹识别或触控信息的识别过程中,光源来自每一子像素210发出的光,各子像素210发出的光线经过指纹上的特征、触控的手指、触控笔等反射后,进一步影响薄膜晶体管的有源层114的光强。
因此,本实施例中通过控制个识别区域与子像素210的位置相对应,能够确保在一个识别区域中初始状态光强是基本相同的,也就是说,一个识别区域的初始光强为该识别区域的对应的子像素210的光强,这样,更加便于确定光电流的变化量,有助于提高检测结果的精度。
如图5所示,在一个可选的具体实施方式中,识别基板100可以单独制作,然后再与显示模组200相叠加,形成具有识别功能的显示面板。
如图6和图7所示,在另一个可选的具体实施方式中,则是将识别基板100和显示基板复合在一起。
具体的,如图6所示,可以是显示面板包括阵列基板,识别基板100的衬底基板110复用阵列基板的衬底基板220;如图6所示,还可以是,显示面板包括彩膜基板,识别基板100的衬底基板110复用彩膜基板的衬底基板310。
也就是说,在阵列基板的衬底基板110或彩膜基板的衬底基板110上进行识别基板100的制作,这样,整体的集成度更高,同时,识别基板100和显示基板的匹配程度也相对较高,有利于缩短制作周期,节约成本。
可选的,显示面板包括彩膜区域,薄膜晶体管的栅极在识别基板的衬底基板110上的正投影与彩膜区域在识别基板的衬底基板110上的正投影重合。
当彩膜区域和栅极在衬底基板110上的正投影重合时,则可以选择采用统一掩膜版进行彩膜区域和栅极的制作,有利于降低成本。
本发明还提供了一种显示装置,包括以上任一项的显示面板。
由于本实施例的技术方案包括了上述显示面板实施例的全部技术方案,因此至少能实现上述全部技术效果,此处不再赘述。
本发明提供了一种显示面板的制作方法,包括制作子像素的步骤,以及制作识别基板的步骤。
识别基板用于识别指纹信息和触控信息中的一项或多项,识别基板包括衬底基板以及位于衬底基板上的多条第一信号线、第二信号线和栅线,第一信号线和第二信号线平行设置,栅线与第一信号线和第二信号线交叉设置,栅线、第一信号线和第二信号线限定出多个识别区域,每一识别区域内设置有薄膜晶体管,薄膜晶体管的栅极与栅线连接,源极与第一信号线连接,漏极与第二信号线连接,识别基板中的每一识别区域与一个子像素的位置相对应,且子像素在识别基板的衬底基板上的正投影位于相对应的识别区域在识别基板的衬底基板上的正投影的范围内。
本实施例中,制作子像素的具体工艺可参考相关技术,此处不再赘述。
在制作识别基板的过程中,首先制作栅线。具体的,首先沉积透明电极材料,例如氧化铟锡(ITO),然后通过mask工艺(掩膜版曝光刻蚀)将透明电极材料制作成条状图案作为栅极。
接下来,沉积整面的栅极绝缘层作为隔绝层,然后进行有源层的制作,进一步的,沉积金属层进行第一信号线和第二信号线的制作,第一信号线和第二信号线分别位于每一子像素的两侧,且与有源层搭接。
最后,沉积钝化层作为保护层,并利用玻璃盖板或其他封装材料进行封装完成了识别基板的制作。
在一个较佳的具体实施方式中,第一信号线和第二信号线的位置位于黑矩阵(BM)的范围之内,这样,能够避免占用显示面板的开口面积,有助于提高显示效果。
由于本实施例所制作的显示面板为上述显示面板实施例的显示面板,因此至少还能实现上述全部技术效果,此处不再赘述。
在一个可选的具体实施方式中,显示面板包括阵列基板,制作识别基板的步骤,包括:
复用阵列基板的衬底基板作为衬底基板制作识别基板;或者
显示面板包括彩膜基板,制作识别基板的步骤,包括:
复用彩膜基板的衬底基板作为衬底基板制作识别基板。
具体的,可以在阵列基板和彩膜基板对盒完成之后,在阵列基板远离彩膜基板一侧以阵列基板的衬底基板作为识别基板的衬底基板进行识别基板的制作,也可以在彩膜基板远离阵列基板的一侧以彩膜基板的衬底基板为识别基板的衬底基板进行识别基板的制作。
这样,制作识别基板和制作显示基板同时进行,有利于提高显示基板和识别基板的匹配度,缩短制作周期,同时,也节约了材料,提高了整体的集成度。
可选的,显示面板包括黑矩阵,制作识别基板的步骤,包括:
利用制作黑矩阵的掩膜版制作识别基板的薄膜晶体管的有源层,以使有源层的位置与显示面板的子像素的位置相对应,并通过调节工艺参数,使得有源层在衬底基板上的正投影的面积大于相对应的子像素在衬底基板上的正投影的面积。
黑矩阵掩膜版(BM mask)的形状与各子像素的形状相同,且位置相对应,因此,可以直接利用黑矩阵掩膜版进行有源层的制作,一方面,能够确保所制作的有源层的位置和形状与各子像素的位置和形状相对应,另一方面,也能够节约一个掩膜版,有助于降低成本。
进一步的,有源层需要与第一信号线和第二信号线搭接,且为了避免第一信号线和第二信号线对于显示面板开口面积的影响,本实施例中通过调整工艺参数,使得制作出来的有源层的面积略大于子像素的面积,这一部分多出来的面积用于实现第一信号线和第二信号线与有源层的搭接,这样,既能够确保连接的可靠性,还能够避免占用开口面积,从而避免影响显示效果。
进一步的,请同时参阅图3和图4,本实施例中的第一信号线、第二信号线和栅线的排布方向也并非固定不变的,例如,如图3所示,可以是第一信号线、第二信号线沿横向设置,栅线向纵设置,如图4所示,也可以是第一信号线、第二信号线沿纵向设置,栅线横向设置。
进一步的,显示面板包括彩膜区域,指纹识别模组的薄膜晶体管包括栅极,在栅线沿着同种颜色的像素的排列方向设置时,制作指纹识别模组的步骤,包括:
制作透明电极层,并利用制作彩膜区域的掩膜版刻蚀透明电极层形成薄膜晶体管的栅极,以使栅极在衬底基板上的正投影与彩膜区域在衬底基板上的正投影重合。
应当理解的是,当栅线沿着同种颜色的像素的排列方向设置时,其延伸方向和像素的彩膜区域是相同的,因此,可以利用制作彩膜区域的掩膜版(RGBmask)进行栅线的制作,有利于节约成本。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。
Claims (10)
1.一种识别基板,其特征在于,用于识别指纹信息和触控信息中的一项或多项,所述识别基板包括衬底基板以及位于所述衬底基板上的多条第一信号线、第二信号线和栅线,所述第一信号线和所述第二信号线平行设置,所述栅线与所述第一信号线和所述第二信号线交叉设置,所述栅线、所述第一信号线和所述第二信号线限定出多个识别区域,每一所述识别区域内设置有薄膜晶体管,所述薄膜晶体管的栅极与所述栅线连接,源极与第一信号线连接,漏极与第二信号线连接。
2.如权利要求1所述的识别基板,其特征在于,所述薄膜晶体管还包括有源层,每一所述薄膜晶体管的有源层覆盖所述薄膜晶体管所在的所述识别区域的全部区域。
3.一种显示面板,其特征在于,包括显示基板和识别基板,所述识别基板为权利要求1或2中所述的识别基板,所述显示面板包括多个子像素,所述识别基板中的每一识别区域与一个所述子像素的位置相对应,且所述子像素在所述识别基板的衬底基板上的正投影位于相对应的所述识别区域在所述识别基板的衬底基板上的正投影的范围内。
4.如权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板包括阵列基板,所述识别基板的衬底基板复用所述阵列基板的衬底基板;或者
所述显示面板包括彩膜基板,所述识别基板的衬底基板复用所述彩膜基板的衬底基板。
5.如权利要求3或4所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板包括彩膜区域,所述薄膜晶体管的栅极在所述识别基板的衬底基板上的正投影与所述彩膜区域在所述识别基板的衬底基板上的正投影重合。
6.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求3至5中任一项所述的显示面板。
7.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括制作子像素的步骤,以及制作识别基板的步骤,
其中,所述识别基板用于识别指纹信息和触控信息中的一项或多项,所述识别基板包括衬底基板以及位于所述衬底基板上的多条第一信号线、第二信号线和栅线,所述第一信号线和所述第二信号线平行设置,所述栅线与所述第一信号线和所述第二信号线交叉设置,所述栅线、所述第一信号线和所述第二信号线限定出多个识别区域,每一所述识别区域内设置有薄膜晶体管,所述薄膜晶体管的栅极与所述栅线连接,源极与第一信号线连接,漏极与第二信号线连接,所述识别基板中的每一识别区域与一个所述子像素的位置相对应,且所述子像素在所述识别基板的衬底基板上的正投影位于相对应的所述识别区域在所述识别基板的衬底基板上的正投影的范围内。
8.如权利要求7所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述显示面板包括阵列基板,所述制作识别基板的步骤,包括:
复用所述阵列基板的衬底基板作为衬底基板制作所述识别基板;或者
所述显示面板包括彩膜基板,所述制作识别基板的步骤,包括:
复用所述彩膜基板的衬底基板作为衬底基板制作所述识别基板。
9.如权利要求7所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述显示面板包括黑矩阵,所述制作识别基板的步骤,包括:
利用制作所述黑矩阵的掩膜版制作所述识别基板的薄膜晶体管的有源层,以使所述有源层的位置与所述显示面板的子像素的位置相对应,并通过调节工艺参数,使得所述有源层在所述衬底基板上的正投影的面积大于相对应的子像素在所述衬底基板上的正投影的面积。
10.如权利要求7所述的显示面板的制作方法,其特征在于,所述显示面板包括彩膜区域,所述指纹识别模组的薄膜晶体管包括栅极,所述制作指纹识别模组的步骤,包括:
制作透明电极层,并利用制作所述彩膜区域的掩膜版刻蚀所述透明电极层形成所述薄膜晶体管的栅极,以使所述栅极在所述衬底基板上的正投影与所述彩膜区域在所述衬底基板上的正投影重合。
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