CN111304626B - 掩膜片、掩膜版 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及显示技术领域,提出一种掩膜片、掩膜版,该掩膜片包括多条遮挡条和加热组件,其中,多条所述遮挡条中的部分所述遮挡条沿第一方向延伸,且沿第二方向间隔分布;多条所述遮挡条中的部分所述遮挡条沿所述第二方向延伸,且沿所述第一方向间隔分布,所述第一方向和所述第二方向相交,以使多条所述遮挡条形成至少一个开口;加热组件,用于加热所述遮挡条。利用该掩膜片形成的薄膜封装层可以改善其边沿阴影效应,具有较强的阻水效果。

Description

掩膜片、掩膜版
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种掩膜片、掩膜版。
背景技术
有机电致发光器件(OLED)相对于LCD具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点,被认为是下一代显示技术。
相关技术中,OLED封装的主要方法包括有薄膜封装,薄膜封装多以无机薄膜为主,如SiNx、SiON等,薄膜封装沉积方法以PECVD(等离子体增强化学的气相沉积法)为主。相关技术中,显示面板通过切割显示母板形成,显示面板的薄膜封装工艺通常在显示母板上进行,显示母板完成薄膜封装后可以通过切割形成多个显示面板。因此,在对显示母板进行薄膜封装时,需要通过掩膜版来限定各个显示面板的封装区域。
然而,相关技术中,各个显示面板上薄膜封装层的面积通常会大于掩膜版限定出的开口面积,即薄膜封装材料进入掩膜版的遮挡区域,从而造成薄膜封装层边沿出现阴影效应。
需要说明的是,在上述背景技术部分发明的信息仅用于加强对本发明的背景的理解,因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
发明内容
本发明的目的在于提供一种掩膜片、掩膜版。该掩膜片能够解决相关技术中通过掩膜版形成的薄膜封装层具有边沿阴影的技术问题。
本发明的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然,或部分地通过本发明的实践而习得。
根据本发明的一个方面,提供一种掩膜片,该掩膜片包括多条遮挡条和加热组件,其中,多条所述遮挡条中的部分所述遮挡条沿第一方向延伸,且沿第二方向间隔分布;多条所述遮挡条中的部分所述遮挡条沿所述第二方向延伸,且沿所述第一方向间隔分布,所述第一方向和所述第二方向相交,以使多条所述遮挡条形成至少一个开口;加热组件,用于加热所述遮挡条。
本发明的一种示例性实施例中,每条所述遮挡条包括:至少一第一遮挡部、第二遮挡部。第一遮挡部沿所述遮挡条的延伸方向延伸,且与所述开口相邻设置;第二遮挡部,沿所述遮挡条的延伸方向延伸,且位于所述第一遮挡部远离所述开口的一侧;其中,所述第一遮挡部由第一材料组成,所述第二遮挡部由第二材料组成,所述第一材料的热膨胀系数大于所述第二材料的热膨胀系数。
本发明的一种示例性实施例中,多条所述遮挡条中的部分所述遮挡条位于相邻的两开口之间,该部分所述遮挡条包括两个所述第一遮挡部,所述两个第一遮挡部分别与所述两开口相邻设置。
本发明的一种示例性实施例中,多个所述遮挡条中的部分所述遮挡条仅有一侧与所述开口相邻,该部分所述遮挡条包括一个所述第一遮挡部。
本发明的一种示例性实施例中,所述加热组件包括:多条加热条,每一所述遮挡条上设置有所述加热条,且所述加热条的延伸方向和与其对应设置的所述遮挡条的延伸方向相同。
本发明的一种示例性实施例中,所述加热条设置于所述第一遮挡部。
本发明的一种示例性实施例中,每一所述遮挡条的所述第一遮挡部上设置有多条所述加热条,且在位于同一所述第一遮挡部上的相邻两条所述加热条中,靠近所述开口一侧的所述加热条的温度高于远离所述开口一侧的加热条温度。
本发明的一种示例性实施例中,所述加热条为电热丝。
本发明的一种示例性实施例中,所述第一材料为铝,所述第二材料为镍铁合金。
根据本发明的一个方面,提供一种掩膜版,该掩膜版包括上述的掩膜片和边框。
本公开提供一种掩膜片、掩膜版,该掩膜片包括多条遮挡条和加热组件,多条遮挡条包括:多条第一遮挡条、多条第二遮挡条,多条第一遮挡条沿第一方向延伸,且沿第二方向间隔分布;多条第二遮挡条沿所述第二方向延伸,且沿所述第一方向间隔分布,所述第一方向和所述第二方向相交;加热组件用于加热所述第一遮挡条和第二遮挡条。本公开提供的掩膜片可以通过加热组件对第一遮挡条和第二遮挡条进行加热。一方面,利用该掩膜片在显示母板上形成薄膜封装层时,第一遮挡条和第二遮挡条可以在加热组件作用下热膨胀,从而降低掩膜片与显示母板之间间隙,避免了薄膜封装材料进入第一遮挡条、第二遮挡条与掩膜母板之间的间隙,进而改善了薄膜封装层的边沿阴影效应;另一方面,利用该掩膜片在显示母板上形成薄膜封装层时,加热组件可以对薄膜封装层的边沿进行加热,从而提高了薄膜封装材料的成膜致密性,增强了薄膜封装层的阻水性。
应当理解的是,以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的,并不能限制本发明。
附图说明
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分,示出了符合本发明的实施例,并与说明书一起用于解释本发明的原理。显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为相关技术中利用掩膜板在显示母板上形成薄膜封装层的结构示意图;
图2为本公开掩膜片一种示例性实施例的结构示意图;
图3为图2中虚线A-A处的剖视图;
图4为本公开掩膜片另一种示例性实施例的结构示意图;
图5为图4中虚线A-A处的剖视图;
图6为图4中虚线B-B处的剖视图;
图7为本公开掩膜片另一种示例性实施例的结构示意图;
图8为图7中虚线A-A处的剖视图;
图9为图7中虚线B-B处的剖视图。
具体实施方式
现在将参考附图更全面地描述示例实施例。然而,示例实施例能够以多种形式实施,且不应被理解为限于在此阐述的范例;相反,提供这些实施例使得本发明将更加全面和完整,并将示例实施例的构思全面地传达给本领域的技术人员。图中相同的附图标记表示相同或类似的结构,因而将省略它们的详细描述。
虽然本说明书中使用相对性的用语,例如“上”“下”来描述图标的一个组件对于另一组件的相对关系,但是这些术语用于本说明书中仅出于方便,例如根据附图中所述的示例的方向。能理解的是,如果将图标的装置翻转使其上下颠倒,则所叙述在“上”的组件将会成为在“下”的组件。其他相对性的用语,例如“高”“低”“顶”“底”“左”“右”等也作具有类似含义。当某结构在其它结构“上”时,有可能是指某结构一体形成于其它结构上,或指某结构“直接”设置在其它结构上,或指某结构通过另一结构“间接”设置在其它结构上。
用语“一个”、“一”、“所述”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等;用语“包括”和“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等。
相关技术中,掩膜版通常可以包括有掩膜片和边框,掩膜片可以包括多条遮挡条,其中,多条所述遮挡条中的部分所述遮挡条沿第一方向延伸,且沿第二方向间隔分布;多条所述遮挡条中的部分所述遮挡条沿所述第二方向延伸,且沿所述第一方向间隔分布,所述第一方向和所述第二方向相交,以使多条所述遮挡条形成至少一个开口。掩膜片可以利用张网工艺固定在边框上,从而形成掩膜版。如图1所示,为相关技术中利用掩膜板在显示母板上形成薄膜封装层的结构示意图。在通过掩膜版在显示母板上形成薄膜封装层时,由于掩膜片中的遮挡条1与显示母板5之间具有一定的间隙,薄膜封装材料4可以进入该间隙,从而使得显示母板上形成的薄膜封装层的面积会大于掩膜片限定出的开口面积,即薄膜封装材料进入掩膜版的遮挡区域,从而造成薄膜封装层边沿出现阴影效应。
基于此,本示例性实施例首先提供一种掩膜片,如图2、3所示,图2为本公开掩膜片一种示例性实施例的结构示意图,图3为图2中虚线A-A处的剖视图。该掩膜片包括多条遮挡条1和加热组件2,其中,多条所述遮挡条1中的部分所述遮挡条1沿第一方向X延伸,且沿第二方向Y间隔分布;多条所述遮挡条1中的部分所述遮挡条沿所述第二方向Y延伸,且沿所述第一方向X间隔分布,所述第一方向X和所述第二方向Y相交,以使多条所述遮挡条1形成至少一个开口3;加热组件2用于加热所述遮挡条1。
本示例性实施例提供的掩膜片可以通过加热组件对遮挡条进行加热。一方面,利用该掩膜片在显示母板上形成薄膜封装层时,遮挡条可以在加热组件作用下热膨胀,从而降低掩膜片与显示母板之间间隙,避免了薄膜封装材料进入遮挡条与掩膜母板之间的间隙,进而改善了薄膜封装层的边沿阴影效应;另一方面,利用该掩膜片在显示母板上形成薄膜封装层时,加热组件可以对薄膜封装层的边沿进行加热,从而提高了薄膜封装材料的成膜致密性,增强薄膜封装层的阻水性。
本示例性实施例中,如图2、3所示,所述加热组件2可以包括:多条加热条21,每一所述遮挡条上设置有所述加热条21,且所述加热条21的延伸方向和与其对应设置的所述遮挡条的延伸方向相同。加热条21可以设置于遮挡条的正面,该遮挡条的正面可以指,掩膜片工作时,遮挡条背离显示母板的一侧面。将加热条21设置于遮挡条的正面,一方面可以避免加热条21设置于开口3的侧面,从而避免加热条21影响掩膜片上开口的形状,另一方面可以避免加热条21设置于遮挡条与显示母板之间,从而避免遮挡条与显示母板之间产生间隙。该加热条21可以为电热丝,例如金属条,该加热条21可以在电流作用下产生热量,从而向遮挡条加热。其中,所述加热条21的延伸方向和与其对应设置的所述遮挡条的延伸方向相同,该设置可以使得遮挡条在其延伸方向上的温度均匀。应该理解的是,在其他示例性实施例中,加热组件还可以为其他形式的加热器件。加热组件还可以有其他的设置方式,例如,加热条21可以设置于遮挡条的内部;再例如,加热组件内可以包括分散于遮挡条内部的导电粒子,从而可以直接向遮挡条提供电流以加热遮挡条;加热组件还可以以任意热传导、热辐射等方式加热遮挡条。遮挡条1的厚度可以为30μm,遮挡条1的宽度可以为1mm,其中遮挡条的厚度指遮挡条垂直于所述第一方向、第二方向所在平面方向的尺寸,遮挡条1的宽度指垂直于其延伸方向的尺寸。
本示例性实施例中,每条遮挡条的背面并不平坦,其中,该遮挡条的背面可以指,掩膜片工作时遮挡条面向显示母板的一侧面。当遮挡条在加热组件作用下热膨胀时,遮挡条背面的凸起部分与显示母板相抵,从而使得遮挡条背面凹陷部分依然会与显示母板之间存在间隙。
本示例性实施例中,如图4、5、6所示,图4为本公开掩膜片另一种示例性实施例的结构示意图,图5为图4中虚线A-A处的剖视图,图6为图4中虚线B-B处的剖视图。每条所述遮挡条1可以包括:第一遮挡部11、第二遮挡部12。第一遮挡部11沿所述遮挡条1的延伸方向延伸,且与所述开口3相邻设置,即第一遮挡部11形成所述开口3的一侧边;第二遮挡部12沿所述遮挡条1的延伸方向延伸,且位于所述第一遮挡部11远离所述开口3的一侧;其中,所述第一遮挡部11由第一材料组成,所述第二遮挡部12由第二材料组成,所述第一材料的热膨胀系数大于所述第二材料的热膨胀系数。例如,所述第一材料可以为铝,所述第二材料可以为镍铁合金。
本示例性实施例中,如图4所示,多个所述遮挡条1中的部分所述遮挡条1仅有一侧与所述开口3相邻,即位于掩膜片边沿的遮挡条1仅有一侧与所述开口3相邻,该部分所述遮挡条1包括一个所述第一遮挡部11。多条所述遮挡条1中的部分所述遮挡条1位于相邻的两开口3之间,即掩膜片边沿遮挡条以外的遮挡条均位于相邻的两开口3之间,该部分所述遮挡条1包括两个所述第一遮挡部11,所述两个第一遮挡部11分别与所述两开口3相邻设置。
如图5、6所示,图5为在加热组件加热状态下虚线A-A处的剖视图,图6为在加热组件加热状态下虚线B-B处的剖视图。由于所述第一材料的热膨胀系数大于所述第二材料的热膨胀系数,第一遮挡部11的膨胀量大于第二遮挡部12的膨胀量。当该掩膜片使用时,第一遮挡部11可以与显示母板相抵接,第二遮挡部12与显示母板之间依然存在间隙。该设置可以减小掩膜片使用时遮挡条与显示母板的接触面积,增加遮挡条与显示母板之间的压强,从而遮挡条的第一遮挡部11可以部分嵌入显示母板,或第一遮挡部11面向显示母板的侧面可以在显示母板的挤压下变得更加平摊,因而该设置可以增强第一遮挡部11与显示母板之间的密封性。
本示例性实施例中,如图4、5、6所示,加热条21可以设置于第一遮挡部11的正面,该第一遮挡部11的正面可以指,掩膜片工作时,第一遮挡部11背离显示母板的一侧面。将加热条21设置于第一遮挡部11的正面可以使得第一遮挡部11的温度大于第二遮挡部12,从而进一步增加第一遮挡部11热膨胀量与第二遮挡部12热膨胀量的差值。
本示例性实施例中,如图7、8、9所示,图7为本公开掩膜片另一种示例性实施例的结构示意图,图8为图7中虚线A-A处的剖视图,图9为图7中虚线B-B处的剖视图。本示例性实施例中,每一所述遮挡条的第一遮挡部11上可以设置有多条所述加热条21,且在位于同一所述遮挡条1上的相邻两条所述加热条21中,靠近所述开口3一侧的所述加热条的温度高于远离所述开口一侧的加热条温度。如图7、8、9所示,本示例性实施例以每一所述遮挡条的第一遮挡部11上设置有两条所述加热条21为例进行说明。由于靠近所述开口3一侧的所述加热条的温度高于远离所述开口一侧的加热条温度,因此如图8、9所示,第一遮挡部11靠近开口一侧的热膨胀量大于第一遮挡部11远离开口一侧的热膨胀量,从而第一遮挡部11可以形成楔形结构,该设置可以进一步减小该掩膜片使用时第一遮挡部11与显示母板的接触面积,进而进一步增强第一遮挡部11与显示母板之间的密封性。
如图7、8、9所示,该加热条可以为电热丝,靠近所述开口3一侧的所述加热条的横截面积可以大于远离所述开口一侧的加热条的横截面积,从而靠近所述开口3一侧的所述加热条的电阻小于远离所述开口一侧的加热条的电阻,因而,在相同电压作用下,靠近所述开口3一侧的所述加热条的温度可以高于远离所述开口一侧的加热条温度。
本示例性实施例还提供一种掩膜版,该掩膜版包括上述的掩膜片和边框。
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后,将容易想到本公开的其他实施例。本申请旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化,这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的,本公开的真正范围和精神由权利要求指出。
应当理解的是,本公开并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构,并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本公开的范围仅由所附的权利要求来限。

Claims (8)

1.一种掩膜片,其特征在于,包括:
多条遮挡条;
其中,多条所述遮挡条中的部分所述遮挡条沿第一方向延伸,且沿第二方向间隔分布;
多条所述遮挡条中的部分所述遮挡条沿所述第二方向延伸,且沿所述第一方向间隔分布,所述第一方向和所述第二方向相交,以使多条所述遮挡条形成至少一个开口;
加热组件,用于加热所述遮挡条;
每条所述遮挡条包括:
至少一第一遮挡部,沿所述遮挡条的延伸方向延伸,且与所述开口相邻设置;
第二遮挡部,沿所述遮挡条的延伸方向延伸,且位于所述第一遮挡部远离所述开口的一侧;
其中,所述第一遮挡部由第一材料组成,所述第二遮挡部由第二材料组成,所述第一材料的热膨胀系数大于所述第二材料的热膨胀系数;
所述加热组件包括:
多条加热条,每一所述遮挡条上设置有所述加热条,且所述加热条的延伸方向和与其对应设置的所述遮挡条的延伸方向相同;
所述掩膜片用于显示母板的制作,所述加热条设置于所述遮挡条的正面,所述遮挡条的正面指,掩膜片工作时,遮挡条背离显示母板的一侧面。
2.根据权利要求1所述的掩膜片,其特征在于,多条所述遮挡条中的部分所述遮挡条位于相邻的两开口之间,该部分所述遮挡条包括两个所述第一遮挡部,所述两个第一遮挡部分别与所述两开口相邻设置。
3.根据权利要求1所述的掩膜片,其特征在于,多个所述遮挡条中的部分所述遮挡条仅有一侧与所述开口相邻,该部分所述遮挡条包括一个所述第一遮挡部。
4.根据权利要求1所述的掩膜片,其特征在于,所述加热条设置于所述第一遮挡部。
5.根据权利要求4所述的掩膜片,其特征在于,每一所述遮挡条的所述第一遮挡部上设置有多条所述加热条,且在位于同一所述第一遮挡部上的相邻两条所述加热条中,靠近所述开口一侧的所述加热条的温度高于远离所述开口一侧的加热条温度。
6.根据权利要求1所述的掩膜片,其特征在于,所述加热条为电热丝。
7.根据权利要求1所述的掩膜片,其特征在于,所述第一材料为铝,所述第二材料为镍铁合金。
8.一种掩膜版,其特征在于,包括权利要求1-7任一项所述的掩膜片和边框。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101281909B1 (ko) * 2006-06-30 2013-07-03 엘지디스플레이 주식회사 박막 증착 장치
CN206902224U (zh) * 2017-04-28 2018-01-19 上海天马有机发光显示技术有限公司 一种蒸发源以及蒸镀设备
CN108004504B (zh) * 2018-01-02 2019-06-14 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板

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