CN111300157A - 一种高硬度靶材的表面处理方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种高硬度靶材的表面处理方法，所述表面处理方法包括如下步骤：(1)对靶材溅射面进行第一次磨削处理，得到粗加工靶材；(2)对步骤(1)所得粗加工靶材的溅射面进行第二次磨削处理。步骤(1)所述第一次磨削处理与步骤(2)所述第二次磨削处理分别独立地在添加切削液的条件下进行。本发明通过两次独立的磨削处理对靶材的表面进行处理，并通过对选择合适的切削液组成以及切削液用量，使表面处理后靶材的粗糙度Ra降低至0.4以下，且降低了磨头的磨损，延长了磨头的使用寿命。

Description

一种高硬度靶材的表面处理方法
技术领域
本发明属于磁控溅射技术领域，涉及一种靶材的表面处理方法，尤其涉及一种高硬度靶材的表面处理方法。
背景技术
在半导体工业中，靶材组件是由符合溅射性能的靶材、与靶材结合的背板构成，应用于真空溅射工艺。其中，背板起到了支撑靶材的作用，并具有传导热量的功效。真空溅射工艺是由电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片，氩离子在电场的作用下加速轰击靶材组件中的靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶材原子(或分子)沉积在基片上成膜，而最终达到对基片表面镀膜的目的。
高硬度靶材为磁控溅射过程中常用的靶材，以钨硅靶材为例，钨硅靶材是真空溅镀过程中时常会使用到的一种靶材。由于钨硅靶材溅射形成的硅化物栅和多晶硅接触性能稳定，这种硅化物能够经受高温处理而不会分解成氧化物，具有抗氧化性能，并会在格栅的上部形成绝缀层与内连层。所述硅化物还同时具有优良的抗化学腐蚀性能。因此，钨硅靶材被广泛应用于电子栅门材料以及电子薄膜领域。
CN 103695852 A公开了一种钨硅靶材的制造方法，包括：提供高纯钨粉和高纯硅粉；采用湿混工艺将钨粉和硅粉进行混合，形成混合粉末；采用冷压工艺将混合粉末制成钨硅靶材坯料；采用真空热压工艺将钨硅靶材坯料制成钨硅靶材。CN 105671483 A公开了一种钨硅靶材的制造方法，包括：提供钨粉和硅粉；利用混粉工艺将所述钨粉和硅粉混合均匀，以形成混合粉末；利用冷压工艺对混合粉末进行致密化处理，以形成钨硅靶材坯料；将钨硅靶材坯料置于包套内，利用热等静压工艺对包套内的钨硅靶材坯料进行致密化处理；去除包套，得到钨硅靶材。
为了保证制备得到的靶材的表面粗糙度以及纹路一致性，需要对靶材进行表面处理，但高硬度靶材的材质硬，切削性能不佳。以钨硅靶材为例，钨硅靶材的硬度高，且耐腐蚀性强，切削性能不佳，难以使表面粗糙度Ra降低至0.4以下。而且表面处理过程中磨头容易破损，增加了表面处理的成本。
对此，提供一种高硬度靶材的表面处理方法，使该表面处理方法能够使高硬度靶材溅射面的粗糙度Ra降低至0.4以下，且磨头不易磨损，有利于降低高硬度靶材表面处理的成本，提高企业的经济效益。
发明内容
针对现有技术存在的不足，本发明的目的在于提供一种高硬度靶材的表面处理方法，所述表面处理方法能够使高硬度靶材的表面粗糙度Ra降低至0.4以下，且磨头的磨损较小，使用寿命较长。
为达此目的，本发明采用以下技术方案：
本发明提供了一种高硬度靶材的表面处理方法，所述表面处理方法包括如下步骤：
(1)对靶材溅射面进行第一次磨削处理，得到粗加工靶材；
(2)对步骤(1)所得粗加工靶材的溅射面进行第二次磨削处理。
本发明通过对高硬度靶材分别进行第一次磨削处理以及第二次磨削处理，降低了磨头的磨损程度，且使高硬度靶材的表面粗糙度Ra降低至0.4以下。
本发明所述高硬度靶材是指维氏硬度≥700HV的靶材，包括但不限于钨硅靶材和/或钽硅靶材。
优选地，步骤(1)所述第一次磨削处理所用磨头包括陶瓷磨头、砂布磨头和/或金刚石磨头，优选为金刚石磨头。
优选地，步骤(1)所述第一次磨削处理所用磨头的粒度为100-180目，例如可以是100目、110目、120目、130目、140目、150目、160目、170目或180目，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。
当第一次磨削处理所用磨头的粒度较小时，所得粗加工靶材表面的粗糙度较高，加大了第二次磨削处理的加工难度，不利于减轻磨头的磨损程度。
优选地，步骤(2)所述第二次磨削处理所用磨头包括陶瓷磨头、砂布磨头和/或金刚石磨头，优选为金刚石磨头。
优选地，步骤(2)所述第二次磨削处理所用磨头的粒度为100-180目，例如可以是100目、110目、120目、130目、140目、150目、160目、170目或180目，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。
优选地，步骤(1)所述第一次磨削处理的磨头转速为25000-30000r/min，例如可以是25000r/min、26000r/min、27000r/min、28000r/min、29000r/min或30000r/min，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用；进给量为2500-3500mm/min，例如可以是2500mm/min、2600mm/min、2700mm/min、2800mm/min、2900mm/min、3000mm/min、3100mm/min、3200mm/min、3300mm/min、3400mm/min或3500mm/min，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用；进刀量为0.05-0.15mm例如可以是0.05mm、0.07mm、0.09mm、0.1mm、0.12mm或0.15mm，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。
优选地，步骤(2)所述第二次磨削处理的磨头转速为35000-40000r/min，例如可以是35000r/min、36000r/min、37000r/min、38000r/min、39000r/min或40000r/min，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用；进给量为800-1500mm/min，例如可以是800mm/min、900mm/min、1000mm/min、1100mm/min、1200mm/min、1300mm/min、1400mm/min或1500mm/min，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用；进刀量为0.03-0.08mm，例如可以是0.03mm、0.04mm、0.05mm、0.06mm、0.07mm或0.08mm，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。
优选地，步骤(1)所述第一次磨削处理与步骤(2)所述第二次磨削处理分别独立地在添加切削液的条件下进行。
优选地，所述切削液为用水稀释后的切削液，切削液与水的体积比为1:(8-12)，例如可以是1:8、1:9、1:10、1:11或1:12，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。
优选地，所述切削液为水溶性切削液，以重量百分比计，所述水溶性切削液包括以下组分：
Figure BDA0002305138420000041
所述润滑剂的重量百分数为18-30％，例如可以是18％、20％、22％、24％、25％、27％、28％或30％，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用；所述保护剂的重量百分数为4-7％，例如可以是4％、4.5％、5％、5.5％、6％、6.5％或7％，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用；所述稳定剂的重量百分数为5-9％，例如可以是5％、6％、7％、8％或9％，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用；所述表面活性剂的重量百分数为3-7％，例如可以是3％、4％、5％、6％或7％，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用；所述渗透剂的重量百分数为2-4％，例如可以是2％、2.5％、3％、3.5％或4％，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用；所述乳化剂的重量百分数为3-7％，例如可以是3％、4％、5％、6％或7％，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用；所述消泡剂的重量百分数为0.2-0.6％，例如可以是0.2％、0.3％、0.4％、0.5％或0.6％，但不限于所列举的数值，数值范围内其它未列举的数值同样适用。
优选地，所述润滑剂包括壬基酚聚氧乙烯醚TX-9、壬基酚聚氧乙烯醚TX-10、辛基酚聚氧乙烯醚OP-9或辛基酚聚氧乙烯醚OP-10中的任意一种或至少两种的组合，典型但非限制性的组合包括壬基酚聚氧乙烯醚TX-9与壬基酚聚氧乙烯醚TX-10的组合，壬基酚聚氧乙烯醚TX-9与辛基酚聚氧乙烯醚OP-9的组合，壬基酚聚氧乙烯醚TX-10与辛基酚聚氧乙烯醚OP-9的组合，辛基酚聚氧乙烯醚OP-9与辛基酚聚氧乙烯醚OP-10的组合或壬基酚聚氧乙烯醚TX-9、壬基酚聚氧乙烯醚TX-10、辛基酚聚氧乙烯醚OP-9与辛基酚聚氧乙烯醚OP-10的组合。
优选地，所述保护剂包括乙醇胺和/或异丙醇胺。
优选地，所述稳定剂包括聚乙二醇、聚丙烯酸或乙二胺四乙酸中的任意一种或至少两种的组合，典型但非限制性的组合包括聚乙二醇与聚丙烯醇的组合，聚丙烯醇与乙二胺四乙酸的组合，聚乙二醇与乙二醇四乙酸的组合或聚乙二醇、聚丙烯酸与乙二胺四乙酸的组合。
优选地，所述表面活性剂包括十二烷基硫酸钠和/或十二烷基苯磺酸钠。
优选地，所述渗透剂包括丙二醇丁醚、乙二醇丁醚或二乙二醇乙醚中的任意一种或至少两种的组合，典型但非限制性的组合包括丙二醇丁醚与乙二醇丁醚的组合，乙二醇丁醚与二乙二醇乙醚的组合，丙二醇丁醚与二乙二醇乙醚的组合或丙二醇丁醚、乙二醇丁醚与二乙二醇乙醚的组合。
优选地，所述乳化剂包括吐温10、吐温20、吐温40或吐温60中的任意一种或至少两种的组合，典型但非限制性的组合包括吐温10与吐温20的组合，吐温20与吐温40的组合，吐温40与吐温60的组合，吐温10、吐温20与吐温40的组合，吐温20、吐温40与吐温60的组合或吐温10、吐温20、吐温40与吐温60的组合。
优选地，所述消泡剂包括聚醚改性硅、磷酸三丁酯或苯乙醇油酸酯中的任意一种或至少两种的组合，典型但非限制性的组合包括聚醚改性硅与磷酸三丁酯的组合，磷酸三丁酯与苯乙醇油酸酯的组合，聚醚改性硅与苯乙醇油酸酯的组合或聚醚改性硅、磷酸三丁酯与苯乙醇油酸酯的组合。
作为本发明所述表面处理方法，所述表面处理方法包括如下步骤：
(1)使用粒度为100-180目的金刚石磨头对靶材溅射面进行第一次磨削处理，第一次磨削处理的磨头转速为25000-30000r/min，进给量为2500-3500mm/min，进刀量为0.05-0.15mm，得到粗加工靶材；
(2)使用粒度为100-180目的金刚石磨头对步骤(1)所得粗加工靶材的溅射面进行第二次磨削处理，第二次磨削处理的磨头转速为35000-40000r/min，进给量为800-1500mm/min，进刀量为0.03-0.08mm，完成对靶材的表面处理。
本发明所述的数值范围不仅包括上述例举的点值，还包括没有例举出的上述数值范围之间的任意的点值，限于篇幅及出于简明的考虑，本发明不再穷尽列举所述范围包括的具体点值。
与现有技术相比，本发明的有益效果为：
本发明通过两次独立的磨削处理对靶材的表面进行处理，并通过对选择合适的切削液组成以及切削液用量，使表面处理后靶材的粗糙度Ra降低至0.4以下，且降低了磨头的磨损，延长了磨头的使用寿命。
具体实施方式
下面通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。
实施例1
本实施例提供了一种高硬度靶材的表面处理方法，所述高硬度靶材为钨硅靶材，所述表面处理方法包括如下步骤：
(1)切削液添加的条件下，使用粒度为150目的金刚石磨头对靶材溅射面进行第一次磨削处理，第一次磨削处理的磨头转速为27000r/min，进给量为3000mm/min，进刀量为0.1mm，得到粗加工靶材；
(2)切削液添加的条件下，使用粒度为160目的金刚石磨头对步骤(1)所得粗加工靶材的溅射面进行第二次磨削处理，第二次磨削处理的磨头转速为37000r/min，进给量为1200mm/min，进刀量为0.05mm，完成对靶材的表面处理；
步骤(1)与步骤(2)所述切削液为用水稀释后的切削液，切削液与水的体积比为1:10。
以重量百分比计，所述切削液包括以下组分：辛基酚聚氧乙烯醚OP-9 24％；乙醇胺5％；聚丙烯酸7％；十二烷基苯磺酸钠5％；乙二醇丁醚3％；吐温20 5％；磷酸三丁酯0.4％；余量为水。
实施例2
本实施例提供了一种高硬度靶材的表面处理方法，所述高硬度靶材为钽硅靶材，所述表面处理方法包括如下步骤：
(1)切削液添加的条件下，使用粒度为120目的金刚石磨头对靶材溅射面进行第一次磨削处理，第一次磨削处理的磨头转速为26000r/min，进给量为2700mm/min，进刀量为0.07mm，得到粗加工靶材；
(2)切削液添加的条件下，使用粒度为140目的金刚石磨头对步骤(1)所得粗加工靶材的溅射面进行第二次磨削处理，第二次磨削处理的磨头转速为36000r/min，进给量为1000mm/min，进刀量为0.04mm，完成对靶材的表面处理；
步骤(1)与步骤(2)所述切削液为用水稀释后的切削液，切削液与水的体积比为1:9。
以重量百分比计，所述切削液包括以下组分：壬基酚聚氧乙烯醚TX-1020％；异丙醇胺6％；聚乙二醇6％；十二烷基苯磺酸钠6％；丙二醇丁醚3％；吐温40 4％；聚醚改性硅0.5％；余量为水。
实施例3
本实施例提供了一种高硬度靶材的表面处理方法，所述高硬度靶材为钨硅靶材，所述表面处理方法包括如下步骤：
(1)切削液添加的条件下，使用粒度为160目的金刚石磨头对靶材溅射面进行第一次磨削处理，第一次磨削处理的磨头转速为28000r/min，进给量为3200mm/min，进刀量为0.12mm，得到粗加工靶材；
(2)切削液添加的条件下，使用粒度为170目的金刚石磨头对步骤(1)所得粗加工靶材的溅射面进行第二次磨削处理，第二次磨削处理的磨头转速为38000r/min，进给量为1400mm/min，进刀量为0.06mm，完成对靶材的表面处理；
步骤(1)与步骤(2)所述切削液为用水稀释后的切削液，切削液与水的体积比为1:11。
以重量百分比计，所述切削液包括以下组分：壬基酚聚氧乙烯醚TX-9 26％；乙醇胺7％；乙二胺四乙酸5％；十二烷基硫酸钠3％；二乙二醇乙醚3％；吐温60 6％；苯乙醇油酸酯0.3％；余量为水。
实施例4
本实施例提供了一种高硬度靶材的表面处理方法，所述高硬度靶材为钽硅靶材，所述表面处理方法包括如下步骤：
(1)切削液添加的条件下，使用粒度为100目的金刚石磨头对靶材溅射面进行第一次磨削处理，第一次磨削处理的磨头转速为25000r/min，进给量为2500mm/min，进刀量为0.05mm，得到粗加工靶材；
(2)切削液添加的条件下，使用粒度为120目的金刚石磨头对步骤(1)所得粗加工靶材的溅射面进行第二次磨削处理，第二次磨削处理的磨头转速为35000r/min，进给量为800mm/min，进刀量为0.03mm，完成对靶材的表面处理；
步骤(1)与步骤(2)所述切削液为用水稀释后的切削液，切削液与水的体积比为1:8。
以重量百分比计，所述切削液包括以下组分：辛基酚聚氧乙烯醚OP-1018％；异丙醇胺4％；聚丙烯酸8％；十二烷基硫酸钠7％；乙二醇丁醚4％；吐温10 3％；磷酸三丁酯0.2％；余量为水。
实施例5
本实施例提供了一种高硬度靶材的表面处理方法，所述高硬度靶材为钨硅靶材，所述表面处理方法包括如下步骤：
(1)切削液添加的条件下，使用粒度为180目的金刚石磨头对靶材溅射面进行第一次磨削处理，第一次磨削处理的磨头转速为30000r/min，进给量为3500mm/min，进刀量为0.15mm，得到粗加工靶材；
(2)切削液添加的条件下，使用粒度为180目的金刚石磨头对步骤(1)所得粗加工靶材的溅射面进行第二次磨削处理，第二次磨削处理的磨头转速为40000r/min，进给量为1500mm/min，进刀量为0.08mm，完成对靶材的表面处理；
步骤(1)与步骤(2)所述切削液为用水稀释后的切削液，切削液与水的体积比为1:12。
以重量百分比计，所述切削液包括以下组分：壬基酚聚氧乙烯醚TX-1030％；乙醇胺7％；聚丙烯酸9％；十二烷基苯磺酸钠4％；乙二醇丁醚2％；吐温40 7％；磷酸三丁酯0.6％；余量为水。
实施例6
本实施例提供了一种高硬度靶材的表面处理方法，除第一次磨削处理所用磨头的粒度为80目外，其余均与实施例1相同。
由于第一次磨削处理所用磨头的粒度较低，导致第一次磨削处理的效果不佳，进而影响第二次磨削处理的效果，且容易损坏第二次磨削处理所用磨头。
实施例7
本实施例提供了一种高硬度靶材的表面处理方法，除第一次磨削处理所用磨头的粒度为200目外，其余均与实施例1相同。
由于第一次磨削处理所用磨头的粒度较高，容易使第一次磨削处理所用磨头损坏，进而影响第一次磨削处理的效果。
实施例8
本实施例提供了一种高硬度靶材的表面处理方法，除第二次磨削处理所用磨头的粒度为80目外，其余均与实施例1相同。
由于第二次磨削处理所用磨头的粒度较低，无法有效降低靶材表面的粗糙度。
实施例9
本实施例提供了一种高硬度靶材的表面处理方法，除第二次磨削处理所用磨头的粒度为200目外，其余均与实施例1相同。
由于第二次磨削处理所用磨头的粒度较高，容易使第二次磨削处理所用磨头损坏，从而影响第二次磨削处理的效果。
实施例10
本实施例提供了一种高硬度靶材的表面处理方法，除第一次磨削处理所用磨头的磨头转速为20000r/min外，其余均与实施例1相同。
由于第一次磨削处理的转速较低，导致第一次磨削处理的效果不佳，进而影响第二次磨削处理的效果，且容易损坏第二次磨削处理所用磨头。
实施例11
本实施例提供了一种高硬度靶材的表面处理方法，除第一次磨削处理所用磨头的磨头转速为35000r/min外，其余均与实施例1相同。
由于第一次磨削处理的磨头转速较高，容易使第一次磨削处理所用磨头损坏，影响第一次磨削处理的磨削效果。
实施例12
本实施例提供了一种高硬度靶材的表面处理方法，除第二次磨削处理所用磨头的磨头转速为30000r/min外，其余均与实施例1相同。
由于第二次磨削处理的转速较低，无法有效降低靶材表面的粗糙度。
实施例13
本实施例提供了一种高硬度靶材的表面处理方法，除第二次磨削处理所用磨头的磨头转速为45000r/min外，其余均与实施例1相同。
由于第二次磨削处理的转速较高，容易使第二次磨削处理所用磨头损坏，从而影响第二次磨削处理的效果。
实施例14
本实施例提供了一种高硬度靶材的表面处理方法，除仅使用水作为切削液外，其余均与实施例1相同。
由于仅使用水作为切削液，无法实现对切削的润滑作用，也无法进行有效地降温，从而影响第一次磨削以及第二次磨削的效果，也降低了磨头的使用寿命。
使用SV2100表面粗糙度测试仪对实施例1-14经表面处理后的靶材的表面粗糙度进行测试，所得结构如表1所示。
表1
Figure BDA0002305138420000121
Figure BDA0002305138420000131
综上所述，本发明通过两次独立的磨削处理对靶材的表面进行处理，并通过对选择合适的切削液组成以及切削液用量，使表面处理后靶材的粗糙度Ra降低至0.4以下，且降低了磨头的磨损，延长了磨头的使用寿命。
以上所述的具体实施例，对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本发明的具体实施例而已，并不用于限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (18)

1.一种高硬度靶材的表面处理方法，其特征在于，所述表面处理方法包括如下步骤：
(1)对靶材溅射面进行第一次磨削处理，得到粗加工靶材；
(2)对步骤(1)所得粗加工靶材的溅射面进行第二次磨削处理。
2.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，步骤(1)所述第一次磨削处理所用磨头包括陶瓷磨头、砂布磨头和/或金刚石磨头，优选为金刚石磨头。
3.根据权利要求2的表面处理方法，其特征在于，步骤(1)所述第一次磨削处理所用磨头的粒度为100-180目。
4.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，步骤(2)所述第二次磨削处理所用磨头包括陶瓷磨头、砂布磨头和/或金刚石磨头，优选为金刚石磨头。
5.根据权利要求4所述的表面处理方法，其特征在于，步骤(2)所述第二次磨削处理所用磨头的粒度为100-180目。
6.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，步骤(1)所述第一次磨削处理的磨头转速为25000-30000r/min，进给量为2500-3500mm/min，进刀量为0.05-0.15mm。
7.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，步骤(2)所述第二次磨削处理的磨头转速为35000-40000r/min，进给量为800-1500mm/min，进刀量为0.03-0.08mm。
8.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于，步骤(1)所述第一次磨削处理与步骤(2)所述第二次磨削处理分别独立地在添加切削液的条件下进行。
9.根据权利要求8所述的表面处理方法，其特征在于，所述切削液为用水稀释后的切削液，切削液与水的体积比为1:(8-12)。
10.根据权利要求9所述的表面处理方法，其特征在于，所述切削液为水溶性切削液，以重量百分比计，所述水溶性切削液包括以下组分：
Figure FDA0002305138410000021
11.根据权利要求10所述的表面处理方法，其特征在于，所述润滑剂包括壬基酚聚氧乙烯醚TX-9、壬基酚聚氧乙烯醚TX-10、辛基酚聚氧乙烯醚OP-9或辛基酚聚氧乙烯醚OP-10中的任意一种或至少两种的组合。
12.根据权利要求10或11所述的表面处理方法，其特征在于，所述保护剂包括乙醇胺和/或异丙醇胺。
13.根据权利要求10-12任一项所述的表面处理方法，其特征在于，所述稳定剂包括聚乙二醇、聚丙烯酸或乙二胺四乙酸中的任意一种或至少两种的组合。
14.根据权利要求9-13任一项所述的表面处理方法，其特征在于，所述表面活性剂包括十二烷基硫酸钠和/或十二烷基苯磺酸钠。
15.根据权利要求9-14任一项所述的表面处理方法，其特征在于，所述渗透剂包括丙二醇丁醚、乙二醇丁醚或二乙二醇乙醚中的任意一种或至少两种的组合。
16.根据权利要求9-15任一项所述的表面处理方法，其特征在于，所述乳化剂包括吐温10、吐温20、吐温40或吐温60中的任意一种或至少两种的组合。
17.根据权利要求9-16任一项所述的表面处理方法，其特征在于，所述消泡剂包括聚醚改性硅、磷酸三丁酯或苯乙醇油酸酯中的任意一种或至少两种的组合。
18.根据权利要求1-17任一项所述的表面处理方法，其特征在于，所述表面处理方法包括如下步骤：
(1)切削液添加的条件下，使用粒度为100-180目的金刚石磨头对靶材溅射面进行第一次磨削处理，第一次磨削处理的磨头转速为25000-30000r/min，进给量为2500-3500mm/min，进刀量为0.05-0.15mm，得到粗加工靶材；
(2)切削液添加的条件下，使用粒度为100-180目的金刚石磨头对步骤(1)所得粗加工靶材的溅射面进行第二次磨削处理，第二次磨削处理的磨头转速为35000-40000r/min，进给量为800-1500mm/min，进刀量为0.03-0.08mm，完成对靶材的表面处理。
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