CN1112714C - 显象管屏清洗设备及方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种专用的显象管屏清洗设备及其方法，该设备包括一设置在圆周中心的回转工作台；一连接于回转工作台的间歇分度机构；多个沿圆周方向围绕中心回转工作台顺序排列的屏清洗单元；一设置在屏清洗单元上游的上屏系统；一设置在屏清洗单元下游的下屏系统；一包括电气走线分线管路和供水供气管路的管路系统；以及一控制上述各系统动作的控制系统。该设备具有高清洗质量和高自动化程度，并具有较高的适用性能。

Description

显象管屏清洗设备及方法

本发明涉及一种显象管屏清洗装置以及一种显象管屏清洗方法。

在彩色显象管的生产中，屏内表面的清洗质量是至关重要的。在传统的工艺流程中并没有专门的屏清洗设备，屏清洗只是在光抗机(用于将光致抗蚀剂涂覆到显象管玻璃屏内的设备)设备中设置两次酸洗、两次纯水冲洗就算完成。由于屏的质量因生产技术水平问题而可能不稳定，因而屏的内表面通过二次酸清洗有时达不到工艺要求，从而影响产品的质量。而加大酸的浓度又会炽伤屏，并且酸清洗时施放出的酸雾对光抗机的腐蚀非常厉害，从而大大降低光抗机的使用寿命。另一方面，在传统的工艺中，后续的有机膜涂敷和蒸铝工序之后所报废的屏通常是通过稳定炉再回用工艺而进行重新利用的，其中的稳定炉是高耗能设备，因而回用成本相当高。

本发明的目的在于提供一种高清洗质量和高自动化程度的专用显象管屏清洗设备。

本发明的另一目的在于提供一种具有高清洗质量并适于清洗各种屏的显象管屏清洗方法。

按照本发明的一个方面所提供的一种显象管屏清洗设备，它包括：一设置在圆周中心的回转工作台；一连接于回转工作台的间歇分度机构；多个沿圆周方向围绕中心回转工作台顺序排列的屏清洗单元，它们依次包括至少一个洗净水预湿单元，至少一个氢氧化钠清洗单元，至少一个氢氟酸清洗单元，每个所述氢氟酸清洗单元前后各有至少一个洗净水冲洗单元，至少一个回用纯水冲洗单元，至少一个离心脱水单元；一设置在屏清洗单元上游的上屏系统；一设置在屏清洗单元下游的下屏系统；一包括电气走线分线管路和供水供气管路的管路系统；以及一控制上述各系统动作的控制系统。这里所称的“洗净水”是指自来水经过滤后的工艺用水。

在上述设备中，在诸清洗单元的上游或下游处至少设置一个空位。

在上述设备中，纯水冲洗单元最好由一纯水回用箱供给回用纯水。

在上述设备中，在诸屏清洗单元的入口处设置一屏检测装置。

按照本发明的另一个方面所提供的一种显象管屏清洗方法，它依次包括下列步骤：至少一次洗净水预湿；至少一次氢氧化钠清洗；至少一次氢氟酸清洗，在每次所述氢氟酸清洗前后各进行至少一次洗净水冲洗；至少一次水冲洗；以及至少一次离心脱水。

在上述方法中，最好进行二次氢氧化钠清洗和三次氢氟酸清洗，以实现充分的洗净程度。

在上述方法中，洗净水均可采用自来水。

在上述方法中，最后的水冲洗用纯水冲洗，该纯水可由光抗机用过的要排放的纯水经回收和过滤而成。

本发明的显象管屏清洗设备及清洗方法具有以下优点。

一、本发明的设备将屏清洗工序独立于屏生产流程中的其它工序设置，因而使得在清洗过程中采用强腐蚀性清洗液成为可能，而不会有腐蚀其它工艺设备的危险，从而延长了工艺流程中有关设备的使用寿命。

二、本发明的设备采用了回转式的布局结构，因而便于实现较高的工作效率和自动化程度，并可节省设备占地面积。

三、本发明的方法在酸洗前加入了加温的氢氧化钠喷洗，因而可除去有机膜和铝膜，保证后续酸洗的质量，从而使整个清洗工序也适用于在有机膜涂敷和蒸铝后报废的立即回用屏。因此，整机的适用性能较强。

四、本发明的方法在氢氟酸清洗前后加入了水冲洗，这样不仅能够自由调节氢氟酸的浓度，而且还可防止屏的炽伤。另一方面，可使氢氟酸液体中垃圾的浓度大大减少，从而降低工作人员的日常维护保养，减少酸泵的磨损。

下面将参照附图来详细描述本发明的显象管屏清洗设备和清洗方法的较佳实施例，附图中：

图1是按本发明一较佳实施例的显象管屏清洗设备的平面示意图；

图2是沿图1中的A-A线剖开的剖视示意图；

图3是按本发明一较佳实施例的显象管屏清洗方法的各步骤的平面配置示意图，也是图1所示设备的各清洗单元的平面配置图。

参阅附图，显象管屏清洗设备1包括18个工位，其中包括上料工位45和下料工位51以及两个位于上料工位45两侧的空位30p和30p，在上料工位45处设置屏检测装置(未示出)，用于检测屏的存在与否，从而将信息传送给一控制系统80，以便由控制系统80根据有屏则洗，无屏不洗的方式控制各清洗单元的动作。空位30p和30p的设置主要是用于设备中其它某些单元的维修。除了上述4个工位，还包括14个清洗单元(即清洗工位)，它们沿圆周方向围绕一中央的回转工作台10而设置。从图3中可清楚地看出，这15个清洗单元沿顺时针方向依次是洗净水预湿单元30a、氢氧化钠清洗单元30b和30c、洗净水冲洗单元30d、氢氟酸清洗单元30e、洗净水冲洗单元30f、氢氟酸清洗单元30g、洗净水冲洗单元30h、氢氟酸清洗单元30i、洗净水冲洗单元30j和30k、回用纯水冲洗单元30l、离心脱水单元30m和30n。每个清洗单元包括一液体回收槽31，槽内于中央处装有一向上的喷头32，该喷头32通过管道和泵压装置(未示出)由清洗液源供给清洗液，这些清洗液源包括碱液箱33、氢氟酸箱34、洗净水源(未示出)和纯水回用箱70，分别用于碱洗、酸洗、洗净水冲洗和纯水冲洗工位。各清洗单元还设置有隔板装置35，用于防止清洗液溅射到周围的空间和相邻设备上。中央的回转工作台10连接有一间歇分度机构20，用以实现所需的间歇回转动作。如一般的回转台一样，回转工作台10具有分电集电装置11。回转工作台10分别对应于各清洗单元沿径向延伸有一回转臂12。回转臂12的末端终止于各清洗单元的上方，并安装有一自转载体头13。自转载体头13连接有一用于夹持显象管屏的卡盘14，并由一电机15驱动，从而转动所夹持的显象管屏。在诸清洗单元的上游处设置有一上屏系统40，它包括上屏定位装置41、上屏传送带42、整屏装置43和卡盘定位夹紧装置44，这些装置依次地大致沿传送带轴线设置，彼此配合而将各显象管屏定位于卡盘14上。在下料工位51处设置有下屏系统50，该系统包括下屏放松装置52、下屏传送带53和下屏装置(未示出)，这些装置大致沿传送带的轴线而设置。沿设备1的周边设置有一管路系统60，它包括电气走线分线管路部分61以及供水供气管路部分62，由一管路支架63支承。此外，上述各部分的动作均由控制系统80控制。该控制系统80以可编程序控制器作为主控单元，并通过接口和电气线路连接于上述各执行单元。

工作时，由上屏系统40的上屏传送带42输送到上料工位45的显象管屏被卡盘14夹持，同时，回转工作台10按照预先设定的程序参数在控制系统80的控制下进行间歇分度回转，从而使卡盘14所夹持的显象管屏依次通过各清洗单元，该过程的顺序是：洗净水预湿→氢氧化钠清洗→氢氧化钠清洗→洗净水冲洗→氢氟酸清洗→洗净水冲洗→氢氟酸清洗→洗净水冲洗→氢氟酸清洗→洗净水冲洗→洗净水冲洗→回用纯水冲洗→离心脱水→离心脱水。屏在每个清洗单元停留的时间约为9秒，回转工作台10的转位时间接近2秒。当屏经过所有的清洗单元而到达下料工位51时，下屏松开装置52将屏置于下屏传送带53上，以输送至下游的其它工序。按这种方式，待清洗的显象管屏可连续不断地输入该屏清洗设备1，按顺序自动地接受各清洗单元的清洗。如果前后两个显象管屏之间隔开一个或若干个转动节拍，则设置在上料工位45处的屏检测装置会将检测信号传送至控制系统80并由控制系统记忆和处理，从而控制没有屏的清洗单元不工作，因而可节省清洗材料和能源，并能防止清洗液喷出清洗液回收槽31。

Claims (9)

1.一种显象管屏清洗设备，其特征在于，它包括：

一设置在圆周中心的回转工作台；

一连接于回转工作台的间歇分度机构；

多个沿圆周方向围绕中心回转工作台顺序排列的屏清洗单元，依次包括：

至少一个洗净水预湿单元，

至少一个氢氧化钠清洗单元，

至少一个氢氟酸清洗单元，每个所述氢氟酸清洗单元前后各有至少一个洗净水冲洗单元，

至少一个回用纯水冲洗单元，

至少一个离心脱水单元；

一设置在屏清洗单元上游的上屏系统；

一设置在屏清洗单元下游的下屏系统；

一包括电气走线分线管路和供水供气管路的管路系统；以及

一控制上述各系统动作的控制系统。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，在诸所述清洗单元的上游或下游处至少设置一个空位。

3.根据权利要求1或2所述的设备，其特征在于，所述纯水冲洗单元由一纯水回用箱供给回用纯水。

4.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，在诸所述屏清洗单元的入口处设置一屏检测装置。

5.一种利用权利要求1所述的显象管屏清洗设备清洗显象管屏的方法，依次包括下列：

至少一次洗净水预湿；

至少一次氢氧化钠清洗；

至少一次氢氟酸清洗，在每次所述氢氟酸清洗前后各进行至少一次洗净水冲洗；

至少一次水冲洗；以及

至少一次离心脱水。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，包括二次氢氧化钠清洗和三次氢氟酸清洗。

7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述洗净水冲洗采用自来水。

8.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，最后的水冲洗用纯水冲洗。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述纯水由光抗机用过的要排放的纯水经回收和过滤而成。

Images