CN111198179A - 一种自吸收免疫激光诱导击穿光谱的双线快速选择方法 - Google Patents

一种自吸收免疫激光诱导击穿光谱的双线快速选择方法 Download PDF

Info

Publication number
CN111198179A
CN111198179A CN202010029534.2A CN202010029534A CN111198179A CN 111198179 A CN111198179 A CN 111198179A CN 202010029534 A CN202010029534 A CN 202010029534A CN 111198179 A CN111198179 A CN 111198179A
Authority
CN
China
Prior art keywords
line
double
self
samples
batch
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202010029534.2A
Other languages
English (en)
Inventor
侯佳佳
骆丁玲
张雷
尹王保
肖连团
贾锁堂
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shanxi University
Original Assignee
Shanxi University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shanxi University filed Critical Shanxi University
Priority to CN202010029534.2A priority Critical patent/CN111198179A/zh
Publication of CN111198179A publication Critical patent/CN111198179A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/62Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
    • G01N21/71Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)

Abstract

本发明涉及一种自吸收免疫激光诱导击穿光谱的双线快速选择方法,通过比较一批样品中待测元素含量最高的边界样品在等离子体初期和末期的双线强度比值和理论强度比值来确定所选双线在等离子体辐射光谱采集期间内,是否能达到光学薄态并适用于SAF‑LIBS分析。通过本发明,能够在实际测量前快速地选择能达到光学薄态的待测元素双线,从而消除自吸收效应对定量分析的影响,获得更精确的定量分析结果。

Description

一种自吸收免疫激光诱导击穿光谱的双线快速选择方法
技术领域
本发明涉及激光光谱分析与检测方法技术领域,更具体地说,涉及一种自吸收免疫激光诱导击穿光谱的双线快速选择方法。
背景技术
激光诱导击穿光谱(LIBS)可以通过分析激光诱导等离子体的光谱信息,对材料成分进行定性和定量的分析。当等离子体发射的辐射在穿过等离子体时没有明显吸收或散射的情况时,它可以被认为是光学薄态,但一般在高密度等离子体的情况下,存在向外发射的辐射被等离子体本身重新吸收的自吸收效应,这会降低辐射强度并拓宽谱线宽度,进而影响定量分析结果。因此,消除自吸收以获得准光学薄谱线对于LIBS的准确测量至关重要。
自吸收免疫激光诱导击穿光谱(SAF-LIBS)技术,可以通过比较分析元素在特定跃迁波长处的双线强度比值和理论强度比值来确定最佳的采集延迟时间,直接获得准光学薄谱线,从而消除自吸收效应对定量分析结果的影响。然而,在对实际样品的定量分析中,由于待测元素不同的双线具有不同的最大可检测元素含量,因此如何快速选择合适的双线成为SAF-LIBS技术简便化应用的关键。
发明内容
本发明要解决的技术问题在于,针对现有技术的上述缺陷,提供一种自吸收免疫激光诱导击穿光谱的双线快速选择方法。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:构造一种自吸收免疫激光诱导击穿光谱的双线快速选择方法,包括:
(1)选定一组待测元素的上能级能量差及下能级能量差皆小于0.05eV的双线,将强度高的记为第一谱线,强度低的记为第二谱线,计算两条谱线处于光学薄态的理论积分强度比值C1
(2)以固定时间间隔为步长,对于一批待测样品中含量最高的边界样品在等离子体的演化初、末期,分别测定双线信噪比大于10的最小和最大光谱采集延迟时间ti和tf
(3)在ti和tf时刻,分别测定含量最高的边界样品等离子体的双线积分强度比值Ri和Rf
(4)若(C1-Ri)·(C1-Rf)﹤0,则该批样品的等离子体可达到准光学薄态,所选双线适用于对该批样品进行SAF-LIBS定量分析;若(C1-Ri)·(C1-Rf)﹥0,则该双线不适用于对该批样品进行SAF-LIBS定量分析,需另选其它双线。
其中,处于光学薄态的双线理论积分强度比值通过以下公式计算:
Figure BDA0002363760280000021
其中,
Figure BDA0002363760280000022
是谱线处于光学薄态的理论积分强度,A是跃迁几率,g是上能级简并度,λ是谱线波长;标号1和2分别代表第一谱线和第二谱线。
区别于现有技术,本发明提供的自吸收免疫激光诱导击穿光谱的双线快速选择方法通过比较待测元素含量最高的边界样品在等离子体初期和末期的双线强度比值和理论强度比值来确定所选双线在等离子体辐射光谱采集期间内,是否能达到光学薄态并适用于SAF-LIBS分析。通过本发明,能够在实际测量前快速地选择能达到光学薄态的待测元素双线,从而消除自吸收效应对定量分析的影响,获得更精确的定量分析结果。
附图说明
下面将结合附图及实施例对本发明作进一步说明,附图中:
图1是本发明提供的一种自吸收免疫激光诱导击穿光谱的双线快速选择方法的流程示意图。
图2是本发明提供的一种自吸收免疫激光诱导击穿光谱的双线快速选择方法中设置样品的双线积分强度比值随时间演化的示意图。
具体实施方式
为了对本发明的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解,现对照附图详细说明本发明的具体实施方式。
如图1所示,在本发明提供了一种自吸收免疫激光诱导击穿光谱的双线快速选择方法,该方法的步骤包括:
(1)选定一组待测元素的上能级能量差及下能级能量差皆小于0.05eV的双线,将强度高的记为第一谱线,强度低的记为第二谱线,计算两条谱线处于光学薄态的理论积分强度比值C1
(2)以固定时间间隔为步长,对于一批待测样品中含量最高的边界样品在等离子体的演化初、末期,分别测定双线信噪比大于10的最小和最大光谱采集延迟时间ti和tf
(3)在ti和tf时刻,分别测定含量最高的边界样品等离子体的双线积分强度比值Ri和Rf
(4)若(C1-Ri)·(C1-Rf)﹤0,则该批样品的等离子体可达到准光学薄态,所选双线适用于对该批样品进行SAF-LIBS定量分析;若(C1-Ri)·(C1-Rf)﹥0,则该双线不适用于对该批样品进行SAF-LIBS定量分析,需另选其它双线。
其中,处于光学薄态的双线理论积分强度比值通过以下公式计算:
Figure BDA0002363760280000031
其中,
Figure BDA0002363760280000032
是谱线处于光学薄态的理论积分强度,A是跃迁几率,g是上能级简并度,λ是谱线波长;标号1和2分别代表第一谱线和第二谱线。
如图2所示,本发明以含Cu量为3%、9%、15%、30%和60%的样品所对应的Cu I521.82nm和Cu I 515.32nm双线比值的时间演化为例。
以KBr和CuO粉末混合压制而成的五个压片样品为例,对其中的Cu元素(其含Cu量分别为3%、9%、15%、30%和60%)进行定量分析。
选择双线Cu I 521.82nm和Cu I 515.32nm,分别记为第一谱线和第二谱线,其谱线相应参数见表1:
Figure BDA0002363760280000041
表1 Cu I谱线参数表
结合表1的参数,计算这两条谱线处于光学薄态的理论积分强度比值为:
Figure BDA0002363760280000042
选取含Cu量为60%的压片作为元素含量最高的边界样品,采集以50ns为步长,延迟时间从0~1000ns范围内的光谱,发现当延迟时间为200ns时,光谱中双线Cu I 521.82nm和Cu I 515.32nm的谱线信噪比皆大于10,记ti=200ns,到850ns时,该谱线信噪比开始小于10,所以tf=800ns。
测定含Cu量为60%的边界样品等离子体在ti=200ns和tf=800ns时刻双线Cu I521.82nm和Cu I 515.32nm的积分强度比值,分别为Ri=1.63和Rf=1.80;若选取含Cu量为30%的压片作为元素含量最高的边界样品,测定其在200ns和800ns时刻该双线的积分强度比值,分别为Ri=1.65和Rf=1.97。
结果表明最大含Cu量为60%的边界样品计算所得(C1-Ri)·(C1-Rf)=(1.85-1.63)·(1.85-1.80)>0,所以该Cu双线不适用于对最大含Cu量为60%的该批样品进行SAF-LIBS分析;对于最大含Cu量为30%的边界样品计算所得(C1-Ri)·(C1-Rf)=(1.85-1.65)·(1.85-1.97)<0,所以对于最大含Cu量为30%的该批样品的等离子体均可达到准光学薄态,该双线适用于对该批样品进行SAF-LIBS定量分析。为了验证本发明所述谱线选择方法的正确性,以100ns为固定时间间隔,采集了五个不同含Cu量标准样品的Cu I 521.82nm和Cu I515.32nm双线的积分强度比值在200-800ns内随时间的演化曲线,并与理论强度比值1.85作了比较(图2),结果表明该双线对于含Cu量小于等于30%的样品确实能在等离子体辐射采集过程中达到准光学薄态,从而验证了该谱线选择方法的正确性。
区别于现有技术,本发明提供的自吸收免疫激光诱导击穿光谱的双线快速选择方法通过比较待测元素含量最高的边界样品在等离子体初期和末期的双线强度比值和理论强度比值来确定所选双线在等离子体辐射光谱采集期间内,是否能达到光学薄态并适用于SAF-LIBS分析。通过本发明,能够在实际测量前快速地选择能达到光学薄态的待测元素双线,从而消除自吸收效应对定量分析的影响,获得更精确的定量分析结果。
上面结合附图对本发明的实施例进行了描述,但是本发明并不局限于上述的具体实施方式,上述的具体实施方式仅仅是示意性的,而不是限制性的,本领域的普通技术人员在本发明的启示下,在不脱离本发明宗旨和权利要求所保护的范围情况下,还可做出很多形式,这些均属于本发明的保护之内。

Claims (2)

1.一种自吸收免疫激光诱导击穿光谱的双线快速选择方法,其特征在于,包括步骤:
(1)选定一组待测元素的上能级能量差及下能级能量差皆小于0.05 eV的双线,将强度高的记为第一谱线,强度低的记为第二谱线,计算两条谱线处于光学薄态的理论积分强度比值C1
(2)以固定时间间隔为步长,对于一批待测样品中含量最高的边界样品在等离子体的演化初、末期,分别测定双线信噪比大于10的最小和最大光谱采集延迟时间t it f
(3)在t it f时刻,分别测定含量最高的边界样品等离子体的双线积分强度比值R iR f
(4)若(C1-R i)·(C1-R f)﹤0,则该批样品的等离子体均可达到准光学薄态,所选双线适用于对该批样品进行SAF-LIBS定量分析;若(C1-R i)·(C1-R f)﹥0,则该双线不适用于对该批样品进行SAF-LIBS定量分析,需另选其它双线。
2.根据权利要求1所述的自吸收免疫激光诱导击穿光谱的双线快速选择方法,其特征在于,处于光学薄态的双线理论积分强度比值通过以下公式计算:
Figure DEST_PATH_IMAGE002
其中,是谱线处于光学薄态的理论积分强度,A是跃迁几率,g是上能级简并度,λ是谱线波长;标号1和2分别代表第一谱线和第二谱线。
CN202010029534.2A 2020-01-13 2020-01-13 一种自吸收免疫激光诱导击穿光谱的双线快速选择方法 Pending CN111198179A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010029534.2A CN111198179A (zh) 2020-01-13 2020-01-13 一种自吸收免疫激光诱导击穿光谱的双线快速选择方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010029534.2A CN111198179A (zh) 2020-01-13 2020-01-13 一种自吸收免疫激光诱导击穿光谱的双线快速选择方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN111198179A true CN111198179A (zh) 2020-05-26

Family

ID=70744879

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202010029534.2A Pending CN111198179A (zh) 2020-01-13 2020-01-13 一种自吸收免疫激光诱导击穿光谱的双线快速选择方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN111198179A (zh)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106526228A (zh) * 2016-11-02 2017-03-22 中国人民解放军国防科学技术大学 激光诱导荧光测速的自标定方法及系统
CN108344729A (zh) * 2018-05-18 2018-07-31 温州大学 一种基于多谱线内定标校准的激光诱导击穿光谱快速检测方法
CN109799225A (zh) * 2019-01-09 2019-05-24 山西大学 一种基于共振与非共振双线测量元素含量的方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106526228A (zh) * 2016-11-02 2017-03-22 中国人民解放军国防科学技术大学 激光诱导荧光测速的自标定方法及系统
CN108344729A (zh) * 2018-05-18 2018-07-31 温州大学 一种基于多谱线内定标校准的激光诱导击穿光谱快速检测方法
CN109799225A (zh) * 2019-01-09 2019-05-24 山西大学 一种基于共振与非共振双线测量元素含量的方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
J. J. HOU ET AL.: "Rapid selection of analytical lines for SAF-LIBS based on the doublet intensity ratios at the initial and final stages of plasma", 《OPTICS EXPRESS》 *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Smith et al. Surface analysis by electron spectroscopy
Body et al. Optimization of the spectral data processing in a LIBS simultaneous elemental analysis system
CN102359953B (zh) 基于激光诱导击穿光谱的普通黄铜全元素分析方法
EP2525213A1 (en) Spectroscopic apparatus and methods for determining components present in a sample
CN108333171B (zh) 基于激光诱导击穿光谱检测乳粉中微量元素含量的方法
CN110987903B (zh) 一种libs基体效应校正方法及其应用
CN103792215B (zh) 一种快速测量钢铁中碳元素含量的方法
JP2014119457A (ja) レーザープラズマスペクトルを用いた試料内の測定対象元素の定量分析方法
CN113340874B (zh) 一种基于结合岭回归和递归特征消除的定量分析方法
CN108398416A (zh) 一种基于激光拉曼光谱的混合物成分测定方法
Bonta et al. Metal analysis in polymers using tandem LA-ICP-MS/LIBS: eliminating matrix effects using multivariate calibration
CN103543132B (zh) 一种基于小波变换的煤质特性测量方法
CN105572103A (zh) 一种基于激光诱导击穿光谱技术同时定量检测皮革中多种重金属的方法
CN106153561A (zh) 基于波长筛选的紫外可见光谱多金属离子检测方法
Harville et al. Line selection and evaluation of radio frequency glow discharge atomic emission spectrometry for the analysis of copper and aluminum alloys
CN106442474A (zh) 一种基于偏最小二乘法的水泥生料三率值测量方法
CN108344729A (zh) 一种基于多谱线内定标校准的激光诱导击穿光谱快速检测方法
CN111198179A (zh) 一种自吸收免疫激光诱导击穿光谱的双线快速选择方法
JP2006153460A (ja) 蛍光検出方法、検出装置及び蛍光検出プログラム
CN108489952B (zh) 三维荧光光谱结合二次微分检测水体溶解性有机物的方法
CN114199856B (zh) 一种激光诱导击穿光谱元素含量比值快速定标方法
JPH0688792A (ja) 汚染元素分析方法
CN115146219A (zh) 基于导数光谱和三次平滑的拉曼光谱尖峰去除方法和系统
Mao et al. Reduction of spectral interferences and noise effects in laser ablation molecular isotopic spectrometry with partial least square regression–a computer simulation study
CN108693155B (zh) 基于dmd的原子荧光多通道检测光源杂质干扰校正方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20200526

RJ01 Rejection of invention patent application after publication