CN111155100A - 一种低成本无残留的脱脂剂 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种低成本无残留的脱脂剂。该金属脱脂剂由以下组分组成：硅酸钾10‑30重量份、柠檬酸5‑22重量份、去酯剂基料15‑22重量份、助洗分散剂15‑22重量份、水5‑35重量份、三乙醇胺1‑3重量份、EDTA二钠1‑3重量份、聚氧乙烯聚氧丙烯单丁基醚1‑3重量份。本发明低成本、配方简单、适于推广，脱脂性能较强，且脱脂后不存在残留。
Description
技术领域
本发明属于化学药剂领域，更具体地，涉及一种低成本无残留的脱脂剂。
背景技术
脱脂剂主要用于脱除物体表面油污，包括：碱性脱脂剂、乳液脱脂剂和溶剂脱脂剂三种。
(1)碱性脱脂剂，由碱、螯合剂及表面活性剂组成，包括复合高效脱脂剂、高温强力脱脂剂等。
(2)乳液脱脂剂，利用表面活性剂的润湿性、浸透性、乳化性及分散性可以脱除金属表面的污垢；一般采用阴离子型、阳离子型、非离子型等表面活性剂中的一种或数种混合物，并用水稀释制成乳液。
(3)溶剂脱脂剂，采用浸渍法或蒸汽法脱脂，主要采用的溶剂有卤代烃溶剂及氟代烃溶剂等。以表面活性剂为主的脱脂剂配方清洗金属表面时不至于损伤金属制品的质地，而且少量的脱脂剂即可使大量的油脂乳化分散，从而使油垢易于脱离金属表面，是较为理想的一类金属清洗剂。
常用的表面活性剂有LAS、AOS等阴离子型和AEO等非离子型表面活性剂。前者具有较强的去污力，但耐硬水差，使用时添加螯合剂；后者对硬水不敏感，但洗涤温度要适当，防止出现浊点。含有表面活性剂的脱脂剂配方对金属表面油垢的去除主要依靠其乳化作用，最好选用HLB值较低的表面活性剂品种。但此类物质水溶性较弱，不易漂洗，常在被洗物表面残留一层吸附膜，因此配方中乙醇可将其溶解去除之。现有技术中的金属脱脂剂脱脂性能较差，且脱脂后存在残留，存在着成本高等问题。
发明内容
本发明的目的是在于提供一种低成本、配方简单、适于推广的脱脂剂。
为了实现上述目的，本发明提供一种低成本无残留的脱脂剂。该金属脱脂剂由以下组分组成：硅酸钾10-30重量份、柠檬酸5-20重量份、去酯剂基料15-20重量份、助洗分散剂15-20重量份、水5-35重量份、三乙醇胺1-3重量份、EDTA二钠1-3重量份、聚氧乙烯聚氧丙烯单丁基醚1-3重量份。
作为本发明优选的实施方式，该金属脱脂剂由以下组分组成：硅酸钾15-25重量份、柠檬酸10-15重量份、去酯剂基料16-19重量份、助洗分散剂16-19重量份、水10-20重量份、三乙醇胺1.5-2.5重量份、EDTA二钠1.5-2.5重量份、聚氧乙烯聚氧丙烯单丁基醚1.5-2.5重量份。
作为本发明优选的实施方式，该金属脱脂剂由以下组分组成：硅酸钾18-22重量份、柠檬酸12-14重量份、去酯剂基料17-18重量份、助洗分散剂17-18重量份、水12-18重量份、三乙醇胺1.8-2.2重量份、EDTA二钠1.8-2.2重量份、聚氧乙烯聚氧丙烯单丁基醚1.8-2.2重量份。
作为本发明优选的实施方式，其中，该金属脱脂剂由以下组分组成：硅酸钾20重量份、柠檬酸13重量份、去酯剂基料18重量份、助洗分散剂18重量份、水15重量份、三乙醇胺2重量份、EDTA二钠2重量份、聚氧乙烯聚氧丙烯单丁基醚2重量份。作为本发明优选的实施方式，所述水为去离子水。
作为本发明优选的实施方式，各组分的纯度为分析纯。作为本发明优选的实施方式，所述去酯剂基料为N-甲基去酯剂基料。
本发明的有益效果：本发明低成本、配方简单、适于推广，脱脂性能较强，且脱脂后不存在残留。
本发明的其它特征和优点将在随后具体实施方式部分予以详细说明。
具体实施方式
下面将更详细地描述本发明的优选实施方式。虽然以下描述了本发明的优选实施方式，然而应该理解，可以以各种形式实现本发明而不应被这里阐述的实施方式所限制。相反，提供这些实施方式是为了使本发明更加透彻和完整，并且能够将本发明的范围完整地传达给本领域的技术人员。
本发明实施例中，所述水为去离子水，各组分的纯度为分析纯，所述去酯剂基料为N-甲基去酯剂基料。
实施例1：
本发明提供一种低成本无残留的脱脂剂。该金属脱脂剂由以下组分组成：硅酸钾10重量份、柠檬酸20重量份、去酯剂基料20重量份、助洗分散剂15重量份、水30重量份、三乙醇胺3重量份、EDTA二钠3重量份、聚氧乙烯聚氧丙烯单丁基醚1重量份。
实施例2：
本发明提供一种低成本无残留的脱脂剂。该金属脱脂剂由以下组分组成：硅酸钾30重量份、柠檬酸5重量份、去酯剂基料15重量份、助洗分散剂20重量份、水5重量份、三乙醇胺1重量份、EDTA二钠1重量份、聚氧乙烯聚氧丙烯单丁基醚3重量份。
实施例3：
本发明提供一种低成本无残留的脱脂剂。该金属脱脂剂由以下组分组成：硅酸钾25重量份、柠檬酸10重量份、去酯剂基料19重量份、助洗分散剂19重量份、水10重量份、三乙醇胺2.5重量份、EDTA二钠2.5重量份、聚氧乙烯聚氧丙烯单丁基醚1.5重量份。
实施例4：
本发明提供一种低成本无残留的脱脂剂。该金属脱脂剂由以下组分组成：硅酸钾15重量份、柠檬酸15重量份、去酯剂基料16重量份、助洗分散剂16重量份、水20重量份、三乙醇胺1.5重量份、EDTA二钠1.5重量份、聚氧乙烯聚氧丙烯单丁基醚2.5重量份。
实施例5：
本发明提供一种低成本无残留的脱脂剂。该金属脱脂剂由以下组分组成：硅酸钾20重量份、柠檬酸13重量份、去酯剂基料18重量份、助洗分散剂18重量份、水15重量份、三乙醇胺2重量份、EDTA二钠2重量份、聚氧乙烯聚氧丙烯单丁基醚2重量份。
以上已经描述了本发明的各实施例，上述说明是示例性的，并非穷尽性的，并且也不限于所披露的各实施例。在不偏离所说明的各实施例的范围和精神的情况下，对于本技术领域的普通技术人员来说许多修改和变更都是显而易见的。
Claims (7)
1.一种低成本无残留的脱脂剂，其特征在于，该金属脱脂剂由以下组分组成：硅酸钾10-30重量份、柠檬酸5-20重量份、去酯剂基料15-20重量份、助洗分散剂15-20重量份、水5-35重量份、三乙醇胺1-3重量份、EDTA二钠1-3重量份、聚氧乙烯聚氧丙烯单丁基醚1-3重量份。
2.根据权利要求1所述的金属脱脂剂，其中，该金属脱脂剂由以下组分组成：硅酸钾15-25重量份、柠檬酸10-15重量份、去酯剂基料16-19重量份、助洗分散剂16-19重量份、水10-20重量份、三乙醇胺1.5-2.5重量份、EDTA二钠1.5-2.5重量份、聚氧乙烯聚氧丙烯单丁基醚1.5-2.5重量份。
3.根据权利要求2所述的金属脱脂剂，其中，该金属脱脂剂由以下组分组成：硅酸钾18-22重量份、柠檬酸12-14重量份、去酯剂基料17-18重量份、助洗分散剂17-18重量份、水12-18重量份、三乙醇胺1.8-2.2重量份、EDTA二钠1.8-2.2重量份、聚氧乙烯聚氧丙烯单丁基醚1.8-2.2重量份。
4.根据权利要求3所述的金属脱脂剂，其中，该金属脱脂剂由以下组分组成：硅酸钾20重量份、柠檬酸13重量份、去酯剂基料18重量份、助洗分散剂18重量份、水15重量份、三乙醇胺2重量份、EDTA二钠2重量份、聚氧乙烯聚氧丙烯单丁基醚2重量份。
5.根据权利要求1所述的金属脱脂剂，其中，所述水为去离子水。
6.根据权利要求1所述的金属脱脂剂，其中，各组分的纯度为分析纯。
7.根据权利要求1所述的金属脱脂剂，其中，所述去酯剂基料为N-甲基去酯剂基料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN201811326738.1A CN111155100A (zh) | 2018-11-08 | 2018-11-08 | 一种低成本无残留的脱脂剂 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN201811326738.1A CN111155100A (zh) | 2018-11-08 | 2018-11-08 | 一种低成本无残留的脱脂剂 |
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ID=70555567
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| CN201811326738.1A Withdrawn CN111155100A (zh) | 2018-11-08 | 2018-11-08 | 一种低成本无残留的脱脂剂 |
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