CN111139437A - 一种转动式熔料装置 - Google Patents

一种转动式熔料装置 Download PDF

Info

Publication number
CN111139437A
CN111139437A CN202010125931.XA CN202010125931A CN111139437A CN 111139437 A CN111139437 A CN 111139437A CN 202010125931 A CN202010125931 A CN 202010125931A CN 111139437 A CN111139437 A CN 111139437A
Authority
CN
China
Prior art keywords
crucible
cavity
electron gun
disc
melt
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202010125931.XA
Other languages
English (en)
Inventor
王伟
卢成
陈洪超
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
CHENGDU GUOTAI VACUUM EQUIPMENT CO.,LTD.
Original Assignee
Chengdu Guotai Vacuum Equipment Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Chengdu Guotai Vacuum Equipment Co ltd filed Critical Chengdu Guotai Vacuum Equipment Co ltd
Priority to CN202010125931.XA priority Critical patent/CN111139437A/zh
Publication of CN111139437A publication Critical patent/CN111139437A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/28Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
    • C23C14/30Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crucibles And Fluidized-Bed Furnaces (AREA)

Abstract

本发明涉及熔料技术领域,具体而言,涉及一种转动式熔料装置,包括:壳体、坩埚盘、电子枪和步进电机。通过在壳体开设腔室,将坩埚盘设置于腔室内,坩埚盘的一侧设置有电子枪,步进电机的转轴从腔室的底壁伸入腔室内,并与坩埚盘固定。在坩埚盘内加入足量的熔料产品时,步进电机通过转轴控制坩埚盘的转动进而使得电子枪对坩埚盘内的熔料产品进行轰击,并将其熔化。如此,无需频繁开启腔室对熔料产品进行更换,进而能够提高熔料效率并缩短熔料时长,同时能够避免对熔料产品造成污染。

Description

一种转动式熔料装置
技术领域
本发明涉及熔料技术领域,具体而言,涉及一种转动式熔料装置。
背景技术
熔料是传统的电子束真空镀膜设备在镀膜过程非常重要的一个环节,电子束真空镀膜设备在镀膜过程中需要先进行熔料操作。然而常见的熔料机的熔料效率低下,需要在熔料过程中不断地打开熔料机更换材料,这样会导致熔料时间过长,此外,频繁开启熔料机会污染熔料产品。
发明内容
本发明提供了一种转动式熔料装置,通过在壳体开设腔室,将坩埚盘设置于腔室内,坩埚盘的一侧设置有电子枪,步进电机的转轴从腔室的底壁伸入腔室内,并与坩埚盘固定。在坩埚盘内加入足量的熔料产品时,步进电机通过转轴控制坩埚盘的转动进而使得电子枪对坩埚盘内的熔料产品进行轰击,并将其熔化。如此,无需频繁开启腔室对熔料产品进行更换,进而能够提高熔料效率并缩短熔料时长,同时能够避免对熔料产品造成污染。
本发明提供了一种转动式熔料装置,包括:壳体、坩埚盘、电子枪和步进电机;
所述壳体内开设有腔室;
所述坩埚盘设置于所述腔室内的底壁处;
所述电子枪设置于所述腔室内并位于所述坩埚盘的一侧,所述电子枪朝向所述坩埚盘;
所述步进电机设置于所述壳体内并位于所述腔室外,所述步进电机的转轴从所述腔室的底壁伸入所述腔室内,并与所述坩埚盘固定。
在一种可替代的实施方式中,所述熔料装置还包括:真空排气件和抽气管;
所述真空排气件设置于所述壳体内并靠近所述腔室;
所述抽气管的一端与所述腔室连通,所述抽气管的另一端与所述真空排气件连通。
在一种可替代的实施方式中,所述抽气管的一端从所述腔室的底部或侧壁伸入所述腔室内。
在一种可替代的实施方式中,所述抽气管上设置有阀门。
在一种可替代的实施方式中,所述真空排气件的一侧设置有排气口。
在一种可替代的实施方式中,所述坩埚盘远离所述底壁的一面环饶设置有多个坩埚。
在一种可替代的实施方式中,所述坩埚盘内的坩埚等间距分布。
在一种可替代的实施方式中,所述电子枪的开口朝向所述坩埚盘远离所述底壁的一面。
在一种可替代的实施方式中,所述转轴的外径与所述坩埚盘靠近所述底壁的一面开设的连接孔的内径相同;
所述转轴套设于所述连接孔以实现与坩埚盘的可拆卸式连接。
在一种可替代的实施方式中,所述步进电机的转轴通过磁流体与所述坩埚盘连接。
本发明与现有技术相比,具有的有益效果为:
本发明提供了一种转动式熔料装置,通过在壳体开设腔室,将坩埚盘设置于腔室内,坩埚盘的一侧设置有电子枪,步进电机的转轴从腔室的底壁伸入腔室内,并与坩埚盘固定。在坩埚盘内加入足量的熔料产品时,步进电机通过转轴控制坩埚盘的转动进而使得电子枪对坩埚盘内的熔料产品进行轰击,并将其熔化。如此,无需频繁开启腔室对熔料产品进行更换,进而能够提高熔料效率并缩短熔料时长,同时能够避免对熔料产品造成污染。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本发明的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1为本发明实施例所提供的一种转动式熔料装置的结构示意图。
图中:
1-壳体;11-腔室;
2-坩埚盘;21-坩埚;
3-电子枪;
4-真空排气件;
5-抽气管;51-阀门。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例只是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本发明实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
因此,以下对在附图中提供的本发明的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本发明的范围,而是仅仅表示本发明的选定实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
实施例:
请结合参阅图1,为本发明实施例所提供的一种转动式熔料装置,包括:壳体1、坩埚盘2、电子枪3和步进电机,在本实施例中,熔料装置可以为RL-PLUS真空熔料机。进一步地, 壳体1内开设有腔室11,坩埚盘2设置于腔室11内的底壁处,电子枪3设置于腔室11内并位于坩埚盘2的一侧,电子枪3朝向坩埚盘2。 步进电机设置于壳体1内并位于腔室11外,步进电机的转轴从腔室11的底壁伸入腔室11内,并与坩埚盘2固定。在本实施例中,步进电机的图未示出。
可以理解,上述结构相较于常见的需要在熔料过程中不断地打开熔料机更换材料的技术,本申请在坩埚盘2内加入足量的熔料产品时,步进电机通过转轴控制坩埚盘2的转动进而使得电子枪3对坩埚盘2内的熔料产品逐一进行轰击,并将其熔化。如此,无需频繁开启腔室对熔料产品进行更换,进而能够提高熔料效率并缩短熔料时长,同时能够避免对熔料产品造成污染。
请继续结合参阅图1,该熔料装置还包括:真空排气件4和抽气管5。进一步地,真空排气件4设置于壳体1内并靠近腔室11,抽气管5的一端与腔室11连通,抽气管5的另一端与真空排气件4连通。如此,当腔室11内产生气压时,真空排气件4通过抽气管5可以快速地抽走腔室11内的气体。
进一步地,抽气管5的一端可以从腔室11的底部或侧壁伸入腔室11内, 抽气管5上可以设置阀门51,真空排气件4的一侧设置有排气口。其中,阀门用于控制抽气的速度。
在一种可替换的实施方式中,坩埚盘2远离底壁的一面环饶设置有多个坩埚21,坩埚盘2内的坩埚21等间距分布。在本实施例中,坩埚21有48个。通过在坩埚盘2内设置环绕的坩埚21,能够减小对腔室11的空间占用,无需在壳体1内开设较大的腔室11。通过在壳体1内设置较小的腔室11,能够通过真空排气件4快速地抽走腔室11内的空气,进而缩短腔室11达到工作气压状态的时间。
在本实施例中,坩埚21内可以一次熔多种熔料产品,将每种熔料产品放入不同的坩埚21中进行熔化,从而缩短了熔料时长。
在一种可替换的实施方式中,电子枪3的开口朝向坩埚盘2远离底壁的一面,电子枪3可以设定光斑形状、大小和功率对48穴位置独立熔料。
在本实施例中,电子枪3的开口大小可以等于三个坩埚21的间距,也可以小于三个坩埚21的间距,还可以大于三个坩埚21的间距,具体大小可根据实际情况进行设置,在此不作具体的限止。
在一种可替换的实施方式中,转轴的外径与坩埚盘2靠近底壁的一面开设的连接孔的内径相同,转轴套设于连接孔以实现与坩埚盘2的可拆卸式连接。如此,方便对转轴及其它零部件进行拆卸和更换。
进一步地,步进电机的转轴通过磁流体与坩埚盘2连接,其中,磁流体可以是磁性液体、铁磁流体或磁。磁流体不仅具有液体的流动性,还具有固体磁性材料的磁性,可广泛用于减震、医疗器械、声音调节和光显示等领域。将磁流体应用于本申请中以实现步进电机与坩埚盘2的连接时,能够有效减小步进电机转动时产生的震动。
在本实施例中,RL-PLUS真空熔料机的工作原理如下:将熔料产品置于坩埚21中,在1.3×10-2~1.3×10-3 pa真空中,用电子枪轰击坩埚21的熔料产品,将能量传递给熔料产品使其熔化。
综上,通过在壳体开设腔室,将坩埚盘设置于腔室内,坩埚盘的一侧设置有电子枪,步进电机的转轴从腔室的底壁伸入腔室内,并与坩埚盘固定。在坩埚盘内加入足量的熔料产品时,步进电机通过转轴控制坩埚盘的转动进而使得电子枪对坩埚盘内的熔料产品进行轰击,并将其熔化。如此,无需频繁开启腔室对熔料产品进行更换,进而能够提高熔料效率并缩短熔料时长,同时能够避免对熔料产品造成污染。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种转动式熔料装置,其特征在于,包括:壳体(1)、坩埚盘(2)、电子枪(3)和步进电机;
所述壳体(1)内开设有腔室(11);
所述坩埚盘(2)设置于所述腔室(11)内的底壁处;
所述电子枪(3)设置于所述腔室(11)内并位于所述坩埚盘(2)的一侧,所述电子枪(3)朝向所述坩埚盘(2);
所述步进电机设置于所述壳体(1)内并位于所述腔室(11)外,所述步进电机的转轴从所述腔室(11)的底壁伸入所述腔室(11)内,并与所述坩埚盘(2)固定。
2.根据权利要求1所述的一种转动式熔料装置,其特征在于,所述熔料装置还包括:真空排气件(4)和抽气管(5);
所述真空排气件(4)设置于所述壳体(1)内并靠近所述腔室(11);
所述抽气管(5)的一端与所述腔室(11)连通,所述抽气管(5)的另一端与所述真空排气件(4)连通。
3.根据权利要求2所述的一种转动式熔料装置,其特征在于,所述抽气管(5)的一端从所述腔室(11)的底部或侧壁伸入所述腔室(11)内。
4.根据权利要求2所述的一种转动式熔料装置,其特征在于,所述抽气管(5)上设置有阀门(51)。
5.根据权利要求2所述的一种转动式熔料装置,其特征在于,所述真空排气件(4)的一侧设置有排气口。
6.根据权利要求1所述的一种转动式熔料装置,其特征在于,所述坩埚盘(2)远离所述底壁的一面环饶设置有多个坩埚(21)。
7.根据权利要求6所述的一种转动式熔料装置,其特征在于,所述坩埚盘(2)内的坩埚(21)等间距分布。
8.根据权利要求1所述的一种转动式熔料装置,其特征在于,所述电子枪(3)的开口朝向所述坩埚盘(2)远离所述底壁的一面。
9.根据权利要求1所述的一种转动式熔料装置,其特征在于,所述转轴的外径与所述坩埚盘(2)靠近所述底壁的一面开设的连接孔的内径相同;
所述转轴套设于所述连接孔以实现与所述坩埚盘(2)的可拆卸式连接。
10.根据权利要求9所述的一种转动式熔料装置,其特征在于,所述步进电机的转轴通过磁流体与所述坩埚盘(2)连接。
CN202010125931.XA 2020-02-27 2020-02-27 一种转动式熔料装置 Pending CN111139437A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010125931.XA CN111139437A (zh) 2020-02-27 2020-02-27 一种转动式熔料装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010125931.XA CN111139437A (zh) 2020-02-27 2020-02-27 一种转动式熔料装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN111139437A true CN111139437A (zh) 2020-05-12

Family

ID=70528158

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202010125931.XA Pending CN111139437A (zh) 2020-02-27 2020-02-27 一种转动式熔料装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN111139437A (zh)

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20100057770A (ko) * 2010-05-12 2010-06-01 유흥상 진공증착장치
CN102787299A (zh) * 2012-05-21 2012-11-21 杭州大和热磁电子有限公司 一种真空镀膜装置、真空镀膜控制系统及控制方法
CN205688001U (zh) * 2016-06-04 2016-11-16 浙江星星科技股份有限公司 一种用于制作无色超硬ar+af面板的镀膜机的原料蒸镀机构
CN106191779A (zh) * 2015-04-30 2016-12-07 北京科技大学 一种聚合物真空电子束蒸发镀膜机
CN206486586U (zh) * 2017-02-27 2017-09-12 江阴市中兴光电实业有限公司 镀膜机蒸发源系统
CN108517495A (zh) * 2018-06-26 2018-09-11 光驰科技(上海)有限公司 一种蒸发源位置的可调节结构及利用其进行镀膜的方法
CN208151470U (zh) * 2018-03-23 2018-11-27 昆明勋凯瑞光学仪器有限公司 一种减反射镀膜系统
CN109267033A (zh) * 2018-12-07 2019-01-25 沈阳爱科斯科技有限公司 蒸发镀膜装置及镀膜系统
CN211420295U (zh) * 2020-02-27 2020-09-04 成都国泰真空设备有限公司 一种全自动熔料设备

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20100057770A (ko) * 2010-05-12 2010-06-01 유흥상 진공증착장치
CN102787299A (zh) * 2012-05-21 2012-11-21 杭州大和热磁电子有限公司 一种真空镀膜装置、真空镀膜控制系统及控制方法
CN106191779A (zh) * 2015-04-30 2016-12-07 北京科技大学 一种聚合物真空电子束蒸发镀膜机
CN205688001U (zh) * 2016-06-04 2016-11-16 浙江星星科技股份有限公司 一种用于制作无色超硬ar+af面板的镀膜机的原料蒸镀机构
CN206486586U (zh) * 2017-02-27 2017-09-12 江阴市中兴光电实业有限公司 镀膜机蒸发源系统
CN208151470U (zh) * 2018-03-23 2018-11-27 昆明勋凯瑞光学仪器有限公司 一种减反射镀膜系统
CN108517495A (zh) * 2018-06-26 2018-09-11 光驰科技(上海)有限公司 一种蒸发源位置的可调节结构及利用其进行镀膜的方法
CN109267033A (zh) * 2018-12-07 2019-01-25 沈阳爱科斯科技有限公司 蒸发镀膜装置及镀膜系统
CN211420295U (zh) * 2020-02-27 2020-09-04 成都国泰真空设备有限公司 一种全自动熔料设备

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6045667A (en) Process and system for the treatment of substrates using ions from a low-voltage arc discharge
US4383178A (en) System for driving rotary member in vacuum
US6881310B2 (en) Cooling system for magnetron sputtering apparatus
CN211420295U (zh) 一种全自动熔料设备
RU2625698C1 (ru) Способ нанесения защитных покрытий и устройство для его осуществления
US5792519A (en) Method for the plasma assisted high vacuum physical vapor coating of parts with wear resistant coatings and equipment for carrying out the method
KR101927422B1 (ko) 진공내 회전 장치
CN111477532B (zh) 半导体工艺设备及其冷却装置
CN111139437A (zh) 一种转动式熔料装置
KR20190077549A (ko) 스퍼터링 장치용 캐소드 유닛
US7025863B2 (en) Vacuum system with separable work piece support
CN209816265U (zh) 一种靶材位置可调整的溅射靶材基座
CN108977785B (zh) 一种磁控溅镀装置
CN214496458U (zh) 电子束蒸发镀膜系统
CN212051629U (zh) 一种微波等离子溅射光学镀膜机
CN113265622A (zh) 一种真空蒸镀机的修正板系统
CN207973798U (zh) 一种夹具冷却装置及纳米材料制作设备
CN111020498A (zh) 一种具有双加工方式的自冷却真空镀膜机
JP6271822B1 (ja) スパッタリング装置用成膜ユニット
CN204097556U (zh) 一种防止蒸镀源交叉污染的蒸镀装置
CN107475677A (zh) 一种采用物理气相沉积工艺溅镀涂层的装置
US6428659B2 (en) Process of coating super fine particles of multi-element thin film
CN2086749U (zh) 多弧-磁控溅射多功能镀膜设备
CN216074002U (zh) 一种真空蒸镀机的修正板系统
JPH07116598B2 (ja) スパツタリング装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
TA01 Transfer of patent application right
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20210222

Address after: 611130 group 6, Xinhua, Liucheng, Wenjiang District, Chengdu City, Sichuan Province

Applicant after: Lu Cheng

Address before: 611130 No. 618, Kelin West Road, Chengdu cross strait science and Technology Industrial Development Park, Wenjiang District, Chengdu City, Sichuan Province

Applicant before: CHENGDU GUOTAI VACUUM EQUIPMENT Co.,Ltd.

TA01 Transfer of patent application right
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20210701

Address after: 618 Kelin West Road, Chengdu cross strait science and Technology Industrial Development Park, Wenjiang District, Chengdu, Sichuan 610000

Applicant after: Sichuan Jincheng Guotai Vacuum Equipment Co.,Ltd.

Address before: 611130 group 6, Xinhua, Liucheng, Wenjiang District, Chengdu City, Sichuan Province

Applicant before: Lu Cheng

TA01 Transfer of patent application right
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20220110

Address after: 618 Kelin West Road, Chengdu cross strait science and Technology Industrial Development Park, Wenjiang District, Chengdu, Sichuan 610000

Applicant after: CHENGDU GUOTAI VACUUM EQUIPMENT CO.,LTD.

Address before: 618 Kelin West Road, Chengdu cross strait science and Technology Industrial Development Park, Wenjiang District, Chengdu, Sichuan 610000

Applicant before: Sichuan Jincheng Guotai Vacuum Equipment Co.,Ltd.