CN111114070A - 一种亮光免底涂基膜及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及薄膜生产技术领域，具体为一种亮光免底涂基膜及其制备方法。本发明提出了一种亮光免底涂基膜，包括辅一层、辅二层、以及芯层，所述辅一层，其原料包括防黏剂、免底涂原料；所述辅二层，其原料包括防黏剂、聚丙烯；所述芯层，其原料包括抗静电剂、聚丙烯。本发明还公开了一种亮光免底涂基膜的制备方法。本发明一种亮光免底涂基膜及其制备方法，采用三层共挤技术生产，通过改变挤出生产工艺，实现对原有表层的改变，使得薄膜在挤出复合过程中减少、甚至不使用底涂剂就能实现复合，整个生产更加的简便，生产的环境大为改善，减少了资金投入，生产效率得到了提高。同时，生产出来的亮光免底涂基膜，粘合性好，性能强，稳定性高。

Description

一种亮光免底涂基膜及其制备方法
技术领域
本发明涉及薄膜生产技术领域，具体为一种亮光免底涂基膜及其制备方法。
背景技术
塑料薄膜，即用聚氯乙烯、聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯以及其他树脂制成的薄膜，用于包装,以及用作覆膜层。塑料包装及塑料包装产品在市场上所占的份额越来越大，特别是复合塑料软包装，已经广泛地应用于食品、医药、化工等领域，其中又以食品包装所占比例最大，比如饮料包装、速冻食品包装、蒸煮食品包装、快餐食品包装等，这些产品都给人们生活带来了极大的便利。
目前,塑料薄膜一般采用挤出机进行挤出生产,而在薄膜挤出生产过程中,一般均使用底涂剂(AC剂)来增强挤出复合的牢度，改善复合膜的性能，保持粘合的稳定性。但是底涂剂(AC剂)的使用，给环境带来了污染，增大了企业环保处理、人员安全健康保护方面带了了新的要求，提高了这方面的资金支出。同时，现有的免底涂基膜制备工艺，生产的薄膜，性能普遍较差，稳定性不好，粘合性不牢。
发明内容
针对现有技术中存在的上述问题，本发明提出一种亮光免底涂基膜及其制备方法，以解决以上技术缺陷。
本发明的目的可以通过以下技术方案实现：
一种亮光免底涂基膜，包括辅一层、辅二层、以及芯层，所述辅一层、辅二层分别设置在芯层的上下两面，以重量百分比计，所述辅一层，其原料包括防黏剂0.8-1.2％，其余为免底涂原料；所述辅二层，其原料包括防黏剂5.0-6.0％，其余为聚丙烯；所述芯层，其原料包括抗静电剂0.8-1.5％，其余为聚丙烯。
优选地，所述免底涂原料型号为1071C，防黏剂型号为907。
一种亮光免底涂基膜的制备方法，包括如下步骤：
S1、通过吸料风机将辅一层、辅二层、以及芯层的原料吸入料斗，再分别定量送入对应挤出机，经过塑化后，共同从模头挤出；
S2、将挤出的熔体通过激冷辊和水池快速冷却定型为厚片；
S3、将厚片经过纵向拉伸后，再经过横向拉伸成为厚度均匀的薄膜粗品；
S4、将薄膜粗品经过TDO冷却、牵引辊冷却和电晕处理后，最终收在大膜卷上；
S5、将大膜卷上的薄膜粗品，在时效架上经过一段时间的时效后，用分切机分切，即制得需要的亮光免底涂基膜。
优选地，所述S1步骤中，辅一层挤出机的出口温度为220℃，辅二层挤出机的出口温度为250℃，芯层挤出机的出口温度为250℃，所述模头的温度为250℃。
优选地，在S2步骤中，所述激冷辊的温度为34℃，所述水池的温度为35℃。
优选地，在S3步骤中，所述纵向拉伸分为预热(上温度为100℃，下温度为137℃)、拉伸(上温度为85℃，下温度为126℃)、定型(上温度为100℃，下温度为138℃)三个区域；横向拉伸分为预热(171℃-167℃)、拉伸(154℃)、定型(167℃)和冷却四个区域。
优选地，在S4步骤中，所述牵引辊的冷却温度为小于35℃。
优选地，采用三层共挤技术生产。
本发明的有益效果：
本发明一种亮光免底涂基膜及其制备方法，以聚丙烯、防黏剂、免底涂原料、抗静电剂等为原料，并采用三层共挤技术生产，通过改变挤出生产工艺，实现对原有表层的改变，使得薄膜在挤出复合过程中减少、甚至不使用底涂剂(AC剂)就能实现复合，整个生产更加的简便，生产的环境大为改善，减少了环保及人员安全健康方面的资金投入，生产效率得到了提高，对资源和环境更加友好。同时，生产出来的亮光免底涂基膜，粘合性好，性能强，稳定性高。
具体实施方式
为了便于本领域技术人员理解，下面结合具体实施例对本发明作进一步的说明。
实施例1：
一种亮光免底涂基膜的制备方法，包括如下步骤：
S1、通过吸料风机将辅一层、辅二层、以及芯层的原料吸入料斗，再分别定量送入对应挤出机，经过塑化后，共同从模头挤出；其中辅一层挤出机的出口温度为220℃，辅二层挤出机的出口温度为250℃，芯层挤出机的出口温度为250℃，所述模头的温度为250℃。
S2、将挤出的熔体通过激冷辊和水池快速冷却定型为厚片；其中激冷辊的温度为34℃，水池的温度为35℃。
S3、将厚片经过纵向拉伸后，再经过横向拉伸成为厚度均匀的薄膜粗品；其中，纵向拉伸分为预热(上温度为100℃，下温度为137℃)、拉伸(上温度为85℃，下温度为126℃)、定型(上温度为100℃，下温度为138℃)三个区域；横向拉伸分为预热(171℃-167℃)、拉伸(154℃)、定型(167℃)和冷却四个区域。
S4、将薄膜粗品经过TDO冷却、牵引辊冷却和电晕处理后，最终收在大膜卷上；其中牵引辊的冷却温度为小于35℃。
S5、将大膜卷上的薄膜粗品，在时效架上经过一段时间的时效后，用分切机分切，即制得需要的亮光免底涂基膜。
其中，采用三层共挤技术所生产的亮光免底涂基膜，包括辅一层、辅二层、以及芯层，辅一层、辅二层分别设置在芯层的上下两面。以重量百分比计，辅一层，其原料包括防黏剂907 1.2％，其余为免底涂原料1071C；所述辅二层，其原料包括防黏剂907 5.0％，其余为聚丙烯；所述芯层，其原料包括抗静电剂0.8％，其余为聚丙烯。
实施例2：
同实施例1基本相同，不同的在于：以重量百分比计，辅一层，其原料包括防黏剂907 0.8％，其余为免底涂原料1071C；所述辅二层，其原料包括防黏剂907 6.0％，其余为聚丙烯；所述芯层，其原料包括抗静电剂1.5％，其余为聚丙烯。
实施例3：
同实施例1基本相同，不同的在于：以重量百分比计，辅一层，其原料包括防黏剂907 1.0％，其余为免底涂原料1071C；所述辅二层，其原料包括防黏剂907 5.5％，其余为聚丙烯；所述芯层，其原料包括抗静电剂1.2％，其余为聚丙烯。
以上内容仅仅是对本发明结构所作的举例和说明，所属本技术领域的技术人员对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，只要不偏离发明的结构或者超越本权利要求书所定义的范围，均应属于本发明的保护范围。

Claims (8)

1.一种亮光免底涂基膜，其特征在于，包括辅一层、辅二层、以及芯层，所述辅一层、辅二层分别设置在芯层的上下两面，以重量百分比计，所述辅一层，其原料包括防黏剂0.8-1.2％，其余为免底涂原料；所述辅二层，其原料包括防黏剂5.0-6.0％，其余为聚丙烯；所述芯层，其原料包括抗静电剂0.8-1.5％，其余为聚丙烯。
2.根据权利要求1所述的一种亮光免底涂基膜，其特征在于，所述免底涂原料型号为1071C，防黏剂型号为907。
3.根据权利要求1或2所述的一种亮光免底涂基膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
S1、通过吸料风机将辅一层、辅二层、以及芯层的原料吸入料斗，再分别定量送入对应挤出机，经过塑化后，共同从模头挤出；
S2、将挤出的熔体通过激冷辊和水池快速冷却定型为厚片；
S3、将厚片经过纵向拉伸后，再经过横向拉伸成为厚度均匀的薄膜粗品；
S4、将薄膜粗品经过TDO冷却、牵引辊冷却和电晕处理后，最终收在大膜卷上；
S5、将大膜卷上的薄膜粗品，在时效架上经过一段时间的时效后，用分切机分切，即制得需要的亮光免底涂基膜。
4.根据权利要求3所述的一种亮光免底涂基膜的制备方法，其特征在于，所述S1步骤中，辅一层挤出机的出口温度为220℃，辅二层挤出机的出口温度为250℃，芯层挤出机的出口温度为250℃，所述模头的温度为250℃。
5.根据权利要求3所述的一种亮光免底涂基膜的制备方法，其特征在于，在S2步骤中，所述激冷辊的温度为34℃，所述水池的温度为35℃。
6.根据权利要求3所述的一种亮光免底涂基膜的制备方法，其特征在于，在S3步骤中，所述纵向拉伸分为预热(上温度为100℃，下温度为137℃)、拉伸(上温度为85℃，下温度为126℃)、定型(上温度为100℃，下温度为138℃)三个区域；横向拉伸分为预热(171℃-167℃)、拉伸(154℃)、定型(167℃)和冷却四个区域。
7.根据权利要求3所述的一种亮光免底涂基膜的制备方法，其特征在于，在S4步骤中，所述牵引辊的冷却温度为小于35℃。
8.根据权利要求1或2所述的一种亮光免底涂基膜，其特征在于，采用三层共挤技术生产。
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