CN111112217A - 一种用于球面反射镜上盘工具板粘接蜡清洗的方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims abstract description 16
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 12
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 claims abstract description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 239000004744 fabric Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 4
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims abstract description 4
- 229940051841 polyoxyethylene ether Drugs 0.000 claims description 3
- 229920000056 polyoxyethylene ether Polymers 0.000 claims description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 3
- 239000000344 soap Substances 0.000 claims description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 3
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 19
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 2
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 2
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
- B08B1/10—Cleaning by methods involving the use of tools characterised by the type of cleaning tool
- B08B1/14—Wipes; Absorbent members, e.g. swabs or sponges
- B08B1/143—Wipes
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B11/00—Cleaning flexible or delicate articles by methods or apparatus specially adapted thereto
- B08B11/04—Cleaning flexible or delicate articles by methods or apparatus specially adapted thereto specially adapted for plate glass, e.g. prior to manufacture of windshields
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B13/00—Accessories or details of general applicability for machines or apparatus for cleaning
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/08—Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
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Abstract
本发明涉及一种用于激光陀螺球面反射镜上盘工具板粘接蜡清洗方法：(1)、将带有光学粘接蜡的上盘工具板放入不锈钢水盆中，加水浸泡工具板；(2)、往不锈钢水盆中倒入一定量表面活性剂，搅拌均匀；(3)、将不锈钢水盆在电陶炉上加热，使水温保持在一定温度范围，并维持一段时间，使得附着在上盘工具板上的固体粘接蜡变成液体上浮到水面，聚集到不锈钢水盆周边；(4)、用镊子夹取医用棉花或无尘布，擦拭上盘工具板板表面孔洞及倒角存有的少量粘接蜡；(5)、从热水中取出上盘工具板，用棉花或无尘布蘸取酒精或丙酮或两者的混合液，擦拭上盘工具板表面，去除上盘工具板表面残存粘接蜡，并对上盘工具板进行脱水干燥处理。
Description
技术领域
本发明涉及一种用于激光陀螺球面反射镜上盘工具板粘接蜡清洗方法，属于光学加工技术领域。
背景技术
激光陀螺球面反射镜上盘工具板是一加工工装，用于球面反射镜的光学加工。激光陀螺高反射基片中存在一组球面反射基片，该圆柱形反射基片上下两个圆面，一个圆面为平面的非工作面，另一个圆面为中心球面边缘平面的工作面。要求工作面上球面圆心在平面中轴线上，偏移误差量很小。为此，该型球面反射基片一般采用拼盘成组加工，首先将两面平面的反射基片，采用浮胶上盘方式，排列粘接在一个涂有热的光学粘接蜡的工具板上，工具板粘接面为一凹形球面，曲率半径与设计反射基片工作面中心球面相同，工具板非工作面为一平面。然后，待粘接蜡冷却固定住基片后，采用和基片相同曲率半径的磨盘和抛光盘，对粘接基片中心磨砂开球与抛光。最后，待基片加工达到要求后，将基片从工具板上一一取下。其中，为了保证基片粘接后基片工作面平面中轴线指向工具板球面球心，通常在每个基片对应的底板上开有小孔，然后抽气形成负压，使基片非工作面与工具板之间形成薄薄一层厚度相近的粘接蜡；另外，为了保证基片粘接牢固，防止在光学磨砂或抛光过程中基片脱落，还需在基片之间浇注光学粘接蜡。
在加热条件下，将光学粘接蜡熔化，将基片从工具板上取下后，工具板上通常残留大量光学粘接蜡，此粘接蜡为松香、白蜡、蜂蜡的混合物，为了将蜡清除干净，一般采用物理擦拭的方法，但是对孔洞及倒角部位很难擦拭干净。四氯化碳和航空汽油是粘接蜡的良溶剂。所以光学加工领域一般采用浸泡四氯化碳或航空汽油对光学粘接蜡进行溶解去除。
四氯化碳或航空汽油存在废液回收处理问题，并且四氯化碳具有毒性，操作人员长期接触容易损伤健康，航空汽油浓度过大容易燃烧、甚至爆炸，形成安全隐患。
发明内容
本发明解决的技术问题是：克服现有技术的不足，提供一种用于激光陀螺球面反射镜上盘工具板粘接蜡清洗方法，不需使用四氯化碳或航空汽油溶解光学粘接蜡，操作方便简单，时间短，安全环保，并且清洗效果好，对玻璃基板材料也不形成损伤。
本发明解决技术的方案是：一种用于激光陀螺球面反射镜上盘工具板粘接蜡清洗的方法，该方法包括如下步骤：
(1)、将带有光学粘接蜡的上盘工具板放入不锈钢水盆中，加水浸泡工具板；
(2)、往不锈钢水盆中倒入一定量表面活性剂，搅拌均匀；
(3)、将不锈钢水盆在电陶炉上加热，使水温保持在一定温度范围，并维持一段时间，使得附着在上盘工具板上的固体粘接蜡变成液体上浮到水面，聚集到不锈钢水盆周边；
(4)、用镊子夹取医用棉花或无尘布，擦拭上盘工具板板表面孔洞及倒角存有的少量粘接蜡；
(5)、从热水中取出上盘工具板，用棉花或无尘布蘸取酒精或丙酮或两者的混合液，擦拭上盘工具板表面，去除上盘工具板表面残存粘接蜡，并对上盘工具板进行脱水干燥处理。
所述表面活性剂包括洗衣粉、肥皂、或者脂肪醇聚氧乙烯醚。
所述步骤(1)加入70℃以上热水。
所述预设的一段时间为20分钟～30分钟。
本发明与现有技术相比的有益效果是：
(1)、本发明由于采用表面活性剂，如洗衣粉，去除激光陀螺球面反射镜上盘工具板粘接蜡，实现工具板的反复使用，相比现有技术中的采用航空汽油或四氯化碳浸泡的方法，在满足洗净粘接蜡的前提下，清洗溶液可以直排，不需要再次处理，环保，安全，并且清洗效率高。
附图说明
图1为本发明实施例激光陀螺球面反射镜上盘工具板工装示意图。
图2为本发明实施例激光陀螺球面反射镜上盘工具板粘接蜡去除步骤流程图。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明作进一步阐述。
如图1所示，为激光陀螺球面反射镜上盘工具板工装。所述上盘工具板工装上有多个孔洞及倒角。
如图2所示，本发明提供了一种用于激光陀螺球面反射镜上盘工具板粘接蜡清洗的方法，该方法包括如下步骤：
(1)、将带有光学粘接蜡的上盘工具板放入不锈钢水盆中，加水浸泡工具板；
(2)、往不锈钢水盆中倒入一定量表面活性剂，搅拌均匀；所述表面活性剂包括洗衣粉、肥皂、或者脂肪醇聚氧乙烯醚；
(3)、将不锈钢水盆在电陶炉上加热，使水温保持在一定温度范围，并维持一段时间，使得附着在上盘工具板上的固体粘接蜡变成液体上浮到水面，聚集到不锈钢水盆周边；所述温度范围为70℃～80℃。
所述预设的一段时间为20分钟～30分钟。
(4)、用镊子夹取医用棉花或无尘布，擦拭上盘工具板板表面孔洞及倒角存有的少量粘接蜡；
(5)、从热水中取出上盘工具板，用棉花或无尘布蘸取酒精或丙酮或两者的混合液，擦拭上盘工具板表面，去除上盘工具板表面残存粘接蜡，并对上盘工具板进行脱水干燥处理。
本发明解决了四氯化碳或航空汽油存在废液回收处理问题，并且四氯化碳具有毒性，操作人员长期接触容易损伤健康，航空汽油浓度过大容易燃烧、甚至爆炸，形成安全隐患；并且操作方便简单，时间短，安全环保，并且清洗效果好。
本发明虽然已以较佳实施例公开如上，但其并不是用来限定本发明，任何本领域技术人员在不脱离本发明的精神和范围内，都可以利用上述揭示的方法和技术内容对本发明技术方案做出可能的变动和修改，因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化及修饰，均属于本发明技术方案的保护范围。
Claims (4)
1.一种用于激光陀螺球面反射镜上盘工具板粘接蜡清洗的方法，其特征在于包括如下步骤：
(1)、将带有光学粘接蜡的上盘工具板放入不锈钢水盆中，加水浸泡工具板；
(2)、往不锈钢水盆中倒入一定量表面活性剂，搅拌均匀；
(3)、将不锈钢水盆在电陶炉上加热，使水温保持在一定温度范围，并维持一段时间，使得附着在上盘工具板上的固体粘接蜡变成液体上浮到水面，聚集到不锈钢水盆周边；
(4)、用镊子夹取医用棉花或无尘布，擦拭上盘工具板板表面孔洞及倒角存有的少量粘接蜡；
(5)、从热水中取出上盘工具板，用棉花或无尘布蘸取酒精或丙酮或两者的混合液，擦拭上盘工具板表面，去除上盘工具板表面残存粘接蜡，并对上盘工具板进行脱水干燥处理。
2.根据权利要求1所述的一种用于激光陀螺球面反射镜上盘工具板粘接蜡清洗的方法，其特征在于所述表面活性剂包括洗衣粉、肥皂、或者脂肪醇聚氧乙烯醚。
3.根据权利要求1所述的一种用于激光陀螺球面反射镜上盘工具板粘接蜡清洗的方法，其特征在于所述步骤(1)加入70℃以上热水。
4.根据权利要求1所述的一种用于激光陀螺球面反射镜上盘工具板粘接蜡清洗的方法，其特征在于所述预设的一段时间为20分钟～30分钟。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201911351114.XA CN111112217A (zh) | 2019-12-24 | 2019-12-24 | 一种用于球面反射镜上盘工具板粘接蜡清洗的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201911351114.XA CN111112217A (zh) | 2019-12-24 | 2019-12-24 | 一种用于球面反射镜上盘工具板粘接蜡清洗的方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN111112217A true CN111112217A (zh) | 2020-05-08 |
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ID=70502097
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201911351114.XA Pending CN111112217A (zh) | 2019-12-24 | 2019-12-24 | 一种用于球面反射镜上盘工具板粘接蜡清洗的方法 |
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