CN111101118A - 一种回流槽及具有回流槽的装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供的一种回流槽，包括主槽体和至少一个喷洒组件，主槽体上设置第一排液口，主槽体的其中一组相对槽壁上开设适于通过待处理件的过物口，喷洒组件适于在待处理件经两侧过物口通过主槽体时向待处理件喷洒防氧化流体。防氧化流体覆盖在待处理件上，将待处理件表面与外界空气隔绝，避免了待处理件表面的氧化，提高产品质量。
Description
技术领域
本发明涉及回流设备技术领域，具体涉及一种回流槽及具有回流槽的装置。
背景技术
在需要保持溶液满溢平衡状态的加工生产线中，回流槽成为不可或缺的一部分，例如，浸镀线或者浸没脱脂线中。溶液在镀槽或者脱脂槽中始终处于满溢状态，镀槽或脱脂槽的两侧分别设置回流槽，溶液从镀槽或者脱脂槽中溢出至回流槽内，通过回流槽底部的排液口排出并重新回收至镀槽或脱脂槽内，使槽内的溶液处于满溢的平衡状态。
溶液从镀槽或脱脂槽内溢出时呈瀑布状倾泻至回流槽内，为了保证溶液不会直接倾泻至与回流槽连接的下一槽体内，需要使溶液直接倾泻至回流槽槽底并从槽底排出，此时回流槽的长度至少要大于溶液直接倾泻至槽底的水平距离，由于回流槽长度较长，且倾泻的溶液呈瀑布状，导致在通过回流槽的过程中板材局部表面会长时间暴露在空气中，容易产生板材表面的氧化，影响产品质量。
发明内容
因此，本发明所要解决的技术问题在于现有的回流槽容易造成产品表面的氧化，影响产品质量。
为此，本发明提供一种回流槽，包括
主槽体，设置有第一排液口；所述主槽体的其中一组相对槽壁上开设有适于通过待处理件的过物口；
至少一个喷洒组件，适于朝向所述待处理件喷洒防氧化流体。
所述喷洒组件包括：
喷洒本体，适于连通所述防氧化流体的供源，所述喷洒本体至少部分设于所述主槽体中；
至少一个喷头，位于所述主槽体内，并设于所述喷洒本体上，所述喷头朝向所述待处理件设置。
所述喷洒本体包括第一管体；所述第一管体设于所述主槽体内，并在管壁上设有至少一个所述喷头；所述第一管体的延伸方向与所述待处理件的移动方向一致。
所述第一管体位于所述主槽体的顶部。
所述喷洒本体还包括第二管体；所述第二管体的一端连通所述防氧化流体的供源，另一端连通所述第一管体。
所述第二管体竖向穿设在所述主槽体上。
所述喷洒本体还包括第三管体；所述第三管体设于所述主槽体内，并在管壁上设有至少一个所述喷头；所述第三管体的延伸方向与所述第一管体的延伸方向相交设置。
所述第一管体上均匀分布有多个所述喷头，和/或，所述第三管体上均匀分布有多个所述喷头。
所述第三管体从所述主槽体的槽口向槽底延伸设置；所述第三管体的一端连通所述第一管体，另一端封闭设置。
所述第一管体和所述第三管体共面设置，且该平面平行于两个所述过物口之间形成的过物通道在竖直方向上的最大截面。
所述喷洒组件具有两个，相对设置在两个所述过物口之间形成的过物通道两侧。
还包括：
副槽体，设置在所述主槽体下方，由所述主槽体的槽底向远离主槽体槽口的方向延伸而出；
所述第一排液口设置在所述副槽体上。
还包括：
第二排液口，设置在所述主槽体未设置所述过物口的一侧槽壁上；所述第二排液口的下边缘不高于所述过物口的下边缘。
所述第二排液口的下边缘与所述主槽体的槽底平齐。
还包括：
溢流口，开设在位于待处理件移动路径上的相对的两侧壁上，并分布在所述过物口两侧；
所述溢流口的下边缘不低于待处理件顶部设置。
所述溢流口对称分布在所述过物口两侧。
还包括：
挡板，设置在待处理件进入所述主槽体内的槽壁上；所述挡板与所述溢流口一一对应并阻挡在所述溢流口的溢流路径上。
所述挡板固定在所述溢流口与所述过物口之间的槽壁上，并朝向所述溢流口一侧倾斜设置。
所述挡板两侧分别固定在相邻的两个槽壁上，所述挡板与两个槽壁之间围成的空间的截面为封闭的三角形；
所述挡板底部悬空设置在所述主槽体内。
本发明提供一种具有回流槽的装置，包括上述所述的回流槽。
优选地，所述具有回流槽的装置为脱脂线。
本发明的技术方案，具有如下优点：
1.本发明提供的一种回流槽，包括主槽体和至少一个喷洒组件，主槽体上设置第一排液口，主槽体的其中一组相对槽壁上开设适于通过待处理件的过物口，喷洒组件适于在待处理件经两侧过物口通过主槽体时向待处理件喷洒防氧化流体。防氧化流体覆盖在待处理件上，将待处理件表面与外界空气隔绝，避免了待处理件表面的氧化，提高产品质量。
2.本发明提供的一种回流槽，在主槽体顶部设置延伸方向与待处理件的移动方向一致的第一管体，通过第一管体上的喷头向待处理件喷洒防氧化流体，利用流体的流动性，使防氧化流体自上而下流经待处理件的表面，有效覆盖待处理件充分隔绝外界空气。
3.本发明提供的一种回流槽，设置与第一管体相交分布的第三管体，在水平方向和竖直方向共同喷洒，形成横向和纵向的覆盖，覆盖的更完全，隔离的效果更好。
4.本发明提供的一种回流槽，在主槽体下方设置副槽体，从相邻槽体进入该回流槽内的液体由于下落溅射产生的泡沫汇集在副槽体内，不会向上攀升附着在待处理件的表面，影响待处理件的处理效果。
5.本发明提供的一种回流槽，在主槽体未设置过物口的一侧槽壁上开设第二排液口，第二排液口的下边缘与主槽体槽底平齐，当副槽体内的液面逐渐上升时，位于液面上的泡沫也随之上升，当液面升高至主槽体的槽底时，通过第二排液口及时排出，并将液面上的泡沫带出，避免泡沫附着到待处理件上，影响处理效果。
附图说明
为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明回流槽的结构示意图。
附图标记说明：
1-主槽体；11-第二排液口；12-溢流口；2-过板间隙；3-喷洒本体；30-喷头；31-第一管体；32-第二管体；33-第三管体；4-副槽体；5-挡板。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
实施例1
本实施例提供一种回流槽，如图1所示，包括主槽体1和至少一个喷洒组件，主槽体1为方形槽体，为详细说明其构成，图示中省略遮挡视线一侧槽体的侧壁，即图示中左下方一侧槽壁。主槽体1的其中一组相对槽壁上开设适于通过待处理件的过物口，本实施例中，过物口为开设在相对的槽壁上并自槽壁的顶部开口向下延伸的过板间隙2，待处理件为板材，板材适于从左侧过板间隙2进入主槽体1并从右侧过板间隙2穿出主槽体1。
主槽体1内设置至少一个喷洒组件，喷洒组件朝向板材的两侧表面设置，在板材通过主槽体1时，向其朝向的板材表面喷洒防氧化流体，防氧化流体在板材表面上自上而下流动，由于板材表面始终有流体流动，因此与外界空气隔绝，避免了表面氧化。本实施例中，防氧化流体采用与板材进入该回流槽前一侧槽体内相同的溶液，即处理板材的电镀溶液或脱脂溶液；防氧化流体还可以采用不溶于处理板材的溶液且不与该溶液反应的防氧化气体，例如惰性气体等。防氧化气体通过喷洒组件持续向回流槽内注入并保持一定的注入量，与从回流槽溢出的防氧化气体的流量相适应，达到回流槽内始终充满防氧化气体的动态平衡，通过气体阻隔外界空气进入槽内接触板材表面，达到防止板材表面氧化的目的。
本实施例中，设置两个喷洒组件，相对设置在两个过物口之间形成的过物通道两侧，即两个喷洒组件设置在主槽体1内并对称分布在板材由左侧过板间隙2向右侧过板间隙2移动的路径两侧。任一喷洒组件包括喷洒本体3，喷洒本体3包括第一管体31，第二管体32、第三管体33和喷头30。第一管体31设于主槽体1内，并在管壁上设有至少一个喷头30，本实施例中，第一管体31的管壁上均匀分布多个喷头30，例如三个、四个等等。第一管体31的延伸方向与板材的移动方向一致，本实施例中，第一管体31水平设置在主槽体1的顶部，第一管体31的一端封闭，搭接固定在主槽体1的内壁上，另一端连通第二管体32，第二管体32竖直穿设在主槽体1内，第二管体32的另一端连通防氧化流体的供源，防氧化流体的供源设置在回流槽外部，第三管体33的延伸方向与第一管体31的延伸方向相交设置，本实施例中，第三管体33竖直设置，且一端连通第一管体31，另一端封闭并悬空设置在主槽体1内，第三管体33的管壁上均匀分布多个喷头30，例如四个、五个等等。第一管体31与第三管体33共面设置，且该平面平行于两个过物口之间形成的过物通道在竖直方向上的最大截面，即本实施例中，该平面与通过两侧过板间隙2的板材表面平行，在水平方向和竖直方向共同喷洒，形成横向和纵向的覆盖，隔离的效果更好。
再如图1所示，主槽体1下方设置副槽体4，副槽体4由主槽体1的槽底向远离主槽体1槽口的方向延伸形成，副槽体4底部开设与外界连通的第一排液口(图中未示出)，从相邻槽体进入该回流槽内的液体由于下落溅射产生的泡沫汇集在副槽体4内，不会向上攀升附着在待处理件的表面，影响待处理件的处理效果。例如脱脂线中，脱脂药水受到搅动或者溅射时极其容易产生大量泡沫，通过副槽体4将泡沫汇集收拢，从副槽体4槽底的第一排液口及时排出，降低泡沫对待处理件的影响。
主槽体1未设置过物口的一侧槽壁上开设第二排液口11，本实施例中，第二排液口11的下边缘与主槽体1的槽底平齐，当副槽体4内的液面逐渐上升时，位于液面上的泡沫也随之上升，当液面升高至主槽体1的槽底时，通过第二排液口11及时排出，并将液面上的泡沫带出，避免泡沫附着到待处理件上，影响处理效果。
溢流口12位于过板间隙2所在的槽壁上并对称分布在过板间隙2两侧，溢流口12的下边缘不低于待处理件的顶部设置，本实施例中，溢流口12的下边缘高于板材的顶部设置，在板材进入回流槽前的一侧槽体内的溶液始终保持满液状态并从溢流口12和过板间隙2中倾泻至该回流槽内，在溶液从溢流口12倾泻至回流槽内的路径上安装挡板5，挡板5固定在溢流口12与过板间隙2之间的槽壁上，并朝向溢流口12一侧倾斜设置，本实施例中，挡板5两侧分别固定在相邻的两个槽壁上，挡板5与两个槽壁之间围成的空间的截面为封闭的三角形，溢流口12位于封闭三角形的一侧直角边上，挡板5底部悬空设置在主槽体1内，从溢流口12流入回流槽的溶液沿挡板5表面下滑并从挡板5下方流出至主槽体1内，并经副槽体4槽底的第一排液口或主槽体1侧壁的第二排液口11及时排出。
作为实施例1的第一个可替换的实施方式，可以仅设置第一管体31和第二管体32，通过第一管体31对待处理件的横向喷洒，以隔绝空气，防止氧化。
作为实施例1的第二个可替换的实施方式，挡板5可以固定连接在主槽体1的槽底上，挡板5远离过物口的一侧与主槽体1的槽壁间隔设置，形成过液口，使从溢流口12流入回流槽的溶液从该过液口流至主槽体1内；进一步地，挡板5底部固定在主槽体1槽底上，挡板5两侧均与对应的槽壁间隔设置，形成两侧的过液口，满足挡板5阻挡在溶液从溢流口12向回流槽内倾泻的路径上即可。
实施例2
本实施例提供一种具有回流槽的装置，包括实施例1中的回流槽，进一步地，本实施例中，具有回流槽的装置为脱脂线。
显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。
Claims (21)
1.一种回流槽，其特征在于，包括：
主槽体(1)，设置有第一排液口；所述主槽体(1)的其中一组相对槽壁上开设有适于通过待处理件的过物口；
至少一个喷洒组件，适于朝向所述待处理件喷洒防氧化流体。
2.根据权利要求1所述的回流槽，其特征在于，所述喷洒组件包括：
喷洒本体(3)，适于连通所述防氧化流体的供源，所述喷洒本体(3)至少部分设于所述主槽体(1)中；
至少一个喷头(30)，位于所述主槽体(1)内，并设于所述喷洒本体(3)上，所述喷头(30)朝向所述待处理件设置。
3.根据权利要求2所述的回流槽，其特征在于，所述喷洒本体(3)包括第一管体(31)；所述第一管体(31)设于所述主槽体(1)内，并在管壁上设有至少一个所述喷头(30)；所述第一管体(31)的延伸方向与所述待处理件的移动方向一致。
4.根据权利要求3所述的回流槽，其特征在于，所述第一管体(31)位于所述主槽体(1)的顶部。
5.根据权利要求3所述的回流槽，其特征在于，所述喷洒本体(3)还包括第二管体(32)；所述第二管体(32)的一端连通所述防氧化流体的供源，另一端连通所述第一管体(31)。
6.根据权利要求5所述的回流槽，其特征在于，所述第二管体(32)竖向穿设在所述主槽体(1)上。
7.根据权利要求3所述的回流槽，其特征在于，所述喷洒本体(3)还包括第三管体(33)；所述第三管体(33)设于所述主槽体(1)内，并在管壁上设有至少一个所述喷头(30)；所述第三管体(33)的延伸方向与所述第一管体(31)的延伸方向相交设置。
8.根据权利要求7所述的回流槽,其特征在于,所述第一管体(31)上均匀分布有多个所述喷头(30)，和/或，所述第三管体(33)上均匀分布有多个所述喷头(30)。
9.根据权利要求7所述的回流槽，其特征在于，所述第三管体(33)从所述主槽体(1)的槽口向槽底延伸设置；所述第三管体(33)的一端连通所述第一管体(31)，另一端封闭设置。
10.根据权利要求7所述的回流槽，其特征在于，所述第一管体(31)和所述第三管体(33)共面设置，且该平面平行于两个所述过物口之间形成的过物通道在竖直方向上的最大截面。
11.根据权利要求1-10中任一项所述的回流槽，其特征在于，所述喷洒组件具有两个，相对设置在两个所述过物口之间形成的过物通道两侧。
12.根据权利要求1-10中任一项所述的回流槽，其特征在于，还包括：
副槽体(4)，设置在所述主槽体(1)下方，由所述主槽体(1)的槽底向远离主槽体(1)槽口的方向延伸而出；
所述第一排液口设置在所述副槽体(4)上。
13.根据权利要求12所述的回流槽，其特征在于，还包括：
第二排液口(11)，设置在所述主槽体(1)未设置所述过物口的一侧槽壁上；所述第二排液口(11)的下边缘不高于所述过物口的下边缘。
14.根据权利要求13所述的回流槽，其特征在于，所述第二排液口(11)的下边缘与所述主槽体(1)的槽底平齐。
15.根据权利要求1所述的回流槽，其特征在于，还包括：
溢流口(12)，开设在位于待处理件移动路径上的相对的两侧壁上，并分布在所述过物口两侧；
所述溢流口(12)的下边缘不低于待处理件顶部设置。
16.根据权利要求15所述的回流槽，其特征在于，所述溢流口(12)对称分布在所述过物口两侧。
17.根据权利要求16所述的回流槽，其特征在于，还包括：
挡板(5)，设置在待处理件进入所述主槽体(1)内的槽壁上；所述挡板(5)与所述溢流口(12)一一对应并阻挡在所述溢流口(12)的溢流路径上。
18.根据权利要求17所述的回流槽，其特征在于，所述挡板(5)固定在所述溢流口(12)与所述过物口之间的槽壁上，并朝向所述溢流口(12)一侧倾斜设置。
19.根据权利要求18所述的回流槽，其特征在于，所述挡板(5)两侧分别固定在相邻的两个槽壁上，所述挡板(5)与两个槽壁之间围成的空间的截面为封闭的三角形；
所述挡板(5)底部悬空设置在所述主槽体(1)内。
20.一种具有回流槽的装置，其特征在于，包括权利要求1-19中任一项所述的回流槽。
21.根据权利要求20所述的具有回流槽的装置，其特征在于，所述具有回流槽的装置为脱脂线。
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112746305A (zh) * | 2021-01-11 | 2021-05-04 | 昆山东威科技股份有限公司 | 一种回流槽、配合结构及电镀生产线 |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20110248414A1 (en) * | 2010-04-12 | 2011-10-13 | Itt Manufacturing Enterprises, Inc. | Aeration diffuser assembly end seal |
| CN102458487A (zh) * | 2009-06-04 | 2012-05-16 | 萨布尔知识产权控股有限责任公司 | 使用气态二氧化氯给被包围空间去污染 |
| CN202492577U (zh) * | 2012-01-17 | 2012-10-17 | 江苏中江焊丝有限公司 | 化镀装置 |
| CN107254796A (zh) * | 2017-08-09 | 2017-10-17 | 玖龙纸业（太仓）有限公司 | 一种干网清洗装置 |
| CN207628151U (zh) * | 2017-10-31 | 2018-07-20 | 青岛碧蓝环保科技工程有限公司 | 一种喷淋式废气处理装置 |
| CN109750345A (zh) * | 2019-02-19 | 2019-05-14 | 昆山东威电镀设备技术有限公司 | 一种挡水装置及电镀液回收系统 |
| CN209451631U (zh) * | 2018-12-25 | 2019-10-01 | 上海富诚环保科技有限公司 | 一种脱硫液再生槽 |
| CN211445896U (zh) * | 2019-11-29 | 2020-09-08 | 昆山东威科技股份有限公司 | 一种回流槽及具有回流槽的装置 |
-
2019
- 2019-11-29 CN CN201911206581.3A patent/CN111101118B/zh active Active
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102458487A (zh) * | 2009-06-04 | 2012-05-16 | 萨布尔知识产权控股有限责任公司 | 使用气态二氧化氯给被包围空间去污染 |
| US20110248414A1 (en) * | 2010-04-12 | 2011-10-13 | Itt Manufacturing Enterprises, Inc. | Aeration diffuser assembly end seal |
| CN202492577U (zh) * | 2012-01-17 | 2012-10-17 | 江苏中江焊丝有限公司 | 化镀装置 |
| CN107254796A (zh) * | 2017-08-09 | 2017-10-17 | 玖龙纸业（太仓）有限公司 | 一种干网清洗装置 |
| CN207628151U (zh) * | 2017-10-31 | 2018-07-20 | 青岛碧蓝环保科技工程有限公司 | 一种喷淋式废气处理装置 |
| CN209451631U (zh) * | 2018-12-25 | 2019-10-01 | 上海富诚环保科技有限公司 | 一种脱硫液再生槽 |
| CN109750345A (zh) * | 2019-02-19 | 2019-05-14 | 昆山东威电镀设备技术有限公司 | 一种挡水装置及电镀液回收系统 |
| CN211445896U (zh) * | 2019-11-29 | 2020-09-08 | 昆山东威科技股份有限公司 | 一种回流槽及具有回流槽的装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112746305A (zh) * | 2021-01-11 | 2021-05-04 | 昆山东威科技股份有限公司 | 一种回流槽、配合结构及电镀生产线 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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