CN111065942A - 衍射导光板和制造衍射导光板的方法 - Google Patents

衍射导光板和制造衍射导光板的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN111065942A
CN111065942A CN201880054388.XA CN201880054388A CN111065942A CN 111065942 A CN111065942 A CN 111065942A CN 201880054388 A CN201880054388 A CN 201880054388A CN 111065942 A CN111065942 A CN 111065942A
Authority
CN
China
Prior art keywords
diffraction grating
substrate
diffraction
grating layer
diffractive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201880054388.XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN111065942B (zh
Inventor
尹晶焕
辛富建
朴正岵
许殷奎
秋素英
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LG Chem Ltd
Original Assignee
LG Chem Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LG Chem Ltd filed Critical LG Chem Ltd
Publication of CN111065942A publication Critical patent/CN111065942A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN111065942B publication Critical patent/CN111065942B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/18—Diffraction gratings
    • G02B5/1847—Manufacturing methods
    • G02B5/1857—Manufacturing methods using exposure or etching means, e.g. holography, photolithography, exposure to electron or ion beams
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/18—Diffraction gratings
    • G02B5/1814—Diffraction gratings structurally combined with one or more further optical elements, e.g. lenses, mirrors, prisms or other diffraction gratings
    • G02B5/1819—Plural gratings positioned on the same surface, e.g. array of gratings
    • G02B5/1823—Plural gratings positioned on the same surface, e.g. array of gratings in an overlapping or superposed manner
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/01—Head-up displays
    • G02B27/017—Head mounted
    • G02B27/0172—Head mounted characterised by optical features
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/18—Diffraction gratings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/18—Diffraction gratings
    • G02B5/1842—Gratings for image generation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/0001—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems
    • G02B6/0011—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems the light guides being planar or of plate-like form
    • G02B6/0013—Means for improving the coupling-in of light from the light source into the light guide
    • G02B6/0015—Means for improving the coupling-in of light from the light source into the light guide provided on the surface of the light guide or in the bulk of it
    • G02B6/0016—Grooves, prisms, gratings, scattering particles or rough surfaces
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/0001—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems
    • G02B6/0011—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings specially adapted for lighting devices or systems the light guides being planar or of plate-like form
    • G02B6/0065—Manufacturing aspects; Material aspects
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Optical Couplings Of Light Guides (AREA)

Abstract

本发明的示例性实施方案提供了衍射导光板，包括：第一衍射基底；和设置在第一衍射基底上的第二衍射基底，其中第一衍射基底包括在一个表面上的第一衍射光栅层和在另一表面上的第二衍射光栅层，第二衍射基底包括在一个表面上的第三衍射光栅层和在另一表面上的应力补偿层，第一衍射光栅层分离波长为550nm或更大且700nm或更小的光，第二衍射光栅层分离波长为400nm或更大且550nm或更小的光，第三衍射光栅层分离波长为450nm或更大且650nm或更小的光，以及应力补偿层在与第三衍射光栅层的应力方向相同的方向上具有应力。

Description

衍射导光板和制造衍射导光板的方法
技术领域
本说明书要求于2017年10月24日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2017-0138685号的优先权和权益，其全部内容通过引用并入本文。
本发明涉及衍射导光板和制造衍射导光板的方法。
背景技术
近来，对实现增强现实(AR，Augmented Reality)、混合现实(MR，Mixed Reality)或虚拟现实(VR，Virtual Reality)的显示单元的兴趣增加，已经积极地进行了对实现AR、MR或VR的显示单元的研究。实现AR、MR或VR的显示单元包括利用基于光的波特性的衍射现象的衍射导光板。衍射导光板基本上包括三个基底，其中每一者在一个表面上形成有包括能够使光衍射并且具有光栅形式的纳米图案的图案层。然而，存在这样的问题：包括三个基底的衍射导光板对于实现用以实现AR、MR或VR的显示单元的亮度来说厚且有点重。
此外，当在基底的一个表面上形成图案层时，可能发生基底由于图案层的应力而变形的问题。可能发生使用包括由于图案层的应力而变形的基底的衍射导光板的显示单元的显示性能大大降低等的问题。
因此，需要有效地减小衍射导光板的厚度和重量的技术以及防止形成衍射导光板的基底由于图案层的应力而变形的技术。
发明内容
技术问题
本说明书旨在提供衍射导光板和制造衍射导光板的方法。
本发明要解决的目的不限于前述目的，并且本领域技术人员根据以下描述将清楚地理解本文未提及的其他目的。
技术方案
本发明的一个示例性实施方案提供了衍射导光板，其包括：第一衍射基底；和设置在第一衍射基底上的第二衍射基底，其中第一衍射基底包括在一个表面上的第一衍射光栅层和在另一表面上的第二衍射光栅层，第二衍射基底包括在一个表面上的第三衍射光栅层和在另一表面上的应力补偿层，第一衍射光栅层分离波长为550nm或更大且700nm或更小的光，第二衍射光栅层分离波长为400nm或更大且550nm或更小的光，第三衍射光栅层分离波长为450nm或更大且650nm或更小的光，以及应力补偿层在与第三衍射光栅层的应力方向相同的方向上具有应力。
此外，本发明的一个示例性实施方案提供了制造衍射导光板的方法。特别地，本发明的一个示例性实施方案提供了制造衍射导光板的方法，所述方法包括：制备第一衍射基底，所述第一衍射基底包括在一个表面上的第一衍射光栅层和在另一表面上的第二衍射光栅层；制备第二衍射基底，所述第二衍射基底包括在一个表面上的第三衍射光栅层和在另一表面上的应力补偿层；以及将第一衍射基底和第二衍射基底附接。
有益效果
根据本发明的示例性实施方案，衍射导光板包括第一衍射基底，所述第一衍射基底包括在一个表面上的第一衍射光栅层和在另一表面上的第二衍射光栅层，从而有效地减小衍射导光板的厚度和重量。
根据本发明的示例性实施方案，在包括在一个表面上的第三衍射光栅层的第二衍射基底的另一表面上形成有应力补偿层，使得可以有效地抑制第二衍射基底的可能由于第三衍射光栅层的应力而引起的变形。
根据本发明的示例性实施方案，可以容易地制造厚度和重量均减小的衍射导光板。
附图说明
图1a和图1b是示意性地示出基底根据基底的一个表面上的图案层的形成而变形的情况的图。
图2是示意性地示出包括三个基底的衍射导光板的图，所述三个基底中每一者在一个表面上形成有图案层。
图3a至图3d是示意性地示出根据本发明的一个示例性实施方案的衍射导光板的图。
图4a是示出根据本发明的示例性实施方案的设置有第一衍射光栅层和第二衍射光栅层的第一衍射基底的入耦合角和出耦合角的图，以及图4b是示出设置有第一衍射光栅层和第三衍射光栅层的衍射基底的入耦合角和出耦合角的图。
图5是示意性地示出根据本发明的示例性实施方案的第一衍射光栅层的平面的图。
图6是示意性地示出根据本发明的示例性实施方案的包括第一衍射光栅层的第一衍射基底的截面的图。
图7是示意性地示出根据本发明的示例性实施方案的包括衍射图案的第一衍射光栅层的图。
图8是示意性地示出根据本发明的示例性实施方案的包括在第一衍射光栅层中的衍射图案的截面的图。
图9是示出根据本发明的示例性实施方案的衍射光栅层的光衍射效率根据包括在衍射光栅层中的图案结构的占空比、深度和光折射率的模拟结果的图。
图10a和图10b是示意性地示出根据本发明的示例性实施方案的包括第一衍射光栅层至第三衍射光栅层的衍射导光板的截面的图。
图11是示意性地示出根据本发明的示例性实施方案的包括第一衍射图案至第三衍射图案的第一衍射光栅层的图。
图12是示意性地示出根据本发明的示例性实施方案的通过使用两个基底来制备第一衍射基底的图。
图13a是根据本发明的实施例1的第一衍射光栅层的扫描电子显微镜(SEM)照片，以及图13b是根据本发明的实施例1的第二衍射光栅层的SEM照片。
图14是根据本发明的实施例1的第三衍射光栅层的SEM照片。
图15是根据本发明的实施例1的包括防反射图案的应力补偿层的SEM照片。
图16是示出本发明的实施例1中制备的第二衍射基底和参照例1至5中制备的基底的光透射率的测量结果的图。
图17是示出本发明的实施例2中制备的第二衍射基底以及参照例6和7中制备的基底的光透射率的测量结果的图。
图18a是示出根据制造参照例8中的基底的过程的基底的3D图像的图，以及图18b是示出根据制造参照例9中的基底的过程的基底的3D图像的图。
具体实施方式
在整个本说明书中，除非相反地明确描述，否则当说特定部分“包括/包含”特定的构成要素时，这意指还可以“包括/包含”另外的构成要素，而不是排除另外的构成要素。
在本说明书中，当一个元件被称为在另一元件“上”时，这包括该元件与另一元件接触的情况以及在两个元件之间存在另一元件的情况。
在整个本说明书中，当说一个部分与另一部分“连接”时，这包括一个部分与另一部分“直接连接”的情况以及一个部分与另一部分“用介于其间的另一元件”连接的情况。
在本说明书中，特定构件的厚度可以为通过用电子显微镜(扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、扫描透射电子显微镜(STEM))观察相应构件的截面而获得的10个预定点的测量值的平均值。当相应构件的厚度非常小时，相应构件的厚度可以通过以高放大倍率放大相应构件的拍摄照片来测量，并且可以基于通过在相应构件被放大时将层间界面线在宽度方向上二等分而获得的中心部分作为边界线来测量。
本发明人发现，通过在第一衍射基底的一个表面上形成第一衍射光栅层并在第一衍射基底的另一表面上形成第二衍射光栅层，可以有效地减小所制造的衍射导光板的整体厚度和重量。此外，本发明人发现，包括在一个表面上的能够分离波长值为550nm或更大且700nm或更小的第一光的第一衍射光栅层和在另一表面上的能够分离波长值为400nm或更大且550nm或更小的第二光的第二衍射光栅层的第一衍射基底可以有效地防止可能在第一光与第二光之间产生的串扰(cross talk)。此外，本发明人发现，通过在第二衍射基底的一个表面上形成第三衍射光栅层并在第二衍射基底的另一表面上形成应力补偿层，可以防止第二衍射基底由于第三衍射光栅层的应力而变形，从而开发了将在以下描述的衍射导光板及其制造方法。
在下文中，将更详细地描述本说明书。
本发明的一个示例性实施方案提供了衍射导光板，其包括：第一衍射基底；和设置在第一衍射基底上的第二衍射基底，其中第一衍射基底包括在一个表面上的第一衍射光栅层和在另一表面上的第二衍射光栅层，第二衍射基底包括在一个表面上的第三衍射光栅层和在另一表面上的应力补偿层，第一衍射光栅层分离550nm或更大且700nm或更小的波长的光，第二衍射光栅层分离400nm或更大且550nm或更小的波长的光，第三衍射光栅层分离450nm或更大且650nm或更小的波长的光，以及应力补偿层在与第三衍射光栅层的应力方向相同的方向上具有应力。
根据本发明的示例性实施方案，衍射导光板包括第一衍射基底，所述第一衍射基底包括在一个表面上的第一衍射光栅层和在另一表面上的第二衍射光栅层，从而有效地减小衍射导光板的厚度和重量。
此外，根据本发明的示例性实施方案，在包括在一个表面上的第三衍射光栅层的第二衍射基底的另一表面上形成有应力补偿层，从而有效地抑制第二衍射基底由于第三衍射光栅层的应力的不可避免的变形。
实现增强现实(AR)、混合现实(MR)或虚拟现实(VR)的显示单元包括利用基于光的波特性的衍射现象的衍射导光板。现有的衍射导光板基本上包括使光衍射的三个基底，并且三个基底中的每一者在其一个表面上形成有包括光栅图案的图案层。然而，存在这样的问题：现有技术中的包括其中每一者在一个表面上形成有光栅图案的三个基底的衍射导光板厚且重。此外，仅在一个表面上形成有图案层的基底可能具有基底由于图案层的应力而变形的问题。
图1a和图1b是示意性地示出基底层根据基底层的一个表面上的图案层的形成而变形的情况的图。特别地，图1a是示出在形成在基底层10的一个表面上的图案层20中产生压缩应力，使得设置有图案层20的基底层10变形的情况的图。图1b是示出在形成在基底层10的一个表面上的图案层20中产生拉伸应力，使得设置有图案层20的基底层10变形的情况的图。在图1a和图1b中，省略了包括在图案层20中的光栅图案。
压缩应力或拉伸应力可能由于各种要素例如图案层和基底层的材料、在基底层上形成图案层的过程条件等而在形成在基底层的一个表面上的图案层中产生。例如，可能在图案层中形成在将用于形成图案层的组合物施加至基底层上之后的干燥组合物和/或使组合物硬化的过程期间产生的热应力、或者施加至基底层上的组合物的收缩行为等的压缩应力或拉伸应力。如图1a和图1b所示，基底层10可能由于图案层20中产生的压缩应力或拉伸应力而变形。
图2是示意性地示出包括三个基底层的衍射导光板的图，所述三个基底层中每一者在一个表面上形成有图案层。特别地，图2是示意性地示出包括形成有第一图案层21的第一基底层11、形成有第二图案层22的第二基底层12和形成有第三图案层23的第三基底层13的衍射导光板的图。参照图2，在仅在一个表面上形成有图案层的基底层的情况下，可能存在基底层由于图案层的应力而以略微弯曲的形式变形的问题。当包括在衍射导光板中的形成有图案层的基底层如图2所示弯曲时，可能存在当光入射至衍射导光板时，光透射率由于光的部分散射而降低的问题，并且可能存在由包括衍射导光板的显示单元实现的图像的品质降低的问题。
然而，根据本发明的示例性实施方案，衍射导光板包括第一衍射基底，所述第一衍射基底包括在一个表面上的第一衍射光栅层和在另一表面上的第二衍射光栅层，从而有效地减小衍射导光板的厚度和重量。即，衍射导光板包括两个基底，即包括第一衍射基底和第二衍射基底，从而有效地减轻包括衍射导光板的显示单元。此外，可以有效地减小包括衍射导光板的显示单元的体积。
此外，根据本发明的示例性实施方案，在第二衍射基底的另一表面上设置有能够补偿或抵消设置在第二衍射基底的一个表面上的第三衍射光栅层的应力的应力补偿层，使得可以有效地防止第二衍射基底由于第三衍射光栅层的应力而变形。
根据本发明的示例性实施方案，应力补偿层可以在与第三衍射光栅层的应力方向相同的方向上具有应力。当在第三衍射光栅层中产生压缩应力时，应力补偿层可以具有压缩应力，而当在第三衍射光栅层中产生拉伸应力时，应力补偿层可以具有拉伸应力。特别地，参照图1a，当在设置在第二衍射基底的一个表面上的第三衍射光栅层中产生压缩应力时，可能通过所产生的压缩应力对第二衍射基底施加拉伸应力。在这种情况下，当设置在第二衍射基底的另一表面上的应力补偿层在与第三衍射光栅层的应力方向相同的方向上具有压缩应力时，第二衍射基底的拉伸应力被抵消，从而防止第二衍射基底变形。此外，参照图1b，在设置在第二衍射基底的一个表面上的第三衍射光栅层中产生拉伸应力的情况下，可能通过所产生的拉伸应力对第二衍射基底施加压缩应力。在这种情况下，当设置在第二衍射基底的另一表面上的应力补偿层在与第三衍射光栅层的应力方向相同的方向上具有拉伸应力时，第二衍射基底的压缩应力被抵消，从而防止第二衍射基底变形。
类似地，包括在第一衍射基底的另一表面上的第二衍射光栅层可以在与包括在第一衍射基底的一个表面上的第一衍射光栅层的应力方向相同的方向上具有应力。因此，可以防止第一衍射基底由于第一衍射光栅层的应力而变形。
因此，根据本发明的示例性实施方案，在第一衍射基底的一个表面和另一表面上分别设置有第一衍射光栅层和第二衍射光栅层，并且在第二衍射基底的一个表面和另一表面上分别设置有第三衍射光栅层和应力补偿层，从而有效地防止第一衍射基底和第二衍射基底变形。
根据本发明的示例性实施方案，应力补偿层的应力可以为第三衍射光栅层的应力的80％至120％。特别地，应力补偿层的应力可以为第三衍射光栅层的应力的85％至115％、90％至105％、80％至95％、100％至110％、或100％至105％。此外，应力补偿层的应力可以与第三衍射光栅层的应力相同大小。将应力补偿层与第三衍射光栅层的应力之比调节至具有前述范围，从而防止第二衍射基底变形为弯曲形式等。
当应力补偿层的应力为第三衍射光栅层的应力的小于80％时，存在难以有效地防止第二衍射基底由于第三衍射光栅层的应力而变形的问题。此外，当应力补偿层的应力为第三衍射光栅层的应力的大于120％时，可能存在第二衍射基底由于应力补偿层的应力反而变形的问题。
根据本发明的示例性实施方案，通过调节应力补偿层的厚度、应力补偿层的组成等，可以控制应力补偿层的应力以便补偿第三衍射光栅层的应力。例如，可以在第二衍射基底的另一表面上设置具有与第三衍射光栅层的组成和厚度相似或相同的组成和厚度的应力补偿层。
根据本发明的示例性实施方案，第二衍射光栅层的应力可以为第一衍射光栅层的应力的90％至110％。通过将第二衍射光栅层的应力与第一衍射光栅层的应力之比调节至前述范围，可以有效地防止第一衍射基底变形。
根据本发明的示例性实施方案，其中在一个表面上设置有第一衍射光栅层并且在另一表面上设置有第二衍射光栅层的第一衍射基底和其中在一个表面上设置有第三衍射光栅层并且在另一表面上设置有应力补偿层的第二衍射基底的变形的抑制程度可以通过本领域中测量膜的弯曲变化的设备和方法来测量。例如，可以使用形状变化测量设备(FSM-6000LE)。此外，包括第一衍射光栅层和第二衍射光栅层的第一衍射基底以及包括第三衍射光栅层和应力补偿层的第二衍射基底的形式可以通过使用基于光学三角学原理的3D坐标测量机(3D-CMM)以3D图像的形式来拍摄。通过分析拍摄的3D图像，可以检查第一衍射基底和第二衍射基底的变形的抑制程度。
根据本发明的示例性实施方案，应力补偿层可以包括防反射图案。应力补偿层包括防反射图案，从而有效地抑制可以入射至第二衍射基底的外部光被反射。特别地，当使用者使用包括在另一表面上设置有包括防反射图案的应力补偿层的第二衍射基底的显示单元时，应力补偿层的防反射图案除了提供给衍射导光板的图像信息还可以防止从外部入射的光被反射。此外，包括在一个表面上的第三衍射光栅层和在另一表面上的应力补偿层的第二衍射基底的光透射率可以是优异的。
根据本发明的示例性实施方案，作为防反射图案，可以使用本领域中使用的防反射图案。例如，在本发明中，作为防反射图案，可以在应力补偿层的表面上形成蛾眼型(moth-eye)图案。
根据本发明的示例性实施方案，包括在一个表面上的第三衍射光栅层和在另一表面上的应力补偿层的第二衍射基底的光透射率可以通过使用本领域中测量膜等的光透射率的设备和方法来测量。例如，可以使用光透射率测量装置(HM-150)。
根据本发明的示例性实施方案，第一衍射基底可以包括在一个表面上的第一衍射光栅层和在另一表面上的第二衍射光栅层，并且第二衍射基底可以包括在一个表面上的第三衍射光栅层和在另一表面上的应力补偿层。即，第一衍射光栅层可以设置在第一衍射基底的一个表面上并且第二衍射光栅层可以设置在第一衍射基底的另一表面上，第三衍射光栅层可以设置在第二衍射基底的一个表面上并且应力补偿层可以设置在第二衍射基底的另一表面上。
根据本发明的示例性实施方案，包括第一衍射光栅层和第二衍射光栅层的第一衍射基底以及包括第三衍射光栅层和应力补偿层的第二衍射基底可以通过内部反射或内部全反射将入射至第一衍射基底和第二衍射基底的光引导至一个点。特别地，入射至第一衍射基底的光可以在第一衍射基底内部被反射或全反射并且可以被发射至与光入射至第一衍射基底的点不同的点。
根据本发明的示例性实施方案，第一衍射基底和第二衍射基底中的每一者的光折射率可以为1.5或更大且小于2.0。特别地，第一衍射基底和第二衍射基底中的每一者对于波长为约500nm的光的光折射率可以为1.5或更大且小于2.0。此外，第一衍射基底和第二衍射基底的光折射率可以彼此相同或不同。
根据本发明的示例性实施方案，只要第一衍射基底和第二衍射基底具有所述范围内的光折射率，就可以包括本领域常用的基底作为第一衍射基底和第二衍射基底。特别地，作为第一衍射基底和第二衍射基底，可以使用包含高折射组分的玻璃或树脂膜等。高折射组分可以包括TiO2、Al2O3、Ga2O3、TeO2、ZrO2、Ta2O5、Nb2O5和ZnS中的至少一者。然而，第一衍射基底和第二衍射基底的种类不限于此。
根据本发明的示例性实施方案，第一衍射基底的一个表面可以面向第二衍射基底的一个表面或另一表面，或者第一衍射基底的另一表面可以面向第二衍射基底的一个表面或另一表面。特别地，第二衍射基底可以设置在第一衍射基底上使得包括在第一衍射基底的一个表面上的第一衍射光栅层与包括在第二衍射基底的一个表面上的第三衍射光栅层相邻。此外，第二衍射基底可以设置在第一衍射基底上使得第一衍射光栅层与应力补偿层相邻。此外，第二衍射基底可以设置在第一衍射基底上使得第二衍射光栅层与第三衍射光栅层相邻，以及第二衍射基底可以设置在第一衍射基底上使得第二衍射光栅层与应力补偿层相邻。
图3a至图3d是示意性地示出根据本发明的一个示例性实施方案的衍射导光板的图。特别地，图3a是示出这样的衍射导光板的图，其中设置有在一个表面上的第一衍射光栅层310和在另一表面上的第二衍射光栅层320的第一衍射基底100与设置有在一个表面上的第三衍射光栅层330和在另一表面上的应力补偿层900的第二衍射基底200通过间隔件400连接，并且第一衍射基底100的另一表面面向第二衍射基底200的另一表面。图3b是示出这样的衍射导光板的图，其中第一衍射基底100与第二衍射基底200在其中第一衍射基底100的设置有第一衍射光栅层310的一个表面面向第二衍射基底200的设置有应力补偿层900的另一表面的状态下通过间隔件400连接。图3c是示出这样的衍射导光板的图，其中第一衍射基底100与第二衍射基底200在其中第一衍射基底100的设置有第二衍射光栅层320的另一表面面向第二衍射基底200的设置有第三衍射光栅层330的一个表面的状态下通过间隔件400连接。图3d是示出这样的衍射导光板的图，其中第一衍射基底100与第二衍射基底200在其中第一衍射基底100的设置有第一衍射光栅层310的一个表面面向第二衍射基底200的设置有应力补偿层900的另一表面的状态下通过间隔件400连接。
根据本发明的示例性实施方案，第一衍射基底的衍射光栅层可以在与第二衍射基底间隔开的同时被设置。特别地，第一衍射基底和第二衍射基底可以在彼此间隔开的同时被设置使得第一衍射光栅层或第二衍射光栅层与第三衍射光栅层或应力补偿层间隔开。如图3a所示，第一衍射基底100的第二衍射光栅层320可以在与第二衍射基底200的应力补偿层900间隔开的同时被设置。此外，如图3b所示，第一衍射基底100的第一衍射光栅层310可以在与第二衍射基底200的应力补偿层900间隔开的同时被设置。此外，如图3c所示，第一衍射基底100的第二衍射光栅层320可以在与第二衍射基底200的第三衍射光栅层330间隔开的同时被设置。此外，如图3d所示，第一衍射基底100的第一衍射光栅层310可以在与第二衍射基底200的第三衍射光栅层330间隔开的同时被设置。
根据本发明的示例性实施方案，第一衍射基底与第二衍射基底可以通过间隔件以间隔开的状态附接。参照图3a至图3d，第一衍射基底100的一个端部与第二衍射基底200的一个端部以及第一衍射基底100的另一端部和第二衍射基底200的另一端部可以通过间隔件400连接。作为间隔件，可以使用能够连接第一衍射基底和第二衍射基底的公知配置，并且也可以使用具有弹性的配置作为间隔件。
根据本发明的示例性实施方案，第一衍射基底和第二衍射基底中的每一者的厚度可以为0.1mm或更大且2mm或更小。参照图3a，示出了第一衍射基底100的厚度h1。第一衍射基底的厚度可以为0.5mm或更大且1.8mm或更小、0.8mm或更大且1.6mm或更小、1mm或更大且1.4mm或更小、0.7mm或更大且1mm或更小、1.1mm或更大且1.8mm或更小、或者1.3mm或更大且1.5mm或更小。在具有前述厚度的第一衍射基底的一个表面上设置第一衍射光栅层并且在该第一衍射基底的另一表面上设置第二衍射光栅层，使得可以将第一衍射光栅层与第二衍射光栅层之间的间隙调节至前述范围。将第一衍射光栅层与第二衍射光栅层之间的间隙调节至前述范围，使得第一衍射基底可以更有效地从入射光中区分和分离第一光和第二光。
此外，第二衍射基底的厚度可以为0.1mm或更大且2mm或更小，并且第二衍射基底的厚度可以与第一衍射基底的厚度相同或不同。
根据本发明的示例性实施方案，第一衍射光栅层可以分离550nm或更大且700nm或更小的波长的光，第二衍射光栅层可以分离400nm或更大且550nm或更小的波长的光，以及第三衍射光栅层可以分离450nm或更大且650nm或更小的波长的光。特别地，第一衍射光栅层可以从入射至第一衍射光栅层的光中分离波长值为550nm或更大且700nm或更小的第一光。此外，第二衍射光栅层可以从入射至第二衍射光栅层的光中分离波长值为400nm或更大且550nm或更小的第二光。此外，第三衍射光栅层可以从入射至第三衍射光栅层的光中分离波长值为450nm或更大且650nm或更小的第三光。
第一衍射光栅层、第二衍射光栅层和第三衍射光栅层中分离的光的波长值可以通过使用本领域中用于测量光的波长值的设备来测量。例如，光的波长值可以通过使用光学波长计(86120C，Agilent Technologies Company)来测量。
根据本发明的示例性实施方案，当包括具有各种波长值的光的入射光发射至如图3a所示的包括第一衍射基底100和第二衍射基底200的衍射导光板的第一衍射基底100的一个表面上包括的第一衍射光栅层310时，第一衍射光栅层310可以从入射光中分离波长值为550nm或更大且700nm或更小的第一光。然后，当通过第一衍射光栅层310的入射光发射至第二衍射光栅层320时，第二衍射光栅层320可以从入射光中分离波长值为400nm或更大且550nm或更小的第二光。然后，当通过第一衍射光栅层310和第二衍射光栅层320的入射光发射至第三衍射光栅层330时，第三衍射光栅层320可以从入射光中分离波长值为450nm或更大且650nm或更小的第三光。
此外，当入射光发射至如图3b所示的包括第一衍射基底100和第二衍射基底200的衍射导光板的第二衍射光栅层320时，第二衍射光栅层320可以从入射光中分离第二光。然后，当通过第二衍射光栅层320的入射光发射至第一衍射光栅层310时，第一衍射光栅层310可以从入射光中分离第一光。然后，当通过第二衍射光栅层320和第一衍射光栅层310的入射光发射至第三衍射光栅层330时，第三衍射光栅层330可以从入射光中分离第三光。
此外，在图3c和图3d的衍射导光板中，可以通过与图3a和图3b的衍射导光板的方案相同的方案从第一入射光中分离第一光、第二光和第三光。
根据本发明的示例性实施方案，包括在一个表面上的第一衍射光栅层和在另一表面上的第二衍射光栅层的第一衍射基底可以更有效地从入射至第一衍射基底的光中区分和分离第一光和第二光。特别地，第一衍射基底包括在一个表面上的第一衍射光栅层和在另一表面上的第二衍射光栅层，并且第一衍射光栅层分离波长值为550nm或更大且700nm或更小的第一光，第二衍射光栅层分离波长值为400nm或更大且550nm或更小的第二光，从而防止在第一光与第二光之间产生串扰现象。
即，防止在设置在单个第一衍射基底中的第一衍射光栅层中分离的第一光与在第二衍射光栅层中分离的第二光之间产生串扰现象，使得可以减小衍射导光板的厚度和重量，并且同时改善第一衍射基底的光分离效率。此外，可以改善第一衍射基底的光衍射效率并且可以有效地抑制双重图像现象和色散现象。
图4a是示出根据本发明的示例性实施方案的设置有第一衍射光栅层和第二衍射光栅层的第一衍射基底的入耦合角和出耦合角的图，以及图4b是示出设置有第一衍射光栅层和第三衍射光栅层的衍射基底的入耦合角和出耦合角的图。特别地，图4a是示出根据本发明的示例性实施方案的设置有第一衍射光栅层和第二衍射光栅层的第一衍射基底的入耦合角和出耦合角的图，并且是示出入射至第一衍射基底的光在基底内的反射形式的图。此外，图4b是示出与本发明的示例性实施方案不同的设置有第一衍射光栅层和第三衍射光栅层的衍射基底的入耦合角和出耦合角的图，并且是示出入射至衍射基底的光在基底内的反射形式的图。
参照图4a，在根据本发明的示例性实施方案的包括分离550nm或更大且700nm或更小的波长的光的第一衍射光栅层和分离400nm或更大且550nm或更小的波长的光的第二衍射光栅层的第一衍射基底的情况下，确定在第一衍射基底中不产生串扰现象，使得在视场中不产生双重图像，并且在第一衍射基底中如所设定的产生光衍射。同时，参照图4b，在包括分离550nm或更大且700nm或更小的波长的光的第一衍射光栅层和分离450nm或更大且650nm或更小的波长的光的第三衍射光栅层的衍射基底的情况下，确定在衍射基底中产生串扰现象，由于串扰现象在视场中产生双重图像和色散现象，并且在衍射基底内产生与所设定的衍射不同的光衍射。
在这种情况下，图4a和图4b的衍射基底的入耦合角和出耦合角可以通过使用本领域中使用的模拟衍射基底的入耦合角和出耦合角的装置和/或方法来测量。
在本发明中，衍射基底的入耦合角和出耦合角可以通过使用以下方程式1来模拟。
[方程式1]
sin(θ入)-sin(θ出)＝λ(1/b-1/a)
在方程式1中，θ入意指入耦合角，以及θ出意指出耦合角。此外，在方程式1中，λ为波长，a为使入射光衍射到衍射基底中的衍射栅格的间距，以及b为使衍射基底内部的光以出射光的角度衍射的衍射栅格的间距。当在同一表面上产生入耦合和出耦合(即a＝b)时，入射光和出射光的角度被相同地表示为位于图4a和图4b中的视场中的白色圈(whitecircle)。同时，当在不同的表面中产生入耦合和出耦合(即a≠b)时，入耦合角与出耦合角不同，并且入耦合角和出耦合角也根据波长而不同，使得产生色散。图4a是当a为468nm且b为405nm或者a为405nm且b为468nm时通过根据入耦合角计算出耦合角而获得的结果，并且用与各波长相对应的颜色表示。图4b是当a为468nm且b为340nm或者a为304nm且b为468nm时通过根据入耦合角计算出耦合角而获得的结果，并且用与各波长相对应的颜色表示。
根据本发明的示例性实施方案，第一衍射光栅层至第三衍射光栅层中的每一者的光折射率可以为1.5或更大且小于2。第一衍射光栅层至第三衍射光栅层中的每一者对于波长为约500nm的光的光折射率可以为1.5或更大且小于2.0。
特别地，第一衍射光栅层至第三衍射光栅层中的每一者的光折射率可以为1.55或更大且1.9或更小、1.6或更大且1.8或更小、1.7或更大且1.8或更小、1.5或更大且1.8或更小、或者1.55或更大且1.75或更小。
具有所述范围的光折射率的第一衍射光栅层、第二衍射光栅层和第三衍射光栅层中的每一者对于入射光可以具有优异的衍射性能。当第一衍射光栅层至第三衍射光栅层中的每一者的光折射率为2或更大时，可能发生产生二次衍射的问题，而当第一衍射光栅层至第三衍射光栅层中的每一者的光折射率小于1.5时，可能发生衍射导光板的光衍射效率降低的问题。
此外，第一衍射光栅层、第二衍射光栅层和第三衍射光栅层的光折射率可以彼此相同或不同。
根据本发明的示例性实施方案，衍射光栅层的光折射率、衍射基底的光折射率等可以通过使用本领域中常用的测量光折射率的方法来测量。例如，光折射率可以通过使用棱镜耦合器(SPA-4000)或椭偏仪来测量。
根据本发明的示例性实施方案，第一衍射光栅层、第二衍射光栅层和第三衍射光栅层中的每一者可以包含TiO2、Al2O3、Ga2O3、TeO2、ZrO2、Ta2O5、Nb2O5、ZnS、HfO、MoO和CuO中的至少一种高折射组分。然而，包含在第一衍射光栅层、第二衍射光栅层和第三衍射光栅层中的高折射组分没有限制。衍射光栅层的光折射率可以通过调节包含在衍射光栅层中的高折射组分的含量、种类等来控制。
根据本发明的示例性实施方案，第一衍射光栅层、第二衍射光栅层和第三衍射光栅层中的每一者可以包含含有高折射组分的热固性树脂或可光固化树脂。特别地，热固性树脂或可光固化树脂可以包括丙烯酸类树脂，例如氨基甲酸酯丙烯酸酯和环氧丙烯酸酯；聚酰胺树脂；聚酰亚胺树脂；硅树脂；环氧树脂；聚酯树脂；等等，但其种类没有限制。
根据本发明的示例性实施方案，第一衍射光栅层和第二衍射光栅层的光折射率可以与第一衍射基底的光折射率相同或不同。此外，第三衍射光栅层的光折射率可以与第二衍射基底的光折射率相同或不同。
根据本发明的示例性实施方案，应力补偿层可以包含热固性树脂或可光固化树脂。特别地，热固性树脂或可光固化树脂可以包括丙烯酸类树脂，例如氨基甲酸酯丙烯酸酯和环氧丙烯酸酯；聚酰胺树脂；聚酰亚胺树脂；硅树脂；环氧树脂；聚酯树脂；等等，但其种类没有限制。此外，应力补偿层可以包含含有高折射颗粒的热固性树脂或可光固化树脂。高折射组分可以包括TiO2、Al2O3、Ga2O3、TeO2、ZrO2、Ta2O5、Nb2O5、ZnS、HfO、MoO和CuO中的至少一者。
根据本发明的示例性实施方案，第一衍射光栅层至第三衍射光栅层中的每一者可以包括光入射的第一区域、入射的光扩展和移动的第二区域、和提取移动的光的第三区域，第一区域可以被包括在第一衍射光栅层至第三衍射光栅层中的每一者的对应位置中，以及第三区域可以被包括在第一衍射光栅层至第三衍射光栅层中的每一者的对应位置中。
图5是示意性地示出根据本发明的示例性实施方案的第一衍射光栅层的平面的图。特别地，图5是示出包括光入射的第一区域511、入射的光扩展和移动的第二区域512和提取移动的光的第三区域513的第一衍射光栅层310的平面的图。如图5所示，可以在从第一衍射光栅层310的一侧A至另一侧B的方向上顺序设置第一区域511至第三区域513。在这种情况下，在图5中，省略了第一衍射光栅层的图案结构的图示。
参照图5，第一区域511可以为包括具有各种波长值的光的入射光入射的区域。此外，第二区域512可以为入射至第一衍射光栅层310的光被衍射的区域，并且可以为使入射至第一区域511的光扩展至第三区域513的区域。第三区域513可以为提取光的区域，并且当在显示单元中使用衍射导光板时，第三区域513可以为提取光以向使用者提供显示信息的区域。此外，与图5所示的第一衍射光栅层类似，第二衍射光栅层和第三衍射光栅层中的每一者也可以包括第一区域至第三区域。
图6是示意性地示出根据本发明的示例性实施方案的包括第一衍射光栅层的第一衍射基底的截面的图。特别地，图6是示出光入射至第一区域511然后通过第三区域513提取以向使用者提供显示信息的情况的图。在图6中，省略了包括在第一衍射基底的另一表面上的第二衍射光栅层和第二衍射基底的图示。在图6中，省略了包括在第一衍射基底的另一表面上的第二衍射光栅层。此外，如图6所示，即使在第二衍射光栅层和第三衍射光栅层中，也可以通过第三区域提取入射至第一区域的光。
根据本发明的示例性实施方案，第一衍射光栅层至第三衍射光栅层中的每一者可以包括衍射图案。衍射图案可以包括两个或更多个图案结构。
图7是示意性地示出根据本发明的示例性实施方案的包括衍射图案的第一衍射光栅层的图。特别地，图7是示出包括在从第一衍射光栅层310的一侧A至另一侧B的方向上设置的两个或更多个图案结构的衍射图案的图。在图7中，省略了包括在第一衍射基底的另一表面上的第二衍射光栅层的图示。与图7的图示相同，第二衍射光栅层和第三衍射光栅层中的每一者可以包括衍射图案，所述衍射图案包括在从衍射光栅层的一侧至另一侧的方向上设置的两个或更多个图案结构。
根据本发明的示例性实施方案，根据包括在第一衍射光栅层至第三衍射光栅层中的每一者中的衍射图案的形式，从入射至第一衍射光栅层、第二衍射光栅层和第三衍射光栅层的光中分离的光的波长值可以不同。
图8是示意性地示出根据本发明的示例性实施方案的包括在第一衍射光栅层中的衍射图案的截面的图。特别地，图8是示出包括两个或更多个图案结构的衍射图案的图。在图8中，省略了包括在第一衍射基底的另一表面上的第二衍射光栅层。参照图8，从第一衍射基底100的一个表面以倾斜角θ1设置有图案结构，图案结构可以具有h2的深度，并且两个或更多个图案结构可以以d1的间距设置。在本发明中，“间距”意指图案结构重复的间隔，并且可以意指如图8所示的一个图案结构的一个点和与该一个图案结构相邻的另一图案结构的一个点之间的长度。一个图案结构的一个点和另一图案结构的一个点可以意指图案结构之间的对应位置。
参照图8，根据本发明的示例性实施方案的包括在第一衍射光栅层310的衍射图案中的图案结构可以从第一衍射基底100的一个表面以50°或更大且小于90°的倾斜角θ1设置。此外，两个或更多个图案结构可以以100nm或更大且600nm或更小的间距d1设置，并且图案结构的深度h3可以大于0nm且为600nm或更小。特别地，包括在第一衍射光栅层中的图案结构相对于第一衍射基底的倾斜角可以为55°或更大且80°或更小、60°或更大且75°或更小、65°或更大且85°或更小、50°或更大且65°或更小、或者70°或更大且80°或更小。此外，两个或更多个图案结构可以以150nm或更大且500nm或更小、200nm或更大且400nm或更小、250nm或更大且350nm或更小、150nm或更大且250nm或更小、350nm或更大且450nm或更小、或者500nm或更大且600nm或更小的间距设置。此外，图案结构的深度可以为10nm或更大且500nm或更小、50nm或更大且400nm或更小、100nm或更大且350nm或更小、150nm或更大且250nm或更小、450nm或更大且550nm或更小、或者300nm或更大且400nm或更小。
根据本发明的示例性实施方案，与第一衍射光栅层类似，第二衍射光栅层和第三衍射光栅层中的每一者可以包括两个或更多个图案结构，并且图案结构可以从衍射基底的一个表面以50°或更大且小于90°的倾斜角设置。此外，两个或更多个图案结构可以以100nm或更大且600nm或更小的间距设置，并且图案结构的深度可以大于0nm且为600nm或更小。特别地，包括在第二衍射光栅层和第三衍射光栅层中的每一者中的图案结构相对于衍射基底的一个表面的倾斜角可以为50°或更大且80°或更小、55°或更大且70°或更小、65°或更大且75°或更小、或者70°或更大且80°或更小。此外，两个或更多个图案结构可以以125nm或更大且450nm或更小、250nm或更大且350nm或更小、200nm或更大且400nm或更小、150nm或更大且300nm或更小、350nm或更大且400nm或更小、或者500nm或更大且655nm或更小的间距设置。此外，图案结构的深度可以为30nm或更大且500nm或更小、100nm或更大且400nm或更小、150nm或更大且300nm或更小、200nm或更大且250nm或更小、450nm或更大且550nm或更小、或者300nm或更大且400nm或更小。
根据本发明的示例性实施方案，包括在第一衍射光栅层、第二衍射光栅层和第三衍射光栅层中的衍射图案的形式可以不同。例如，包括在第一衍射光栅层的衍射图案中的图案结构的间距与包括在第二衍射光栅层的衍射图案中的图案结构的间距相同，但包括在第一衍射光栅层的衍射图案中的图案结构的倾斜角和深度可以与包括在第二衍射光栅层的衍射图案中的图案结构的倾斜角和深度不同。此外，包括在第二衍射光栅层的衍射图案中的图案结构的深度与包括在第三衍射光栅层的衍射图案中的图案结构的深度相同，但包括在第二衍射光栅层的衍射图案中的图案结构的光栅的倾斜角可以与包括在第三衍射光栅层的衍射图案中的图案结构的光栅的倾斜角不同。
因此，根据本发明的示例性实施方案，通过调节包括在衍射光栅层的衍射图案中的图案结构相对于衍射基底的倾斜角、图案结构之间的间距和图案结构的深度，可以容易地控制从入射至衍射光栅层的光中分离的光的波长值。
图9是示出根据本发明的示例性实施方案的衍射光栅层的光衍射效率根据包括在衍射光栅层中的图案结构的占空比、深度和光折射率的模拟结果的图。特别地，图9的(a)示出了衍射光栅层的光衍射效率根据图案结构的占空比的模拟结果，其中衍射光栅层的光折射率n设定为1.8，以及衍射光栅层的深度设定为300nm。此外，图9的(b)示出了衍射光栅层的光衍射效率根据图案结构的深度的模拟结果，其中衍射光栅层的光折射率n设定为1.8，以衍射光栅层的占空比设定为0.6。此外，图9的(c)示出了衍射光栅层的光衍射效率根据图案结构的光折射率的模拟结果，其中衍射光栅层的占空比设定为0.6，以及衍射光栅层的深度设定为300nm。
参照图9的(a)至图9的(c)，可以看出，通过调节根据本发明的示例性实施方案的衍射光栅层中包括的图案结构的占空比和深度以及衍射光栅层的光折射率，可以容易地控制衍射光栅层的光衍射效率。
在这种情况下，图9的(a)至图9的(c)中的模拟可以通过使用本领域中使用的计算衍射基底的光衍射效率的装置和/或方法来计算，并且在本发明中可以通过使用利用严格耦合波分析算法的VirtualLab软件来计算。
图10a和图10b是示意性地示出根据本发明的示例性实施方案的包括第一衍射光栅层至第三衍射光栅层的衍射导光板的截面的图。特别地，图10a是示出以下的图：分别包括在第一衍射光栅层310、第二衍射光栅层320和第三衍射光栅层330的第一区域511、521和531中的第一衍射图案311、321和331；分别包括在第一衍射光栅层310、第二衍射光栅层320和第三衍射光栅层330的第二区域512、522和532中的第二衍射图案312、322和333；以及分别包括在第一衍射光栅层310、第二衍射光栅层320和第三衍射光栅层330的第三区域513、523和533中的第三衍射图案313、323和333。此外，图10b是示出以下的图：分别包括在第一衍射光栅层310和第二衍射光栅层320的第一区域511和521中的第一衍射图案311和321；分别包括在第一衍射光栅层310和第二衍射光栅层320的第二区域512和522中的第二衍射图案312和322；以及分别包括在第一衍射光栅层310和第二衍射光栅层320的第三区域513和523中的第三衍射图案313和323，并且是示出这样的衍射导光板的图，所述衍射导光板包括包括在第三衍射光栅层330的第一区域531中的第一衍射图案331；包括在第三区域533中的第三衍射图案313、323和333；以及分别包括在两个第二区域532和532′中的第二衍射光栅图案332和332′。
根据本发明的示例性实施方案，第一区域可以包括在第一衍射光栅层至第三衍射光栅层中的每一者的对应位置中，以及第三区域可以包括在第一衍射光栅层至第三衍射光栅层中的每一者的对应位置中。即，可以使包括在第一衍射光栅层至第三衍射光栅层中的每一者中的第一区域对准以便被设置在第一衍射光栅层至第三衍射光栅层中的每一者的对应位置处。此外，可以使包括在第一衍射光栅层至第三衍射光栅层中的每一者中的第三区域对准以便被设置在第一衍射光栅层至第三衍射光栅层中的每一者的对应位置处。
根据本发明的示例性实施方案，第一衍射光栅层的设置有第一区域的位置、第二衍射光栅层的设置有第一区域的位置和第三衍射光栅层的设置有第一区域的位置可以彼此对应。特别地，第一衍射光栅层至第三衍射光栅层的包括第一区域的位置可以相同，以及第一衍射光栅层至第三衍射光栅层的包括第三区域的位置可以相同。
根据本发明的示例性实施方案，第一衍射光栅层的设置有第一区域的位置可以对应于第二衍射光栅层的设置有第一区域的位置，第二衍射光栅层的设置有第一区域的位置可以对应于第三衍射光栅层的设置有第一区域的位置，以及第一衍射光栅层的设置有第一区域的位置可以对应于第三衍射光栅层的设置有第一区域的位置。
此外，第一衍射光栅层的设置有第三区域的位置、第二衍射光栅层的设置有第三区域的位置和第三衍射光栅层的设置有第三区域的位置可以彼此对应。即，第一衍射光栅层的设置有第三区域的位置可以对应于第二衍射光栅层的设置有第三区域的位置，第二衍射光栅层的设置有第三区域的位置可以对应于第三衍射光栅层的设置有第三区域的位置，以及第一衍射光栅层的设置有第三区域的位置可以对应于第三衍射光栅层的设置有第三区域的位置。包括在第一衍射光栅层至第三衍射光栅层中的第三区域的位置彼此对应，使得由第一衍射光栅层分离的第一光、由第二衍射光栅层分离的第二光和由第三衍射光栅层分离的第三光可以有效地组合。
此外，第一衍射光栅层至第三衍射光栅层中的被使得对准以便分别对应于彼此的第一区域的面积和第三区域的面积可以基本上相同。在本发明中，“面积基本上相同”可以意指包括在制造期间可能产生的微小误差的面积相同的情况，以及面积精确地相同的情况。
参照图10a和图10b，包括分别包括在第一衍射光栅层310、第二衍射光栅层320和第三衍射光栅层330中的第一区域511、521和531的位置可以彼此对应。此外，包括分别包括在第一衍射光栅层310、第二衍射光栅层320和第三衍射光栅层330中的第三区域513、523和533的位置可以彼此对应。即，包括在第一衍射光栅层至第三衍射光栅层中的每一者中的第一区域和第三区域可以被设置在第一衍射光栅层至第三衍射光栅层中的每一者的对应位置处。此外，第一衍射光栅层至第三衍射光栅层各自中包括的第一区域可以基本上具有相同的面积，以及第一衍射光栅层至第三衍射光栅层各自中包括的第三区域可以基本上具有相同的面积。第一衍射光栅层、第二衍射光栅层和第三衍射光栅层各自中包括的第一区域和第三区域形成在对应位置处，使得可以改善由应用所述衍射导光板的显示单元实现的图像的品质例如清晰度。
同时，根据本发明的示例性实施方案，包括在第一衍射光栅层、第二衍射光栅层和第三衍射光栅层中的第二区域可以设置在对应位置处或者可以设置在不同位置处。参照图10a，包括在第一衍射光栅层310、第二衍射光栅层320和第三衍射光栅层330中的第二区域512、522和532可以设置在对应位置处。此外，参照图10b，设置在第一衍射光栅层310中的第二区域512的形成位置和面积可以与包括在第三衍射光栅层320中的第三区域532的形成位置和面积不同。
根据本发明的示例性实施方案，第一衍射光栅层至第三衍射光栅层中的每一者可以包括第一区域和第三区域，并且可以选择性地包括第二区域。例如，第一衍射光栅层和第三衍射光栅层中的每一者可以包括第一区域至第三区域，以及第二衍射光栅层可以仅包括第一区域和第三区域。
根据本发明的示例性实施方案，包括在第一衍射光栅层、第二衍射光栅层和第三衍射光栅层中的每一者中的第一区域、第二区域和第三区域的数量可以为复数个。例如，第三衍射光栅层可以包括一个第一区域、两个第二区域和一个第三区域。参照图10b，第三衍射光栅层330可以包括两个第二区域532和532′，并且两个第二区域532和532′可以分别包括第二衍射图案332和332′。
根据本发明的示例性实施方案，包括在第一衍射光栅层至第三衍射光栅层中的每一者中的第一衍射图案、第二衍射图案和第三衍射图案可以具有不同的形式。例如，包括在第一衍射光栅层的第一衍射图案中的图案结构可以具有与包括在第一衍射光栅层的第二衍射图案中的图案结构不同的倾斜方向、倾斜角度、深度、宽度等。此外，包括在第一衍射光栅层的第一衍射图案中的图案结构可以具有与包括在第二衍射光栅层的第一衍射图案中的图案结构不同的倾斜方向、倾斜角度、深度、宽度等。
图11是示意性地示出根据本发明的示例性实施方案的包括第一衍射图案至第三衍射图案的第一衍射光栅层的图。特别地，图11是示出第一衍射光栅层310的图，其中包括在第一衍射图案311中的图案结构、包括在第二衍射图案312中的图案结构和包括在第三衍射图案313中的图案结构的倾斜方向、倾斜角度、间距和深度不同。在图11中，省略了包括在第一衍射基底的另一表面上的第二衍射光栅层的图示。
参照图11，通过调节包括在第一衍射光栅层310的第一衍射图案311、第二衍射图案312和第三衍射图案313中的图案结构相对于衍射基底的倾斜方向和倾斜角度、图案结构的间距以及图案结构的深度，可以改善从入射至第一衍射光栅层的光中分离第一光的效率和光相对于第一衍射基底的衍射效率。此外，与第一衍射光栅层类似，可以调节包括在第二衍射光栅层和第三衍射光栅层的第一衍射图案、第二衍射图案和第三衍射图案中的图案结构的倾斜方向和倾斜角度、图案结构的间距以及图案结构的深度。
因此，根据本发明的示例性实施方案，通过调节包括在衍射光栅层的衍射图案中的图案结构的倾斜角度、间距、深度等，可以提供这样的衍射导光板：利用所述衍射导光板，能够实现清晰图像的显示器被制造。
根据本发明的示例性实施方案，包括在第一衍射光栅层至第三衍射光栅层中的每一者中的第三区域的光折射率可以从一侧至另一侧逐渐增加。
在现有技术中的衍射导光板的情况下，光衍射效率在提取光以向使用者提供显示信息的整个区域中是相同的。当在包括在衍射导光板中的使光衍射的区域的整个部分中光衍射效率相同时，在衍射导光板内部反射或全反射光的过程中，由衍射导光板衍射的光的量减少。特别地，当光入射至衍射导光板的一个侧表面并被引导至衍射导光板的另一侧表面时，在衍射区域中衍射的光的量从衍射导光板的一个侧表面至另一侧表面减少。当衍射的光的量根据衍射导光板的部分而不同时，在衍射的光的量大的部分中发射具有高亮度的光，但在衍射的光的量小的部分中发射具有低亮度的光。因此，在现有技术中的衍射导光板的情况下，光衍射效率在提取光的整个区域中是相同的，使得可能存在提取的光的亮度根据提取光的区域的部分而不均匀的问题。
同时，根据本发明的示例性实施方案，第一衍射光栅层至第三衍射光栅层中的每一者的第三区域的光折射率可以从一侧至另一侧逐渐增加。第三区域可以为提取光的区域，并且第三区域的光折射率从一侧至另一侧逐渐增加，使得提取的光的亮度根据第三区域的部分可以是均匀的。因此，根据本发明的示例性实施方案，可以实现能够向使用者提供具有相同亮度的显示信息的衍射导光板。
此外，与第三区域类似，包括在第一衍射光栅层至第三衍射光栅层中的每一者中的第一区域和/或第二区域的光折射率可以从一侧至另一侧逐渐增加。
根据本发明的示例性实施方案，第三区域可以包括衍射图案，所述衍射图案包括深度从一侧至另一侧逐渐增加的倾斜图案结构。特别地，第三区域包括衍射图案，所述衍射图案包括深度从一侧至另一侧逐渐增加的倾斜图案结构，使得可以使光折射率从第三区域的一侧至另一侧逐渐增加。参照图11，在第三区域513中包括有这样的衍射图案，所述衍射图案包括深度在从第三区域513的一侧A至另一侧B的方向上逐渐增加的倾斜图案结构，使得光折射率可以在从第三区域的一侧至另一侧的方向上逐渐增加。光折射率从第三区域的一侧至另一侧逐渐增加，使得光衍射效率可以从第三区域的一侧至另一侧逐渐增加。
因此，根据本发明的示例性实施方案，通过使包括在第一衍射光栅层至第三衍射光栅层中的每一者的第三区域中的倾斜图案结构的深度在从第三区域的一侧至另一侧的方向上逐渐增加，在光从第三区域的一侧至另一侧的方向上被衍射的过程期间，光的量的减少得到防止，使得从第三区域的各部分发射的光的亮度可以是均匀的。
此外，与第三区域类似，包括在第一衍射光栅层至第三衍射光栅层中的每一者中的第一区域和/或第二区域可以包括衍射图案，所述衍射图案包括深度从一侧至另一侧逐渐增加的倾斜图案结构。
根据本发明的示例性实施方案，第三区域可以包括占空比从一侧至另一侧逐渐增加的图案结构。在本发明中，“占空比”可以意指通过将图案结构的宽度值除以图案结构的间距而获得的值(图案结构的宽度/图案结构的间距)。参照图8，图案结构的占空比可以为通过将图案结构的宽度d2除以图案结构的间距d1而获得的值(d2/d1)。
根据本发明的示例性实施方案，第三区域包括占空比从一侧至另一侧逐渐增加的图案结构，使得可以使光折射率从第三区域的一侧至另一侧逐渐增加。图案结构的占空比从第三区域的一侧至另一侧逐渐增加，使得光折射率可以在从第三区域的一侧至另一侧的方向上逐渐增加。光折射率从第三区域的一侧至另一侧逐渐增加，使得光衍射效率可以从第三区域的一侧至另一侧逐渐增加。例如，通过将图案结构的间距设定为相同并使图案结构的宽度逐渐增加，图案结构的占空比可以在从第三区域的一侧至另一侧的方向上逐渐增加。
根据本发明的示例性实施方案，包括在第三区域中的图案结构的占空比可以为0.1或更大且1.0或更小。通过将包括在第三区域中的图案结构的占空比调节至前述范围，可以实现具有优异的光衍射效率的第三区域。
根据本发明的示例性实施方案，通过将两个或更多个图案结构的间距设定为相同并使图案结构的宽度在从第三区域的一侧至另一侧的方向上逐渐增加，可以使图案结构的占空比从第三区域的一侧至另一侧逐渐增加。
此外，与第三区域类似，包括在第一衍射光栅层至第三衍射光栅层中的每一者中的第一区域和/或第二区域可以包括占空比从一侧至另一侧逐渐增加的图案结构。
此外，本发明的另一个示例性实施方案提供了制造衍射导光板的方法。
本发明的一个示例性实施方案提供了制造根据本发明的一个示例性实施方案的衍射导光板的方法，所述方法包括：制备第一衍射基底，所述第一衍射基底包括在一个表面上的第一衍射光栅层和在另一表面上的第二衍射光栅层；制备第二衍射基底，所述第二衍射基底包括在一个表面上的第三衍射光栅层和在另一表面上的应力补偿层；以及将第一衍射基底和第二衍射基底附接。
根据本发明的示例性实施方案，可以容易地制造厚度和重量均减小的衍射导光板。
此外，根据本发明的示例性实施方案，可以容易地制造包括防止弯曲的第一衍射基底和第二衍射基底的衍射导光板。
通过根据本发明的示例性实施方案的制造衍射导光板的方法制造的第一衍射基底、第二衍射基底、第一衍射光栅层、第二衍射光栅层、第三衍射光栅层和应力补偿层可以与根据本发明的示例性实施方案的衍射导光板中包括的第一衍射基底、第二衍射基底、第一衍射光栅层、第二衍射光栅层、第三衍射光栅层和应力补偿层基本上相同。
根据本发明的示例性实施方案，制备第一衍射基底的操作可以包括在第一基底的一个表面上形成第一衍射光栅层并在第一基底的另一表面上形成第二衍射光栅层以制造第一衍射基底。特别地，在第一基底的一个表面上形成第一衍射光栅层之后，可以在第一基底的另一表面上形成第二衍射光栅层。此外，还可以同时在第一基底的一个表面和另一表面上形成第一衍射光栅层和第二衍射光栅层。
根据本发明的示例性实施方案，制备第一衍射基底的操作可以包括将在一个表面上设置有第一衍射光栅层的第一基底和在一个表面上设置有第二衍射光栅层的另外的基底结合以制造第一衍射基底。特别地，将第一衍射光栅层形成在第一基底的一个表面上并将第二衍射光栅层形成在另外的基底的一个表面上，并将第一基底的另一表面结合至另外的基底的另一表面以制造第一衍射基底。
根据本发明的示例性实施方案，可以通过粘合层将第一基底的另一表面和另外的基底的另一表面结合。粘合层的光折射率可以为1.5或更大且小于2.0。通过使用具有在前述范围内的光折射率的粘合层将第一基底和另外的基底结合，可以制造具有优异的光衍射效率的第一衍射基底。
根据本发明的示例性实施方案，粘合层可以包括粘合膜或粘合剂。特别地，可以使用具有前述光折射率的粘合膜，并且可以使用形成具有前述光折射率的粘合层的粘合剂。
根据本发明的示例性实施方案，在制备第二衍射基底的操作中，在第二基底的一个表面上形成第三衍射光栅层并在第二基底的另一表面上形成应力补偿层以制造第二衍射基底。特别地，在第二基底的一个表面上形成第三衍射光栅层之后，可以在第二基底的另一表面上形成应力补偿层。此外，还可以同时在第二基底的一个表面和另一表面上形成第三衍射光栅层和应力补偿层。
根据本发明的示例性实施方案，在制备第二衍射基底的操作中，可以通过将一个表面上设置有第三衍射光栅层的第二基底和一个表面上设置有应力补偿层的另外的基底结合来制造第二衍射基底。特别地，将第三衍射光栅层形成在第二基底的一个表面上，将应力补偿层形成在另外的基底的一个表面上，然后将第二基底的另一表面结合至另外的基底的另一表面以制造第二衍射基底。
根据本发明的示例性实施方案，可以通过粘合层将第二基底的另一表面和另外的基底的另一表面结合。将第二基底的另一表面结合至另外的基底的另一表面的粘合层可以与将第一基底的另一表面结合至另外的基底的另一表面的粘合剂层相同。
根据本发明的示例性实施方案，在制备第二衍射基底的操作中，可以在应力补偿层上形成防反射图案。在应力补偿层上形成防反射图案，从而有效地抑制可能入射至第二衍射基底的外部光的反射。此外，作为防反射图案，可以使用本领域中使用的防反射图案。例如，在本发明中，作为防反射图案，可以在应力补偿层的表面上形成蛾眼型图案。
根据本发明的示例性实施方案，第一衍射光栅层至第三衍射光栅层和应力补偿层中的每一者可以通过使用利用可光固化树脂组合物和压印模具的压印法来形成。
根据本发明的示例性实施方案，制备第一衍射基底的操作可以包括将可光固化树脂组合物施加在第一基底上，以及通过使用具有刻有衍射图案的表面的模具在可光固化树脂组合物的表面上进行压印。然后，可以通过将光发射至可光固化树脂组合物来使可光固化树脂组合物光固化。因此，可以制造一个表面上形成有第一衍射光栅层的第一基底。刻在模具中的衍射光栅图案可以对应于第一衍射光栅层的图案。
根据本发明的示例性实施方案，可以将可光固化树脂组合物施加在一个表面上形成有第一衍射光栅层的第一基底的另一表面上，并可以通过使用具有刻有衍射图案的表面的模具来对可光固化树脂组合物的表面进行压印。然后，可以通过将光发射至可光固化树脂组合物来使可光固化树脂组合物光固化。刻在模具中的衍射光栅图案可以对应于第二衍射光栅层的图案。因此，可以制造形成有在一个表面上的第一衍射光栅层和在另一表面上的第二衍射光栅层的第一衍射基底。
根据本发明的示例性实施方案，使可光固化树脂组合物光固化的过程可以与将模具压印在可光固化树脂组合物的表面上的过程同时进行，或者也可以在移除模具之后进行。
根据本发明的示例性实施方案，可以通过在第一基底的一个表面上形成第一衍射光栅层之后将离型膜等附接至第一衍射光栅层上来在第一基底的另一表面上形成第二衍射光栅层的过程期间保护第一衍射光栅层。
此外，根据本发明的示例性实施方案，可以将可光固化树脂组合物施加至第一基底的一个表面和另一表面上并同时干燥，并且还可以同时通过使用模具对施加至第一基底的一个表面和另一表面上的可光固化树脂组合物的表面进行压印。
根据本发明的示例性实施方案，制备第一衍射基底的操作可以包括将可光固化树脂组合物施加在第一基底上，以及通过使用具有刻有衍射图案的表面的模具在可光固化树脂组合物的表面上进行压印。然后，可以通过使可光固化树脂组合物光固化来制造一个表面上形成有第一衍射光栅层的第一基底。可以将可光固化树脂组合物施加至另外的基底上，并且可以通过使用具有刻有衍射图案的表面的模具对可光固化树脂组合物的表面进行压印。然后，可以通过使可光固化树脂组合物光固化来制造一个表面上形成有第二衍射光栅层的另外的基底。然后，可以通过粘合层将第一基底的另一表面和另外的基底的另一表面结合来制造第一衍射基底。
根据本发明的示例性实施方案，制备第二衍射基底的操作可以包括将可光固化树脂组合物施加在第二基底上，以及通过使用具有刻有衍射图案的表面的模具在可光固化树脂组合物的表面上进行压印。然后，可以通过将光发射至可光固化树脂组合物来使可光固化树脂组合物光固化。因此，可以制造一个表面上形成有第三衍射光栅层的第二基底。刻在模具中的衍射光栅图案可以对应于第三衍射光栅层的图案。
根据本发明的示例性实施方案，可以将可光固化树脂组合物施加至一个表面上形成有第三衍射光栅层的第二基底的另一表面上，并且可以通过使用具有刻有防反射图案的表面的模具来对可光固化树脂组合物的表面进行压印。然后，可以通过将光发射至可光固化树脂组合物来使可光固化树脂组合物光固化。刻在模具中的防反射图案可以对应于第二衍射光栅层的防反射图案。因此，可以制造形成有在一个表面上的第三衍射光栅层和在另一表面上的包括防反射图案的应力补偿层的第一衍射基底。
根据本发明的示例性实施方案，使可光固化树脂组合物光固化的过程可以与将模具压印在可光固化树脂组合物的表面上的过程同时进行，或者也可以在移除模具之后进行。
根据本发明的示例性实施方案，可以通过在第二基底的一个表面上形成第三衍射光栅层之后将离型膜等附接至第三衍射光栅层上来在第二基底的另一表面上形成应力补偿层的过程期间保护第三衍射光栅层。
此外，根据本发明的示例性实施方案，可以将可光固化树脂组合物施加至第二基底的一个表面和另一表面上并同时干燥，并且还可以同时通过使用模具对施加至第二基底的一个表面和另一表面上的可光固化树脂组合物的表面进行压印。
根据本发明的示例性实施方案，制备第二衍射基底的操作可以包括将可光固化树脂组合物施加在第二基底上，以及通过使用具有刻有衍射图案的表面的模具在可光固化树脂组合物的表面上进行压印。然后，可以通过使可光固化树脂组合物光固化来制造一个表面上形成有第三衍射光栅层的第二基底。可以将可光固化树脂组合物施加至另外的基底上，并且可以通过使用具有刻有防反射图案的表面的模具对可光固化树脂组合物的表面进行压印。然后，可以通过使可光固化树脂组合物光固化来制造一个表面上形成有应力补偿层的另外的基底。然后，可以通过粘合层将第二基底的另一表面和另外的基底的另一表面结合来制造第二衍射基底。
根据本发明的示例性实施方案，用于形成第一衍射光栅层至第三衍射光栅层的可光固化树脂组合物可以包含含有TiO2、Al2O3、Ga2O3、TeO2、ZrO2、Ta2O5、Nb2O5、ZnS、HfO、MoO和CuO中的至少一种高折射组分的可光固化树脂。特别地，可光固化树脂可以通过光发射来固化，并且可光固化树脂可以包括基于丙烯酰基的可光固化树脂，例如基于氨基甲酸酯丙烯酸酯的可光固化树脂和基于环氧丙烯酸酯的可光固化树脂；基于聚酰胺的可光固化树脂；基于聚酰亚胺的可光固化树脂；基于硅的可光固化树脂；基于环氧化合物的可光固化树脂；以及基于聚酯的可光固化树脂，但可光固化树脂的种类没有限制。
根据本发明的示例性实施方案，可以将包含含有高折射组分的可光固化树脂的可光固化树脂组合物施加至基底上，然后可以通过使可光固化树脂组合物光固化来在基底上形成衍射光栅层。特别地，通过旋涂法施加包含含有ZrO2作为高折射颗粒的基于丙烯酰基的可光固化树脂的可光固化树脂组合物，将可光固化树脂组合物在约80℃的温度下干燥约3分钟，然后在约40℃的温度下发射强度为100mW/cm2的紫外线60秒或更长时间以使可光固化树脂组合物光固化。
此外，用于形成应力补偿层的可光固化树脂可以通过发射光来固化，并且可光固化树脂可以包括基于丙烯酰基的可光固化树脂，例如基于氨基甲酸酯丙烯酸酯的可光固化树脂和基于环氧丙烯酸酯的可光固化树脂；基于聚酰胺的可光固化树脂；基于聚酰亚胺的可光固化树脂；基于硅的可光固化树脂；基于环氧化合物的可光固化树脂；以及基于聚酯的可光固化树脂，但可光固化树脂的种类没有限制。此外，用于形成应力补偿层的可光固化树脂可以包含TiO2、Al2O3、Ga2O3、TeO2、ZrO2、Ta2O5、Nb2O5、ZnS、HfO、MoO和CuO中的至少一种高折射组分。
根据本发明的示例性实施方案，第一基底、第二基底和另外的基底中的每一者的光折射率可以为1.5或更大且小于2.0。只要本领域中常用的基底具有前述范围内的光折射率，就可以使用该基底。特别地，作为基底，可以使用包含高折射组分的玻璃、包含高折射组分的树脂膜等。高折射组分可以包括TiO2、Al2O3、Ga2O3、TeO2、ZrO2、Ta2O5、Nb2O5和ZnS中的至少一者。
根据本发明的示例性实施方案，可以考虑包括在第一衍射光栅层至第三衍射光栅层中的每一者中的衍射图案来制造模具。此外，可以考虑包括在应力补偿层中的防反射图案来制造模具。作为模具，可以没有限制地使用本领域中可用的模具，特别地，可以使用包含金属或合金(例如镍或镍合金)和非晶态金属的硬模具、或者包含聚对苯二甲酸乙二醇酯的软模具等。此外，模具可以为透明的。
根据本发明的示例性实施方案，当通过使用模具来对可光固化树脂组合物的表面进行压印时，为了改善可光固化树脂组合物的表面与设置有图案的模具的表面之间的接触特性，可以使用设置有支撑体的模具。特别地，可光固化树脂组合物的表面与设置有图案的模具的表面之间的接触特性通过向在一个表面上刻有图案的模具的另一表面设置支撑体来改善，从而改善压印效率。支撑体可以包括由聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)或氨基甲酸酯形成的支撑层和设置在支撑层的一个表面上并且包含聚二甲基硅氧烷(PDMS)的弹性层，但支撑层和弹性层的种类没有限制。此外，支撑体中包括的支撑层和弹性层可以为透明的，并且支撑体的弹性层可以被设置成位于模具的另一表面上。
图12是示意性地示出根据本发明的示例性实施方案的通过使用两个基底来制备第一衍射基底的图。特别地，图12是示意性地示出如下情况的图：将可光固化树脂组合物700施加至第一基底610的一个表面和另外的基底620的一个表面上并干燥，使第一基底610的另一表面面向另外的基底620的另一表面，然后通过使用在一个表面上刻有设置在第一衍射光栅层中的图案的模具810和在一个表面上刻有设置在第二衍射光栅层中的图案的模具820来进行压印。参照图12，在模具810和820的未形成有图案的另一表面上分别设置包含PET和PDMS的支撑体以及包含氨基甲酸酯和PDMS的支撑体以改善可光固化树脂组合物的表面与设置有图案的模具的一个表面之间的接触特性。类似地，可以通过使用与前述方法相同的方法来制备第二基底。
根据本发明的示例性实施方案，第一衍射光栅层至第三衍射光栅层和应力补偿层中的每一者可以通过使用光刻法或激光蚀刻法来形成。特别地，将可光固化树脂组合物施加至第一基底的一个表面上并进行光固化，然后通过使用光刻法或激光蚀刻法在形成在第一基底的一个表面上的经固化的材料的表面上形成衍射图案以在第一基底的一个表面上形成第一衍射光栅层。通过与前述方法相同的方法，可以形成第二衍射光栅层、第三衍射光栅层和应力补偿层。
根据本发明的示例性实施方案，在将第一衍射基底和第二衍射基底附接的操作中，可以在通过使用间隔件将第一衍射基底的衍射光栅层与第二衍射基底间隔开的同时附接。特别地，可以通过间隔件将第一衍射基底的一个端部和第二衍射基底的一个端部、以及第一衍射基底的另一端部和第二衍射基底的另一端部连接。作为间隔件，可以使用能够连接第一衍射基底和第二衍射基底的公知配置，并且也可以使用具有弹性的配置作为间隔件。
根据本发明的示例性实施方案，在第一衍射光栅层或第二衍射光栅层与第三衍射光栅层或应力补偿层间隔开的状态下，可以将第一衍射基底附接至第二衍射基底。即，防止包括在第一衍射基底中的第一衍射光栅层或第二衍射光栅层与包括在第二衍射基底中的第三衍射光栅层或应力补偿层接触，使得第一衍射基底和第二衍射基底可以通过间隔件附接。
本发明的另一个示例性实施方案提供了包括衍射导光板的显示单元。显示单元可以以AR、MR或VR的形式实现提供的图像。
[附图标记说明]
10：基底层
11：第一基底层
12：第二基底层
13：第三基底层
20：图案层
21：第一图案层
22：第二图案层
23：第三图案层
100：第一衍射基底
200：第二衍射基底
310：第一衍射光栅层
320：第二衍射光栅层
330：第三衍射光栅层
311、321、331：第一衍射图案
312、322、332、332′：第二衍射图案
313、323、333：第三衍射图案
400：间隔件
511、521、531：第一区域
512、522、532、532′：第二区域
513、523、533：第三区域
610：第一基底
620：另外的基底
700：可光固化树脂组合物
810、820：模具
900：应力补偿层
发明实施方式
在下文中，将基于实施例详细地描述本发明。然而，根据本发明的实施例可以被修改为其他各种形式，并且本发明的范围不应被解释为受限于以下描述的实施例。提供本说明书的实施例为了向本领域技术人员更完整地说明本发明。
实施例1
制备包含可光固化树脂的可光固化树脂组合物，所述可光固化树脂由包含作为溶剂的丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA)、作为高折射颗粒的ZrO2、作为单体的二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)和作为光聚合引发剂的Irgacure 184的组合物制备。准备具有0.8mm的厚度和约1.5的对于波长为400nm或更大且700nm或更小的光的光折射率的玻璃作为第一基底和第二基底。
将所制备的可光固化树脂组合物施加在第一基底的一个表面上，并在约80℃的温度下干燥约三分钟。然后，通过使用其中刻有第一衍射光栅层的预定图案的模具在第一基底上的可光固化树脂组合物的表面上进行压印。在压印过程期间，通过在约40℃的温度下发射强度为约100mw/cm2的紫外线约60秒使可光固化树脂组合物光固化来制造设置有在一个表面上的第一衍射光栅层的第一基底。然后，将所制备的可光固化树脂组合物施加在第一基底的另一表面上，并在约80℃的温度下干燥约三分钟。然后，通过使用其中刻有第二衍射光栅层的预定图案的模具在第一基底上的可光固化树脂组合物的表面上进行压印。在压印过程期间，通过在约40℃的温度下发射强度为约100mw/cm2的紫外线约60秒使可光固化树脂组合物光固化来制造设置有一个表面上的第一衍射光栅层和在另一表面上的第二衍射光栅层的第一基底。
将所制备的可光固化树脂组合物施加在第二基底的一个表面上，并在约80℃的温度下干燥约三分钟。然后，通过使用其中刻有第三衍射光栅层的预定图案的模具在第二基底上的可光固化树脂组合物的表面上进行压印。在压印过程期间，通过在约40℃的温度下发射强度为约100mw/cm2的紫外线约60秒使可光固化树脂组合物光固化来制造设置有在一个表面上的第三衍射光栅层的第二基底。然后，将所制备的可光固化树脂组合物施加在第二基底的另一表面上，并在约80℃的温度下干燥约三分钟。然后，通过使用其中刻有预定防反射图案的模具在第二基底上的可光固化树脂组合物的表面上进行压印。在压印过程期间，通过在约40℃的温度下发射强度为约100mw/cm2的紫外线约60秒使可光固化树脂组合物光固化来制造设置有在一个表面上的第三衍射光栅层和在另一表面上的包括防反射图案的应力补偿层的第二基底。
然后，将第一衍射基底的另一表面定位成面向第二衍射基底的另一表面，然后将第一衍射基底的一个端部和第二衍射基底的一个端部、以及第一衍射基底的另一端部和第二衍射基底的另一端部通过间隔件连接。因此，制造了包括第一衍射基底和第二衍射基底的衍射导光板。
实施例2
通过与实施例1的方法相同的方法制造衍射导光板，不同之处在于准备具有0.8mm的厚度和约1.73的对于波长为400nm或更大且700nm或更小的光的光折射率的基于硫代氨基甲酸酯的膜作为第一基底和第二基底。
第一衍射光栅层和第二衍射光栅层的截面的分析
通过使用电子显微镜(S-1400，Hitachi，Ltd.)分析实施例1中制造的第一衍射光栅层和第二衍射光栅层的截面。
图13a是根据本发明的实施例1的第一衍射光栅层的扫描电子显微镜(SEM)照片，以及图13b是根据本发明的实施例1的第二衍射光栅层的SEM照片。特别地，图13a的(A)是通过以5,000倍放大倍率拍摄第一衍射光栅层而获得的照片，图13a的(B)是通过以15,000倍放大倍率拍摄第一衍射光栅层而获得的照片，以及图13a的(C)是通过以100,000倍放大倍率拍摄第一衍射光栅层而获得的照片。此外，图13b的(A)是通过以5,000倍放大倍率拍摄第二衍射光栅层而获得的照片，图13b的(B)是通过以15,000倍放大倍率拍摄第二衍射光栅层而获得的照片，以及图13b的(C)是通过以100,000倍放大倍率拍摄第二衍射光栅层而获得的照片。
参照图13a和图13b，可以看出，通过根据本发明的示例性实施方案的方法，可以容易地制造包括设置有第一衍射光栅层和第二衍射光栅层的第一衍射基底的衍射导光板。
第二衍射基底的形式的分析
通过使用电子显微镜(S-1400，Hitachi，Ltd.)分析实施例1中制造的第三衍射光栅层和应力补偿层的形式。
图14是根据本发明的实施例1的第三衍射光栅层的SEM照片。特别地，图14的(A)是通过以5,000倍放大倍率拍摄第三衍射光栅层的截面而获得的照片，图14的(B)是通过以15,000倍放大倍率拍摄第三衍射光栅层的平面而获得的照片，以及图14的(C)是通过以100,000倍放大倍率拍摄第三衍射光栅层的平面而获得的照片。
参照图14，可以看出，通过根据本发明的示例性实施方案的方法，可以容易地制造包括第三衍射光栅层的第二衍射基底。
图15是根据本发明的实施例1的包括防反射图案的应力补偿层的SEM照片。参照图15，在应力补偿层上形成有蛾眼型图案作为防反射图案。特别地，图15的(A)是通过以10,000倍放大倍率拍摄包括蛾眼型图案的应力补偿层的表面而获得的照片，图15的(B)是通过以50,000倍放大倍率拍摄包括蛾眼型图案的应力补偿层的表面而获得的照片，图15的(C)是通过以10,000倍放大倍率拍摄包括蛾眼型图案的应力补偿层的截面而获得的照片，以及图15的(D)是通过以50,000倍放大倍率拍摄包括蛾眼型图案的应力补偿层的截面而获得的照片。
参照图15，可以看出，通过根据本发明的示例性实施方案的方法，可以容易地制造包括应力补偿层的第二衍射基底，所述应力补偿层包括蛾眼型图案作为防反射图案。
第二衍射基底的光透射率的分析
参照例1
准备具有0.8mm的厚度和约1.5的对于波长为400nm或更大且700nm或更小的光的光折射率的玻璃基底。
参照例2
准备与参照例1的基底相同的基底，并制备与实施例1中制备的可光固化树脂组合物相同的可光固化树脂组合物。然后，将可光固化树脂组合物施加在基底的一个表面上，并在约80℃的温度下干燥约3分钟。然后，通过在约40℃的温度下发射强度为约100mW/cm2的紫外线约60秒使可光固化树脂组合物固化来制造形成有在一个表面上的树脂层的基底。
参照例3
准备与参照例1的基底相同的基底，并制备与实施例1中制备的可光固化树脂组合物相同的可光固化树脂组合物。然后，将可光固化树脂组合物施加在基底的一个表面上，并在约80℃的温度下干燥约3分钟。然后，通过使用其中刻有预定防反射图案的模具在施加在基底的一个表面上的可光固化树脂组合物的表面上进行压印。在压印过程期间，通过在约40℃的温度下发射强度为约100mW/cm2的紫外线约60秒使可光固化树脂组合物固化来制造形成有包括防反射图案的树脂层的基底。
参照例4
准备与参照例1的基底相同的基底，并制备与实施例1中制备的可光固化树脂组合物相同的可光固化树脂组合物。然后，将可光固化树脂组合物施加在基底的一个表面上，并在约80℃的温度下干燥约3分钟。通过使用其中刻有第三衍射光栅层的预定图案的模具在施加在基底上的可光固化树脂组合物的表面上进行压印。在压印过程期间，通过在约40℃的温度下发射强度为约100mw/cm2的紫外线约60秒使可光固化树脂组合物光固化来制造形成有在一个表面上的第三衍射光栅层的基底。
参照例5
准备与参照例1的基底相同的基底，并制备与实施例1中制备的可光固化树脂组合物相同的可光固化树脂组合物。然后，将可光固化树脂组合物施加在基底的一个表面上，并在约80℃的温度下干燥约3分钟。通过使用其中刻有第三衍射光栅层的预定图案的模具在施加在基底上的可光固化树脂组合物的表面上进行压印。在压印过程期间，通过在约40℃的温度下发射强度为约100mW/cm2的紫外线约60秒使可光固化树脂组合物光固化。然后，将可光固化树脂组合物施加在基底的另一表面上，并在约80℃的温度下干燥约3分钟。然后，通过在约40℃的温度下发射强度为约100mW/cm2的紫外线约60秒使可光固化树脂组合物光固化来制造形成有在一个表面上的第三衍射光栅层和在另一表面上的树脂层的基底。
参照例6
准备具有0.8mm的厚度和约1.73的对于波长为400nm或更大且700nm或更小的光的光折射率的基于硫代氨基甲酸酯的膜。
参照例7
准备与参照例6的基底相同的基底，并制备与实施例1中制备的可光固化树脂组合物相同的可光固化树脂组合物。通过使用其中刻有第三衍射光栅层的预定图案的模具在施加在基底上的可光固化树脂组合物的表面上进行压印。在压印过程期间，通过在约40℃的温度下发射强度为约100mw/cm2的紫外线约60秒使可光固化树脂组合物光固化来制造形成有在一个表面上的第三衍射光栅层的基底。
图16是示出本发明的实施例1中制备的第二衍射基底和参照例1至5中制备的基底的光透射率的测量结果的图。特别地，图16示出了通过向实施例1中制备的第二衍射基底和参照例1至5中制备的基底发射波长为380nm或更大且1,200nm或更小的光源(JIS K7136)并使用光透射率测量装置HM 150获得的光透射率的测量结果。
参照图16，可以看出，与参照例1至5中制备的基底相比，本发明的实施例1中制备的包括第三衍射光栅层和应力补偿层的第二衍射基底具有更优异的对于波长为约700nm或更大且1,200nm或更小的光的光透射率。
图17是示出本发明的实施例2中制备的第二衍射基底以及参照例6和7中制备的基底的光透射率的测量结果的图。特别地，图17示出了通过向实施例2中制备的第二衍射基底以及参照例6和7中制备的基底发射波长为380nm或更大且1,200nm或更小的光源(JISK7136)并使用光透射率测量装置HM-150获得的光透射率的测量结果。
参照图17，可以看出，与参照例6和7中制备的基底相比，本发明的实施例2中制备的包括第三衍射光栅层和应力补偿层的第二衍射基底具有更优异的对于波长为约700nm或更大且1,200nm或更小的光的光透射率。
第二衍射基底的弯曲的分析
参照例8
准备具有0.8mm的厚度和约1.73的对于波长为400nm或更大且700nm或更小的光的光折射率的基于硫代氨基甲酸酯的膜。
然后，将基于硫代氨基甲酸酯的膜在80℃的温度下放置约3分钟(干燥操作)。然后，在40℃的温度下发射强度为约100mW/cm2的紫外线约60秒(UV发射操作)。
参照例9
准备与参照例8的基底相同的基底，并制备与实施例1中制备的可光固化树脂组合物相同的可光固化树脂组合物。然后，将可光固化树脂组合物施加在基底的一个表面上(施加操作)。然后，将其上施加有可光固化树脂组合物的基底在80℃的温度下干燥约3分钟(干燥操作)。然后，通过使用其中刻有预定防反射图案的模具在施加在基底的一个表面上的可光固化树脂组合物的表面上进行压印。在压印过程期间，通过在约40℃的温度下发射强度为约100mW/cm2的紫外线约60秒(UV发射操作)使可光固化树脂组合物固化来制造形成有在一个表面上的包括防反射图案的应力补偿层的基底。
在制造参照例8和9中的基底的过程期间，通过使用3D坐标测量机(3D-CMM)以3D图像的形式拍摄基底的变形。
图18a是示出根据制造参照例8中的基底的过程的基底的3D图像的图，以及图18b是示出根据制造参照例9中的基底的过程的基底的3D图像的图。特别地，图18a是参照例8中准备的基底的形式、干燥操作之后的基底的形式和UV发射操作之后的基底的形式的3D图像。此外，图18b是参照例9中准备的基底的形式、施加操作之后的基底的形式、干燥操作之后的基底的形式和UV发射操作之后的基底的形式的3D图像。
参照图18a，当在参照例8中在与制造根据本发明的示例性实施方案的衍射基底的过程的条件相同的条件下进行干燥操作和UV发射操作时，可以看出基底变形。同时，参照图18b，在参照例9的情况下，可以看出通过在基底的一个表面上形成应力补偿层，即使进行干燥操作和UV发射操作，也抑制基底变形。
因此，可以预期，通过在形成有在一个表面上的第三衍射光栅层的第二衍射基底的另一表面上形成应力补偿层，在制造第二衍射基底的过程期间抑制第二衍射基底变形。此外，还可以预期，通过在形成有在一个表面上的第一衍射光栅层的第一衍射基底的另一表面上形成第二衍射光栅层，在制造第一衍射基底的过程期间抑制第一衍射基底变形。

Claims (15)

1.一种衍射导光板，包括：
第一衍射基底；和
设置在所述第一衍射基底上的第二衍射基底，
其中所述第一衍射基底包括在一个表面上的第一衍射光栅层和在另一表面上的第二衍射光栅层，
所述第二衍射基底包括在一个表面上的第三衍射光栅层和在另一表面上的应力补偿层，
所述第一衍射光栅层分离波长为550nm或更大且700nm或更小的光，
所述第二衍射光栅层分离波长为400nm或更大且550nm或更小的光，
所述第三衍射光栅层分离波长为450nm或更大且650nm或更小的光，以及
所述应力补偿层在与所述第三衍射光栅层的应力方向相同的方向上具有应力。
2.根据权利要求1所述的衍射导光板，其中所述应力补偿层包括防反射图案。
3.根据权利要求1所述的衍射导光板，其中所述第一衍射基底和所述第二衍射基底中的每一者的厚度为0.1mm或更大且2mm或更小。
4.根据权利要求1所述的衍射导光板，其中所述第一衍射基底的衍射光栅层与所述第二衍射基底间隔开。
5.根据权利要求1所述的衍射导光板，其中所述第一衍射光栅层至所述第三衍射光栅层中的每一者包括光入射的第一区域、入射的光扩展和移动的第二区域和提取移动的光的第三区域，
所述第一区域分别包括在所述第一衍射光栅层至所述第三衍射光栅层中的每一者的对应位置处，以及
所述第三区域包括在所述第一衍射光栅层至所述第三衍射光栅层中的每一者的对应位置处。
6.根据权利要求5所述的衍射导光板，其中所述第一衍射光栅层至所述第三衍射光栅层中的每一者的所述第三区域的光折射率从一侧至另一侧逐渐增加。
7.根据权利要求5所述的衍射导光板，其中所述第三区域包括衍射图案，所述衍射图案包括深度从一侧至另一侧逐渐增加的倾斜图案结构。
8.根据权利要求5所述的衍射导光板，其中所述第三区域包括衍射图案，所述衍射图案包括占空比从一侧至另一侧逐渐增加的图案结构。
9.一种制造根据权利要求1所述的衍射导光板的方法，所述方法包括：
制备第一衍射基底，所述第一衍射基底包括在一个表面上的第一衍射光栅层和在另一表面上的第二衍射光栅层；
制备第二衍射基底，所述第二衍射基底包括在一个表面上的第三衍射光栅层和在另一表面上的应力补偿层；以及
将所述第一衍射基底和所述第二衍射基底附接。
10.根据权利要求9所述的方法，其中第一衍射基底的制备包括在第一基底的一个表面上形成所述第一衍射光栅层以及在所述第一基底的另一表面上形成所述第二衍射光栅层以制造所述第一衍射基底。
11.根据权利要求9所述的方法，其中第二衍射基底的制备包括在第二基底的一个表面上形成所述第三衍射光栅层以及在所述第二基底的另一表面上形成所述应力补偿层以制造所述第二衍射基底。
12.根据权利要求9所述的方法，其中第二衍射基底的制备包括在所述应力补偿层上形成防反射图案。
13.根据权利要求12所述的方法，其中所述第一衍射光栅层至所述第三衍射光栅层和所述应力补偿层中的每一者通过使用利用可光固化树脂组合物和压印模具的压印法来形成。
14.根据权利要求12所述的方法，其中所述第一衍射光栅层至所述第三衍射光栅层和所述应力补偿层中的每一者通过使用光刻法或激光蚀刻法来形成。
15.根据权利要求9所述的方法，其中所述第一衍射基底和所述第二衍射基底的附接包括通过使用间隔件将所述第一衍射基底和所述第二衍射基底附接成使得所述第一衍射基底的衍射光栅层与所述第二衍射基底间隔开。
CN201880054388.XA 2017-10-24 2018-10-23 衍射导光板和制造衍射导光板的方法 Active CN111065942B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20170138685 2017-10-24
KR10-2017-0138685 2017-10-24
PCT/KR2018/012545 WO2019083247A1 (ko) 2017-10-24 2018-10-23 회절 도광판 및 회절 도광판의 제조 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN111065942A true CN111065942A (zh) 2020-04-24
CN111065942B CN111065942B (zh) 2022-01-07

Family

ID=66247909

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201880054388.XA Active CN111065942B (zh) 2017-10-24 2018-10-23 衍射导光板和制造衍射导光板的方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US11892662B2 (zh)
EP (1) EP3660551B1 (zh)
JP (1) JP7127931B2 (zh)
KR (1) KR102068138B1 (zh)
CN (1) CN111065942B (zh)
WO (1) WO2019083247A1 (zh)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11886000B2 (en) * 2018-04-02 2024-01-30 Magic Leap, Inc. Waveguides having integrated spacers, waveguides having edge absorbers, and methods for making the same
TW202204951A (zh) * 2018-11-07 2022-02-01 美商應用材料股份有限公司 使用灰調微影術及傾斜蝕刻的深度調節傾斜光柵
US11137603B2 (en) * 2019-06-20 2021-10-05 Facebook Technologies, Llc Surface-relief grating with patterned refractive index modulation
JP7386267B2 (ja) * 2019-06-24 2023-11-24 マジック リープ， インコーポレイテッド ディスプレイシステム
US20220221821A1 (en) * 2019-09-30 2022-07-14 Lg Chem, Ltd. Holographic optical device and manufacturing method therefor
WO2021231789A1 (en) 2020-05-14 2021-11-18 Magic Leap, Inc. Method and system for integration of refractive optics with a diffractive eyepiece waveguide display
US20240069336A1 (en) * 2022-08-24 2024-02-29 Rockwell Collins, Inc. Macro duty cycle gratings

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000047014A (ja) * 1998-07-27 2000-02-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光学素子、光学素子の製造方法及び光ヘッド
JP2005530338A (ja) * 2002-06-18 2005-10-06 フリースケール セミコンダクター インコーポレイテッド 多段リソグラフィックテンプレート
US20080176041A1 (en) * 2005-03-10 2008-07-24 Konica Minolta Holdings, Inc Resin Film Substrate for Organic Electroluminescence and Organic Electroluminescence Device
CN101273290A (zh) * 2005-09-30 2008-09-24 弗兰霍菲尔运输应用研究公司 微光学衍射光栅及其制造方法
JP4416917B2 (ja) * 2000-05-19 2010-02-17 パナソニック株式会社 光学素子およびそれを用いた光学装置
JP2010040415A (ja) * 2008-08-07 2010-02-18 Sharp Corp バックライトユニットおよび液晶表示装置
KR20130000756A (ko) * 2011-06-24 2013-01-03 엘지이노텍 주식회사 와이어 그리드 편광자 및 그 제조방법, 와이어 그리드 편광자를 포함한 액정표시장치
CN103592776A (zh) * 2013-11-29 2014-02-19 苏州大学 二维角度选择激光滤波器
US20160370582A1 (en) * 2014-03-20 2016-12-22 Olympus Corporation Image display device
WO2017120341A1 (en) * 2016-01-06 2017-07-13 Vuzix Corporation Double-sided imaging light guide
CN107111204A (zh) * 2014-09-29 2017-08-29 奇跃公司 用于从波导中输出不同波长光的架构和方法
US20170248789A1 (en) * 2016-02-29 2017-08-31 Seiko Epson Corporation Light flux diameter expanding element and image display device

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63262614A (ja) 1987-04-21 1988-10-28 Fujitsu Ltd ホログラムデイスク
JPH03246510A (ja) 1990-02-23 1991-11-01 Sharp Corp 回折格子光結合器の作成方法
US20020127497A1 (en) * 1998-09-10 2002-09-12 Brown Daniel J. W. Large diffraction grating for gas discharge laser
JP4183444B2 (ja) 2002-05-29 2008-11-19 アルプス電気株式会社 光学部材
JP4731986B2 (ja) * 2005-05-12 2011-07-27 キヤノン株式会社 画像表示装置及びそれを有する撮像装置
KR100779693B1 (ko) 2006-08-09 2007-11-26 주식회사 엘지에스 파장선택형 회절소자 및 이를 갖는 광헤드장치
US8792027B2 (en) * 2010-01-06 2014-07-29 Panasonic Corporation Solid-state image pickup device, imaging device, and dispersing element
JP6171740B2 (ja) 2013-09-02 2017-08-02 セイコーエプソン株式会社 光学デバイス及び画像表示装置
JPWO2015037306A1 (ja) * 2013-09-12 2017-03-02 日本電気株式会社 センサユニット
JP6287095B2 (ja) 2013-11-19 2018-03-07 セイコーエプソン株式会社 光学デバイス及び電子機器
KR20150086416A (ko) * 2014-01-17 2015-07-28 희성전자 주식회사 임프린팅을 이용한 복합 도광판 제조방법
KR101684309B1 (ko) 2014-04-16 2016-12-09 레이젠 주식회사 다층 레이어 도광판
WO2017033975A1 (ja) 2015-08-27 2017-03-02 コニカミノルタ株式会社 ホログラム記録構造，光学デバイス及び製造方法
US9891436B2 (en) 2016-02-11 2018-02-13 Microsoft Technology Licensing, Llc Waveguide-based displays with anti-reflective and highly-reflective coating
KR102015012B1 (ko) 2019-04-23 2019-10-21 영광전설(주) 엘이디 가로등에서의 발열제어 기능을 갖는 조명 제어장치

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000047014A (ja) * 1998-07-27 2000-02-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光学素子、光学素子の製造方法及び光ヘッド
JP4416917B2 (ja) * 2000-05-19 2010-02-17 パナソニック株式会社 光学素子およびそれを用いた光学装置
JP2005530338A (ja) * 2002-06-18 2005-10-06 フリースケール セミコンダクター インコーポレイテッド 多段リソグラフィックテンプレート
US20080176041A1 (en) * 2005-03-10 2008-07-24 Konica Minolta Holdings, Inc Resin Film Substrate for Organic Electroluminescence and Organic Electroluminescence Device
CN101273290A (zh) * 2005-09-30 2008-09-24 弗兰霍菲尔运输应用研究公司 微光学衍射光栅及其制造方法
JP2010040415A (ja) * 2008-08-07 2010-02-18 Sharp Corp バックライトユニットおよび液晶表示装置
KR20130000756A (ko) * 2011-06-24 2013-01-03 엘지이노텍 주식회사 와이어 그리드 편광자 및 그 제조방법, 와이어 그리드 편광자를 포함한 액정표시장치
CN103592776A (zh) * 2013-11-29 2014-02-19 苏州大学 二维角度选择激光滤波器
US20160370582A1 (en) * 2014-03-20 2016-12-22 Olympus Corporation Image display device
CN107111204A (zh) * 2014-09-29 2017-08-29 奇跃公司 用于从波导中输出不同波长光的架构和方法
WO2017120341A1 (en) * 2016-01-06 2017-07-13 Vuzix Corporation Double-sided imaging light guide
US20170248789A1 (en) * 2016-02-29 2017-08-31 Seiko Epson Corporation Light flux diameter expanding element and image display device

Also Published As

Publication number Publication date
US11892662B2 (en) 2024-02-06
JP2020531908A (ja) 2020-11-05
WO2019083247A1 (ko) 2019-05-02
KR102068138B1 (ko) 2020-01-20
EP3660551A1 (en) 2020-06-03
US20200408969A1 (en) 2020-12-31
CN111065942B (zh) 2022-01-07
EP3660551A4 (en) 2020-09-02
JP7127931B2 (ja) 2022-08-30
EP3660551B1 (en) 2022-11-30
KR20190045865A (ko) 2019-05-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN111065942B (zh) 衍射导光板和制造衍射导光板的方法
CN111033118B (zh) 衍射导光板和制造衍射导光板的方法
EP2264492B1 (en) Manufacturing method for a wire grid polarizer
CN104516032B (zh) 层压体、成像元件封装件、成像装置和电子装置
KR100623026B1 (ko) 선 격자 편광자 및 그 제조방법
US20220283376A1 (en) Evacuated Periodic Structures and Methods of Manufacturing
EP3631534B1 (en) Method of manufacturing a diffractive grating
WO2007026597A1 (ja) 回折光学素子とその製造方法、及びこれを用いた撮像装置
JP2022008903A (ja) 偏光素子、偏光素子の製造方法及びヘッドアップディスプレイ装置
JP2022118069A (ja) 光学体、光学体の製造方法及び光学デバイス
KR102367021B1 (ko) 회절 도광판
JP7240357B2 (ja) 偏光素子、偏光素子の製造方法及びヘッドアップディスプレイ装置
WO2024152972A1 (en) Metalens array and display device having same
WO2020082216A1 (zh) 衍射波导装置、显示装置及制造方法
EP4430445A1 (en) Metasurface waveguide coupler for display unit
CN116669979A (zh) 线栅偏振元件、线栅偏振元件的制造方法、投影显示装置及车辆
JP2022001890A (ja) ワイヤグリッド型偏光子

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant