CN111048446A - 一种高效二极管制备酸洗装置 - Google Patents
一种高效二极管制备酸洗装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN111048446A CN111048446A CN201911166069.0A CN201911166069A CN111048446A CN 111048446 A CN111048446 A CN 111048446A CN 201911166069 A CN201911166069 A CN 201911166069A CN 111048446 A CN111048446 A CN 111048446A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- pickling
- outer box
- diode
- box body
- fixedly connected
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000002253 acid Substances 0.000 title claims abstract description 41
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 235000021110 pickles Nutrition 0.000 title claims description 3
- 238000005554 pickling Methods 0.000 claims abstract description 91
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 34
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 23
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims abstract description 13
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims abstract description 13
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 claims description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 5
- 239000008234 soft water Substances 0.000 claims description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 abstract description 5
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 abstract description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract description 2
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 abstract description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 2
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
- H01L21/67057—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing with the semiconductor substrates being dipped in baths or vessels
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67248—Temperature monitoring
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
本发明涉及电子器件制造技术领域，且公开了一种高效二极管制备酸洗装置，包括外箱体、滑行平台、进液管、进水口、出水口和酸液排出口，所述外箱体的背面与滑行平台的正面固定连接，所述进液管固定安装在外箱体与振动箱体的右上角处。通过酸洗固定架和酸洗盘之间的设置，使得可以将多个存放二极管的酸洗盘固定在酸洗固定架上，并使其一起伸入到酸液中进行酸洗，增加一次性酸洗二极管的数量，增加酸洗效率，同时通过卡栓与酸洗固定架上开设的锁孔的配合设置，利用简单的结构对酸洗盘进行固定，增加操作人员的安装效率，并避免复杂的结构无法全部为抗腐蚀材料制成，提高了装置的抗腐蚀性，增加装置的使用年限，降低维修成本。
Description
技术领域
本发明涉及电子器件制造技术领域，具体为一种高效二极管制备酸洗装置。
背景技术
二极管又称晶体二极管，它是一种具有一个零件号接合的两个端子的电子器件，且是只往一个方向传送电流的电子零件，二极管的制备过程中为了对芯片P-N结边缘进行化学腐蚀，改善机械损伤，祛除表面吸附的杂质，降低表面电场，使P-N结的击穿首先从体内发生，并获得理论值接近的反向击穿电压和极小表面漏电流需要进行酸洗，目前现有酸洗装置对二极管进行酸洗，其包括酸洗盘和酸洗槽，酸洗盘设置于酸洗槽上，酸洗盘上设置有漏酸孔，将洗涤二极管表面的酸液流入到酸洗槽，而后进行回收利用，但其存在一些不足，如下：
虽然加强了酸液的流动性，但导致酸洗液与二极管的接触反应时间太短，酸洗效率不足，同时加大了酸液中酸的挥发速率，降低酸液的浓度，进一步降低酸洗效率，同时增加了酸液的制备成本。
同样现有技术中存在一些技术，如专利201810569549.0中提到的一种半导体二极管酸洗处理系统，其通过将酸洗箱2放置于箱体1中，并利用摆动模块3使酸洗箱2在酸液中进行摆动并对酸液进行搅动，增加酸洗效率，但摆动模块3的结构较为复杂，对其制造的材料选择较为困难，并且长期放置于酸液中，使得酸液对其结构边缘造成腐蚀，容易造成结构崩溃，进行影响酸洗效率，增大维修成本。
发明内容
本发明提供了一种高效二极管制备酸洗装置，具备自动化程度高，结构简单，抗腐蚀强的优点，解决了上述背景技术中提到酸洗效率不足，并容易造成结构腐蚀的问题。
本发明提供如下技术方案：一种高效二极管制备酸洗装置，包括外箱体、滑行平台、进液管、进水口、出水口和酸液排出口，所述外箱体的背面与滑行平台的正面固定连接，所述进液管固定安装在外箱体与振动箱体的右上角处，所述酸液排出口开设在振动箱体的右下角，所述进水口位于外箱体底部的右侧，所述出水口位于外箱体底部的右侧，所述外箱体内腔的顶部固定安装有振动箱体，且两者具有相同的圆心，所述外箱体的顶部活动套接有密封盖，所述密封盖的底面固定连有酸洗固定架，所述振动箱体的右侧外壁上固定连接有振动器，且穿过外箱体并与外箱体的外侧固定连接，所述酸洗固定架的底部固定卡接有酸洗盘，所述密封盖上表面的正中心固定连接有提升杆，且提升杆为L型，所述提升杆的一端固定连接有气动伸缩杆，所述滑行平台上活动卡接有滑行板，所述滑行板的上表面与气动伸缩杆的底面固定连接，所述滑行板的上表面且位于气动伸缩杆的右侧固定安装有固定面板，所述固定面板上开设有条形槽，且提升杆从条形槽中穿过，所述滑行平台上且位于滑行板的正下方活动套接有丝杠，所述滑行板的底部开设有螺纹孔且与丝杠螺纹连接，所述丝杠的右端固定连接有伺服电机，所述进液管的顶端固定连接有酸液储存罐，所述进液管上固定安装有耐腐蚀排液阀，所述进液管上且位于酸液储存罐和耐腐蚀排液阀之间固定套装有加热管，所述振动箱体内腔的底部固定安装有冷却水管。
优选的，所述酸洗固定架包括四方架和平行卡槽，所述四方架由四根竖直杆和八根平行杆组成，所述平行卡槽均匀固定安装在四方架的两侧上，且两两之间间距相等。
优选的，所述酸洗盘包括盘体和卡栓，所述盘体四周壁上的上半部分及底面开设有均匀通孔，所述盘体的正面与背面固定安装有把手，所述盘体正面的两侧开设有L型槽，所述L型槽中活动卡接有卡栓，所述酸洗固定架正面两根竖直杆上开设有均匀的卡孔，且可与卡栓相配合。
优选的，所述冷却水管可分为两个部分，其一位于振动箱体中为硬质螺旋水管，其二与外界连通为软质水管，并且两者在外箱体与振动箱体之间连接。
优选的，所述进液管与水平面呈45度角，所述出水口与加热管的底端固定连接。
优选的，所述固定面板上的条形槽最低处与提升杆所需要到达的最低高度相同，且其宽度与提升杆的直径相同。
本发明具备以下有益效果：
1、通过酸洗固定架和酸洗盘之间的配合设置，将多个存放二极管的酸洗盘固定在酸洗固定架上，并进入密封的振动箱体被酸洗，一方面增加一次性酸洗二极管的数量，并增加与酸液有效接触时间，提高酸液的利用效率，进而提高酸洗效率，另一方面将酸液与外界隔离，减少因酸挥发造成外界环境的破坏，同时通过卡栓与酸洗固定架上开设的锁孔的配合设置，利用简单的结构对酸洗盘进行固定，增加操作人员的安装效率，并其结构全部为抗腐蚀材料制成，提高了装置的抗腐蚀性，增加装置的使用年限，降低维修成本。
2、通过振动箱体和振动器的设置，使得振动箱体以一定的频率振动，并将振动波传递给酸液，酸液在振动箱体内以一定频率波动并且将振动波向中部传递与二极管相遇，增加酸液与二极管之间的振荡频率，使残留在二极管上的络合物脱落，提高二极管酸洗后的质量，并且通过外部将振动带动酸液的活动，避免与酸液直接接触，进一步提高装置防腐蚀性，并且避免酸液具有较大的波动，降低酸的挥发效率。
3、通过冷却水管和加热管的设置，可以对进入振动箱体中的酸液进行升温，减少酸液到达最佳酸洗温度的时间，又可以对振动箱体中反应后温度上升的酸液进行降温，使其保持最佳酸洗温度，提高酸洗效率，同时利用酸液自身反应所产生的热对进液管中的酸液进行预热，提高了能量的利用率，降低成本的消耗。
附图说明
图1为本发明结构正视剖视示意图；
图2为本发明结构滑行平台局部剖视示意图；
图3为本发明结构滑行平台侧视示意图；
图4为本发明结构酸洗固定架与酸洗盘安装示意图；
图5为本发明结构图4中A处示意图；
图6为本发明结构卡栓示意图。
图中：1、外箱体；2、振动箱体；3、密封盖；4、酸洗固定架；41、四方架；42、平行卡槽；5、振动器；6、酸洗盘；61、盘体；62、卡栓；7、提升杆；8、固定面板；9、气动伸缩杆；10、滑行板；11、丝杠；12、滑行平台；13、进液管；14、酸液储存罐；15、耐腐蚀排液阀；16、冷却水管；17、进水口；18、出水口；19、加热管；20、酸液排出口；21、伺服电机。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-6，一种高效二极管制备酸洗装置，包括外箱体1、滑行平台12、进液管13、进水口17、出水口18和酸液排出口20，外箱体1的背面与滑行平台12的正面固定连接，进液管13固定安装在外箱体1与振动箱体2的右上角处，酸液排出口20开设在振动箱体2的右下角，进水口17位于外箱体1底部的右侧，出水口18位于外箱体1底部的右侧，外箱体1内腔的顶部固定安装有振动箱体2，且两者具有相同的圆心，外箱体1的顶部活动套接有密封盖3，密封盖3的底面固定连有酸洗固定架4，振动箱体2的右侧外壁上固定连接有振动器5，且穿过外箱体1并与外箱体1的外侧固定连接，酸洗固定架4的底部固定卡接有酸洗盘6，密封盖3上表面的正中心固定连接有提升杆7，且提升杆7为L型，提升杆7的一端固定连接有气动伸缩杆9，滑行平台12上活动卡接有滑行板10，滑行板10的上表面与气动伸缩杆9的底面固定连接，滑行板10的上表面且位于气动伸缩杆9的右侧固定安装有固定面板8，固定面板8上开设有条形槽，且提升杆7从条形槽中穿过，滑行平台12上且位于滑行板10的正下方活动套接有丝杠11，滑行板10的底部开设有螺纹孔且与丝杠11螺纹连接，丝杠11的右端固定连接有伺服电机21，进液管13的顶端固定连接有酸液储存罐14，进液管13上固定安装有耐腐蚀排液阀15，进液管13上且位于酸液储存罐14和耐腐蚀排液阀15之间固定套装有加热管19，振动箱体2内腔的底部固定安装有冷却水管16。
其中，酸洗固定架4包括四方架41和平行卡槽42，四方架41由四根竖直杆和八根平行杆组成，有效减少对酸液的阻拦，加强酸液的通过效率，平行卡槽42均匀固定安装在四方架41的两侧上，且两两之间间距相等，为酸洗盘6的安装提供滑行轨道和支撑，同时对酸洗盘6进行固定，为酸洗盘6的安装提供合理的间距，增加每次酸洗二极管的数量，提高酸洗效率。
其中，酸洗盘6包括盘体61和卡栓62，盘体61四周壁上的上半部分及底面开设有均匀通孔，为振荡的酸液提供通道，增加酸液与二极管之间的接触频率，增加络合物的脱离效果，提高二极管的酸洗质量，盘体61的正面与背面固定安装有把手，方便酸洗盘6的安装与取出，为操作人员提供便利，提高工作效率，盘体61正面的两侧开设有L型槽，防止酸洗结束后有酸液残留，L型槽中活动卡接有卡栓62，酸洗固定架4正面两根竖直杆上开设有均匀的卡孔，且可与卡栓62相配合，利用最原始的卡接方式对酸洗盘6进行固定，防止结构过于复杂，不仅操作困难，而且容易被酸液腐蚀，造成装置的损坏，增加酸洗成本。
其中，冷却水管16可分为两个部分，其一位于振动箱体2中为硬质螺旋水管，其二与外界连通为软质水管，并且两者在外箱体1与振动箱体2之间连接，当振动器5作用在振动箱体2上时，使得振动箱体2振荡，可有效防止冷却水管16断裂，增加装置的安全性。
其中，进液管13与水平面呈45度角，可以使酸液进入振动箱体2中，形成一定弧度对酸洗盘6进行冲击，可以覆盖更多二极管，并对二极管进行第一次酸洗，出水口18与加热管19的底端固定连接，使得将对酸液冷却后温度升高的冷却水进液管13中的酸液进行加热，为下一次酸洗的酸液提高温度，以便快速达到最佳酸洗温度，增加能量的利用，同时为冷却液降温。
其中，固定面板8上的条形槽最低处与提升杆7所需要到达的最低高度相同，且其宽度与提升杆7的直径相同，可以为提升杆7上下滑行进行限定，防止其左右晃动，增加装置的稳定性，同时为提升杆7在酸性过程中提供支撑，防止下落，造成密封盖3与酸洗固定架4之间接触力加大，造成两者之间的连接损坏。
工作原理，首先将二极管安放在酸洗盘6中，而后将酸洗盘6固定在酸洗固定架4上，开启气动伸缩杆9，使气动伸缩杆9向下收缩，酸洗固定架4伸入振动箱体2，直到密封盖3与外箱体1接触并密封，然后打开耐腐蚀排液阀15，释放酸液，酸液对二极管进行冲击，进行第一步酸洗，直到酸液浸没酸洗盘6，关闭耐腐蚀排液阀15，并打开振动器5，使得酸液以一定幅度振荡，对二极管进行第二步酸洗，一定时间后，以较慢速率从进水口17通入冷却水，降低酸液温度，冷却水从出水口18排出进入加热管19中，对加热管19中的酸液进行加热，为下一次酸洗做准备，酸洗结束后，将酸液从酸液排出口20排出，气动伸缩杆9向上提升，将二极管从振动箱体2提出，开启伺服电机21，利用丝杠11将滑行板10向右推动，使二极管进入下一步处理工序。
需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (6)
1.一种高效二极管制备酸洗装置，包括外箱体(1)、滑行平台(12)、进液管(13)、进水口(17)、出水口(18)和酸液排出口(20)，所述外箱体(1)的背面与滑行平台(12)的正面固定连接，所述进液管(13)固定安装在外箱体(1)与振动箱体(2)的右上角处，所述酸液排出口(20)开设在振动箱体(2)的右下角，所述进水口(17)位于外箱体(1)底部的右侧，所述出水口(18)位于外箱体(1)底部的右侧，其特征在于：所述外箱体(1)内腔的顶部固定安装有振动箱体(2)，且两者具有相同的圆心，所述外箱体(1)的顶部活动套接有密封盖(3)，所述密封盖(3)的底面固定连有酸洗固定架(4)，所述振动箱体(2)的右侧外壁上固定连接有振动器(5)，且穿过外箱体(1)并与外箱体(1)的外侧固定连接，所述酸洗固定架(4)的底部固定卡接有酸洗盘(6)，所述密封盖(3)上表面的正中心固定连接有提升杆(7)，且提升杆(7)为L型，所述提升杆(7)的一端固定连接有气动伸缩杆(9)，所述滑行平台(12)上活动卡接有滑行板(10)，所述滑行板(10)的上表面与气动伸缩杆(9)的底面固定连接，所述滑行板(10)的上表面且位于气动伸缩杆(9)的右侧固定安装有固定面板(8)，所述固定面板(8)上开设有条形槽，且提升杆(7)从条形槽中穿过，所述滑行平台(12)上且位于滑行板(10)的正下方活动套接有丝杠(11)，所述滑行板(10)的底部开设有螺纹孔且与丝杠(11)螺纹连接，所述丝杠(11)的右端固定连接有伺服电机(21)，所述进液管(13)的顶端固定连接有酸液储存罐(14)，所述进液管(13)上固定安装有耐腐蚀排液阀(15)，所述进液管(13)上且位于酸液储存罐(14)和耐腐蚀排液阀(15)之间固定套装有加热管(19)，所述振动箱体(2)内腔的底部固定安装有冷却水管(16)。
2.根据权利要求1所述的一种高效二极管制备酸洗装置，其特征在于：所述酸洗固定架(4)包括四方架(41)和平行卡槽(42)，所述四方架(41)由四根竖直杆和八根平行杆组成，所述平行卡槽(42)均匀固定安装在四方架(41)的两侧上，且两两之间间距相等。
3.根据权利要求1或2所述的一种高效二极管制备酸洗装置，其特征在于：所述酸洗盘(6)包括盘体(61)和卡栓(62)，所述盘体(61)四周壁上的上半部分及底面开设有均匀通孔，所述盘体(61)的正面与背面固定安装有把手，所述盘体(61)正面的两侧开设有L型槽，所述L型槽中活动卡接有卡栓(62)，所述酸洗固定架(4)正面两根竖直杆上开设有均匀的卡孔，且可与卡栓(62)相配合。
4.根据权利要求1所述的一种高效二极管制备酸洗装置，其特征在于：所述冷却水管(16)可分为两个部分，其一位于振动箱体(2)中为硬质螺旋水管，其二与外界连通为软质水管，并且两者在外箱体(1)与振动箱体(2)之间连接。
5.根据权利要求1所述的一种高效二极管制备酸洗装置，其特征在于：所述进液管(13)与水平面呈45度角，所述出水口(18)与加热管(19)的底端固定连接。
6.根据权利要求1所述的一种高效二极管制备酸洗装置，其特征在于：所述固定面板(8)上的条形槽最低处与提升杆(7)所需要到达的最低高度相同，且其宽度与提升杆(7)的直径相同。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201911166069.0A CN111048446B (zh) | 2019-11-25 | 2019-11-25 | 一种高效二极管制备酸洗装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201911166069.0A CN111048446B (zh) | 2019-11-25 | 2019-11-25 | 一种高效二极管制备酸洗装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN111048446A true CN111048446A (zh) | 2020-04-21 |
| CN111048446B CN111048446B (zh) | 2022-09-30 |
Family
ID=70233356
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201911166069.0A Active CN111048446B (zh) | 2019-11-25 | 2019-11-25 | 一种高效二极管制备酸洗装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN111048446B (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113793819A (zh) * | 2021-09-16 | 2021-12-14 | 长江存储科技有限责任公司 | 化学槽及其温度控制方法 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105390424A (zh) * | 2015-12-10 | 2016-03-09 | 重庆凯西驿电子科技有限公司 | 二极管酸洗装置 |
| CN106128981A (zh) * | 2016-08-29 | 2016-11-16 | 天津汉德威药业有限公司 | 一种轴向二极管酸洗装置 |
| KR20170075519A (ko) * | 2015-12-23 | 2017-07-03 | 김석진 | 사파이어 웨이퍼상의 질화갈륨의 제거 방법 |
| CN206401279U (zh) * | 2017-01-19 | 2017-08-11 | 东莞市康瑞电子有限公司 | 一种用于二极管生产的悬挂式酸洗设备 |
| CN107316828A (zh) * | 2017-06-29 | 2017-11-03 | 王晨珏 | 一种高效的二极管酸洗装置 |
| CN108550540A (zh) * | 2018-05-21 | 2018-09-18 | 李慧 | 一种二极管酸洗处理系统 |
| CN108735634A (zh) * | 2018-05-29 | 2018-11-02 | 陈欣洁 | 一种半导体二极管酸洗系统 |
-
2019
- 2019-11-25 CN CN201911166069.0A patent/CN111048446B/zh active Active
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105390424A (zh) * | 2015-12-10 | 2016-03-09 | 重庆凯西驿电子科技有限公司 | 二极管酸洗装置 |
| KR20170075519A (ko) * | 2015-12-23 | 2017-07-03 | 김석진 | 사파이어 웨이퍼상의 질화갈륨의 제거 방법 |
| CN106128981A (zh) * | 2016-08-29 | 2016-11-16 | 天津汉德威药业有限公司 | 一种轴向二极管酸洗装置 |
| CN206401279U (zh) * | 2017-01-19 | 2017-08-11 | 东莞市康瑞电子有限公司 | 一种用于二极管生产的悬挂式酸洗设备 |
| CN107316828A (zh) * | 2017-06-29 | 2017-11-03 | 王晨珏 | 一种高效的二极管酸洗装置 |
| CN108550540A (zh) * | 2018-05-21 | 2018-09-18 | 李慧 | 一种二极管酸洗处理系统 |
| CN108735634A (zh) * | 2018-05-29 | 2018-11-02 | 陈欣洁 | 一种半导体二极管酸洗系统 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113793819A (zh) * | 2021-09-16 | 2021-12-14 | 长江存储科技有限责任公司 | 化学槽及其温度控制方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN111048446B (zh) | 2022-09-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN206435531U (zh) | 一种循环节水式太阳能硅片预清洗设备 | |
| CN111048446B (zh) | 一种高效二极管制备酸洗装置 | |
| CN203985985U (zh) | 一种蔬菜清洗装置 | |
| CN117380634A (zh) | 一种硅片清洗系统 | |
| CN210628335U (zh) | 硅片清洗设备 | |
| CN212512168U (zh) | 一种槽式高效烘干系统 | |
| CN211170776U (zh) | 一种除氧化皮淬火池 | |
| CN205282452U (zh) | 二极管酸洗装置 | |
| CN218251886U (zh) | 一种用于清洗晶片的兆声波槽体 | |
| CN201473591U (zh) | 蚀刻清洗槽 | |
| CN208116272U (zh) | 一种超声波清洗装置 | |
| CN216296334U (zh) | 一种2-氨基-4-三氟甲基苯酚生产用不锈钢反应釜 | |
| CN211147009U (zh) | 一种散热器水室生产用循环型冷却装置 | |
| CN209941103U (zh) | 锂电池电芯清洗装置 | |
| CN211625970U (zh) | 一种锂电池烘干装置 | |
| CN209848744U (zh) | 一种硅藻泥生产用搅拌器 | |
| CN211185720U (zh) | 一种茶叶加工用烘干设备 | |
| CN214600733U (zh) | 一种硅片用超声波清洗机构 | |
| CN216779652U (zh) | 一种基板清洗装置 | |
| CN219976796U (zh) | 一种乳化沥青冷却装置 | |
| CN211273627U (zh) | 一种新型多重降温硫酸镁结晶罐 | |
| CN209941076U (zh) | 一种热镀锌用冷却装置 | |
| CN220901248U (zh) | 一种五金产品零件清洗装置 | |
| CN216420376U (zh) | 一种半导体生产用清洗装置 | |
| CN213913759U (zh) | 一种化工原料反应装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| EE01 | Entry into force of recordation of patent licensing contract |
Application publication date: 20200421 Assignee: Jiangsu Chuangqi Testing Technology Co.,Ltd. Assignor: DONGTAI GAOKE TECHNOLOGY INNOVATION PARK Co.,Ltd. Contract record no.: X2023980050142 Denomination of invention: A high-efficiency diode preparation acid washing device Granted publication date: 20220930 License type: Common License Record date: 20231206 |
|
| EE01 | Entry into force of recordation of patent licensing contract |