CN111041443A - 镀膜装置及镀膜方法 - Google Patents
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Abstract
本申请涉及一种镀膜装置及镀膜方法。所述镀膜装置包括至少两个载体、腔室、至少两个传感器和传输控制装置。根据所述传感器检测所述载体的位置信息，所述传输控制装置可以控制所述载体的移动速度，从而控制所述载体在镀膜区域时实现无缝搭接的目的，避免相邻的所述载体在所述镀膜区域出现间隔，影响溅射工艺的进行。
Description
技术领域
本申请涉及镀膜技术领域，特别是涉及镀膜装置及镀膜方法。
背景技术
ITO(Indium Tin Oxide，掺锡氧化铟或氧化铟锡)薄膜是一种n型半导体，具有较高的可见光透过率和导向率，且与大部分衬底具有良好的附着性，还具有较强的硬度及良好的抗酸、碱及有机溶剂能力。因其良好的物理、化学性能，被广泛应用于光电器件中，比如液晶显示器、太阳能电池、等离子显示器等。
ITO薄膜的制备方法很多，常见的有喷涂法、真空蒸发法、化学气相沉积、反应粒子离入、磁控溅射等。由于磁控溅射具有良好的可控性及易于获得大面积的均匀的薄膜，应用比较普遍。但是传统的磁控溅射使用的载体在进行磁控溅射的过程中往往会引起真空腔室被污染、影响真空气场环境、甚至影响溅射靶材的利用率等情况。
发明内容
基于此，有必要提供一种不易引起真空腔室污染、不易影响真空气场环境及溅射靶材利用率的镀膜装置及镀膜方法。
一种镀膜装置，包括：
移动进入腔室内的至少两个载体；
至少两个传感器，间隔设置，用以检测所述载体的位置信息；
传输控制装置，与所述至少两个传感器电连接，用于根据所述载体的位置信息，调整所述载体的移动速度，以使相邻的两个所述载体在预设的镀膜区域内处于搭接状态。
在一个实施例中，所述至少两个载体包括：相邻的第一载体和第二载体，所述第一载体先于所述第二载体进入所述腔室；
所述至少两个传感器包括：
第一传感器，与所述传输控制装置电连接，用于在第一指定位置检测到所述第一载体后，将所述第一指定位置作为所述第一载体的位置信息，传输至所述传输控制装置，以使所述传输控制装置控制所述第一载体以第一速度移动；以及
第二传感器，与所述传输控制装置电连接，用于在第二指定位置检测到所述第二载体后，将所述第二指定位置作为所述第二载体的位置信息，传输至所述传输控制装置，以使所述传输控制装置控制所述第二载体以第二速度移动，直至所述第二载体搭接在所述第一载体，所述传输控制装置控制所述第二载体以第一速度移动，其中第二速度大于第一速度。
在一个实施例中，所述载体包括：
本体，用于承载待处理产品；
第一折弯结构，包括第一侧壁及第一搭接面，所述第一侧壁两端分别与所述本体一端及所述第一搭接面连接；以及
第二折弯结构，包括第二侧壁及第二搭接面，所述第二侧壁两端分别与所述本体另一端及所述第二搭接面连接；
其中，所述第二载体的所述第二搭接面与所述第一载体的所述第一搭接面搭接。
在一个实施例中，所述第一传感器与所述第二传感器之间的距离为第一距离；
所述第二载体的所述第二侧壁在第一方向上的投影长度，加上，所述第二载体的所述第二搭接面和所述第一载体的所述第一搭接面搭接长度，再加上所述第一载体的所述第一侧壁在第一方向上的投影长度为第二距离；
所述第一距离等于所述第二距离。
在一个实施例中，所述传输控制装置根据所述第一载体的长度、所述第二载体的长度、所述第一距离、所述第一速度和所述第二速度计算所述第二载体搭接在所述第一载体的预设运动时间；
所述镀膜装置还包括：计时器，与所述传输控制装置电连接，用于当所述第二载体运动至所述第二指定位置时开始计时，当计时时间到达所述预设运动时间时，所述第二载体和所述第一载体实现搭接，所述传输控制装置控制所述第二载体以第一速度移动。
在一个实施例中，所述至少两个传感器包括：
第一传感器，与所述传输控制装置电连接，用于在第一指定位置检测到所述第一载体后，将所述第一指定位置作为所述第一载体的位置信息，传输至所述传输控制装置，以使所述传输控制装置控制所述第一载体以第一速度移动；以及
第二传感器，与所述传输控制装置电连接，用于在第二指定位置检测到所述第二载体后，将所述第二指定位置作为所述第二载体的位置信息，传输至所述传输控制装置，以使所述传输控制装置控制所述第二载体以第二速度移动，其中第二速度大于第一速度；
第三传感器，与所述传输控制装置电连接，用于在第三指定位置检测到所述第二载体后，将所述第三指定位置作为所述第二载体的位置信息，传输至所述传输控制装置，以使所述传输控制装置控制所述第二载体以第一速度移动，以实现所述第一载体和所述第二载体的无缝搭接。
在一个实施例中，所述载体包括：
本体，用于承载待处理产品；
第一折弯结构，包括第一侧壁及第一搭接面，所述第一侧壁两端分别与所述本体一端及所述第一搭接面连接；以及
第二折弯结构，包括第二侧壁及第二搭接面，所述第二侧壁两端分别与所述本体另一端及所述第二搭接面连接；
其中，所述第二载体的所述第二搭接面与所述第一载体的所述第一搭接面搭接。
一种镀膜方法，采用上述任一项所述的镀膜装置进行镀膜：
间隔设置的至少两个传感器检测移动进入腔室内的至少两个载体的位置信息；
传输控制装置根据所述载体的位置信息，调整所述载体的移动速度，以使相邻的两个所述载体在预设的镀膜区域内处于搭接状态。
在一个实施例中，所述至少两个载体包括：相邻的第一载体和第二载体，所述第一载体先于所述第二载体进入所述腔室；所述至少两个传感器包括：第一传感器，设置于第一指定位置，并与所述传输控制装置电连接；第二传感器，设置于第二指定位置，并与所述传输控制装置电连接；
所述镀膜方法包括：
所述第一传感器在所述第一指定位置检测到所述第一载体后，将所述第一指定位置作为所述第一载体的位置信息，传输至所述传输控制装置，以使所述传输控制装置控制所述第一载体以第一速度移动；
所述第二传感器在所述第二指定位置检测到所述第二载体后，将所述第二指定位置作为所述第二载体的位置信息，传输至所述传输控制装置，以使所述传输控制装置控制所述第二载体以第二速度移动，直至所述第二载体搭接在所述第一载体，所述传输控制装置控制所述第二载体以第一速度移动，其中第二速度大于第一速度。
在一个实施例中，所述至少两个传感器包括：第一传感器，设置于第一指定位置，并与所述传输控制装置电连接；第二传感器，设置于第二指定位置，并与所述传输控制装置电连接；第三传感器，设置于第三指定位置，并与所述传输控制装置电连接；
所述镀膜方法包括：
所述第一传感器在所述第一指定位置检测到所述第一载体后，将所述第一指定位置作为所述第一载体的位置信息，传输至所述传输控制装置，以使所述传输控制装置控制所述第一载体以第一速度移动；
所述第二传感器在所述第二指定位置检测到所述第二载体后，将所述第二指定位置作为所述第二载体的位置信息，传输至所述传输控制装置，以使所述传输控制装置控制所述第二载体以第二速度移动，其中第二速度大于第一速度；
所述第三传感器在所述第三指定位置检测到所述第二载体后，将所述第三指定位置作为所述第二载体的位置信息，传输至所述传输控制装置，以使所述传输控制装置控制所述第二载体以第一速度移动，以实现所述第一载体和所述第二载体的无缝搭接。
本申请实施例提供一种镀膜装置及镀膜方法。所述镀膜装置包括至少两个载体、腔室、至少两个传感器和传输控制装置。根据所述传感器检测所述载体的位置信息，所述传输控制装置可以控制所述载体的移动速度，从而控制所述载体在镀膜区域时实现无缝搭接的目的，避免相邻的所述载体之间在所述镀膜区域出现间隔，影响溅射工艺的进行。
附图说明
图1为本申请一个实施例提供的镀膜装置示意图；
图2为本申请一个实施例提供的载体结构示意图；
图3为本申请一个实施例提供的镀膜装置其中一个状态的示意图；
图4为本申请一个实施例提供的镀膜装置其中另一个状态的示意图；
图5为本申请一个实施例提供的镀膜方法的流程示意图。
附图标记说明：
镀膜装置 10
载体 100
本体 110
第一折弯结构 120
第一侧壁 122
第一搭接面 124
第二折弯结构 130
第二侧壁 132
第二搭接面 134
第一载体 100a
第二载体 100b
溅射电极 200
溅射靶材 300
镀膜区域 400
腔室 500
第一传感器 610
第二传感器 620
第三传感器 630
传输控制装置 700
计时器 800
具体实施方式
为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本申请进行进一步详细说明。应当理解，此处描述的具体实施例仅仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。
请参阅图1，本申请提供一种镀膜装置10，可以包括至少两个载体100、至少两个传感器600及传输控制装置700。相邻载体100之间能够实现无缝搭接。至少两个传感器600间隔设置，且与传输控制装置700电连接，可以用于检测所述载体100的位置信息，并将检测到的所述载体100的位置信息发送给所述传输控制装置700。所述传输控制装置700可以用于接收所述传感器600检测到的所述载体100的位置信息，并根据所述载体100的位置信息，调整所述载体100的移动速度，以使相邻的两个所述载体100在预设的镀膜区域400内处于搭接状态，避免相邻的所述载体100在所述镀膜区域400出现间隔，影响溅射工艺的进行。
在一个实施例中，所述至少两个载体100包括：相邻的第一载体100a和第二载体100b。所述第一载体100a先于所述第二载体100b进入所述腔室500。
所述至少两个传感器600包括：第一传感器610和第二传感器620。
所述第一传感器610与所述传输控制装置700电连接。所述第一传感器610用于在第一指定位置检测到所述第一载体100a后，将所述第一指定位置作为所述第一载体100a的位置信息，传输至所述传输控制装置700，以使所述传输控制装置700控制所述第一载体100a以第一速度移动。
所述第二传感器620与所述传输控制装置700电连接。所述第二传感器620用于在第二指定位置检测到所述第二载体100b后，将所述第二指定位置作为所述第二载体100b的位置信息，传输至所述传输控制装置700，以使所述传输控制装置700控制所述第二载体100b以第二速度移动。直至所述第二载体100b搭接在所述第一载体100a，所述传输控制装置700控制所述第二载体100b以第一速度移动，其中第二速度大于第一速度。
本实施例中，通过所述第一传感器610、所述第二传感器620和所述传输控制装置700的配合更加简单快捷的使得所述第一载体100a和所述第二载体100b实现无缝搭接。
在一个实施例中，所述传输控制装置700根据所述第一载体100a的长度、所述第二载体100b的长度、所述第一距离、所述第一速度和所述第二速度计算所述第二载体100b搭接在所述第一载体100a的预设运动时间。
所述镀膜装置10还包括计时器800。所述计时器800与所述传输控制装置700电连接。所述计时器800用于当所述第二载体100b运动至所述第二指定位置时开始计时。当计时时间到达所述预设运动时间时，所述第二载体100b和所述第一载体100a实现搭接，所述传输控制装置700控制所述第二载体100b以第一速度移动。
本实施例中，所述镀膜装置10包括所述第一传感器610、所述第二传感器620、所述传输控制装置700和所述计时器800。通过所述传感器600、所述计时器800和所述传输控制装置700之间的配合可以实现相邻的所述载体100之间的无缝搭接。
请参阅图2，在其中一个实施例中所述载体100，可以包括本体110、第一折弯结构120及第二折弯结构130。所述本体110可以用于承载待处理产品，例如待处理产品可以是需要镀膜的产品。所述第一折弯结构120可以包括第一侧壁122及第一搭接面124。所述第一侧壁122两端分别可以与所述本体110一端及所述第一搭接面124连接。所述第二折弯结构130可以包括第二侧壁132及第二搭接面134，所述第二侧壁132两端可以分别与所述本体110另一端及所述第二搭接面134连接。其中，所述第二载体100b的所述第二搭接面134与所述第一载体100a的所述第一搭接面124搭接。一方面，可以设置一个所述载体100的所述第二搭接面134可以用于搭接在相邻另一个所述载体100的所述第一搭接面124上。也可以说是所述第一搭接面124低于所述第二搭接面134。另一方面，也可以设置一个所述载体100的所述第一搭接面124可以用于搭接在相邻另一个所述载体100的所述第二搭接面134上。也可以说是一个所述载体100的所述第二搭接面134低于相邻另一个所述载体100的所述第一搭接面124。
在其中一个实施例中，还包括腔室500，所述载体100能够在所述腔室500内进行溅射工艺。
所述载体100两端设置第一搭接面124及第二搭接面134，进行磁控溅射的时候，一个所述载体100的所述第二搭接面134可以搭接在相邻另一个所述载体100的第一搭接面124上，实现相邻所述载体100之间的叠加，从而实现多个所述载体100之间的相互连接，避免相邻所述载体100之间出现间隔。磁控溅射过程中溅射区不产生间隔，一方面会使气场环境稳定，改善溅射区的真空环境，提高溅射的均匀性，从而最终提高膜层的性能，另一方面不会产生间隔区的溅射污染，从而减少腔室500的污染，降低设备的维护周期，提高设备的产能，且相邻所述载体100之间叠加在一起之后还能够有效减少溅射靶材300的浪费，提高溅射靶材300的利用率，在一定程度上降低溅射成本。
在其中一个实施例中，所述第一搭接面124与所述第二搭接面134之间的高度差可以为8mm至12mm。例如，所述第一搭接面124与所述第二搭接面134之间的高度差可以为8mm、9mm、10mm、11mm及12mm等。所述第一搭接面124与所述第二搭接面134之间的高度相差太少，容易造成相邻所述载体100之间无法实现无缝搭接的目的；而如果所述第一搭接面124与所述第二搭接面134之间的高度相差太大，则容易造成所述第一搭接面124与所述第二搭接面134之间空隙过大，在后续进行磁控溅射的过程中，溅射物质可能会从所述第一搭接面124与所述第二搭接面134之间的空隙通过，从而还是会产生溅射污染，不能实现减少真空腔室500污染的目的。所以本申请的实施例通过合理控制所述载体100的所述第一搭接面124与所述第二搭接面134之间的高度差，既能够实现使相邻所述载体100之间顺利搭接在一起的目的，又可以防止所述第一搭接面124与所述第二搭接面134之间空隙过大，造成溅射污染。可选的，在其中一个实施例中，所述第一搭接面124与所述第二搭接面134之间的高度差可以为10mm。当然，当所述载体100不包括所述第二折弯结构130的时候，也可以说所述第一搭接面124与所述本体110之间的高度差可以为8mm至12mm。
其中一个实施例中，所述本体110可以与所述第一搭接面124和/或所述第二搭接面134平行。也就是说，所述本体110可以与所述第一搭接面124平行，也可以与所述第二搭接面134平行，或者同时与所述第一搭接面124及所述第二搭接面134平行。当所述本体110与所述第一搭接面124及所述第二搭接面134平行时，所述第一搭接面124与所述第二搭接面134之间也相互平行。在其中的一个实施例中，所述本体110同时与所述第一搭接面124和所述第二搭接面134平行的设置，这样既方便所述载体100的制造，同时又方便所述载体100的存储。所述本体110与所述第一搭接面124及所述第二搭接面134三者之间相互平形之后，在存储的过程中，多个所述载体100可以很好地叠加在一起进行存储，上下两个所述载体100之间贴合效果好，节省存储空间，同时不会因为叠加在一起而造成所述载体100结构发生变化，影响后续的工序。
在其中一个实施例中，所述本体110与所述第一侧壁122和/或所述第二侧壁132之间的夹角可以为钝角，角度大小可以为130°至140°，例如可以是130°、132°、134°、135°、136°、138°及140°等。在该实施例中，所述第一侧壁122及所述第二侧壁132可以分别从所述本体110的一端向上延伸并向远离所述本体110的方向倾斜，也就是说所述第一侧壁122及所述第二侧壁132顶端之间的距离大于所述第一侧壁122及所述第二侧壁132底端之间的距离，大的开口可以方便需要镀膜产品的放置及拿取。当所述第一搭接面124与所述第二搭接面134均与所述本体110平行时，所述第一侧壁122及所述本体110之间的夹角等于所述第一搭接面124与所述第一侧壁122之间的夹角，所述第二侧壁132与所述本体110之间的夹角等于所述第二搭接面134与所述第二侧壁132之间的夹角。优选的，所述第一侧壁122与所述第一搭接面124和所述本体110之间的夹角为135°，所述第二侧壁132与所述第二搭接面134和所述本体110之间的夹角也为135°。
所述第一侧壁122两端可以分别连接所述本体110及所述第一搭接面124。所述第二侧壁132的两端可以分别连接所述本体110及所述第二搭接面134。所述第一侧壁122及所述第二侧壁132可以位于所述载体100相对的两个端部。所述第一侧壁122的两端可以与所述本体110及所述第一搭接面124之间平滑连接，所述第二侧壁132的两端与所述本体110及所述第二搭接面134之间平滑连接。在其中一个实施例中，所述第一侧壁122与所述本体110及所述第一搭接面124之间采用圆弧过渡段连接。同理所述第二侧壁132与所述本体110及所述第二搭接面134之间也采用圆弧过渡段连接。圆弧过渡段的连接方式可以使第一侧壁122与所述本体110及所述第一搭接面124，第二侧壁132与所述本体110及所述第二搭接面134，之间的连接处平滑，有利于拐角处的清洁处理。
在一个实施例中，所述第一侧壁122和/或所述第二侧壁132与所述本体110之间的夹角还可以为直角。在一个实施例中，所述第一侧壁122与所述本体110之间的夹角为直角，所述第二侧壁132与所述本体110之间的夹角为钝角。在另一个实施例中，所述第一侧壁122与所述本体110之间的夹角为钝角，所述第二侧壁132与所述本体110之间的夹角为直角。只要能够实现所述第一搭接面124与所述第二搭接面134之间的搭接叠加即可。
在一个实施例中，所述第一搭接面124的宽度可以为22mm至27mm，例如可以是22mm、23mm、24mm、25mm、26mm及27mm等。所述第二搭接面134的宽度可以为22mm至27mm，例如可以是22mm、23mm、24mm、25mm、26mm及27mm等。所述第一搭接面124的宽度可以与所述第二搭接面134的宽度相等，也可以与所述第二搭接面134的宽度不相等，只要能够实现两者之间的有效叠加，避免相邻所述载体100之间出现间隔即可。
在其中一个实施例中，所述第一搭接面124的宽度与所述第二搭接面134的宽度相等，当所述第一搭接面124与所述第二搭接面134之间处于最终的叠加状态时，所述第一搭接面124的端部抵接在所述第二搭接面134与所述第二侧壁132的连接处，可以使相邻所述载体100之间叠加的更加稳定。
在其中一个实施例中，所述第一侧壁122的宽度可以为30mm至45mm，例如30mm、32mm、34mm、36mm、38mm、40mm、42mm及45mm等。所述第二侧壁132的宽度为30mm至45mm，例如30mm、32mm、34mm、36mm、38mm、40mm、42mm及45mm等。所述第一侧壁122与所述第二侧壁132的宽度可以相等也可以不等，只要能够实现所述第一搭接面124及所述第二搭接面134之间的叠加即可。
请参阅图3和图4，在一个实施例中，所述至少两个载体100包括相邻的第一载体100a和第二载体100b。所述第一载体100a可移动的设置于所述腔室500。所述第二载体100b可移动的设置于所述腔室500。第一载体100a先于第二载体100b进入所述腔室500。所述第一载体100a和所述第二载体100b通过移动实现无缝搭接。图3为所述第二载体100b沿着第一方向追逐所述第一载体100a的一个状态图。图4为所述第二载体100b和所述第一载体100a实现搭接的状态图。
所述至少两个传感器600包括第一传感器610、第二传感器620和第三传感器630。
所述第一传感器610与所述传输控制装置700电连接，用于在第一指定位置检测到所述第一载体100后，将所述第一指定位置作为所述第一载体100a的位置信息，传输至所述传输控制装置700，以使所述传输控制装置700控制所述第一载体100a以第一速度移动。
所述第二传感器620与所述传输控制装置700电连接，用于在所述第二指定位置检测到所述第二载体100b后，将所述第二指定位置作为所述第二载体100b的位置信息，传输至所述传输控制装置700，以使所述传输控制装置700控制所述第二载体100b以第二速度移动，且第二速度大于第一速度。
所述第三传感器630与所述传输控制装置700电连接，用于在第三指定位置检测到检测所述第二载体100b后，将所述第三指定位置作为所述第二载体100b的位置信息，传输至所述传输控制装置700，以使所述传输控制装置700控制所述第二载体100b以第一速度移动，以实现所述第一载体100a和所述第二载体100b的无缝搭接。
本实施例中，所述镀膜装置10在实际的应用过程中还可以包括第三载体，第四载体等，后面的所述第三载体和所述第四载体的移动和控制过程可以参考所述第二载体100b的移动和控制。
在一个实施例中，所述第一传感器610与所述第二传感器620之间的距离为第一距离。
所述第二载体100b的所述第二侧壁132在第一方向上的投影长度，加上，所述第二载体100b的所述第二搭接面134和所述第一载体100a的所述第一搭接面124搭接长度，再加上所述第一载体100a的所述第一侧壁122在第一方向上的投影长度为第二距离。所述第一距离等于所述第二距离。
本实施例中，设置所述第一距离等于所述第二距离，进一步限定了所述第一传感器610与所述第二传感器620的距离，使得所述镀膜装置10能够更精确的检测所述载体100的位置信息，便于实现所述载体100在镀膜区域400时实现无缝搭接。
在一个实施例中，所述第二传感器620和所述第三传感器630之间的距离等于所述载体100在第一方向上的投影长度。
本实施例中，设置所述第二传感器620和所述第三传感器630之间的距离等于所述载体100在第一方向上的投影长度，使得所述镀膜装置10能够更精确的检测所述载体100的位置信息，便于实现所述载体100在镀膜区域400时实现无缝搭接。
在一个实施例中，所述镀膜装置10，还可以包括溅射电极200、溅射靶材300。所述溅射电极200及所述溅射靶材300可以位于所述腔室500内。
在另外一个实施例中，所述镀膜装置10还可以包括伺服系统。所述伺服系统可以为所述载体100提供驱动力。
在其中一个实施例中，所述镀膜装置10还包括观察窗。所述观察窗设置于所述腔室500的侧壁，用于观测所述腔室500内部实现溅射的工艺过程。具体所述观察窗可以设置一个或者多个，可以根据具体的需求进行设定。在其中一个实施例中，所述传感器600设置于所述腔室500的外部，并与所述观察窗正对，用于检测所述腔室500内所述载体100的位置。
本实施例中，设置所述观察窗可以实现对所述腔室500内情况的检测，使得所述镀膜装置10可以实现精确的检测。
在其中一个实施例中，所述镀膜装置10还包括溅射电极200。所述溅射电极200设置于所述腔室500的内部，用于实现对所述载体100的镀膜。在其中一个实施例中，所述镀膜装置10还包括溅射靶材300。所述溅射靶材300与所述溅射电极200电连接，当所述溅射电极200通电时，所述溅射电极200将所述溅射靶材300的材料沉积到所述载体100承载的待镀膜工件的表面，以对待镀膜工件进行镀膜。
本实施例中，所述溅射电极200可以采用磁控溅射电极，具体所述溅射电极200的电压调节范围并不作具体的限定。所述溅射靶材300的材料也不作具体的限定，可以根据本领域技术人员的实际需求进行选择设计。
本申请还提供一种镀膜方法，即采用如前面所述的镀膜装置10进行镀膜，且在前一个所述载体100离开所述镀膜区域400时，相邻的后一个所述载体100已经与其实现无缝搭接。参考图5，镀膜方法包括：S101:间隔设置的至少两个传感器600检测移动进入腔室500内的至少两个载体100的位置信息；S102:传输控制装置700根据所述载体100的位置信息，调整所述载体100的移动速度，以使相邻的两个所述载体100在预设的镀膜区域内处于搭接状态。
在一个实施例中，所述镀膜方法包括：
第一传感器610在第一指定位置检测到所述第一载体100a后，将所述第一指定位置作为所述第一载体100a的位置信息，传输至所述传输控制装置700，以使所述传输控制装置700控制所述第一载体100a以第一速度移动；
第二传感器620在第二指定位置检测到所述第二载体100b后，将所述第二指定位置作为所述第二载体100b的位置信息，传输至并通过所述传输控制装置700，以使所述传输控制装置700控制所述第二载体100b减速至以第二速度移动，直至所述第二载体100b搭接在所述第一载体100a，所述传输控制装置700控制所述第二载体100b以第一速度移动，其中且所述第二速度大于所述第一速度；
所述传输控制装置700根据所述第一载体100a的长度、所述第二载体100b的长度、所述第一距离、所述第一速度和所述第二速度计算所述第二载体100b搭接在所述第一载体100a的预设运动时间；
当所述第二载体100b运动至所述第二指定位置时所述计时器800开始计时，当计时时间到达所述预设运动时间时，所述第二载体100b和所述第一载体100a实现搭接，所述传输控制装置700控制所述第二载体100b以第一速度移动。
本实施例中，所述镀膜方法可以采用所述第一传感器610、所述第二传感器620、所述传输控制装置700和所述计时器800实现所述镀膜装置10中相邻的所述载体100之间的搭接。所述镀膜方法采用的所述镀膜装置10结构简单，控制方便。
在另一个实施例中，所述镀膜方法包括：
传输控制装置700控制所述第一载体100a移动至所述腔室500；
所述第一传感器610在所述第一指定位置检测到所述第一载体100a后，将所述第一指定位置作为所述第一载体100a的位置信息，传输至所述传输控制装置700，以使所述传输控制装置700控制所述第一载体100a以第一速度移动；
传输控制装置700控制所述第二载体100b移动至所述腔室500；
所述第二传感器620在所述第二指定位置检测到所述第二载体100b后，将所述第二指定位置作为所述第二载体100b的位置信息，传输至所述传输控制装置700，以使所述传输控制装置700控制所述第二载体100b以第二速度移动，其中第二速度大于第一速度；
所述第三传感器630在所述第三指定位置检测所述第二载体100b后，将所述第三指定位置作为所述第二载体100b的位置信息，传输至所述传输控制装置700，以使所述传输控制装置700控制所述第二载体100b以第一速度移动，以实现所述第一载体100a和所述第二载体100b的无缝搭接。
本实施例中，所述镀膜方法可以采用所述第一传感器610、所述第二传感器620、所述第三传感器630和所述传输控制装置700实现所述镀膜装置10中相邻的所述载体100之间的搭接。所述镀膜方法采用的所述镀膜装置10结构简单，精确度更高。其中，所述第三传感器630可以检测所述第二载体100b的位置信息并传输至所述传输控制装置700。通过所述传输控制装置700控制所述第二载体100b以第一速度移动，避免了所述第一载体100a和所述第二载体100b之间不必要的碰撞的发生。
为了方便描述，前后两个所述载体100可以分别命名为第一载体100a及第二载体100b。同理，所述传感器可以以三个为例，分别命名为第一传感器600、第二传感器620及第三传感器630。当所述第一传感器600检测到所述第一载体100a的信息后传递给所述传输控制装置，所述传输控制装置控制所述第一载体100a可以开始以第一速度进行溅射工艺。当所述第三传感器630丢失所述第二载体100b信息后传递给所述传输控制装置，所述传输控制装置控制所述第二载体100b可以开始做减速移动。当所述第二传感器620检测到所述第二载体100b信息时传递给所述传输控制装置，所述传输控制装置控制所述第二载体100b已经减速至第二速度，且第二速度大于第一速度。所述第二载体100b以第二速度追踪所述第一载体100a，并在所述第二载体100b进入镀膜区域400且所述第一载体100a离开镀膜区域400时实现所述第一载体100a及所述第二载体100b的搭接。当所述载体100的数量增加时，重复以上步骤。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本申请的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。因此，本申请专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种镀膜装置(10)，其特征在于，包括：
移动进入腔室(500)内的至少两个载体(100)；
至少两个传感器(600)，间隔设置，用以检测所述载体(100)的位置信息；以及
传输控制装置(700)，与所述至少两个传感器(600)电连接，用于根据所述载体(100)的位置信息，调整所述载体(100)的移动速度，以使相邻的两个所述载体(100)在预设的镀膜区域内处于搭接状态。
2.如权利要求1所述的镀膜装置(10)，其特征在于，所述至少两个载体(100)包括：相邻的第一载体(100a)和第二载体(100b)，所述第一载体(100a)先于所述第二载体(100b)进入所述腔室(500)；
所述至少两个传感器(600)包括：
第一传感器(610)，与所述传输控制装置(700)电连接，用于在第一指定位置检测到所述第一载体(100a)后，将所述第一指定位置作为所述第一载体(100a)的位置信息，传输至所述传输控制装置(700)，以使所述传输控制装置(700)控制所述第一载体(100a)以第一速度移动；以及
第二传感器(620)，与所述传输控制装置(700)电连接，用于在第二指定位置检测到所述第二载体(100b)后，将所述第二指定位置作为所述第二载体(100b)的位置信息，传输至所述传输控制装置(700)，以使所述传输控制装置(700)控制所述第二载体(100b)以第二速度移动，直至所述第二载体(100b)搭接在所述第一载体(100a)，所述传输控制装置(700)控制所述第二载体(100b)以第一速度移动，其中第二速度大于第一速度。
3.如权利要求2所述的镀膜装置(10)，其特征在于，所述载体(100)包括：
本体(110)，用于承载待处理产品；
第一折弯结构(120)，包括第一侧壁(122)及第一搭接面(124)，所述第一侧壁(122)两端分别与所述本体(110)一端及所述第一搭接面(124)连接；以及
第二折弯结构(130)，包括第二侧壁(132)及第二搭接面(134)，所述第二侧壁(132)两端分别与所述本体(110)另一端及所述第二搭接面(134)连接；
其中，所述第二载体(100b)的所述第二搭接面(134)与所述第一载体(100a)的所述第一搭接面(124)搭接。
4.如权利要求3所述的镀膜装置(10)，其特征在于，所述第一传感器(610)与所述第二传感器(620)之间的距离为第一距离；
所述第二载体(100b)的所述第二侧壁(132)在第一方向上的投影长度，加上，所述第二载体(100b)的所述第二搭接面(134)和所述第一载体(100a)的所述第一搭接面(124)搭接长度，再加上所述第一载体(100a)的所述第一侧壁(122)在第一方向上的投影长度为第二距离；
所述第一距离等于所述第二距离。
5.如权利要求4所述的镀膜装置(10)，其特征在于，所述传输控制装置(700)根据所述第一载体(100a)的长度、所述第二载体(100b)的长度、所述第一距离、所述第一速度和所述第二速度计算所述第二载体(100b)搭接在所述第一载体(100a)的预设运动时间；
所述镀膜装置(10)还包括：计时器(800)，与所述传输控制装置(700)电连接，用于当所述第二载体(100b)运动至所述第二指定位置时开始计时，当计时时间到达所述预设运动时间时，所述第二载体(100b)和所述第一载体(100a)实现搭接，所述传输控制装置(700)控制所述第二载体(100b)以第一速度移动。
6.如权利要求1所述的镀膜装置(10)，其特征在于，所述至少两个载体(100)包括：相邻的第一载体(100a)和第二载体(100b)，所述第一载体(100a)先于所述第二载体(100b)进入所述腔室(500)；
所述至少两个传感器(600)包括：
第一传感器(610)，与所述传输控制装置(700)电连接，用于在第一指定位置检测到所述第一载体(100a)后，将所述第一指定位置作为所述第一载体(100a)的位置信息，传输至所述传输控制装置(700)，以使所述传输控制装置(700)控制所述第一载体(100a)以第一速度移动；
第二传感器(620)，与所述传输控制装置(700)电连接，用于在所述第二指定位置检测到所述第二载体(100b)后，将所述第二指定位置作为所述第二载体(100b)的位置信息，传输至所述传输控制装置(700)，以使所述传输控制装置(700)控制所述第二载体(100b)以第二速度移动，其中第二速度大于第一速度；
第三传感器(630)，与所述传输控制装置(700)电连接，用于在第三指定位置检测到所述第二载体(100b)后，将所述第三指定位置作为所述第二载体(100b)的位置信息，传输至所述传输控制装置(700)，以使所述传输控制装置(700)控制所述第二载体(100b)以第一速度移动，以实现所述第一载体(100a)和所述第二载体(100b)的无缝搭接。
7.如权利要求6所述的镀膜装置(10)，其特征在于，所述载体(100)包括：
本体(110)，用于承载待处理产品；
第一折弯结构(120)，包括第一侧壁(122)及第一搭接面(124)，所述第一侧壁(122)两端分别与所述本体(110)一端及所述第一搭接面(124)连接；以及
第二折弯结构(130)，包括第二侧壁(132)及第二搭接面(134)，所述第二侧壁(132)两端分别与所述本体(110)另一端及所述第二搭接面(134)连接；
其中，所述第二载体(100b)的所述第二搭接面(134)与所述第一载体(100a)的所述第一搭接面(124)搭接。
8.一种镀膜方法，其特征在于，采用如权利要求1-7中任一项所述的镀膜装置(10)进行镀膜：
间隔设置的至少两个传感器(600)检测移动进入腔室(500)内的至少两个载体(100)的位置信息；
传输控制装置(700)根据所述载体(100)的位置信息，调整所述载体(100)的移动速度，以使相邻的两个所述载体(100)在预设的镀膜区域内处于搭接状态。
9.如权利要求8所述的镀膜方法，其特征在于，所述至少两个载体(100)包括：相邻的第一载体(100a)和第二载体(100b)，所述第一载体(100a)先于所述第二载体(100b)进入所述腔室(500)；所述至少两个传感器(600)包括：第一传感器(610)，设置于第一指定位置，并与所述传输控制装置(700)电连接；第二传感器(620)，设置于第二指定位置，并与所述传输控制装置(700)电连接；
所述镀膜方法包括：
所述第一传感器(610)在所述第一指定位置检测到所述第一载体(100a)后，将所述第一指定位置作为所述第一载体(100a)的位置信息，传输至所述传输控制装置(700)，以使所述传输控制装置(700)控制所述第一载体(100a)以第一速度移动；
所述第二传感器(620)在所述第二指定位置检测到所述第二载体(100b)后，将所述第二指定位置作为所述第二载体(100b)的位置信息，传输至所述传输控制装置(700)，以使所述传输控制装置(700)控制所述第二载体(100b)以第二速度移动，直至所述第二载体(100b)搭接在所述第一载体(100a)，所述传输控制装置(700)控制所述第二载体(100b)以第一速度移动，其中第二速度大于第一速度。
10.如权利要求8所述的镀膜方法，其特征在于，所述至少两个载体(100)包括：相邻的第一载体(100a)和第二载体(100b)，所述第一载体(100a)先于所述第二载体(100b)进入所述腔室(500)；所述至少两个传感器(600)包括：第一传感器(610)，设置于第一指定位置，并与所述传输控制装置(700)电连接；第二传感器(620)，设置于第二指定位置，并与所述传输控制装置(700)电连接；第三传感器(630)，设置于第三指定位置，并与所述传输控制装置(700)电连接；
所述镀膜方法包括：
所述第一传感器(610)在所述第一指定位置检测到所述第一载体(100a)后，将所述第一指定位置作为所述第一载体(100a)的位置信息，传输至所述传输控制装置(700)，以使所述传输控制装置(700)控制所述第一载体(100a)以第一速度移动；
所述第二传感器(620)在所述第二指定位置检测到所述第二载体(100b)后，将所述第二指定位置作为所述第二载体(100b)的位置信息，传输至所述传输控制装置(700)，以使所述传输控制装置(700)控制所述第二载体(100b)以第二速度移动，其中第二速度大于第一速度；以及
所述第三传感器(630)在所述第三指定位置检测到所述第二载体(100b)后，将所述第三指定位置作为所述第二载体(100b)的位置信息，传输至所述传输控制装置(700)，以使所述传输控制装置(700)控制所述第二载体(100b)以第一速度移动，以实现所述第一载体(100a)和所述第二载体(100b)的无缝搭接。
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