CN111026294B - 一种显示面板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本申请实施例提供一种显示面板及包含该显示面板的显示装置。显示面板中的触控基板包括触控单元、第一触控走线及第一转接结构，且第一触控走线的一端与触控单元电连接，另一端与第一转接结构电连接。显示面板中的发光基板包括显示区及非显示区，非显示区包括多个第二转接结构，且第二转接结构与第一转接结构对应设置；显示区包括发光层，发光层包括相对设置的第一电极与第二电极及设置在两者之间的有机发光层，第一电极位于第二电极朝向触控基板的一侧。第二转接结构包括与第一电极同层设置的第一次电极且第二转接结构的第一次电极与对应的第一转接结构电接触。本申请实施例提供的显示面板能够保证第一转接结构与第二转接结构最大面积的接触。

Description

一种显示面板及显示装置

【技术领域】

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及显示装置。

【背景技术】

触控显示面板依照感测原理的不同大致分为电阻式触控显示面板、电容式触控显示面板、光学式触控显示面板、超声波式触控显示面板及电磁式触控显示面板。其中，电容式触控显示面板伴随着智能手机的发展成为主流的显示面板的触控方式。

随着消费者对手机、笔记本电脑等终端产品提出越来越多的关于机身轻薄、透过率高的要求，内嵌式电容触控显示面板成为显示技术人员研究的热点。对于有机发光显示面板而言，内嵌式电容触控技术需要将触控电极设置在与发光基板相对的另外一个基板上，而基于成本及可靠性的考虑，显示及触控这两种功能的实现应由同一个IC控制。如何实现位于不同基板的触控电极与IC之间的触控信号的传递成为技术难点。

【申请内容】

有鉴于此，本申请实施例提供了一种显示面板及包括该显示面板的显示装置，以解决以上问题。

第一方面，本申请实施例提供一种显示面板，该显示面板包括相对设置的发光基板和触控基板。其中，触控基板包括均朝向发光基板的多个触控单元、多条第一触控走线及多个第一转接结构，并且第一触控走线的一端与触控单元电连接，第一触控走线的另一端与第一转接结构电连接。发光基板包括相邻设置的显示区及非显示区，非显示区包括多个设置在所述发光基板朝向触控基板一侧的第二转接结构，且第二转接结构与第一转接结构对应设置；显示区包括发光层，所述发光层包括第一电极、第二电极及有机发光层，第一电极与第二电极相对设置且第一电极位于第二电极朝向触控基板的一侧，有机发光层设置在第一电极与第二电极之间。第二转接结构包括与第一电极同层设置的第一次电极且第二转接结构的第一次电极与对应的第一转接结构电接触。

在第一方面的一种实现方式中，显示区包括多条栅极线及多条数据线；非显示区还包括多条与第二转接结构电连接的第二触控走线。第二触控走线与栅极线、数据线中的至少一者同层设置。

在第一方面的一种实现方式中，非显示区还包括与第二触控走线电连接的绑定结构，且绑定结构与集成电路及柔性印刷电路板中的至少一者绑定。

在第一方面的一种实现方式中，非显示包括栅极驱动电路，其中，栅极驱动电路的输出端与栅极线电连接。第二转接结构及第二触控走线位于栅极驱动电路远离显示区的一侧。

在第一方面的一种实现方式中，第二触控走线通过第一过孔与第一电极电连接。

在第一方面的一种实现方式中，第二转接结构包括与第二电极同层设置的第二次电极，第二次电极包括相互连接的第一部分及第二部分。第一次电极包括第三部分及第四部分，第三部分与第一转接结构至少部分接触。其中，第四部分与第二部分接触；第二触控走线通过第二过孔与第一部分电连接。

在第一方面的一种实现方式中，显示区包括平坦化层，发光层设置在平坦化层朝向触控基板的一侧，且第二电极与平坦化层接触。第二转接结构包括次平坦化层，次平坦化层与平坦化层同层设置。第二次电极的第二部分与第一次电极的第四部分依次层叠设置在次平坦化层上。

在第一方面的一种实现方式中，显示区的发光层还包括像素定义层及第一支撑结构，其中，像素定义层设置在第二电极上，第一支撑结构设置在像素定义层上。第二转接结构包括次像素定义层及次支撑结构，其中，次像素定义层与像素定义层同层设置，次支撑结构与第一支撑结构同层设置。次像素定义层设置在第二次电极上，次支撑结构设置在次像素定义层上。

在第一方面的一种实现方式中，第一次电极还包括位于第三部分与所述第四部分之间的第五部分，且第五部分连接第三部分与第四部分。其中，第五部分的部分设置在次像素定义层的侧表面，第五部分的部分设置在次支撑结构的侧表面。

在第一方面的一种实现方式中，非显示区包括多个第二支撑结构，第二支撑结构与第一支撑结构及次支撑结构同层设置。

在第一方面的一种实现方式中，第二转接结构周围包括第一像素定义层，第一像素定义层与像素定义层同层设置。

在第一方面的一种实现方式中，第二转接结构周围包括第一平坦化层，第一平坦化层与平坦化层同层设置。

在第一方面的一种实现方式中，第一转接结构朝向第二转接结构的表面为第一表面，所第三部分的面积大于等于第一表面的面积，并且第一表面在第三部分所在平面上的投影被第三部分覆盖。

在第一方面的一种实现方式中，第一转接结构包括与第一触控走线连接且同层设置的第一金属层，第一金属层与第一次电极至少部分接触。

在第一方面的一种实现方式中，触控单元与第一触控走线同层设置，且触控单元为金属网格状结构。

在第一方面的一种实现方式中，第一转接结构包括电连接的第一金属层及第一透明导电层，第一金属层与第一触控走线连接且同层设置且第一透明导电层与第一次电极至少部分接触。

在第一方面的一种实现方式中，第一转接结构还包括设置在第一金属层上的第二透明导电层，且第二透明导电层位于第一透明导电层与第一金属层之间。第二透明导电层与第一导电层之间设置有绝缘层，第一透明导电层与第二透明导电层通过过孔电连接。

在第一方面的一种实现方式中，触控单元与第二透明导电层同层设置。

第二方面，本申请实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括第一方面提供的显示面板，且该显示装置为可穿戴显示装置。

本申请实施例中提供的显示面板及显示装置，位于发光基板一侧的第二转接结构与位于触控基板一侧的第一转接结构接触的具体膜层为第一次电极，而第一次电极与发光基板的显示区中位于最上层的第一电极同层设置。因此本申请实施例提供的显示面板中，发光基板上的第二转接结构中与触控基板一侧的第一转接结构接触的实际为发光基板中最上层的导电膜层，因此，在实现发光基板中的触控信号可以通过第一转接结构及第二转接结构传导至触控基板的触控单元的同时，能够保证第一转接结构与第二转接结构最大面积的接触。

【附图说明】

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为本申请一个实施例中提供的一种显示面板的示意图；

图2为本申请一个实施例中提供的一种触控基板的平面示意图；

图3为本申请一个实施例中提供的一种发光基板的平面示意图；

图4为本申请另一个实施例中提供的一种显示面板的示意图；

图5为本申请一个实施例中第二转接结构的部分放大示意图；

图6为本申请另一个实施例中提供的一种发光基板的平面示意图；

图7为本申请又一个实施例中提供的一种显示面板的示意图；

图8为本申请一个实施例提供的显示装置的示意图。

【具体实施方式】

为了更好的理解本申请的技术方案，下面结合附图对本申请实施例进行详细描述。

应当明确，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本申请保护的范围。

在本申请实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本申请。在本申请实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。

应当理解，本文中使用的术语“和/或”仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况。另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。

本说明书的描述中，需要理解的是，本申请权利要求及实施例所描述的“基本上”、“近似”、“大约”、“约”、“大致”“大体上”等词语，是指在合理的工艺操作范围内或者公差范围内，可以大体上认同的，而不是一个精确值。

应当理解，尽管在本申请实施例中可能采用术语第一、第二、第三等来描述电极，但这些电极不应限于这些术语。这些术语仅用来将电极彼此区分开。例如，在不脱离本申请实施例范围的情况下，第一电极也可以被称为第二电极，类似地，第二电极也可以被称为第一电极。

本案申请人通过细致深入研究，对于现有技术中所存在的问题，而提供了一种解决方案。

本申请的一个实施例提供一种显示面板，如图1、图2及图3所示，图1为本申请一个实施例中提供的一种显示面板的示意图，图2为本申请一个实施例中提供的一种触控基板的平面示意图，图3为本申请一个实施例中提供的一种发光基板的平面示意图。如图1所示，显示面板01包括相对设置的发光基板10和触控基板20。

请参考图1及图2，触控基板20包括多个触控单元21、多条第一触控走线22及多个第一转接结构20a。其中，请参考图1，触控单元21、第一触控走线22及第一转接结构20a均设置在触控基板20朝向发光基板10的一侧。并且，如图1及图2所示，第一触控走线22的一端与触控单元21电连接，第一触控走线22的另一端与第一转接结构20a电连接。也就是说，本申请实施例提供的显示面板将至少部分用于实现触控的触控单元21设置在了显示面板内，从而能够利于显示面板轻薄外观的实现。此外，第一触控走线22连接触控单元21及第一转接结构20a，因此能够将第一转接结构20a从发光基板10侧获得的触控信号传递至触控单元21。

请参考图1及图3，发光基板10包括相邻设置的显示区AA及非显示区BB。其中，非显示区BB包括多个与第一转接结构20a对应设置的第二转接结构10a，且第二转接结构10a设置在发光基板10朝向触控基板20的一侧。第二转接结构与10a与第一转接结构20a对应设置的目的在于，对应设置的一组第一转接结构20a及第二转接结构10a同时对应着一个触控单元21，因此相互对应的一组第一转接结构20a及第二转接结构10a可以专用于传输其对应的一个触控单元21的触控信号。

请继续参考图1，显示区AA包括发光层10b，具体地，发光层10b包括第一电极101、第二电极102及有机发光层103。其中，第一电极101与第二电极102相对设置，且有机发光层103设置在第一电极101与第二电极102之间，并且第一电极101位于第二电极102朝向触控基板20的一侧。也就是说，第一电极101与第二电极102为控制有机发光层103发光的电极，且第一电极为显示区AA中最上层的导电层。需要说明的是，有机发光层103应包括有机发光材料层，此外，还可以包括空穴传输层、空穴注入层、电子传输层及电子注入层等，在本申请的实施例中，仅以有机发光层103表示该些膜层。

进一步地，请继续参考图1，非显示区BB中的第二转接结构10a包括与显示区AA中的第一电极101同层设置的第一次电极101’，且第二转接结构10a的第一次电极101’与对应的第一转接结构20a电接触。由于发光基板10的第一电极101为显示区AA中最为靠近触控基板20的导电膜层，则与其同层设置的第一次电极101’为发光基板10的非显示区BB中最为靠近触控基板20的导电膜层。因此，当触控基板20的第一转接结构20a与发光基板10的第一次电极101’电接触时，也就是与发光基板10的非显示区BB中的最高的导电膜层接触，因此第一转接结构20a能够与第一次电极101’最大可能的接触，提升两者之间的导电性能，从而保证触控信号在发光基板10及触控基板20之间可靠的传输。

需要说明的是，在本申请实施例提供的显示面板中，第二转接结构10a中的膜层均与发光基板10显示区AA中的至少膜层为同一膜层，即第二转接结构10a中的膜层相较于发光基板10显示区AA中的膜层不存在新增膜层，因此无需在现有显示面板制备工序的基础上新增制备工序，节约成本及时间。

此外，为了保证第二转接结构10a最上层的第一次电极101’的高度足够与触控基板20的第一转接结构20a电接触，则第二转接结构10a的膜层基本包括了发光基板10显示AA中所包含的全部膜层。需要说明的是，第二转接结构10a中包含的膜层可以为发光基板10显示区AA中所包含的全部膜层，此外，也可以如图1所示，第二转接结构10a中包含的膜层可以为发光基板10显示区AA中除有机发光层103之外的其他所有膜层。

具体地，如图1所示，第二转接结构10a中除包括与发光层10b中的膜层相同第一次电极101’、第二次电极102’外，还包括次像素定义层111’及次支撑结构112’。其中，次像素定义层111’与显示区AA中的像素定义层111同层设置，具体地，像素定义层111设置在第二电极102上，并且像素定义层111上设置开口用于容纳有机发光层103，并使有机发光层103与第二电极102电连接，因此像素定义层111用于定于发光基板10中发光层10b的发光区域。其中，次支撑结构112’与第一支撑结构112同层设置，具体地，第一支撑结构112设置在像素定义层111上，第一支撑结构112用于将发光基板10与触控基板20之间隔开一定的空隙，避免触控基板20对发光基板10的磨损。

具体地，请参考图1，第二转接结构10a还包括与显示区AA中各绝缘层同膜层的膜层，例如，发光基板10的显示区AA包括平坦化层110，平坦化层位于发光层10b与驱动电路层10c之间，使得驱动电路10之上的膜层具备平坦的表面。发光基板10的非显示区BB包括次平坦化层110’，次平坦化层110’与平坦化层同层设置。

具体地，请参考图1，第二转接结构10a还包括与发光基板10的显示区AA中驱动电路10c同膜层的膜层。如图1所示，驱动电路10c包括用于形成晶体管的有源层106、栅极(与栅极线104同层)、源/漏极(与数据线105同层)，驱动电路10c还包括用于形成电容的第一极板107及及第二极板108(与栅极线104同层)；另外，显示区AA还包括位于晶体管下方的缓冲层109。对应地，发光基板的10的第二转接结构10a包括与有源层106同层设置的次有源层106’、与栅极线104同层设置的次栅极线层104’、与第一极板107同层设置的次极板层107’、与数据线105同层设置的次数据线层105’。

进一步地，请参考图1、图3及图4，图4为本申请另一个实施例中提供的一种显示面板的示意图。如图1、图3及图4所示，发光基板10的显示区AA包括多条栅极线104及多条数据线105，栅极线104及数据线105用于提供控制发光层10b发光的信号。具体地，栅极线104中的信号控制与发光层10b连接的开关晶体管的开启和关闭，数据线105为发光层10b提供显示信号。

更近一步地，发光基板10的非显示区BB还包括多条第二触控走线10a’，其中，第二触控走线10a’与第二转接结构10a电连接。并且第二触控走线10a’与栅极线104、数据线105中的至少一者同层设置。即用于在发光基板10上传输触控信号的第二触控走线10a’也是复用显示面板的固有膜层，节约制备成本及时间。

此外，请参考图3，发光基板10的非显示区BB还包括绑定结构10e，绑定结构10e与第二触控走线10a’电连接，且绑定结构10e与集成电路及柔性印刷电路板中的至少一者绑定，则触控基板20中触控单元21接收或输出的触控信号可以通过第二触控走线10a’与发光基板10绑定的集成电路及柔性印刷电路板互相传递。

并且，请继续参考图3，发光基板10的非显示BB包括栅极驱动电路10d，栅极驱动电路10d的输出端与栅极线104电连接，用于为栅极线104提供信号。其中，第二转接结构10a及第二触控走线10a’位于栅极驱动电路10d远离显示区AA的一侧。由于不同的触控操作产生的触控信号可能不同，因此第二触控走线10a’上的触控信号不具备确定的电压值/电流值，将第二触控走线10a’设置在栅极驱动电路10d远离显示区AA的外围，可以保护显示区AA的信号线免受第二触控走线10a’中不可控信号的干扰。

此外，发光基板10与触控基板20需要封装在一起，因此，在发光基板10的非显示区BB远离显示区AA的一侧设置封装层。需要说明的是，发光基板10的非显示区BB上的第二转接结构10a设置在封装层靠近显示区AA的一侧，且第二转接结构10a中包括有机材料层，如次平坦化层110’，而封装层中不包括有机材料层，因为有机材料不能有效的阻挡水、氧,并且可能被水、氧损坏。另外，第二转接结构10a设置在封装层靠近显示区AA的一侧，封装层可以为第二转接结构10a中的有机材料层阻挡水、氧，对第二转接结构10a起到保护作用。

具体地，请参考图1，第二触控走线10a’可以与发光基板10的显示区AA中的数据线105同层设置。具体地，请参考图4，第二触控走线10a’也可以与发光基板10显示区AA中的栅极线104同层设置。当然，为了减小单一膜层中第二触控走线10a’的密度，也可以将第二触控走线10a’分散到不同的膜层中设置。

需要说明的是，如图1及图4所示，第二触控走线10a’与发光基板10显示区AA中栅极线104、数据线105中的至少一者同层设计，而第二转接结构10a中又包括与栅极线104和/或数据线105同膜层的第二触控走线10a’的一部分，因此，不同的与发光基板同一显示区AA中栅极线104和/或数据线105同层的膜层结构之间互相绝缘。即，第二转接结构10a中的与第二触控走线10a’同膜层的部分与其他第二转接结构10a中的相同部分之间相互绝缘。

在本申请的一个实施例中，请参考图4，第二触控走线10a’通过第一过孔与第二转接结构10a中的第一次电极101’电连接。如此，第二触控走线10a’直接与第二转接结构10a中的第一次电极101’电连接，减少了接触电阻，提高触控信号准确性。

在本申请的一个实施例中，请参考1及图5，图5为本申请一个实施例中第二转接结构的部分放大示意图。如图1所示，第二转接结构10a包括与发光基板10显示区AA的第二电极102同层设置第二次电极102’。

如图5所示，第二次电极102’包括相互连接的第一部分102’a及第二部分102’b，第一部分102’a与第二部分连接102’b。第一次电极101’包括第三部分101’a及第四部分101’b。请结合图及图5，,第三部分101’a与第一转接结构20a至少部分接触，第四部分101’b与第二部分102’b接触，并且第二触控走线10a’通过第二过孔与第一部分102’a电连接。

也就是说，第二触控走线10a’需要将触控信号传递给第二转接结构10a中与第一转接结构20a接触的的第一次电极101’，具体是通过第二次电极102’来实现。由于第二次电极102’位于第一次电极101’与第二触控走线10a’之间，因此第二次电极102’与第二触控走线10a’之间连接时沿垂直于显示面板01的厚度方向的连接电极不会太长，以避免连接电极断裂。同时，当第二次电极102’与第二触控走线10a’通过第二过孔连接时，过孔的制备工艺可以与发光基板10显示区AA中过孔的制备工艺同时进行，节省成本及时间。

进一步地，请参考图1，在发光基板10显示区AA中，第二电极102与平坦化层110接触，具体地，第二电极102设置在平坦化层110上。对应地，请参考图1及图5，第二次电极102’与次平坦化层110’接触，具体地，第二次电极102’设置在次平坦化层110’上。更进一步地，第二次电极102’的第二部分102’b与第一次电极101’的第四部分101b’依次层叠设置在次平坦化层上110’。由于次平坦化层110’具备良好的平坦作用，因此具备平整的表面，当相互连接电接触的第二次电极102’的第二部分102’b与第一次电极101’的第四部分101b’设置在次平坦层110’上时，可以保证两者能够良好的接触，从而保证两者之间良好的导电性。

此外，由于在发光基板10的显示区AA中像素定义层111位于第二电极102上，因此在发光基板10的非显示区BB中的次像素定义层111’设置在第二次电极102’上。并且由于在发光基板10的显示区AA中第一支撑结构112位于像素定义层111上，因此在发光基板10的非显示区BB中的次支撑结构112’也设置在次像素定义层111’上。

请继续参考图5，第一次电极101’还包括第五部分101’c，在第一次电极101’中，第五部分101’c位于第三部分101’a与第四部分101’b之间，且第五部分101’c连接第三部分101’a与第四部分101’b。即，位于次支撑结构112’上的第三部分101’a与位于第二部分102’b上的第四部分101’b通过第五部分101’c实现电连接。

具体地，第五部分101’c的部分设置在次像素定义层111’的侧表面，第五部分101’c的部分设置在次支撑结构112’的侧表面。第五部分101’c位于次支撑结构112’及像素定义层111’的侧表面，也就是说，连接第三部分101’a及第四部分101’b的第五部分101’c位于第二转接结构10a的部分侧表面而不是位于过孔内，则在制备第一次电极101’时，因第五部分101’c具备相对开放的空间，保证了第五部分101’c在制备过程中的良率。

在本申请的一个实施例中，请参考图6，图6为本申请另一个实施例中提供的一种发光基板的平面示意图，需要说明的是，图6仅示出了与本部分发明点相关的结构，省略的其他结构并不代表该些结构不存在。如图6所示，非显示区BB包括多个第二支撑结构112”，第二支撑结构112”与显示区AA中的第一支撑结构112及位于非显示区BB的第二转接结构10a中的次支撑结构112’同层设置。也就是说，在非显示区BB中，除了第二转接结构10a中包括与显示区AA的第一支撑结构112同层设置的次支撑结构112’外，第二转接结构10a的周围也包括与显示区AA的第一支撑结构同层设置的第二支撑结构112”。

请继续参考图6，第二转接结构10a周围还包括第一像素定义层111”，第一像素定义层111”与显示区AA中的像素定义层111及位于非显示区BB的第二转接结构10a中的次像素定义层111’同层设置。也就是说，在非显示区BB中，除了第二转接结构10a中包括与显示区AA的像素定义层111同层设置的次像素定义层111’外，第二转接结构10a的周围也包括与显示区AA的像素定义层111同层设置的第一像素定义层111”。

请参考图1及图4，第二转接结构10a的周围还包括第一平坦化层，第一平坦化层与平坦化层110同层设置。

在第二转接结构10a的周围设置第二支撑结构112”、第一像素定义层111”、第一平坦化层的目的在于，在对显示区AA及非显示区BB的该些膜层曝光、显影、固化以分别形成发光层10b的部分膜层及形成第二转接结构10a的部分膜层的过程中可以使得显示区AA与非显示区BB形成的膜层高度一致。另外，基于显示区AA及非显示区BB膜层高度一致的目的，第二支撑结构112”、第一像素定义层111”、第一平坦化层应与显示区AA中各自对应的膜层厚度及图案可以尽量相同，以保证曝光过程中接收的曝光强度一致。

请继续参考图1、图4及图5，触控基板20上的第一转接结构20a朝向发光基板10上的第二转接结构20a的表面为第一表面，其中，第一次电极101’中第三部分101’a的面积大于等于第一表面的面积。更具体地，第一表面在第三部分101’a所在平面上的投影被第三部分101’a覆盖。也就是说，第一转接结构20a与第二转接结构10a的第一次电极101’接触，并且两者的接触面积与第二转接结构20a的第一表面相等，即第一转接结构20a朝向发光基板10的第一表面完全和第一次电极101’的第三部分101’a接触。同时，第三部分101’a完全与第一表面接触或者除与第一表面接触外还包括不与第一表面接触的部分。如此设计可以保证第一次电极101’与第一转接结构20a的良好接触。

在本申请的一个实施例中，请参考图7，图7为本申请又一个实施例中提供的一种显示面板的示意图，如图7所示，第一转接结构20a包括第一金属层201，第一金属层201与第一触控走线22连接且同层设置，所谓同层设置是指两者采用同种材料在同一道工序中制备而成。其中，第一金属层201与第二转接结构10a的第一次电极101’至少部分接触。即第一转接结构20a与第二转接结构10a电接触具体是通过，第一转接结构20a的第一金属层201与第二转接结构10a的第一次电极101’接触实现的。

需要说明的是，由于在发光基板10上，由于第二转接结构10a包含的膜层基本包括了显示区AA中所有的膜层，因此第二转接结构10a中第一次电极101’高度与显示区AA中的第一电极101的最高高度基本相同。为了确保非显示区BB中第二转接结构10a的第一次电极101’与第一转接结构20a接触，但是显示区中第一电极101的最高位置与触控及版20的触控单元21不接触，则沿着触控基板20指向发光基板10的方向，第一转接结构20a的高度应该高于触控单元21的高度。

具体地，在一种实施例中，请参考图7，为了提高第一转接结构20a的高度，具体为提高第一金属层201的高度，在第一金属层201远离发光基板10的一侧设置第一绝缘层204。因此，在由触控基板20指向发光基板10的方向上，第一金属层201的高度高于触控单元21的高度。同时，为了避免在压力较大时，发光基板10的第一电极101与触控基板20的触控单元21接触，在触控单元21靠近发光基板的一侧设置第二绝缘层21’。

此外，当触控单元21与第一触控走线22同层设置时，由于触控单元21也和第一触控走线22为相同的金属材料，为避免挡光，可以将触控单元为21设计为金属网格状结构。

在本申请的一个实施例中，请参考图1及图4，如图1及图4所示，第一转接结构20a包括第一金属层201、第一透明导电层202、第二透明导电层203及第一绝缘层204。其中，第一透明导电层202与第一次电极101’至少部分接触，第二透明导电层203与第一透明导电层202之间设置有第一绝缘层204，且第一透明导电层202与第二透明导电层203通过过孔电连接。第二透明导电层203设置在第一金属层201上，且第二透明导电层203位于第一透明导电层202与第一金属层201之间，如此，第一金属层201与第一透明导电层202实现电连接。另外，第一金属层201与第一触控走线22连接且同层设置触控单元21与第二透明导电层203同层设置。

将触控单元21与第二透明导电层203同层设置可以保证了触控单元21的透明导电性，则触控单元可以整块设计。另外，第一转接结构20a由第一金属层201、第一透明导电层202、第二透明导电层203及第一绝缘层204构成，可以增加第一转接结构20a的高度，同时多层导电层层叠设置可以减小接触电阻。

在本申请的一个实施例中，还提供一种显示装置，请参考图8，图8为本申请一个实施例提供的显示装置的示意图。如8所示，本申请实施例提供的显示装置01包括如上述任意一个实施例提供的显示面板01。此外，该显示装置可以为可穿戴显示装置，如手表等。

本申请实施例中提供的显示装置所包括的显示面板01中，位于发光基板10一侧的第二转接结构10a与位于触控基板20一侧的第一转接结构20a接触的具体膜层为第一次电极101’，而第一次电极101’与发光基板10的显示区中AA位于最上层的第一电极101同层设置。因此本申请实施例提供的显示面板中，发光基板10上的第二转接结构10a中与触控基板20一侧的第一转接结构20a接触的实际为发光基板10中最上层的导电膜层，因此，在实现发光基板10中的触控信号可以通过第一转接结构20a及第二转接结构10a传导至触控基板20的触控单元21的同时，能够保证第一转接结构20a与第二转接结构10a最大面积的接触，从而保证显示装置的触控性能。

以上所述仅为本申请的较佳实施例而已，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请保护的范围之内。

Claims (19)

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括发光基板和触控基板，所述发光基板与所述触控基板相对设置；

所述触控基板包括多个触控单元、多条第一触控走线及多个第一转接结构，所述触控单元、所述第一触控走线及所述第一转接结构均设置在所述触控基板朝向所述发光基板的一侧；所述第一触控走线的一端与所述触控单元电连接，所述第一触控走线的另一端与所述第一转接结构电连接；

所述发光基板包括显示区及非显示区，所述显示区与所述非显示区相邻设置；所述非显示区包括多个第二转接结构，所述第二转接结构与所述第一转接结构对应设置，且所述第二转接结构设置在所述发光基板朝向所述触控基板的一侧；

所述显示区包括发光层，所述发光层包括第一电极、第二电极及有机发光层，所述第一电极与所述第二电极相对设置，且所述有机发光层设置在所述第一电极与所述第二电极之间；所述第一电极位于所述第二电极朝向所述触控基板的一侧；

所述第二转接结构包括第一次电极，所述第一次电极与所述第一电极同层设置，且所述第二转接结构的所述第一次电极与对应的所述第一转接结构电接触。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示区包括多条栅极线及多条数据线；

所述非显示区还包括多条第二触控走线，所述第二触控走线与所述第二转接结构电连接，且所述第二触控走线与所述栅极线、所述数据线中的至少一者同层设置。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述非显示区还包括绑定结构，所述绑定结构与所述第二触控走线电连接，且所述绑定结构与集成电路及柔性印刷电路板中的至少一者绑定。

4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述非显示包括栅极驱动电路，所述栅极驱动电路的输出端与所述栅极线电连接；

所述第二转接结构及所述第二触控走线位于所述栅极驱动电路远离所述显示区的一侧。

5.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第二触控走线通过第一过孔与所述第一次电极电连接。

6.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第二转接结构包括第二次电极，所述第二次电极与所述第二电极同层设置；所述第二次电极包括第一部分及第二部分，所述第一部分与所述第二部分连接；

所述第一次电极包括第三部分及第四部分，所述第三部分与所述第一转接结构至少部分接触；

所述第四部分与所述第二部分接触；所述第二触控走线通过第二过孔与所述第一部分电连接。

7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述显示区包括平坦化层，所述发光层设置在所述平坦化层朝向所述触控基板的一侧，且所述第二电极与所述平坦化层接触；

所述第二转接结构包括次平坦化层，所述次平坦化层与所述平坦化层同层设置；所述第二次电极的所述第二部分与所述第一次电极的所述第四部分依次层叠设置在所述次平坦化层上。

8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述显示区的所述发光层还包括像素定义层及第一支撑结构，所述像素定义层设置在所述第二电极上，所述第一支撑结构设置在所述像素定义层上；

所述第二转接结构包括次像素定义层及次支撑结构，所述次像素定义层与所述像素定义同层设置，所述次支撑结构与所述第一支撑结构同层设置；

所述次像素定义层设置在所述第二次电极上，所述次支撑结构设置在所述次像素定义层上。

9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述第一次电极还包括第五部分，所述第五部分位于所述第三部分与所述第四部分之间，且所述第五部分连接所述第三部分与所述第四部分；

所述第五部分的部分设置在所述次像素定义层的侧表面，第五部分的部分设置在所述次支撑结构的侧表面。

10.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述非显示区包括多个第二支撑结构，所述第二支撑结构与所述第一支撑结构及次支撑结构同层设置。

11.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述第二转接结构周围包括第一像素定义层，所述第一像素定义层与所述像素定义层同层设置。

12.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述第二转接结构周围包括第一平坦化层，所述第一平坦化层与所述平坦化层同层设置。

13.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述第一转接结构朝向所述第二转接结构的表面为第一表面，所述第三部分的面积大于等于所述第一表面的面积；

所述第一表面在所述第三部分所在平面上的投影被所述第三部分覆盖。

14.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一转接结构包括第一金属层，所述第一金属层与所述第一触控走线连接且同层设置；

所述第一金属层与所述第一次电极至少部分接触。

15.根据权利要求14所述的显示面板，其特征在于，所述触控单元与所述第一触控走线同层设置，且所述触控单元为金属网格状结构。

16.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一转接结构包括第一金属层及第一透明导电层，所述第一金属层与所述第一触控走线连接且同层设置；

所述第一金属层与所述第一透明导电层电连接；所述第一透明导电层与所述第一次电极至少部分接触。

17.根据权利要求16所述的显示面板，其特征在于，所述第一转接结构还包括第二透明导电层，所述第二透明导电层设置在所述第一金属层上，且所述第二透明导电层位于所述第一透明导电层与所述第一金属层之间；

所述第二透明导电层与所述第一透明导电层之间设置有绝缘层，所述第一透明导电层与所述第二透明导电层通过过孔电连接。

18.根据权利要求17所述的显示面板，其特征在于，所述触控单元与所述第二透明导电层同层设置。

19.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-18任意一项所述的显示面板，且所述显示装置为可穿戴显示装置。