CN111025483B - 一种光纤透镜的制备方法及光纤透镜 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种光纤透镜的制备方法，包括如下步骤：烧制光纤透镜前端，在所述光纤透镜前端表面沉积增透膜，在所述光纤透镜前端表面研磨反射面，从而形成光纤透镜。本申请还涉及一种光纤透镜。本申请提供一种光纤透镜的制备方法及光纤透镜，通过本申请制备的光纤透镜适用于狭窄腔道和组织器官表面特征的成像，尤其适用于OCT对于冠状动脉血管腔和内壁结构的成像。
Description
技术领域
本申请涉及光学透镜技术领域，具体涉及一种光纤透镜的制备方法及光纤透镜。
背景技术
显微成像技术已经发展了很长时间了。为了观察生物组织、微生物组织和了解材料的结构，人们发展了多种成像技术，例如：X光技术及层析技术、核磁共振技术、超声、正电子辐射层析技术及光学干涉断层成像技术(Optical Coherence Tomography,OCT)等。
OCT技术中的光源主要采取红外或近红外光(700-1300nm)，该波段的光比较容易透过某种生物类混浊介质，对生物活体无辐射伤害，可以在体活检中有独特优势，在眼科等领域得到广泛的应用。但是对于血管、食道等领域由于检测手段的限制，而没有得到大规模的应用。
目前，用于血管检测的OCT透镜，由于工艺复杂，成本昂贵，并且光束质量存在一定问题，比如图像信噪比低、存在明显伪像等、信号光能量损失大。
发明内容
有鉴于此，本申请提供一种光纤透镜的制备方法及光纤透镜，通过本申请制备的光纤透镜适用于狭窄腔道和组织器官表面特征的成像，尤其适用于OCT对于冠状动脉血管腔和内壁结构的成像。
本发明的目的是针对光纤透镜表面多次反射降低信号光能量和成像真实度和清晰度差的问题，提出了一种光纤透镜制备方法及光纤透镜。
为实现上述目的，根据本申请的一个方面，提供了一种光纤透镜的制备方法。
本申请所述的一种光纤透镜的制备方法，包括如下步骤：
烧制光纤透镜组件，
在所述光纤透镜组件的前端表面沉积增透膜，
在所述光纤透镜组件的前端表面研磨反射面。
在本申请中，所述烧制光纤透镜组件包括如下步骤：
将单模光纤的一端去除预设长度的涂覆层；
将所述单模光纤去除涂覆层的端面进行切割；
将多模光纤的一端去除预设长度的涂覆层；
将所述多模光纤去除涂覆层的端面进行切割；
将所述多模光纤切割后的端面和所述单模光纤切割后的端面进行熔接；
在所述多模光纤远离所述单模光纤的一端烧制成光纤透镜前端。
在本申请中，所述去除涂覆层的长度L1为≥14mm，优选为19mm≥L1≥14mm。
在本申请中，所述单模光纤去除涂覆层的端面进行切割，切割后所述去除涂覆层的端面的长度L2≥5mm，优选10mm≥L2≥5mm；
所述单模光纤的纤芯直径为8～10μm；
所述单模光纤的轴线与所述多模光纤的轴线重合。
在本申请中，所述多模光纤去除涂覆层的端面进行切割，切割后所述去除涂覆层的端面的长度L3≥5mm，优选10mm≥L3≥5mm；
所述多模光纤为阶跃型或梯度型多模光纤中的一种；
所述多模光纤的纤芯直径为50μm、62.5μm、110μm中的一种，优选为110μm纤芯的阶跃型多模光纤或62.5μm纤芯的梯度型多模光纤中的一种。
在本申请中，所述光纤透镜前端为球型结构，所述光纤透镜前端的直径为200-400μm，优选为250μm-350μm。
在本申请中，在所述光纤透镜组件的前端表面沉积增透膜，包括如下步骤：
采用磁控溅射或原子层沉积的方法，在所述光纤透镜前端表面沉积均匀的增透膜，以减少透镜表面多次反射。
在本申请中，所述增透膜的厚度为0.2μm-2.2μm，优选为0.6μm-1.4μm；
所述增透膜的折射率为1≤n≤1.5，优选为1.15≤n≤1.35。
在本申请中，在所述光纤透镜组件的前端表面研磨反射面，包括如下步骤：
通过激光或机械的方式在所述光纤透镜前端上制成反射面，使得所述反射面和所述多模光纤的轴线成一定夹角，即形成光纤透镜。
在本申请中，所述反射面穿过所述光纤透镜前端的中心；
所述反射面和多模光纤的轴线的夹角为θ，其中20°≤θ≤45°，优选38°≤θ≤40°；
所述反射面的平整度不大于9μm，优选为2μm-6μm。
为实现上述目的，根据本申请的另一个方面，提供了一种光纤透镜。
本申请提供一种光纤透镜，所述光纤透镜包括单模光纤和多模光纤，所述多模光纤的一端连接有所述单模光纤，所述多模光纤的另一端设置有光纤透镜前端，所述光纤透镜前端具有反射面和弧形表面，所述弧形表面上设置有增透膜。
在本申请中，所述反射面为平面，所述弧形表面为圆球弧形表面。
在本申请中，所述反射面与所述多模光纤的轴线的夹角为θ，20°≤θ≤45°，优选为38°≤θ≤40°。
在本申请中，所述反射面穿过所述光纤透镜前端的中心。
在本申请中，所述反射面的平整度不大于9μm，优选为2μm-6μm。
在本申请中，所述增透膜的厚度为0.2μm-2.2μm，优选为0.6μm-1.4μm；
所述增透膜的折射率为1≤n≤1.5，优选为1.15≤n≤1.35。
在本申请中，所述光纤透镜的直径为200-400μm，优选为250μm-350μm。
在本申请中，所述多模光纤的纤芯直径为50μm、62.5μm、110μm中的一种，优选为110μm纤芯的阶跃型多模光纤或62.5μm纤芯的梯度型多模光纤中的一种。
在本申请中，所述单模光纤的纤芯直径为8～10μm。
在本申请中，所述单模光纤的轴线与所述多模光纤的轴线重合。
根据本申请提供的光纤透镜的制备方法，通过磁控溅射或原子层沉积方法在光纤透镜前端表面沉积一层或多层增反膜，使得从样品表面散射或反射到透镜表面的信号光尽可能的透射到透镜中，不但增强了信号光的光能量，而且提高了透镜成像的真实度和清晰度。
根据本申请提供的光纤透镜的制备方法，将透镜表面的反射面和多模光纤轴线夹角设为20°≤θ≤45°，大大扩展了夹角范围，且不会影响成像效果，便于批量生产。
附图说明
附图用于更好地理解本申请，不构成对本申请的不当限定。其中：
图1是根据本申请的光纤透镜的结构示意图。
附图标记列表
1-单模光纤，2-多模光纤，3-光纤透镜前端，4-反射面，5-增透膜。
具体实施方式
以下结合附图对本申请的示范性实施例做出说明，其中包括本申请实施例的各种细节以助于理解，应当将它们认为仅仅是示范性的。因此，本领域普通技术人员应当认识到，可以对这里描述的实施例做出各种改变和修改，而不会背离本申请的范围和精神。同样，为了清楚和简明，以下的描述中省略了对公知功能和结构的描述。
本申请涉及一种光纤透镜的制备方法，包括如下步骤：
步骤一：烧制光纤透镜组件，
步骤二：在所述光纤透镜组件的前端表面沉积增透膜，
步骤三：在所述光纤透镜组件的前端表面研磨反射面，从而形成光纤透镜。
在本申请的步骤一中，所述烧制光纤透镜组件包括如下步骤：
将单模光纤的一端去除预设长度的涂覆层；
将所述单模光纤去除涂覆层的端面进行切割；
将多模光纤的一端去除预设长度的涂覆层；
将所述多模光纤去除涂覆层的端面进行切割；
将所述多模光纤切割后的端面和所述单模光纤切割后的端面进行熔接；
在所述多模光纤远离所述单模光纤的一端烧制成光纤透镜前端(即所述多模光纤的一端与单模光纤熔接，所述多模光纤的另一端通过烧球设备烧制成光纤透镜前端)。
所述光纤透镜组件包括多模光纤，所述多模光纤的一端设置单模光纤，所述多模光纤的另一端设置未处理的光纤透镜前端。
所述单模光纤的轴线与所述多模光纤的轴线重合。
所述单模光纤和多模光纤去除涂覆层的长度L1为≥14mm，优选为19mm≥L1≥14mm。
所述去除涂覆层的长度L1可以为14mm、15mm、16mm、17mm、18mm、19mm、20mm、21mm、22mm、23mm、24mm、25mm、26mm、27mm、28mm、29mm、30mm。
所述单模光纤去除涂覆层的长度可以为多模光纤去除涂覆层的长度相同，也可以不同。
所述单模光纤以及所述多模光纤去除涂覆层，均是为了易于熔接。
所述单模光纤去除涂覆层的端面进行切割，切割后所述去除涂覆层的端面的长度L2≥5mm，优选10mm≥L2≥5mm。
所述切割后所述去除涂覆层的端面的长度L2可以为5mm、6mm、7mm、8mm、9mm、10mm、11mm、12mm、13mm、14mm、15mm、16mm、17mm、18mm、19mm、20mm。
所述单模光纤灯的纤芯直径为8～10μm。
所述单模光纤的纤芯可以为8μm、9μm、10μm。
单模光纤为中心玻璃芯很细，只能传一种模式的光纤。因此，其模间色散很小，适用于远程通讯，但还存在着材料色散和波导色散，这样单模光纤对光源的谱宽和稳定性有较高的要求，即谱宽要窄，稳定性要好。
所述多模光纤去除涂覆层的端面进行切割，切割后所述去除涂覆层的端面的长度L3≥5mm，优选10mm≥L3≥5mm；
所述切割后所述去除涂覆层的端面的长度L3可以为5mm、6mm、7mm、8mm、9mm、10mm、11mm、12mm、13mm、14mm、15mm、16mm、17mm、18mm、19mm、20mm。
所述多模光纤为阶跃型或梯度型多模光纤中的一种；
多模光纤为在给定的工作波长上传输多种模式的光纤。按其折射率的分布分为突变型和渐变型。普通多模光纤的数值孔径为0.2±0.02，芯径/外径为50μm/125μm其传输参数为带宽和损耗。由于多模光纤中传输的模式多达数百个，各个模式的传播常数和群速率不同，使光纤的带宽窄，色散大，损耗也大，只适于中短距离和小容量的光纤通信系统。
对于梯度型光纤来说，芯的折射率于芯的外围最小而逐渐向中心点不断增加，从而减少讯号的模式色散，而对阶跃型光缆来说，折射率基本上是平均不变，而只有在包层表面上才会突然降低。阶跃型光纤一般较梯度型光纤的带宽低。
所述多模光纤的纤芯直径为50μm、62.5μm、110μm中的一种，优选为110μm纤芯的阶跃型多模光纤或62.5μm纤芯的梯度型多模光纤中的一种。
所述光纤透镜前端为球型结构，例如可以为圆球型、椭球形等。
所述光纤透镜前端的直径为200-400μm，优选为250μm-350μm。
所述光纤透镜前端的直径可以为200μm、220μm、250μm、270μm、300μm、320μm、350μm、370μm、400μm中的一种。
在本申请的步骤二中，在所述光纤透镜组件的前端表面沉积增透膜，包括如下步骤：
采用磁控溅射或原子层沉积的方法，在所述光纤透镜前端表面沉积均匀的增透膜，以减少透镜表面多次反射。
磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)的一种。在二极溅射中增加一个平行于靶表面的封闭磁场，借助于靶表面上形成的正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面特定区域来增强电离效率，增加离子密度和能量，从而实现高速率溅射的过程。
原子层沉积是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方法(技术)。当前驱体达到沉积基体表面，它们会在其表面化学吸附并发生表面反应。
所述增透膜的厚度为0.2μm-2.2μm，优选为0.6μm-1.4μm。
所述增透膜的厚度可以为0.2μm、0.6μm、1.0μm、1.4μm、1.8μm、2.2μm等。
所述增透膜的折射率为1≤n≤1.5，优选为1.15≤n≤1.35。
所述增透膜的折射率n可以为1、1.05、1.15、1.25、1.35、1.45、1.5。
所述增透膜能够使得从样品散射或反射回来的信号光尽可能的透射到所述光纤透镜中，大大减少了多次散射或反射，提高决信号光的光能量和降低了图像信噪比，从而提高了成像质量。
所述增透膜的折射率为定值或者渐变值，其折射率n范围为n0<n<n1，其中n0为空气折射率；n1为光纤透镜前端的折射率。
所述增透膜可以由SiO2构成。
所述增透膜可以由MgF2构成。
所述增透膜可以由SiO2和MgF2构成。
在本申请的步骤三中，在所述光纤透镜组件的前端表面研磨反射面，包括如下步骤：
通过激光或机械的方式在所述光纤透镜前端上制成一个反射面(制成反射面后，采用超声清洗所述光纤透镜前端表面的研磨粉末)，使得所述反射面和所述多模光纤的轴线成一定夹角，即形成光纤透镜。
所述反射面为平整度很好的平面。
所述反射面穿过所述光纤透镜前端的中心，即所述反射面穿过所述光纤透镜前端所在球体的球心；
所述反射面和所述多模光纤的轴线的夹角为θ，其中20°≤θ≤45°，优选38°≤θ≤40°。
所述θ可以为20°、23°、25°、28°、30°、33°、35°、38°、40°、43°、45°。
所述反射面的平整度不大于9μm。优选为2μm-6μm。
所述反射面的平整度可以为1μm、2μm、3μm、4μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm中的一种。
参考图1，本申请提供一种光纤透镜，所述光纤透镜包括单模光纤1和多模光纤2，所述多模光纤2的一端连接有所述单模光纤1，所述多模光纤2的另一端设置有光纤透镜前端3，所述光纤透镜前端3具有反射面4和弧形表面，所述弧形表面上设置有至少一层增透膜5。
所述增透膜5可以完全覆盖在所述弧形表面上。
所述增透膜5可以覆盖部分所述弧形表面。
所述反射面4为平面，所述弧形表面为圆球弧形表面。
所述反射面4的作用为了使入射光通过反射面从透镜侧面出光或者被样品散射(反射)回来的光进入透镜后通过反射面进入光纤，即改变入射或散射(反射)光的传播方向。
所述弧形表面的作用能够使得从透镜出射的光信号汇聚而获得高质量图像。
所述增透膜5能够使得从样品散射或反射回来的信号光尽可能的透射到所述光纤透镜中，大大减少了多次散射或反射，提高决信号光的光能量和降低了图像信噪比，从而提高了成像质量。
在本申请中，所述反射面4与所述多模光纤2的轴线的夹角为θ，20°≤θ≤45°，优选为38°≤θ≤40°。
所述反射面4与所述多模光纤2的轴线的夹角θ可以为20°、23°、25°、28°、30°、33°、35°、38°、40°、43°、45°
在本申请中，所述反射面4穿过所述光纤透镜前端3的中心使得光信号经过透镜并出射后，能够获得更强的聚焦光，从而获得更清晰成像，即所述反射面4穿过所述光纤透镜前端3所在球体的球心。
在本申请中，所述反射面4的平整度不大于9μm，优选为2μm-6μm。
所述反射面4的平整度可以为1μm、2μm、3μm、4μm、5μm、6μm、7μm、8μm、9μm中的一种。
在本申请中，所述增透膜5的厚度为0.2μm-2.2μm，优选为0.6μm-1.4μm；
所述增透膜5的厚度可以为0.2μm、0.6μm、1.0μm、1.4μm、1.8μm、2.2μm等。
所述增透膜5的折射率为1≤n≤1.5，优选为1.15≤n≤1.35。
所述增透膜5的折射率n可以为1、1.05、1.15、1.25、1.35、1.45、1.5。
所述增透膜5能够使得从样品散射或反射回来的信号光尽可能的透射到所述光纤透镜中，大大减少了多次散射或反射，提高决信号光的光能量和降低了图像信噪比，从而提高了成像质量。
所述增透膜5的折射率为定值或者渐变值，其折射率n范围为n0<n<n1，其中n0为空气折射率；n1为光纤透镜前端的折射率。
所述增透膜5可以由SiO2构成。
所述增透膜5可以由MgF2构成。
所述增透膜5可以由SiO2和MgF2构成。
在本申请中，所述光纤透镜前端3的直径为200μm-400μm，优选为250μm-350μm。
所述光纤透镜的直径可以为200μm、220μm、250μm、270μm、300μm、320μm、350μm、370μm、400μm中的一种。
在本申请中，所述多模光纤2的纤芯直径为50μm、62.5μm、110μm中的一种，优选为110μm纤芯的阶跃型多模光纤或62.5μm纤芯的梯度型多模光纤中的一种。
在本申请中，所述单模光纤1的纤芯直径为8～10μm。
所述单模光纤1的纤芯可以为8μm、9μm、10μm。
所述单模光纤1的轴线与所述多模光纤的轴线重合。
所述多模光纤纤芯材质为掺有极少量掺杂剂(GeO2，P2O5)的SiO2；包层材质为掺有极少量掺杂剂(如B2O3)的SiO2，通过改变掺杂剂量控制其折射率及分布。
实施例1
本发明涉及一种光纤透镜的制备方法，包括如下步骤：
步骤一：烧制光纤透镜组件：
将单模光纤的一端去除预设长度L1为14mm的涂覆层；
将所述单模光纤去除涂覆层的端面进行切割，切割后所述去除涂覆层的端面的长度L2为10mm；
将多模光纤的一端去除预设长度L1为14mm的涂覆层；
将所述多模光纤去除涂覆层的端面进行切割，切割后所述去除涂覆层的端面的长度L2为10mm；
将所述多模光纤切割后的端面和所述单模光纤切割后的端面进行熔接；
在所述多模光纤远离所述单模光纤的一端烧制成光纤透镜前端。
所述多模光纤为大纤芯阶跃型多模光纤，纤芯直径为110μm，包层直径为125μm；
所述单模光纤的纤芯直径为9μm。
步骤二：在所述光纤透镜组件的前端表面沉积增透膜
采用磁控溅射或原子层沉积的方法，在所述光纤透镜前端表面沉积一层均匀的增透膜，以减少透镜表面多次反射。
所述增透膜由SiO2构成，所述增透膜的光学厚度为1.0μm，增透膜折射率为1.15；
步骤三：通过激光或机械的方式在所述光纤透镜前端上制成反射面，使得所述反射面和所述多模光纤的轴线的夹角θ为38°，反射面平整度为6μm，即形成光纤透镜。所述光纤透镜的参数以及性能如表1所示。
实施例2-实施例7以及对比例1-对比例2与实施例1不同之处在于增透膜的参数反射面的参数，如表1所示。
表1为各实施例以及对比例的参数
小结：由上表可见，本申请通过在透镜表面沉积均匀的增透膜，同时改变发射面的平整度和其与光纤主轴的夹角，减少了样品和透镜表面间的多次反射或散射，大大改善了透镜成像信噪比、成像亮度、成像背景伪像占比，从而提高了成像亮度，较对比例有明显优势。
尽管以上结合附图对本申请的实施方案进行了描述，但本申请并不局限于上述的具体实施方案和应用领域，上述的具体实施方案仅仅是示意性的、指导性的，而不是限制性的。本领域的普通技术人员在本说明书的启示下和在不脱离本申请权利要求所保护的范围的情况下，还可以做出很多种的形式，这些均属于本申请保护之列。
Claims (25)
1.一种光纤透镜，其特征在于，所述光纤透镜包括单模光纤和多模光纤，所述多模光纤的一端连接有所述单模光纤，所述多模光纤的另一端设置有光纤透镜前端，所述光纤透镜前端具有反射面和弧形表面，所述弧形表面上设置有增透膜；
所述光纤透镜前端为球型结构；
采用原子层沉积的方法，在所述光纤透镜前端表面沉积均匀的增透膜，以减少透镜表面多次反射；
所述增透膜的厚度为0.6μm-1.0μm；
所述增透膜的折射率为1.15≤n≤1.35；
所述反射面与所述多模光纤的轴线的夹角为θ，30°≤θ≤40°。
2.根据权利要求1所述的光纤透镜，其特征在于，所述反射面为平面，所述弧形表面为圆球弧形表面。
3.根据权利要求1所述的光纤透镜，其特征在于，38°≤θ≤40°。
4.根据权利要求1所述的光纤透镜，其特征在于，所述反射面穿过所述光纤透镜前端的中心。
5.根据权利要求1所述的光纤透镜，其特征在于，所述反射面的平整度不大于9μm。
6.根据权利要求5所述的光纤透镜，其特征在于，所述反射面的平整度为2μm-6μm。
7.根据权利要求1所述的光纤透镜，其特征在于，所述光纤透镜前端的直径为200-400μm。
8.根据权利要求7所述的光纤透镜，其特征在于，所述光纤透镜前端的直径为250μm-350μm。
9.根据权利要求1所述的光纤透镜，其特征在于，所述多模光纤的纤芯直径为50μm、62.5μm、110μm中的一种。
10.根据权利要求9所述的光纤透镜，其特征在于，所述多模光纤的纤芯直径为110μm纤芯的阶跃型多模光纤或62.5μm纤芯的梯度型多模光纤中的一种。
11.根据权利要求1所述的光纤透镜，其特征在于，所述单模光纤的纤芯直径为8～10μm。
12.根据权利要求1所述的光纤透镜，其特征在于，所述单模光纤的轴线与所述多模光纤的轴线重合。
13.一种如权利要求1所述的光纤透镜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
烧制光纤透镜组件，
在所述光纤透镜组件的前端表面沉积增透膜，
在所述光纤透镜组件的前端表面研磨反射面；
所述增透膜的厚度为0.6μm-1.0μm；
所述增透膜的折射率为1.15≤n≤1.35；
所述光纤透镜前端为球型结构；
所述反射面与所述多模光纤的轴线的夹角为θ，30°≤θ≤40°；
采用原子层沉积的方法，在所述光纤透镜前端表面沉积均匀的增透膜，以减少透镜表面多次反射。
14.根据权利要求13所述的光纤透镜的制备方法，其特征在于，所述烧制光纤透镜组件包括如下步骤：
将单模光纤的一端去除预设长度的涂覆层；
将所述单模光纤去除涂覆层的端面进行切割；
将多模光纤的一端去除预设长度的涂覆层；
将所述多模光纤去除涂覆层的端面进行切割；
将所述多模光纤切割后的端面和所述单模光纤切割后的端面进行熔接；
在所述多模光纤远离所述单模光纤的一端烧制成光纤透镜前端。
15.根据权利要求14所述的光纤透镜的制备方法，其特征在于，所述去除涂覆层的长度L1为≥14mm。
16.根据权利要求15所述的光纤透镜的制备方法，其特征在于，所述去除涂覆层的长度L1满足：19mm≥L1≥14mm。
17.根据权利要求14所述的光纤透镜的制备方法，其特征在于，所述单模光纤去除涂覆层的端面进行切割，切割后所述去除涂覆层的端面的长度L2≥5mm；
所述单模光纤的纤芯直径为8～10μm；
所述单模光纤的轴线与所述多模光纤的轴线重合。
18.根据权利要求17所述的光纤透镜的制备方法，其特征在于，所述单模光纤去除涂覆层的端面进行切割，切割后所述去除涂覆层的端面的长度L2满足：10mm≥L2≥5mm。
19.根据权利要求14所述的光纤透镜的制备方法，其特征在于，所述多模光纤去除涂覆层的端面进行切割，切割后所述去除涂覆层的端面的长度L3≥5mm；
所述多模光纤为阶跃型或梯度型多模光纤中的一种；
所述多模光纤的纤芯直径为50μm、62.5μm、110μm中的一种。
20.根据权利要求19所述的光纤透镜的制备方法，其特征在于，所述多模光纤去除涂覆层的端面进行切割，切割后所述去除涂覆层的端面的长度L3满足：10mm≥L3≥5mm；
所述多模光纤的纤芯为直径为110μm纤芯的阶跃型多模光纤或62.5μm纤芯的梯度型多模光纤中的一种。
21.根据权利要求13所述的光纤透镜的制备方法，其特征在于，所述光纤透镜前端的直径为200-400μm。
22.根据权利要求21所述的光纤透镜的制备方法，其特征在于，所述光纤透镜前端的直径为250μm-350μm。
23.根据权利要求13所述的光纤透镜的制备方法，其特征在于，在所述光纤透镜组件的前端表面研磨反射面，包括如下步骤：
通过激光或机械的方式在所述光纤透镜前端上制成反射面，使得所述反射面和所述多模光纤的轴线成一定夹角，即形成光纤透镜。
24.根据权利要求23所述的光纤透镜的制备方法，其特征在于，所述反射面穿过所述光纤透镜前端的中心；
所述反射面和多模光纤的轴线的夹角为θ满足：38°≤θ≤40°；
所述反射面的平整度不大于9μm。
25.根据权利要求24所述的光纤透镜的制备方法，其特征在于，所述反射面的平整度为2μm-6μm。
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