CN110996848A - 调节性人工晶状体的表面处理以及相关方法和装置 - Google Patents

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Abstract

一种用于植入患者眼睛的囊袋内的调节性人工晶状体(AIOL)，包括被耦合在一起以限定内部流体腔室和外部流体腔室的第一和第二组件。所述AIOL的内部区域利用内部流体腔室中的一种或多种成形流体或者第一或第二组件的形状来提供光学倍率。可在所述第一或第二组件的一个或多个表面施加表面处理或涂层。期望所述表面处理减小所述第一和第二组件的加工表面的粗糙度，藉此减小在这种边界表面处聚结的水的质量。还期望公开的表面处理增加相应表面的疏水性(即，降低表面能)，藉此降低这些表面的“润湿性”。

Description

调节性人工晶状体的表面处理以及相关方法和装置
相关申请交叉引用
本申请要求于2017年5月30日提交的名为“亲水性AIOL的表面处理”的美国临时申请号62/512,536，2017年9月19日提交的名为“亲水性AIOL的表面处理”的美国临时申请号62/560,527号的优先权，其内容均通过引用整体并入本文。
技术领域
本技术涉及医疗装置和方法。特别地，本公开的实施方式涉及调节性人工晶状体(以下为“AIOLs”，或单数的“AIOL”)的表面处理。
背景技术
白内障可影响全世界成年人群中的大部分，导致原生水晶晶状体浑浊并导致丧失视力。患有白内障的患者可通过原生晶状体移除以及手术植入合成的人工晶状体(intraocular lens)(“IOL”)来治疗。全球范围内每年进行数百万次IOL植入手术。在美国，实施了350万例白内障手术，而全球每年实施超过2000万例手术。
尽管IOL植入手术在恢复视力方面可以是有效的，但传统的IOL具有若干缺点。例如，许多现有的IOL不能像原生晶状体那样改变焦点(称为调节(accommodation))。传统的IOL的其他缺点包括在植入后发生的屈光不正并且需要用于矫正远视力的眼镜，或在其他情况下，IOL可有效提供良好的远视力，但是患者需要眼镜用于中间及近视力。
已提出AIOL来向患者提供调节性(accommodative)光学倍率。特别地，用于替换原生晶状体的AIOL在晶状体囊内使得大脑能够以自然方式控制外部图像在眼睛视网膜上的天然聚焦。AIOL通常包括中央光学部分和外周(periphery)非光学部分。光学部分用于将图像聚焦在眼内的视网膜上，非光学结构部分提供将光学部分保持在适当位置的支撑结构以及与晶状体囊相接的聚焦或调节控制机制。通过收紧或放松睫状肌(通过小带连接到囊的周边)，改变晶状体囊内的晶状体(在这种情况下是天然的或人造的)焦距，从而获得天然的调节性。因此，大脑通过控制反馈回路和对睫状肌的作用来控制AIOL的光学倍率，以调节被聚焦在视网膜上的物体的距离。
然而，现有的AIOL通常仍在开发中并具有不同的缺点。例如，现有的AIOL在植入后可能提供不充分的调节或产生眼睛的次优屈光矫正。至少在某些情况下，在植入后现有AIOL的调节量也会降低。现有的AIOL也可能过大而无法通过眼睛的小切口插入，并且可能需要切口比理想状态更大一些。而且，当放置在眼睛中时，至少一些现有AIOL可能是不稳定的，这可能导致不正确的调节和其他错误。许多现有AIOL也容易受到与AIOL结构的非光学部分相关联的内部反射的影响而散射入光学视场，称为术后眩光(dysphotopsia)。出于本公开的目的，所有这种内部反射将被称为“术后眩光”。
需要得到改进的可植入人工晶状体，其适应控制眼睛聚焦的自然机制，克服至少一些上述缺陷。理想地，这种改进的AIOL将在植入时提供增加的调节量，提供屈光稳定性，引入很少(如果有的话)的可察觉的视觉伪影，并且允许眼睛的光学倍率响应于患者观察物体的距离而从远视力变为近视力。
发明内容
本公开的实施方式提供改进的AIOL以及制备和使用AIOL的方法。在许多实施方式中，AIOL包括调节性结构，该调节性结构包括基本亲水性的外部结构和基本疏水性的流体内部。期望亲水性结构提供稳定和极为顺应性的结构，能够通过天然晶状体的聚焦机制持续提供的最小力来控制变形。
疏水性流体在提供高折射率的同时使渗透作用(osmotic effects)最小化。高折射率提供良好的光学倍率(opticalpower)。基本(substantially)亲水性的结构材料典型地由丙烯酸的共聚物，亲水性丙烯酸与疏水性丙烯酸的共聚物，或其他光学透明的聚合材料制成或制造。材料的亲水性将根据已经被聚合而形成材料的亲水性和疏水性单体的相对比例而变化。
在许多实施方式中，亲水性外部结构包括由相对干燥形式的亲水性材料加工而成的组分，以干燥形式组装，该结构在组装后被水合，在水合后引入折射油。
加工步骤可使表面的部分具有不同程度的粗糙度和/或亲水性。
基本疏水性的流体内部包括疏水油，选自但不限于有机硅，有机硅与烃油的共聚物中的任一种。
当在常规白内障手术后将AIOL被放置在囊袋(capsulebag)中(植入)时，包括基本亲水性的外部结构和基本疏水性的流体内部的AIOL在定义为亲水性材料和疏水性流体的界面的边界表面处防止水的聚结(coalescing)。在另一实施方式中，包括基本亲水性的外部结构和基本疏水性的流体内部的AIOL在定义为亲水性材料和疏水性流体的界面的边界表面处延缓(retard)水的聚结。但是，在某些情况下，水可能在边界表面处聚结。不受任何特定理论的限制，据信水聚结的可能性可根据疏水性流体和亲水性结构的边界处的亲水性结构的表面粗糙度或表面不规则性而增加。类似地，不受任何特定理论的限制，据信水聚结的可能性可因随温度变化的水合亲水性结构的平衡水分含量的变化而增加。当AIOL从室温下的存放位置放置于眼睛中存在的温度时，可能发生这种温度变化。同样，不受任何特定理论的限制，据信水聚结的可能性可随内部压力到外部压力的变化而增加。
这种聚结的水可能随时间流逝而被迫离开内部腔室并进入亲水性结构。在一个实施方式中，该过程将通过从内部到外部环境的正压力梯度而增强。在另一个实施方式中，当AIOL随时间而平衡时，疏水性流体将水从边界表面推回到更相容的亲水性外部结构中，该外部结构被眼睛中存在的亲水性环境所包围，因此充当额外的扩散出的水分的水槽。
在一种可能的情况下，相邻的聚结的水可能形成团聚物(agglomerate)或水滴，其可能需要更长的时间才能在合理的时间内从内部或边界表面排出。这样的水滴也可能对AIOL的光学质量产生负面影响。此外，在某些情况下，水可能在表面形成液滴。另外，在一些情况下，这些液滴可包含胶束(micelle)。在本技术的一个实施方式中，通过提供表面处理来增加边界表面的疏水性(即，降低表面能)，以降低在流体内部或在亲水性材料与疏水性流体的界面处的水滴聚结的可能性，从而降低了这些表面的“润湿性”。在一些实施方式中，期望本技术通过提供表面处理来增加边界表面的疏水性，以降低水滴在流体内部或在亲水性材料与疏水性流体的界面处聚结的可能性，从而使其与疏水性液体更为相容。在进一步的实施方式中，期望本技术通过施加或添加可粘附(adhere)到亲水性材料上的疏水性表面处理或疏水性涂层来减少水滴在流体内部或在亲水性材料和疏水性流体的界面处聚结的可能性，以延缓或最小化或阻止水分扩散到亲水性材料和疏水性流体之间的界面。
在一些实施方式中，根据本技术的表面处理将亲水性结构材料在边界表面处和边界表面附近的边界体积修改为进入结构材料的一定深度。在这种实施方式中，疏水性与亲水性分子和/或端基或侧基的相对比例在该边界体积内增加。出于本公开的目的，术语“分子”和“端基或侧基”可互换使用。
在一些此类实施方式中，处理后体积内的疏水分子的比例随深度而变化。在此类实施方式中，疏水性分子的比例在边界表面处最大，并随着在结构材料中深度的增加而降低。尽管浓度的这种分布或梯度并不是严格意义的涂层，但出于本公开的目的，“涂层”将用于描述位于另一种材料之上的材料，以及与被涂覆表面相邻的材料中分子分布的梯度的形成，或两者的结合。
当选择涂层材料时，将理解的是，取决于亲水性材料与疏水性材料的比例，涂层的溶胀可不同于两种材料水合时基底(base)材料的溶胀。这种不同的溶胀可能引起内部应力，应变，和/或分层，这可能有损于AIOL的功能。
在本文描述的许多实施方式中，处理包括施加涂层材料，包含单体(和/或在某些情况下为低聚物)，交联剂，和引发单体交联的催化剂的溶液。尽管本文所述的处理典型地增加表面或材料的疏水性，但可对此类处理和涂层材料进行改性，从而可增加其亲水性。
在本技术的其他方面中，相同或相似的表面处理施加至AIOL装置的内部表面以最小化而降低被加工表面的表面粗糙度。在本技术的另一方面，将相同或相似的表面处理施加至AIOL装置的外(exterior)表面，以最小化蛋白质向AIOL结构中的迁移和/或细胞对AIOL结构的外部(outer)表面的附着。
在本文描述的材料和方法的另一应用中，涂层可用于修改构成包括AIOL的结构的表面处或附近的反射特性。这样的材料和方法可减少和/或消除传递到视网膜的光，该光已被AIOL系统的非光学部分捕获和/或通过AIOL系统的非光学部分透射和/或由多次内部反射产生。这种光通常由与AIOL结构的非光学部分相关的内部反射产生。这样的治疗将减少和/或消除与AIOL植入相关的内部反射而导致的术后眩光的发生。
附图简要说明
在所附权利要求中具体阐述了本技术的特征。通过参考下面的阐述说明性实施方式的详细描述以及附图，将获得对本技术的特征和优点的更好理解，说明性实施方式中利用了本发明的原理。
图1A示出了根据本技术的实施方式配置的包括波纹管(bellow)结构和表面处理的流体填充的调节性透镜系统的等距视图。
图1B示出了图1A的流体填充的调节性透镜系统的剖视图。
图1C示出了沿线A-A截取的图1A的流体填充的调节性透镜系统的剖视图。
图2A示出了根据本技术的实施方式配置的替代的调节性透镜系统的剖视图。
图2B和图2C分别示出了根据本技术的实施方式配置的调节性透镜系统的第一组件和第二组件的俯视图。
图3A示出了根据本技术的实施方式配置的调节性透镜系统的加工表面的一部分的激光轮廓图像。
图3B是示出调节性透镜系统的加工表面的一部分的轮廓的显示图。
图4A和4B示出了根据本技术的一个实施方式的包括基底层和光衰减层(lightattenuatinglayer)或涂层(coatinglayer)的亲水性调节性透镜结构的一部分。
图5A示出了根据本公开的叉一实施方式配置的调节性透镜结构的表面处理部分的剖视图。
图5B图示了通过图5A的横截面在给定深度处与材料相关的相对表面能。
发明详述
本公开涉及AIOL的表面处理以及相关系统，方法，和设备。如本文所述，AIOL典型地由干燥的亲水性组件制造，所述干燥的亲水性组件(component)在将基本疏水性的流体内部导入组装件(assembly)中之前被水合，并且在制造后将所得的组装件保持在水合状态。本文所述的表面处理将典型地施加至干燥的预水合组件或组装件。然而，在其他实施方式中，本文所述的表面处理可以完全水合的状态施加至组件或组装件，以利用较高的表面积(在水合状态下可获得(accessible))。在某些情况下，可遮蔽不会被处理的表面。在其他情况下，可在没有遮蔽的情况下施加处理。
如本文所述，AIOL典型地包括中央光学结构，该中央光学结构包括至少一个可变形光学组件(例如，光学元件(element))，该可变形光学组件通过例如与透镜的光轴同心的支撑结构而沿光轴间隔开。几个实施方式包括第一光学组件和第二光学组件，且第一和第二光学组件中的至少一者可变形，同时第一和第二光学组件中的另一者可变形或为刚性。由第一和第二光学组件，以及可选的透镜支撑结构界定的体积可限定流体腔室或流体贮存器，该流体腔室或流体贮存器可填充有离子溶液，例如盐水，或非离子溶液，例如右旋糖酐或硅油。在本文所述的AIOL的一些实施方式中，AIOL组件由干燥的预水合亲水性材料加工而成。然后对加工的组件进行组装，使得组装的AIOL包括外部(outer)表面，和由内部(inner)表面界定的内部体积。在组装的装置水合后，内部体积被疏水性光学流体填充。在一些实施方式中，期望表面处理减小边界表面的加工表面的粗糙度，从而减少边界表面处聚结的水的质量。
在本文描述的其他实施方式中，可使用合适的涂层来使术后眩光最小化。这种涂层可包括例如使透射(transmit)穿过涂层的光的量最小化的试剂。可通过增加涂层表面或涂层内部的光的散射，反射和/或吸收涂层表面或涂层内部的光，或一些组合来改变透射。这种光相互作用可通过在涂层材料中导入颗粒来实现。几种此类添加剂材料的非穷举列表是诸如TiO2的不透明颗粒，气泡，和诸如糖或盐的水溶性(或其他溶剂可溶的)颗粒。
本文所述的亲水性丙烯酸可包括亲水性和疏水性组件这两者的共聚物。以下是一些此类组件材料的部分列表：甲基丙烯酸2-羟乙酯(HEMA)，甲基丙烯酸2-乙氧基乙酯(EOEMA)，二甲基丙烯酸乙二醇酯(EGDMA)，聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)，丙烯酸丁酯，丙烯酸己酯和丙烯酸六氟异丙酯。
可制造本文所述的AIOL的一种合适的亲水性共聚物丙烯酸是HEMA与EOEMA的共聚物。这种材料是BENZ IOL 25 UVX，可购自美国佛罗里达34243萨拉索塔帕兰德市6447号的奔驰研究与开发公司(Benz Research&Development，6447 Parkland Dr.，Sarasota，FL34243 United States)。
在一些实施方式中，表面处理旨在最小化，延缓或防止水聚结，并将被施加至被描述为亲水性材料和疏水性流体的界面的边界表面处。
施加至AIOL的外表面以最小化有机分子或蛋白质迁移的处理，与施加至围绕基本疏水性流体的腔室的内部边界表面的处理相比，典型地包括更小的疏水性增加或更小的亲水性减小或更小的表面能减小。
可控制根据本技术而施加的表面处理的性质和量。在一个实施方式中，例如，表面处理将轻微降低表面能并轻微增加亲水性材料的表面疏水性。在另一实施方式中，表面处理将降低表面能并增加亲水性材料的表面疏水性。在叉一实施方式中，表面处理将大幅降低表面能并大幅增加亲水性材料的表面疏水性。
在一些实施方式中，通过用表面处理剂处理边界表面，或部分边界表面来实现疏水性，所述表面处理剂包括附接(affix)于亲水性材料的部分以及同时向围绕所述基本疏水性流体的腔室的内部呈现的另一疏水性部分。与施加至围绕基本疏水性流体的腔室内部的那些相比，施加至边界表面的疏水性部分可具有不同的化学组成和不同程度的疏水性。
在一些此类处理中，可将具有疏水性端基的分子以化学方式附接至感兴趣的表面，使得疏水性端基向外部呈现。化学方式的附接可包括共价键，氢键，或化学交联。在另一此类表面处理中，疏水性分子可共价键合，化学交联，或通过氢键附着至感兴趣的表面。对于化学交联，可使用生物相容性交联剂，例如胺，三官能或多官能羟基化合物，甘油，丙烯酸类和二甲基丙烯酸乙二醇酯[EGDMA]。
表面处理的施加区域可为连续的，半连续的或在分开的区块中。在使用包括亲水性和疏水性组成成分的共聚物的替代处理中，可施加表面处理，其优先蚀刻亲水性部分而保留完整的疏水性部分。
在叉一替代方案中，表面处理包括将共聚物层施加至感兴趣的表面，该共聚物层具有比AIOL组装件或外部结构材料低得多的亲水性或低得多的饱和水含量。替代地或组合地，表面处理基本覆盖外部结构材料中的通道(channel)或通路(passage)，以便防止或阻止(resist)水分在外部结构材料的水合使用状态下穿过表面层扩散。在一些此类实施方式中，共聚物可包含与所涂布的亲水性基底材料相同的成分，但是亲水性丙烯酸和疏水性丙烯酸的比例不同。在一个实施方式中，表面处理包含至少50重量％的疏水性丙烯酸。在另一实施方式中，表面处理包含至少70重量％的疏水性丙烯酸。在另一实施方式中，表面处理包含至少90重量％的疏水性丙烯酸。在一些实施方式中，表面处理包含薄涂层，该涂层的材料具有与以减小由制造过程产生的表面粗糙度的方式施加的结构相同的表面能。
表面处理可通过各种方法递送，例如刷涂，喷涂，浸涂，气相沉积，等离子体沉积或其组合。在涂层材料于溶剂中递送的实施方式中，可用的生物相容性溶剂包括但不限于NMP，DMSO，TCE，乙酸乙酯，THF，DMF和DMAC。
在一个实施方式中，感兴趣的表面可经历一次表面处理。在另一实施方式中，感兴趣的表面可经历两次表面处理。在叉一实施方式中，感兴趣的表面可经历两次以上的表面处理。
在一些情况下，待处理的表面将通过表面改性或表面活化进行制备或预处理，例如以下处理：紫外线暴露，等离子体，电晕放电，酒精蚀刻溶剂清洁和酸性蚀刻。
在一些情况下，待处理的表面将通过表面改性或表面活化来制备，例如用其他基团代替OH基团的处理，使表面的亲水性降低。
表面处理中包含的材料可选自但不限于以下任一种：有机硅，聚氨酯，和丙烯酸。
在一个实施方式中，用于表面处理的有机硅包括线性有机硅聚合物。在另一实施方式中，用于表面处理的有机硅包含交联的有机硅聚合物。
在一个实施方式中，用于表面处理的聚氨酯包含芳族硬链段(hard segment)。在另一实施方式中，用于表面处理的聚氨酯包含脂族硬链段。在另外的其他实施方式中，用于表面处理的聚氨酯可包括疏水性聚氨酯，例如聚碳酸酯聚氨酯，聚(碳酸酯-共-硅氧烷)聚氨酯，聚硅氧烷聚氨酯，聚醚聚氨酯，聚(醚-碳酸酯)聚氨酯，或聚(醚-共-硅氧烷)，线性氨基甲酸酯聚合物，和/或交联的氨基甲酸酯聚合物。
在一个实施方式中，丙烯酸包括疏水性丙烯酸。在另一实施方式中，丙烯酸包括亲水性丙烯酸类与疏水性丙烯酸类的共聚物。示例性的亲水性丙烯酸类包括但不限于甲基丙烯酸2-羟乙酯(HEMA)。示例性的疏水性丙烯酸类包括但不限于甲基丙烯酸2-乙氧基乙酯(EOEMA)，聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)，丙烯酸丁酯，丙烯酸己酯和丙烯酸六氟异丙酯。在一个实施方式中，丙烯酸包含交联剂。在一个实施方式中，丙烯酸包含交联的丙烯酸聚合物。
表面处理的平均厚度小于20微米，优选小于10微米，更优选小于2微米。表面处理基本上与亲水性外部结构化学相容，从而与亲水性外部结构更好地粘附(adhesion)。表面处理在水性环境中不会降解或崩解，并具有水解稳定性。表面处理具有延展性并呈光学透明，因此不会干扰AIOL的功能。表面处理是生物相容的。
下表A和表B中列出了几种可能的基于丙烯酸的配方。以下实施例中列出了其他几种可能的处理材料配方和步骤。
Figure BDA0002379647850000091
Figure BDA0002379647850000101
表A
Figure BDA0002379647850000102
表B
本文所述的涂层可通过任意合适的方式施加，包括例如喷刷，喷雾，气相沉积工艺，和/或通过雾腔室施加。一种可用的施加方法包括使结构材料的表面和相邻体积经受一定体积的未聚合配方或部分聚合(包含低聚物)配方。对于任一处理方法，可改变从施加处理到聚合引发(或再引发)之间的时间，即处理时间。处理时间将影响在聚合之前包含在涂层材料中的单体和多聚体的渗透深度。涂层材料的体积将显著更靠近施加表面，并随着与涂层表面距离的增加而减小。
图1A-1C示出了包括根据本技术的实施方式配置的表面处理的AIOL 100的各种视图。首先参考图1A和1B，例如，AIOL 100包括三个主要结构，包括(a)固定透镜组装件150，(b)第一组件110，和(c)第二组件120。第一组件110与第二组件120匹配并结合。固定透镜组装件150通过机械界面相对于第一组件110和第二组件120保持位置，并且未结合。
图1C是沿图1B的线A-A截取的AIOL 100的剖视图。如图1C的最佳呈现，第一组件110和第二组件120在接缝处或结合接头104，105，和106处结合在一起，以使第一组件110和第二组件120彼此耦合。当结合时，第一组件110的外部或外周部分113和第二组件120的外部或外周部分123限定AIOL100的外部表面103。
第一组件110包括第一内部表面111，该第一内部表面111具有一个或多个限定第一组件110的各个部分的内部表面区域。在所示的实施方式中，例如，第一组件110包括第一内部表面区域111a和第二内部表面区域111b。第二组件120还包括第二内部表面121，该第二内部表面121具有一个或多个限定第二组件的各个部分的内部表面区域。例如，第二组件120包括第三内部表面区域121a和第四内部表面区域121b。在图1C所示的实施方式中，(第一组件110的)第一内部表面区域111a和(第二组件120的)第三内部表面区域121a至少部分地限定第一波纹管区域140a。类似地，(第一组件110的)第二内部表面区域111b和(第二组件120的)第四内部表面区域121b至少部分地限定第二波纹管区域140b(以下统称为波纹管区域140)。
AIOL 100具有由结合在第一光学组件132和第二光学组件134之间的流体腔室或贮存器130界定的流体调节性透镜112。第一和第二光学组件132和134可为分别为第一和第二组件110和120的平面元件(member)(例如，光学膜)。第一和第二光学组件132和134，例如，可与第一和第二组件110和120的其他部分一体地形成光学膜。在替代实施方式中，第一和第二光学组件132和134的膜之一或这两者的膜可为透镜(即，具有光学倍率)。
流体腔室130与波纹管区域140流体连通，以响应于晶状体囊的形状变化而在流体腔室130与波纹管区域140之间转移流体(例如，疏水性流体)，从而向调节性人工晶状体提供光学倍率变化。在一些实施方式中，例如，流体腔室130和波纹管区域140可填充有在其间转移的基本疏水性的流体。
同时参考图1A和1C，固定透镜组装件150包括光学部分151和通路152。光学部分151具有固定倍率(power)，其可包括不对称倍率透镜(poweredlens)或其他合适的透镜，且通路152是穿过并延伸穿过固定透镜组装件150的一部分但不穿过光学部分151的孔(hole)，槽，孔(orifice)等。固定透镜组装件150还包括面向并邻近第一组件110和/或第二组件120的配合表面的内部表面154，固定透镜组装件150耦合至该接合表面。
如此前所述，AIOL 100可包括在AIOL 100的一个或多个组件的各个部分上的表面处理。在一些实施方式中，例如，围绕波纹管区域140的内部表面111和121的部分可被处理以减少表面能或增加表面疏水性。在一些实施方式中，一些或全部匹配(mating)表面未被处理。在替代实施方式中，所有内部表面(包括内部表面111和121)均被处理以降低其表面能或增加表面疏水性。
在一些实施方式中，仅对内部表面111和121的选定部分进行处理，以减少，防止或阻止(resist)水分扩散穿过表面层。在替代实施方式中，全部或基本全部内部表面111和121均被处理以阻止水分扩散穿过外部结构材料的水合使用状态下的表面层。
在一些实施方式中，仅围绕流体调节性区域112的外部表面113的部分可被处理以减少表面能和/或减少，防止或阻止水分扩散穿过表面层。在替代实施方式中，可对全部外表面113和123进行处理以降低其表面能，减小表面层的孔尺寸，和/或增加表面疏水性。
在一些实施方式中，阻止水分扩散穿过表面的表面处理包括基本覆盖AIOL100的外部结构材料中的通道或通路，以防止或阻止水分扩散穿过表面。
根据本技术配置的图1A-1C的AIOL 100和其他的AIOL使用上表A中列出的EOEMA族的配方4的变形。在此类实施方式中，AIOL 100的第一组件110和第二组件120的内部加工表面(图1A-1C)可在组装之前通过喷雾涂层材料以干燥状态进行处理。在一些实施方式中，可在涂覆过程中遮蔽包括结合接头104，105，106的表面的一些组合。
在替代过程中，第一组件110和第二组件120可填充有涂层材料，并允许涂层材料在聚合引发前1分钟至1天的期间内扩散入结构材料，更优选为5分钟至20分钟。在某些实施方式中，可遮蔽第一组件110和第二组件120的选定表面(例如，结合接头104，105，106和/或其他选定表面)。
图2A，2B，和2C示出了根据本技术的另一实施方式配置的AIOL 200。该AIOL 200类似于上述参照图1A-1C描述的AIOL 100的实施方式。例如，AIOL 200包括三个主要结构，包括(a)固定透镜组装件250，(b)第一组件210，和(c)第二组件220。第一组件210和第二组件220在接缝处或结合接头204，205，和206处结合在一起，以使第一组件210和第二组件220彼此耦合。结合之后，第一组件210的外部或外周部分213和第二组件220的外部或外周部分223限定AIOL 200的外部表面203。AIOL 200还包括内部表面211。
如图2A最佳呈现，通过使第一组件210的连续增厚区域253与固定透镜组装件250的配合特征255配合，可将固定透镜组装件250与AIOL 200的流体调节性透镜260配合并对齐。
图2B和2C分别是第一组件210和第二组件220在被连接在一起之前的俯视图。如图2B和2C的最佳呈现，可在表面处理或涂覆过程之前/期间遮蔽AIOL 200的某些部分。这种遮蔽区域207典型地是第一组件210和第二组件220结合在一起的区域，包括例如接缝/结合接头204(图2A)，205(图2C)，和206。许多合适的结合试剂针对亲水性基底材料进行设计。因此，在表面处理或涂覆过程之前遮蔽所选区域将确保此类区域不会经受表面处理，从而允许遮蔽区域在第一组件210和第二组件220之间提供增强的结合。将理解在其他实施方式中，第一组件210和/或第二组件220的其他区域或不同区域可在表面处理之前被遮蔽。此外，在一些实施方式中，在表面处理或涂覆期间可不进行遮蔽。
图3A示出了BENZ材料的加工表面309的一部分的激光轮廓图像。图的左侧是涂覆表面301，图的右侧是未涂覆表面302。元件308示出了该表面的任意横截面。图3B是作为距离和高度(d，h)的函数的轮廓308的图形表示及其一阶导数(d，dh/dd)。从图3A的表面图示和图3B的横截面图示可知，表面处理或涂层减小了表面粗糙度。特别地，可以看出在涂覆部分上的轮廓的一阶导数落在相对较小的范围内，而在未涂覆区域上的轮廓上的一阶导数则大幅变化。
图4A示出了亲水性AIOL结构435a的一部分，该结构包括基底层436和光衰减层或涂层431。借助本文讨论的任意技术，使光衰减层431的透明度降低。图4B示出了亲水性AIOL结构435b的一部分的另一种排列，包括基底层436，夹在基底层436和涂层433之间的光衰减层431。涂层433可为透明层或可包括染料或其他材料。当将图4A和图4B所示的处理施加至光学视场之外的AIOL的区域时，可用于使术后眩光最小化。当以这种方式施加时，进入光学视场的杂散光(进入涂覆的表面或从涂覆的表面反射)的量期望减少或最小化。
图5A示出了如本文所述的AIOL的经表面处理的部分的任意截面。所公开的排列包括覆盖主体材料的涂层材料的薄层。图5B以图形表示穿过图5A的横截面在给定深度处与材料相关的相对表面能。用亲水性端基与疏水性端基的比例描述表面能。如图5B的最佳呈现，涂层比主体材料更为疏水。作为表面处理过程的结果，在主体材料中存在一个过渡区域，在该过渡区域中并入了附加的疏水性端基，如图5B中曲线的对角部分所示。
其他实例：
1.涂层组成
a.Benz型配方
b.氟配方
c.硅烷醇涂层
2.涂覆方法
a.浸渍：几乎全部单体
b.蒸汽沉积：聚对二甲苯
c.喷刷：厚单体/粘性聚合物
3.涂层引发方法
a.热：Azobis和Esperox
b.光化学：Azobis
4.高粘度溶液
5.涂层期望的结果
a.涂层厚度
b.涂层的疏水性
c.改变表面纹理
6.测量方法
a.FTIR：ATR
b.EDX：俄歇(Auger)
c.接触角
7.方法
实施例1：Azobis热引发剂
在洁净的小瓶中制备了混合物，其包含xx gm的2-HEMA，yy gm的EOEMA，zz gm的2，2-偶氮双(2，4-二甲基戊腈)和0.3重量％(占混合物总重量)的二甲基丙烯酸乙二醇酯(EGDMA)。使用磁力搅拌器将混合物充分混合，以确保没有未溶解的固体颗粒且没有可见的席勒线(schlerianline)。混合物随后在洁净室中通过0.2微米过滤器过滤，以除去任何可能的漂浮颗粒等。
准备待涂覆的透镜零件的样品。暴露待涂覆的一面，并保护其他区域以避免接触涂覆试剂。将待涂覆的零件浸入表1的混合物中约1-60秒，然后取出以确保沉积了涂层混合物的薄膜。将透镜放置在60℃的烘箱中固化约18小时。通过FTIR-ATR，接触角值和EDX进行表征。
表1示出了确切配方以及xx，yy，zz的值。
实施例2：UV引发剂
在洁净的小瓶中制备了混合物，其包含xx gm的2-HEMA，yy gm的EOEMA，zz gm的2，2-偶氮双(2，4-二甲基戊腈)和0.3重量％(占混合物总重量)的二甲基丙烯酸乙二醇酯(EGDMA)。使用磁力搅拌器将混合物充分混合，以确保没有未溶解的固体颗粒且没有可见的席勒线。混合物随后在洁净室中通过0.2微米过滤器过滤，以除去任何可能的漂浮颗粒等。
准备待涂覆的透镜零件的样品。暴露待涂覆的一面，并保护全部其他区域以避免接触涂覆试剂。将待涂覆的零件浸入表1的混合物中约1-60秒，然后取出以确保沉积了涂层混合物的薄膜。用UV中压汞灯处理透镜，该灯在大于350nm的波长下发光约2-6分钟。关闭灯，然后移除零件。通过FTIR-ATR，接触角值和EDX进行表征。
表1示出了确切配方以及xx，yy，zz的值。
Figure BDA0002379647850000151
Figure BDA0002379647850000161
表1
实施例3：Esperox热引发剂
在洁净的小瓶中制备了混合物，其包含xx gm的2-HEMA，yy gm的EOEMA，zz gm的Esperox 33(过氧新癸酸叔丁酯，获自阿克苏诺贝尔工业(Akzo Nobel Industries))和0.3重量％(占混合物总重量)的二甲基丙烯酸乙二醇酯(EGDMA)。使用磁力搅拌器将混合物充分混合，以确保没有未溶解的固体颗粒且没有可见的席勒线。混合物随后在洁净室中通过0.2微米过滤器过滤，以除去任何可能的漂浮颗粒等。
准备待涂覆的透镜零件的样品。暴露待涂覆的一面，并保护全部其他区域以避免接触涂覆试剂。将待涂覆的零件浸入表2的上述混合物中约1-60秒，然后取出以确保沉积了涂层混合物的薄膜。将透镜放置在40℃的烘箱中固化约18小时。通过FTIR-ATR，接触角值和EDX进行表征。
表2示出了确切配方以及xx，yy，zz的值。
Figure BDA0002379647850000162
表2
实施例4：UV引发剂
在洁净的小瓶中制备了混合物，其包含xx gm的1，1，1，3，3，3-丙烯酸六氟异丙酯(gm)，yy gm的丙烯酸丁酯(gm)，和/或xy gm的丙烯酸4-羟丁酯(gm)，zz gm的2，2-偶氮双(2，4-二甲基戊腈)和0.3重量％(占混合物总重量)的二甲基丙烯酸乙二醇酯(EGDMA)。使用磁力搅拌器将混合物充分混合，以确保没有未溶解的固体颗粒且没有可见的席勒线。混合物随后在洁净室中通过0.2微米过滤器过滤，以除去任何可能的漂浮颗粒等。
准备待涂覆的透镜零件的样品。暴露待涂覆的一面，并保护全部其他区域以避免接触涂覆试剂。将待涂覆的零件浸入表3的上述混合物中约1-60秒，然后取出以确保沉积了涂层混合物的薄膜。用UV中压汞灯处理透镜，该灯在大于350nm的波长下发光约2-6分钟。关闭灯，然后移除零件。通过FTIR-ATR，接触角值和EDX进行表征。
表3示出了确切配方以及xx，yy，xy，zz的值。
Figure BDA0002379647850000171
表3
实施例5：Azobis热引发剂
在洁净的小瓶中制备了混合物，其包含xx gm的1，1，1，3，3，3-丙烯酸六氟异丙酯(gm)，yy gm的丙烯酸丁酯(gm)，和/或xy gm的丙烯酸4-羟丁酯(gm)，zz gm的2，2-偶氮双(2，4-二甲基戊腈)和0.3重量％(占混合物总重量)的二甲基丙烯酸乙二醇酯(EGDMA)。使用磁力搅拌器将混合物充分混合，以确保没有未溶解的固体颗粒且没有可见的席勒线。混合物随后在洁净室中通过0.2微米过滤器过滤，以除去任何可能的漂浮颗粒等。
准备待涂覆的透镜零件的样品。暴露待涂覆的一面，并保护全部其他区域以避免接触涂覆试剂。将待涂覆的零件浸入表3的上述混合物中约1-60秒，然后取出以确保沉积了涂层混合物的薄膜。将透镜放置在60℃的烘箱中固化约18小时。通过FTIR-ATR，接触角值和EDX进行表征。
表3示出了确切配方以及xx，yy，xy，zz的值。
实施例6：Esperox热引发剂
在洁净的小瓶中制备了混合物，其包含xx gm的1，1，1，3，3，3-丙烯酸六氟异丙酯(gm)，yy gm的丙烯酸丁酯(gm)，和/或xy gm的丙烯酸4-羟丁酯(gm)，zz gm的Esperox
(过氧新癸酸叔丁酯)和0.3重量％(占混合物总重量)的二甲基丙烯酸乙二醇酯(EGDMA)。使用磁力搅拌器将混合物充分混合，以确保没有未溶解的固体颗粒且没有可见的席勒线。混合物随后在洁净室中通过0.2微米过滤器过滤，以除去任何可能的漂浮颗粒等。
准备待涂覆的透镜零件的样品。暴露待涂覆的一面，并保护全部其他区域以避免接触涂覆试剂。将待涂覆的零件浸入表3的上述混合物中约1-60秒，然后取出以确保沉积了涂层混合物的薄膜。将透镜放置在40℃的烘箱中固化约18小时。通过FTIR-ATR，接触角值和EDX进行表征。
表4示出了确切配方以及xx，yy，xy，zz的值。
Figure BDA0002379647850000181
表4
实施例7：硅氧烷涂层
将水溶液中的95％乙醇与约2ml乙酸混合，测得pH为4.5-5.5。将温度保持在环境温度(20℃)。如果需要，则调节pH以保持为4.5-5.5。在通风橱中称量2.0ml辛基三乙氧基硅烷的溶液，并将其缓慢加入到液体中。从开始混合辛基三乙氧基硅烷起的总时间为5分钟。
在单独的过程中，准备待涂覆的透镜零件。暴露待涂覆的一面，并保护全部其他区域以避免接触涂覆试剂。使待涂覆的零件与上述混合物接触约60-90秒。90秒后移除零件以在室温下固化约24小时，或在60℃的烘箱中固化约6-8小时。
通过FTIR-ATR，接触角值和EDX进行表征。
实施例8：使用UV聚合制备更厚的涂层
根据表1在洁净的小瓶中制备了混合物，其包含xx gm的2-HEMA，yy gm的EOEMA，zzgm的2，2-偶氮双(2，4-二甲基戊腈)和0.3重量％(占混合物总重量)的二甲基丙烯酸乙二醇酯(EGDMA)。混合物的总体积调整至约30ml。将混合物放置在40ml玻璃小瓶中。将磁力搅拌器使放置在混合物内，并加热至80-90℃约8-10分钟。密切监测单体溶液。当搅拌棒产生的涡旋完全消失(例如，液体表面完全平整)时，迅速将单体从搅拌板上移除，并将其置于冰水中。水平搅拌单体直到其完全冷却。
准备待涂覆的透镜零件的样品。暴露待涂覆的一面，并保护全部其他区域以避免接触涂覆试剂。将待涂覆的零件浸入上述混合物中或在其上喷刷粘性溶液。用UV中压汞灯处理透镜，该灯在大于350nm的波长下发光约2-6分钟。
关闭灯，然后移除零件。
通过FTIR-ATR，接触角值和EDX进行表征。
表1示出了确切配方以及xx，yy，xy，zz的值。
实施例9：更厚的涂层的制备以及热聚合
根据表1在洁净的小瓶中制备了混合物，其包含xx gm的2-HEMA，yy gm的EOEMA，zzgm的2，2-偶氮双(2，4-二甲基戊腈)和0.3重量％(占混合物总重量)的二甲基丙烯酸乙二醇酯(EGDMA)。混合物的总体积调整至约30ml。将混合物放置在40ml玻璃小瓶中。将磁力搅拌器使放置在混合物内，并加热至80-90℃约8-10分钟。密切监测单体溶液。当搅拌棒产生的涡旋完全消失(例如，液体表面完全平整)时，迅速将单体从搅拌板上移除，并将其置于冰水中。水平搅拌单体直到其完全冷却。
准备待涂覆的透镜零件的样品。暴露待涂覆的一面，并保护全部其他区域以避免接触涂覆试剂。将待涂覆的零件浸入上述混合物中或在其上喷刷粘性溶液。将涂覆的零件放置在60℃的烘箱中至少18小时。
通过FTIR-ATR，接触角值和EDX进行表征。
表1示出了确切配方以及xx，yy，zz的值。
实施例10：更厚的涂层的制备以及Esperox 33聚合
根据表1在洁净的小瓶中制备了混合物，其包含xx gm的2-HEMA，yy gm的EOEMA，zzgm的Esperox 33(过氧新癸酸叔丁酯)和0.3重量％(占混合物总重量)的二甲基丙烯酸乙二醇酯(EGDMA)。混合物的总体积调整至约30ml。将混合物放置在40ml玻璃小瓶中。将磁力搅拌器使放置在混合物内，并加热至80-90℃约8-10分钟。密切监测单体溶液。当搅拌棒产生的涡旋完全消失(例如，液体表面完全平整)时，迅速将单体从搅拌板上移除，并将其置于冰水中。水平搅拌单体直到其完全冷却。
准备待涂覆的透镜零件的样品。暴露待涂覆的一面，并保护全部其他区域以避免接触涂覆试剂。将待涂覆的零件浸入上述混合物中或在其上喷刷粘性溶液。将涂覆的零件放置在40℃的烘箱中至少18小时。
通过FTIR-ATR，接触角值和EDX进行表征。
表2示出了确切配方以及xx，yy，zz的值。
实施例11：聚对二甲苯涂层
准备待涂覆的透镜零件的样品。暴露待涂覆的一面，并保护全部其他区域以避免与涂覆试剂接触。该涂层于供应商处(vendor site)施加。大体上，将固体二聚体在真空下加热并蒸发成二聚气体。然后将气体热解以将二聚体裂解成其单体形式。
在室温沉积腔室中，单体气体在所有表面上沉积为薄的透明聚合物膜。
通过FTIR-ATR，接触角值和EDX进行表征。
实施例12：UV引发剂
在洁净的小瓶中制备了混合物，其包含xx gm的2-HEMA，yy gm的EOEMA，zz gm的2，2-偶氮双(2，4-二甲基戊腈)和0.3重量％(占混合物总重量)的二甲基丙烯酸乙二醇酯(EGDMA)。使用磁力搅拌器将混合物充分混合，以确保没有未溶解的固体颗粒且没有可见的席勒线。将混合物加热(于90℃)并搅拌以形成低聚物。当粘度处于选定水平(例如，约150-250cps，约200cps)时，该过程终止，然后将混合物冷却以停止反应。然后储存所得混合物以备使用。
混合物可通过数字注射器或本文公开的任何方法分配在选定的表面上以进行处理。通过使处理过的表面在室温下静置30分钟，然后以40℃在氩气中静置18小时来进行后处理。
特征图例-附图
以下是本文描述的附图中指定特征的图例代码。特定的附图特征使用以下列出的代码之一之前的附图编号进行编号。例如，图1的AIOL的特征编号为100。特征的子集也可以在特征编号的末尾接收一个字母指示符(alpha designator)，例如，波纹管区域140可包括第一和第二波纹管区域，分别指定为140a和140b。
特征描述 特征代码 特征描述 特征代码
AIOL 00 外部表面 23
涂覆的表面 01 流体腔室 30
未涂覆的表面 02 衰减层 31
外部表面 03 第一光学组件 32
接缝/结合接头 04 涂层 33
接缝/结合接头 05 第二光学组件 34
接缝/结合接头 06 AIOL结构 35
遮蔽的区域 07 基底层 36
横截面 08 波纹管区域 40
加工表面 09 固定透镜组装件 50
第一组件 10 光学部分 51
内部表面 11 通路 52
流体调节性透镜 12 连续增厚区域 53
外部表面 13 固定透镜内部表面 54
第二组件 20 接合表面 55
内部表面 21 流体调节性透镜 60
示例
在以下示例中阐述了本技术的几个方面。
1.一种调节性人工晶状体系统，包括：
调节性结构，其包括第一组件，位于第一光学组件后部的第二组件，在所述第一和第二光学组件之间的内部流体腔室，以及被流体式耦合至所述内部流体腔室的外部流体腔室，
其中，所述第一组件和所述第二组件为亲水性结构，且其中，所述调节性结构的一个或多个表面包括表面处理以减小相应的经处理的区域的粗糙度。
2.如示例1所述的调节性人工晶状体系统，其中，所述经处理的表面包括与所述基底材料相同比例的疏水性组件和亲水性组件。
3.如示例1所述的调节性人工晶状体系统，其中，所述经处理的表面包括约25％甲基丙烯酸2-羟乙酯(HEMA)元件比约75％疏水性元件的比例。
4.如示例1-3中任一项所述的调节性人工晶状体系统，其中，至少部分限定所述内部流体腔室的内部表面包括所述表面处理。
5.如示例1-4中任一项所述的调节性人工晶状体系统，其中，所述调节性结构包括至少部分由所述第一组件和所述第二组件的外周(periphery)限定的外部表面，且其中，所述外部表面的至少一部分包括所述表面处理。
6.如示例1-5中任一项所述的调节性人工晶状体系统，其中，所述表面处理包括施加至所述调节性结构的相应的一个或多个表面的涂层。
7.如示例1所述的调节性人工晶状体系统，其中，所述表面处理经调节以降低来自所述经处理区域的亲水性端基的密度。
8.如示例1所述的调节性人工晶状体系统，其中，所述表面处理经调节以遮蔽来自所述经处理区域的亲水性端基。
9.如示例1-8中任一项所述的调节性人工晶状体系统，其中，所述外部流体腔室围绕所述内部流体腔室的至少一部分，并被配置成与人受试者的原生眼囊相接，使得流体在所述外部流体腔室和所述内部流体腔室之间流动，以移动用于提供调节的第一光学元件。
10.如示例1-9中任一项所述的调节性人工晶状体系统，还包括所述内部流体腔室内的流体，其中，所述流体包括疏水性液体。
11.如示例1-10中任一项所述的调节性人工晶状体系统，其中，所述第一和第二组件彼此结合。
12.如示例1-11中任一项所述的调节性人工晶状体系统，其中，所述第一和第二组件在一个或多个结合位置处彼此结合，且其中，所述一个或多个结合位置不包括表面处理。
13.如示例1-12中任一项所述的调节性人工晶状体系统，其中，所述第一和第二组件足够柔软以被折叠成减小的横截面输送构造。
14.一种用于植入受试者的晶状体囊的调节性人工晶状体系统，包括：
调节性结构，其包括第一光学组件和沿着边界表面耦合至所述第一光学组件的第二光学组件，在所述第一和第二光学组件之间的内部流体腔室，以及被流体式耦合至所述内部流体腔室的外部流体腔室；
其中，所述调节性结构包括由内部流体腔室和外部流体腔室限定的基本亲水性外部表面和基本疏水性的内部表面，
位于所述第一光学组件和所述第二光学组件中的至少一者上的涂层，其中，与所述第一和第二光学组件的未经处理的区域相比，所述涂层改变所述经处理的区域的疏水性。
15.如示例14所述的调节性人工晶状体系统，其中，所述调节性结构的亲水性外部表面包括第一材料，且其中，所述涂层包括所述第一材料的预聚物。
16.如示例15所述的调节性人工晶状体系统，其中，第一材料包括甲基丙烯酸2-羟乙酯(HEMA)与甲基丙烯酸2-乙氧基乙酯(EOEMA)的共聚物。
17.如示例15所述的调节性人工晶状体系统，其中，所述涂层包括EOEMA。
18.如示例14-17中任一项所述的调节性人工晶状体系统，其中，与所述第一和第二光学组件的未经处理的区域相比，所述涂层降低所述经处理的区域的表面粗糙度。
19.如示例14所述的调节性人工晶状体系统，其中，与所述未经处理的区域相比，所述涂层增加所述经处理的区域的疏水性。
20.一种用于放置在受试者的晶状体囊内的调节性人工晶状体，该调节性人工晶状体包括：
具有第一光学区域和第一波纹管区域的第一组件；
具有第二光学区域和第二波纹管区域的第二组件，所述第二组件耦合至所述第一组件；
位于所述第一光学区域和所述第二光学区域之间的第一流体腔室；
位于所述第一波纹管区域和所述第二波纹管区域之间的第二流体腔室，所述第二流体腔室与所述第一流体腔室流体连通，以响应于晶状体囊的形状变化而在所述第一流体腔室和所述第二流体腔室之间转移流体，从而向所述调节性人工晶状体提供光学倍率变化；以及
施加至所述第一组件的第一经处理区域和所述第二组件的第二经处理区域的表面处理，其中，所述表面处理增加相应的第一和第二经处理区域的疏水性。
21.一种用于放置在受试者的晶状体囊内的调节性人工晶状体，所述调节性人工晶状体包括大体上亲水性的表面，其中，所述调节性人工晶状体在所述表面的至少一部分上包括涂层，且其中，所述调节性人工晶状体的表面的经涂覆的区域比所述表面的未经处理的区域更为疏水。
结论
以上对本技术的实施方式的详细描述并非旨在穷举或将本技术限制为以上公开的具体形式。尽管以上出于说明性目的描述了本技术的特定实施方式和实施例，但是如本领域技术人员将认识到的，在本技术的范围内可进行各种等效修改。例如，本文描述的人工晶状体系统的任何特征可与本文描述的其他人工晶状体的任何特征组合，反之亦然。而且，尽管步骤以给定顺序呈现，但是替代实施方式可以不同顺序执行步骤。本文描述的各种实施方式也可组合以提供进一步的实施方式。
根据前述内容，将理解的是，出于说明目的，本文已经描述了本技术的特定实施方式，但是未示出或详细描述公知的结构和功能，以避免不必要地混淆本技术的实施方式的描述。在上下文允许的情况下，单数或复数术语也可以分别包括复数或单数术语。
此外，除非明确地将单词“或”限制为仅为从涉及两个或多个项目的列表的其他项目排除的单个项目，否则在该列表中使用“或”是指解释为包括(a)列表中的任何单个项目，(b)列表中的所有项目，或(c)列表中项目的任何组合。另外，术语“包括”在全文中用于表示至少包括所叙述的特征，从而不排除任何更多数量的相同特征和/或其他类型的其他特征。还应当理解，在此出于说明的目的已经描述了特定实施方式，但是可在不脱离本技术的情况下进行各种修改。此外，尽管已经在那些实施方式的上下文中描述了与该技术的一些实施方式相关联的优点，但是其他实施方式也可以表现出这样的优点，且并非所有实施方式都需要表现出这种优点以落入本技术的范围内。因此，本公开和相关技术可涵盖本文未明确示出或描述的其他实施方式。

Claims (21)

1.一种调节性人工晶状体系统，包括：
调节性结构，其包括第一组件，位于第一光学组件后部的第二组件，在所述第一和第二光学组件之间的内部流体腔室，以及被流体式耦合至所述内部流体腔室的外部流体腔室，
其中，所述第一组件和所述第二组件为亲水性结构，且其中，所述调节性结构的一个或多个表面包括表面处理以减小相应的经处理的区域的粗糙度。
2.如权利要求1所述的调节性人工晶状体系统，其中，所述经处理的表面包括与所述基底材料相同比例的疏水性组件和亲水性组件。
3.如权利要求1所述的调节性人工晶状体系统，其中，所述经处理的表面包括约25％甲基丙烯酸2-羟乙酯(HEMA)元件比约75％疏水性元件的比例。
4.如权利要求1所述的调节性人工晶状体系统，其中，至少部分限定所述内部流体腔室的内部表面包括所述表面处理。
5.如权利要求1所述的调节性人工晶状体系统，其中，所述调节性结构包括至少部分由所述第一组件和所述第二组件的外周限定的外部表面，且其中，所述外部表面的至少一部分包括所述表面处理。
6.如权利要求1所述的调节性人工晶状体系统，其中，所述表面处理包括施加至所述调节性结构的相应的一个或多个表面的涂层。
7.如权利要求1所述的调节性人工晶状体系统，其中，所述表面处理经调节以降低来自所述经处理区域的亲水性端基的密度。
8.如权利要求1所述的调节性人工晶状体系统，其中，所述表面处理经调节以遮蔽来自所述经处理区域的亲水性端基。
9.如权利要求1所述的调节性人工晶状体系统，其中，所述外部流体腔室围绕所述内部流体腔室的至少一部分，并被配置成与人受试者的原生眼囊相接，使得流体在所述外部流体腔室和所述内部流体腔室之间流动，以移动用于提供调节的第一光学元件。
10.如权利要求1所述的调节性人工晶状体系统，还包括所述内部流体腔室内的流体，其中，所述流体包括疏水性液体。
11.如权利要求1所述的调节性人工晶状体系统，其中，所述第一和第二组件彼此结合。
12.如权利要求11所述的调节性人工晶状体系统，其中，所述第一和第二组件在一个或多个结合位置处彼此结合，且其中，所述一个或多个结合位置不包括表面处理。
13.如权利要求1所述的调节性人工晶状体系统，其中，所述第一和第二组件足够柔软以被折叠成减小的横截面输送构造。
14.一种用于植入受试者的晶状体囊的调节性人工晶状体系统，包括：
调节性结构，其包括第一光学组件和沿着边界表面耦合至所述第一光学组件的第二光学组件，在所述第一和第二光学组件之间的内部流体腔室，以及被流体式耦合至所述内部流体腔室的外部流体腔室；
其中，所述调节性结构包括由内部流体腔室和外部流体腔室限定的基本亲水性的外部表面和基本疏水性的内部表面，
位于所述第一光学组件和所述第二光学组件中的至少一者上的涂层，其中，与所述第一和第二光学组件的未经处理的区域相比，所述涂层改变所述经处理的区域的疏水性。
15.如权利要求14所述的调节性人工晶状体系统，其中，所述调节性结构的亲水性外部表面由第一材料构成，且其中，所述涂层包括所述第一材料的预聚物。
16.如权利要求15所述的调节性人工晶状体系统，其中，第一材料包括甲基丙烯酸2-羟乙酯(HEMA)和甲基丙烯酸2-乙氧基乙酯(EOEMA)的共聚物。
17.如权利要求15所述的调节性人工晶状体系统，其中，所述涂层包括EOEMA。
18.如权利要求14所述的调节性人工晶状体系统，其中，与所述第一和第二光学组件的未经处理的区域相比，所述涂层降低所述经处理的区域的表面粗糙度。
19.如权利要求14所述的调节性人工晶状体系统，其中，与所述未经处理的区域相比，所述涂层增加所述经处理的区域的疏水性。
20.一种用于放置在受试者的晶状体囊内的调节性人工晶状体，该调节性人工晶状体包括：
具有第一光学区域和第一波纹管区域的第一组件；
具有第二光学区域和第二波纹管区域的第二组件，所述第二组件耦合至所述第一组件；
位于所述第一光学区域和所述第二光学区域之间的第一流体腔室；
位于所述第一波纹管区域和所述第二波纹管区域之间的第二流体腔室，所述第二流体腔室与所述第一流体腔室流体连通，以响应于晶状体囊的形状的变化而在所述第一流体腔室和所述第二流体腔室之间转移流体，从而向所述调节性人工晶状体提供光学倍率变化；以及
施加至所述第一组件的第一经处理区域和所述第二组件的第二经处理区域的表面处理，其中，所述表面处理增加相应的第一和第二经处理区域的疏水性。
21.一种用于放置在受试者的晶状体囊内的调节性人工晶状体，所述调节性人工晶状体包括大体亲水的表面，其中，所述调节性人工晶状体在所述表面的至少一部分上包括涂层，且其中，所述调节性人工晶状体的表面的经涂覆的区域比所述表面的未经处理的区域更为疏水。
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