CN110987180A - 光谱仪和用于借助于光谱仪来分析光样本的方法 - Google Patents

Abstract

描述并示出了光谱仪（1），其包括至少一个光耦入元件（3）、能够变化的入口狭缝（4）、色散元件（6）、探测器元件（7）和控制和测评单元（8）。本任务提出了一种具有改进的测量特性的光谱仪，并且该任务通过以下方式得以解决，所述能够变化的入口狭缝（4）由包括多个像素的第一空间调制元件实现，其中，各个像素能够通过控制和测评单元彼此独立地定向，其中各个像素为了实现所述入口狭缝在运行中如此定向，使得从所述光耦入元件（3）入射的光的至少一部分被传导到所述色散元件（6）上。

Description

光谱仪和用于借助于光谱仪来分析光样本的方法

技术领域

本发明涉及一种光谱仪，该光谱仪包括至少一个光耦入元件、能够变化的入口狭缝、色散元件、探测器元件以及控制和测评单元。此外，本发明涉及一种借助于光谱仪来分析光样本的方法，其中，光谱仪包括至少一个光耦入元件、能够变化的入口狭缝、色散元件、探测器元件以及控制和测评单元。

背景技术

根据现有技术，已知由发出光样本的分析物来得出关于光样本的光谱组成的结论。为此，光样本的光在光谱仪中通过色散元件、例如通过光栅分解成其光谱组成部分。随后通过探测器检测各个光谱分量，从而可以随后显示和分析光样本的光谱。为了确保待研究的光样本的相干性，待分析的光首先射到（treffen）入口狭缝，该入口狭缝通过光路成像到探测器元件上。

基本上，光谱仪的光谱分辨率由入口狭缝的宽度确定。狭缝宽度的确立是如下一项优化任务，框架条件、例如探测器元件的尺寸或在行式探测器（Zeilendetektor）的情况下单个探测器元件的尺寸，整个结构的尺寸以及光输出（Lichtausbeute）被考虑到所述优化任务中。如果给定探测器和光学系统的大小，可以通过减小狭缝宽度来提高分辨率，但是狭缝宽度越小，进入到光谱仪中的光越少。相反，在特别弱光的应用中，可以以分辨率为代价来增加光输出。

在现有技术中，用于匹配狭缝宽度的各种解决方案是已知的：通过手动地更换狭缝所切割而成的盘，或者借助于千分尺螺钉（Mikrometerschraube）来手动地移动狭缝的一个或两个限制盘或者是通过电动千分尺螺钉来（半）自动机械地设定，可以改变入口狭缝的狭缝宽度。

所提及的装置的缺点是，可以用来改变狭缝宽度的速度较低以及高的机械复杂性，该复杂性基于以下事实，即，狭缝宽度必须精确地在微米的标度（Skala）上进行设定并且两个边界必须保持平行。

从文献DE 199 32 807 A1已知如下一种光谱仪，其中，由可移动光阑（Blende）和固定光阑组成的入口狭缝被周期性地调制，以便能够在信号处理中使用高灵敏度的且无漂移的放大器。

此外，文献US 2004/0125361 A1公开了一种用于测量激光束的光束特性的方法，其中借助于微镜阵列基于剃须刀方法（Rasierklingenmethode）将激光束分解。

发明内容

本发明的任务是提供一种具有改进的测量特性的光谱仪。此外，本发明基于如下任务，即提出一种用于分析光样本的相应的方法。

根据本发明的第一教导，该任务是通过开篇提及的光谱仪由此实现的，即，能够变化的入口狭缝通过包括多个像素的第一空间调制元件来实现，其中，各个像素可以通过控制和测评单元彼此独立地定向，其中在运行中将各个像素为了实现入口狭缝而如此定向，以使从光耦入元件入射的光的至少一部分传导到色散元件上。

根据本发明，已经认识到，光谱仪的入口狭缝可以通过包括多个可单独操控的像素的第一反射或透射空间调制元件来实现，其中，可以通过各个像素的单独可操控性来特别容易且灵活地改变入口狭缝。

对于各个像素的定向由控制和测评单元来进行。

根据本发明，待分析的光的、射到第一空间调制元件上的图像通过各个像素的设定或偏转而在空间上成形，其中待分析的图像的份额在其强度方面不会被衰减和/或在其传播方向上偏转远离色散元件。

基本上，就此而言在本发明的范围内，在像素的、在其中待分析的光被传导到色散元件上的第一位置或定向与像素的、在其中光不被传导到光谱仪中的第二位置或定向之间进行区分，因此其不可用于分析（断开位置）。通过这种方式，可以通过各个像素的定向特别精确地切割光耦入元件的图像。

根据一种特别优选的设计方案，第一空间调制元件的各个像素以矩阵形式布置。

根据一种设计方案，第一空间调制元件被构造为第一微镜阵列，其中多个像素由多个微镜实现。

根据一种设计方案，以数字的方式来操控微镜，使得可以在两个位置之间调节各个微镜。

根据另一种设计方案，微镜可以借助于模拟信号以任何角度倾斜。

微镜阵列的一种设计方案包括由侧面长度为5至10μm之间的607×638个反射镜组成的矩阵。

替代性地，根据另一种设计方案，第一空间调制元件被设计为液晶显示器，其中，多个像素由多个液晶实现。借助于控制和测评单元，可以通过液晶的定向单独地设定用于从光耦入元件入射的光的各个像素的透明度。

根据一种设计方案，借助于液晶显示器以简单的透明度来产生入口狭缝。替代性地，液晶显示器以反射镜来设置（hinterlegen），使得传导到光谱仪中的光两次穿过液晶显示器。

同样可以想到的是，第一空间调制元件被构造为可切换栅格。根据该设计方案，每个像素由包括多个金属带的单独的可切换栅格组成，所述金属带分别可朝接通位置和断开位置定向。

除了上述设计方案之外，第一空间调制元件同样可以通过此处未提及的其他构件来实现，这些构件逐个像素地传导入射的光。根据一种设计方案，在运行中将第一空间调制元件的像素如此定向，使得第一空间调制元件的狭缝沿色散元件的方向传导入射的光样本的光，并且使其余像素（朝断开位置）如此定向，从而射到第一空间调制元件上的光样本的其余部分不会传导到光谱仪中。

在此，入口狭缝的狭缝宽度由使光在每行中朝色散元件的方向传导的像素的数目决定。根据一种优选的设计方案，狭缝宽度关于狭缝的纵向方向是恒定的。

另外，同样可以想到的是，狭缝宽度沿狭缝的纵向方向、即逐行地不同。例如，狭缝可以局部地加宽。根据该设计方案，狭缝形状虽然以光谱仪的分辨率为代价被稀释（verwässern），然而光输出通过狭缝的局部加宽而增加。

狭缝宽度和/或狭缝形状可以在每次测量之前匹配于测量情况，特别是匹配于待测量的光样本的图像。

另外，光谱仪被设计为使得在光样本的测量期间、即在光谱的检测期间，狭缝宽度和/或狭缝形状也可以被改变和匹配。就此而言，光谱仪在运行中尤其也可以针对各个光谱分量的检测关于可供分析使用的光输出和分辨率方面得到优化。

根据一种设计方案，在运行中第一空间调制元件的所有像素被如此定向，使得待分析的光样本的、射到调制元件上的图像被完全传导到光谱仪中。在这种情况下，特别多光会进入到光谱仪中。

在任何情况下，根据本发明的组件的优点在于，狭缝宽度和/或狭缝形状可以被快速且准确地设定和改变。以这种方式，可以特别快速地在测量之前或期间在分辨率上和的可供使用的光输出方面根据测量情况对光谱仪进行优化，由此光谱仪总体上具有得到改善的测量特性。

控制和测评单元既可以设计为一个构件，或者替代性地可以包含单独的组件。

根据一种设计方案，至少一个光耦入元件被设计为光波导或光波导束。特别优选地，光波导被设计为玻璃纤维，或者光波导束被特别优选地构造为玻璃纤维束。

根据一种设计方案，如果各个玻璃纤维的直径通常约为100µm，而微镜阵列的各个反射镜的侧面长度约为5µm，则射到第一微镜阵列上的一股或多股玻璃纤维的图像就能够被特别精确地切割。

如果散射元件设计为光栅，例如设计为反射栅格，则这同样是特别优选的。

该探测器元件被设计为例如行式探测器。这种设计方案特别是有利的，特别是当色散元件后面的光谱分量直接射到探测器上时。根据该设计方案，可以同时检测在空间上可区分的光谱分量。

根据一种替代性的设计方案，探测器元件被设计为单个探测器（Einzelndetektor）。根据该设计方案，优选地在运行中顺序地采样光样本的光谱。

根据另一种特别优选的设计方案，第一空间调制元件被布置在色散元件之前的光路上并且此外布置在色散元件与探测器元件之间，其中，在运行中在第一空间调制元件的第一部分区域中，像素被定向成使得从光耦入元件入射的光至少部分地被传导到色散元件上，并且在第一空间调制元件的第二部分区域中使像素如此定向，从而在运行中待研究的光样本的光谱分量优选顺序地转向到探测器元件上。

例如，将第一空间调制元件的上半部分定向为入口狭缝，并且将第一空间调制元件的下半部分定向为使待分析的光的光谱分量在探测器元件之前进行传导的元件。替代性地，第一空间调制元件的右半部分定向为入口狭缝，并且第一空间调制元件的左半部分定向为使待分析的光的光谱分量在探测器元件前面进行传导的元件。另外，可以想到将第一空间调制元件划分为在运行中实现相应不同功能的至少两个或更多个部分区域的任意其他合适的划分。

根据光谱仪的另一种优选的设计方案，存在包括多个像素的第二空间调制元件，其中每个像素可以由控制和测评单元单独地定向，其中第二空间调制元件布置在色散元件与探测器元件之间的光路上，其中控制和测评单元在运行中使第二空间调制元件的多个像素如此偏转，使得优选地将待研究的光样本的光谱分量顺序地转向到探测器元件上。

在时间上相继地探测待研究的光样本的各个光谱份额的设计方案的优点在于，可以避免不同波长的衍射图（Beugungsmuster）的重叠。

此外，该设计方案还使得也可以在光样本的测量期间根据当前探测到的光谱分量来匹配入口狭缝的狭缝宽度和/或狭缝形状或第一空间调制元件的像素的定向。如果在光谱的一部分中两种感兴趣的分析物的光谱线紧密相邻并且就此而言对光谱仪的分辨率提出高的要求，而在光谱的另一部分中，唯一分析物的多条线被隔离地定位并且为了对其进行测评关于所有线的积分就足够了，从而可以以分辨率为代价优化光输出，则这是特别有利的。就此而言，通过该设计方案也可以在测量期间确保，确保光谱仪关于分辨率和光输出方面根据各个光谱分量而进行最佳设定。

根据一种设计方案，第二空间调制元件被设计为微镜阵列或液晶显示器或可切换栅格或等效构件。

根据本发明的第二教导，开篇提及的任务通过开篇所描述的用于分析光样本的方法由此得以实现，即通过包括多个像素的第一空间调制元件来实现能够改变的入口狭缝，其中，各个像素可以通过控制和测评单元彼此独立地定向，其中，各个像素为了实现入口狭缝而在运行中如此定向，使得从光耦入元件入射的光的至少一部分传导到色散元件上，

其中，根据在测量之前和/或测量期间的测量情况通过使各个像素偏转来改变入口狭缝的宽度，

待分析的光样本被色散元件分解成其光谱分量，

将光样本的光谱分量成像到探测器元件上，并且控制和测评单元确定出光样本的光谱。

根据该方法的一种设计方案，对第一空间调制元件的各个像素的定向进行匹配，由此至少在光谱仪投入使用之前，所有像素首先朝断开位置定向。随后采样光耦入元件的图像，由此使得各个像素朝接通位置相继地定向，其中，同时在探测器元件上检测通过相应地定向的像素传导的强度。

根据一种设计方案，第一空间调制元件的所有像素朝接通位置相继地逐行定向。

根据另一种设计方案，各个像素的定向从第一空间调制元件的第二行开始仅仅在先前测量的行中确定出最大光强度所在的列（Spalt）中发生，以及额外地在之前和之后的5列中发生。例如，如果发现在第一行中，第20列中的像素在朝接通位置定向时已经传导最高的光强度，则仅第二行中第15到25列中的像素将相继地朝接通位置定向，并且检测相应传导的强度。该设计方案的优点在于，并非所有像素都必须定向以匹配第一空间调制元件的定向。

除了上述之外，还可以想到其他算法，根据这些算法，可以通过各个像素的顺序定向来实现对光耦入元件的图像的有利采样。

至少在光谱仪投入使用之前进行相应的采样。此外，当更换光耦入元件时，也可以进行上述采样。还可以想到在每次测量之前进行采样以匹配像素的定向。

根据一种优选的设计方案，光谱仪根据之前描述的设计方案中的其中一种来设计。

此外优选的是，在运行中，入口狭缝的狭缝宽度和/或狭缝形状根据待研究的光样本的、落到探测器元件上的光谱分量而变化。

根据另一种设计方案，入口狭缝的狭缝形状根据测量之前和/或测量期间的测量情况而变化，由此使得入口狭缝的缝隙宽度被逐行地设定。

另外，如果将光耦入元件设计为由线性布置的光波导组成的光波导束，则有利的是，第一空间调制元件的像素被如此逐行偏转，从而校正各个光波导与线性布置的偏差。

例如，光波导束的图像可以为了进行校正而通过定向第一空间调制元件的各个像素来狭缝状地（spaltenförmig）切割。

这意味着将调制元件的像素如此定向，使得光波导束的图像的狭缝被传导到光谱仪中。在此，如此布置由各个像素组成的狭缝，使得尽管至少一个光波导的布置有缺陷，但是朝接通位置定向的所有像素基本上被光波导的图像完全照亮。狭缝宽度可根据应用而变化和/或在每次测量之前或测量期间进行匹配。

此外进一步有利的是，第一空间调制元件的将光传导到光谱仪中的所有像素的形状为了进行校正而匹配于光波导束的图像的形状。为此，例如在至少一行中，朝接通位置定向的像素相对于朝接通位置定向的其余像素偏移地布置。同样根据该设计方案，狭缝宽度和/或狭缝形状可以根据测量情况而变化和/或在每次测量之前或在测量期间进行匹配。

可以例如通过在光谱仪投入使用时采样图像来设定光耦入元件的图像的不规则形状的前述校正。

附图说明

详细地，现在存在有大量设计和改进根据本发明的光谱仪和根据本发明的方法的可行方案。另外，不仅参照后置于独立专利权利要求的专利权利要求，而且结合附图参照优选的实施例的下文的说明。附图示出：

图1示出根据本发明的光谱仪的第一实施例，

图2示出根据本发明的光谱仪的第二实施例，

图3示出了根据本发明的光谱仪的第三实施例，

图4示出了第一微镜阵列上的光波导束的图像的一个实施例，

图5示出了第一微镜阵列上的光波导束的图像的另一实施例，

图6示出了根据本发明的光谱仪的另一实施例，

图7示出了第一微镜阵列上的图像的另一实施例，并且

图8示出了根据本发明的方法的第一实施例。

具体实施方式

图1示出光谱仪1的第一实施例，该光谱仪具有：呈玻璃纤维形式的光耦入元件3；能够变化的入口狭缝4，该入口狭缝由呈第一微镜阵列5形式的第一空间调制元件构造而成；以及设计为反射式衍射栅格的色散元件6；探测器元件7以及控制和测评单元8。通过经由控制和测评单元8施加电压，可以分别将微镜阵列5的各个微镜单独定向。在运行中，各个反射镜被如此偏转，使得经由玻璃纤维入射的光的至少一部分经由光路成像到探测器元件7上。除了所提到的元件之外，光路还具有用于对待研究的光样本进行光束成形和聚焦的光学透镜9。

图2示出了光谱仪1的第二实施例，其中，与图1所示的光谱仪1相反，呈第二微镜阵列10形式的第二空间调制元件被布置在色散元件6与探测器7之间，该第二空间调制元件也能够通过控制和测评单元8控制。控制和测评单元8在运行中使第二微镜阵列10的多个微镜如此偏转，使得待研究的光样本的、由衍射栅格分离的光谱分量被顺序地转向到探测器元件7上。在所示的实施例中，探测器元件7被设计为单个探测器。所示的布置的优点在于，当检测到各个光谱分量时，不发生或未检测到不同波长的衍射最大值（Beugungsmaxima）的重叠，因此光谱仪的精度特别高。此外，该设计方案的优点在于，在测量期间也可以根据待研究的光样本的、当前射到探测器元件7上的光谱分量来匹配入口狭缝4的狭缝宽度。

在图3所示的光谱仪1的实施例中，光耦入元件3被设计为玻璃纤维束，其中，各个玻璃纤维相对于彼此线性地布置。该玻璃纤维束的图像通过成像光学器件被引导到第一微镜阵列5上。示出了微镜阵列5和微镜的一部分。如此定向微镜阵列5的各个反射镜，以使得玻璃纤维束的图像的狭缝状的部分被传导到光谱仪中。微镜的狭缝状的部分朝接通位置14定向。微镜的其余部分将入射的光在断开位置15中反射远离色散元件6。在此，如此选择狭缝宽度，使得朝接通位置定向的所有反射镜基本上被充分照明，并且使光谱仪1在光输出和分辨率方面总体上得到优化。

图4示出了第一微镜阵列5上的光波导束的图像的实施例。在所示的实施例中，光波导被布置成相对于其他光波导与线性布置偏离。通过如此布置传导光的狭缝，即朝接通位置14定向的微镜，使得尽管偏移的布置，所有微镜基本上都被完全照明，可以由此在运行中校正这种有缺陷的布置。以此方式，可以如此切割玻璃纤维束的整个图像，使得关于到光谱仪中的传导方面，来校正各个光波导与线性布置的偏差。所示实施例中的狭缝宽度对应于微镜的宽度。此外，狭缝宽度当然同样可以包括多个微镜，并且尤其在运行中匹配于测量情况。

图5示出了第一微镜阵列5上的光波导束的图像的另一实施例，其中光波导同样被布置为相对于其他光波导与线性布置偏离。与图4所示的图示相反，这种有缺陷的布置通过以下方式得到校正，即，朝接通位置14定向的微镜在偏移布置的光波导的图像区域中同样与其余的朝接通位置14定向的微镜偏移地布置。结果，就此而言朝接通位置14定向的微镜的形状匹配于光波导束的图像的形状。

图6示出了光谱仪1的另一实施例。在此，第一微镜阵列5被布置成使得其一方面在光束通道中布置在色散元件6的前面，并且此外布置在色散元件6和探测元件7之间。在当前情况下，通过所示光束上的箭头来指示光束通道的走向。

详细地，微镜阵列5的第一部分区域17实现入口狭缝4的功能，并且第二部分区域18实现将各个光谱分量传导到探测元件7上的功能。为此，待分析的光借助于共聚焦镜（konfokaler Spiegel）16聚焦到微镜阵列5的第二部分区域18上。

图7示出了根据图6所示的布置在微镜阵列5上的待分析的光的图像。该图示示出了第一部分区域17和第二部分区域18，该第一部分区域实现了入口狭缝4的功能，该第二部分区域将光谱分量转向到探测元件7上。

如图1至图7所示，替代的实施例在光谱仪的否则相同的构造方式的情况下具有液晶显示器或可切换栅格作为第一和/或第二空间调制元件。

图8示出了用于分析光样本的方法2的实施例，其中光谱仪1根据图2所示的实施例设计。首先，在光谱仪投入使用时，为了确定第一微镜阵列5的微镜的定向而采样光耦入元件的图像。根据所采样的图像以及根据测量情况，将微镜朝接通位置14或断开位置15定向。

在方法2的第一步骤11中，现在将待研究的光样本通过光耦入元件3耦入到光谱仪1中。经由第一微镜阵列5，入射的光以具有限定的狭缝宽度的狭缝的形式被传导到色散元件6上，并且通过色散元件6被分解成其光谱分量。另外，通过将第二微镜阵列10的各个反射镜偏转到探测器元件上，来顺序地对各个光谱分量进行成像12。在此，通过控制和测评单元8将入口狭缝4的狭缝宽度匹配于13当前射到探测器元件7上的光谱分量。最后，控制和测评单元8确定出14待研究的光样本的光谱。

所示的方法2具有以下优点，即，关于光谱仪1的分辨率和光输出、也就是说传导到光谱仪1中的光量尤其也可以在测量期间特别精确地进行优化。

附图标记列表

1 光谱仪

2 用于分析光样本的方法

3 光耦入元件

4 入口狭缝

5 第一微镜阵列

6 色散元件

7 探测器元件

8 控制与测评单元

9 光学透镜

10 第二微镜阵列

11 将光样本耦入到光谱仪中

12 将各个光谱分量顺序成像到探测器元件上

13 将狭缝宽度匹配于光谱分量

14 接通位置

15 断开位置

16 聚焦的反射镜

17 第一部分区域

18 第二部分区域。

Claims (14)

1.光谱仪（1），其包括至少一个光耦入元件（3）、能够变化的入口狭缝（4）、色散元件（6）、探测器元件（7）和控制和测评单元（8），

其特征在于，

其中，所述能够变化的入口狭缝（4）由包括多个像素的第一空间调制元件实现，其中，各个像素能够通过所述控制和测评单元彼此独立地定向，其中各个像素为了实现所述入口狭缝而在运行中如此定向，使得从所述光耦入元件（3）入射的光的至少一部分被传导到所述色散元件（6）上。

2.根据权利要求1所述的光谱仪（1），其特征在于，将所述第一空间调制元件构造为第一微镜阵列（5），其中，所述多个像素由多个微镜实现。

3.根据权利要求1或2所述的光谱仪（1），其特征在于，所述至少一个光耦入元件（3）被设计为光波导或光波导束。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的光谱仪（1），其特征在于，所述第一空间调制元件被布置在所述色散元件（6）之前的光路上并且此外布置在所述色散元件（6）与所述探测器元件（7）之间，在运行中在所述第一空间调制元件的第一部分区域中，如此定向所述像素，使得从所述光耦入元件（3）入射的光至少部分地传导到所述色散元件（6）上，并且在所述第一空间调制元件的第二部分区域中使得所述像素被如此定向，从而在运行中待研究的光样本的光谱分量优选被顺序地转向到所述探测器元件（7）上。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的光谱仪（1），其特征在于，存在包括多个像素的第二空间调制元件，其中每个像素能够由所述控制和测评单元（8）单独地定向，其中所述第二空间调制元件布置在所述色散元件（6）和所述探测器元件（7）之间的光路上，其中，所述控制和测评单元（8）在运行中使所述第二空间调制元件的多个像素如此偏转，从而待研究的光样本的光谱分量优选被顺序地转向到所述探测器元件（7）上。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的光谱仪（1），其特征在于，所述探测器元件（7）被设计为单个探测器。

7.借助于光谱仪（1）分析光样本的方法（2），其中所述光谱仪（1）具有至少一个光耦入元件（3）、能够变化的入口狭缝（4）、色散元件（6）、探测器元件（7）和控制和测评单元（8），

其特征在于，

所述能够变化的入口狭缝（4）由包括多个像素的第一空间调制元件实现，其中，各个像素能够通过所述控制和测评单元彼此独立地定向，其中各个像素为了实现所述入口狭缝而在运行中如此定向，使得从所述光耦入元件（3）入射的光的至少一部分被传导到所述色散元件（6）上，

所述入口狭缝的宽度根据测量之前和/或测量期间的测量情况而变化，

待分析的光样本被所述色散元件（6）分解成其光谱分量，

将光样本的光谱分量成像到所述探测器元件（7）上，并且

所述控制和测评单元（8）确定出所述光样本的光谱。

8.根据权利要求7所述的方法（2），其特征在于，所述光谱仪（1）根据权利要求1至6中任一项来设计。

9.根据权利要求7或8所述的方法（2），其特征在于，至少在所述光谱仪投入使用之前，通过将所述第一空间调制元件的各个像素相继地移动到接通位置来采样所述光耦入元件的图像，其中所述接通位置表示如下位置，在该位置中像素将待分析的光传导到所述色散元件上，并且其中，同时在所述探测器元件上检测通过相应的像素传导的光的强度。

10.根据权利要求7至9中任一项所述的方法（2），其特征在于，根据测量之前和/或测量期间的测量情况来改变所述入口狭缝的狭缝形状，使得所述狭缝宽度逐行地来单独地设定。

11.根据权利要求7至10中任一项所述的方法（2），其特征在于，根据待研究的光样本的、落到所述探测器元件（7）上的光谱分量，在运行中改变所述入口狭缝的狭缝宽度和/或狭缝形状。

12.根据权利要求7至11中任一项所述的方法（2），其特征在于，所述光耦入元件（3）被设计为由线性布置的光波导组成的光波导束，所述第一空间调制器的像素优选逐行地如此定向，从而校正各个光波导与线性的布置的偏差。

13.根据权利要求12所述的方法（2），其特征在于，所述光波导束的图像为了进行校正而通过对于像素的定向被狭缝状地切割。

14.根据权利要求12或13所述的方法（2），其特征在于，第一空间调制器的、将光传导到所述光谱仪（1）中的所有像素的形状为了进行校正而匹配于光波导束的图像的形状。

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