CN110961039B - 激光加热腔体系统 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种激光加热腔体系统，包括：第一腔体、第二腔体、激光加热组件以及移动平台组件。第一腔体具有彼此相对的第一顶部端以及第一底部端，第一顶部端具有第一窗口，第一底部端具有开口；第二腔体设置于第一腔体内，第二腔体具有彼此相对的第二顶部端以及第二底部端，第二腔体设有第二窗口以及样品承载台；激光加热组件设置于第一腔体外并提供的至少一激光光束通过第一窗口以及第二窗口而聚焦于样品承载台；其中，第一腔体是真空腔体，且第二腔体的压力介于真空至30atm之间。借由本发明的激光加热腔体系统可将样品加热温度达到1000℃以上，并使第二腔体的填充气体压力达到30atm。

Description

激光加热腔体系统
技术领域
本发明涉及一种激光加热腔体系统，特别是涉及一种用于催化反应的激光加热腔体系统。
背景技术
催化反应是藉由催化剂改变化学反应的速率的方法，以期达到较佳的反应速率或产率，催化反应可以说是许多化学反应实现工业应用的关键。目前大多数化工产品的生产，均采用了催化反应技术。然而，催化剂在工业生产的应用条件非常复杂，许多条件共同决定了催化剂的活性，通常高温和高压是实现高催化率的必备条件。因此，用于催化反应的腔体设计必须要能同时承受加热样品的高温以及填充气体的高压。
现有的反应腔体的加热方式主要是使用灯丝加热，使样品温度上升至所需的反应温度，进而产生催化反应。然而，加热灯丝安装于反应腔体内部时，须使用绝缘材质将灯丝与反应腔体壁绝缘，以避免通电流时有漏电的现象发生，受到绝缘材质的耐压限制，使反应腔体的压力无法加压至期望压力，再者，灯丝加热另具有寿命问题以及无法将输出功率全部用于加热样品的考虑，因此，样品能达到的温度也有一定的极限。
为使得反应腔体的温度与制程气体压力能进一步提升，需要开发新的腔体系统。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于提供一种激光加热腔体系统，所述激光加热腔体系统包括：第一腔体，所述第一腔体具有彼此相对的第一顶部端以及第一底部端、以及介于所述第一顶部端与所述第一底部端之间并且彼此相对的第一侧部端和第二侧部端；其中，所述第一腔体具有第一窗口，所述第一底部端具有开口；第二腔体，所述第二腔体设置于所述第一腔体内并且具有样品传递开口或可自底部端开启(图未示出)以用于传递样品，所述第二腔体具有彼此相对的第二顶部端以及第二底部端；第二腔体具有第二窗口以及样品承载台，所述样品承载台设置于所述第二底部端上以用于承载样品；激光加热组件，所述激光加热组件设置于所述第一腔体外，所述激光加热组件所提供的至少一激光光束通过所述第一窗口以及所述第二窗口而聚焦于所述样品承载台；以及移动平台组件，所述移动平台组件包括平台以及与所述平台相连接的移动机构，所述平台设置于所述第二底部端下方以用于承载所述第二腔体，所述移动机构设置于所述第一底部端的所述开口中以用于升降所述平台；其中，所述第一腔体是真空腔体，且所述第二腔体的压力介于真空至30atm之间，例如可以介于10-6至30atm之间。
更进一步地，所述激光加热腔体系统进一步包括样品传输组件，所述样品传输组件具有输入端和输出端，所述输入端连接于所述第一腔体的所述第一侧部端，所述输出端连接于所述第一腔体的所述第二侧部端；其中，所述输入端具有传输轨道以及传输臂，所述传输臂设置于所述传输轨道上用以移动所述样品至所述输出端。
更进一步地，所述激光加热腔体系统进一步包括调压阀，所述调压阀连接于所述第一腔体，以控制所述第一腔体的内部压力。
更进一步地，所述激光加热腔体系统进一步包括冷却管路，所述冷却管路设置于所述移动平台组件并连通所述第二腔体，用于对所述样品进行冷却。
更进一步地，所述第一腔体包括第一进气管路以及第一出气管路，且所述第二腔体包括第二进气管路以及第二出气管路。
更进一步地，所述第一窗口设置于所述第一顶端部，且所述第二窗口设置于所述第二顶部端。
更进一步地，所述激光加热组件包括：至少两个垂直腔面发射激光器，垂直发射出激光光束；激光调整机构，连接于所述垂直腔面发射激光器，以调整所述激光光束的发射角度。
更进一步地，所述激光调整机构包括两个相对的固定端，所述两个相对的固定端分别用以固定所述垂直腔面发射激光器，以使所述激光光束彼此非平行。
更进一步地，所述激光加热组件包括六个垂直腔面发射激光器，所述六个垂直腔面发射激光器分别设置于所述激光调整机构的两个相对的固定端并呈弧形排列。
更进一步地，所述第一腔体的材料是铁合金，且含有占总重量百分比自10wt％至30wt％的铬。
为使能更进一步了解本发明的特征及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而所提供的附图仅用于提供参考与说明，并非用来对本发明加以限制。
附图说明
图1为本发明的一实施例的激光加热腔体系统的剖面示意图。
图2为本发明的另一实施例的激光加热腔体系统的剖面示意图。
图3为本发明图2的另一实施例的激光加热腔体系统的激光加热组件的示意图。
具体实施方式
以下是通过特定的具体实例说明本发明所公开有关“激光加热腔体系统”的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所公开的内容了解本发明的优点与效果。本发明可通过其他不同的具体实施例加以施行或应用，本说明书中的各项细节也可基于不同观点与应用，在不悖离本发明的构思下进行各种修改与变更。另外，需要说明的是，本发明的附图仅为简单示意说明，并非依实际尺寸的描绘。以下的实施方式将进一步详细说明本发明的相关技术内容，但所公开的内容并非用以限制本发明的保护范围。
本发明所要解决的技术问题在于提供一种激光加热腔体系统S，如图1所示，本发明一具体实施例的激光加热腔体系统S包括：第一腔体1、第二腔体2、激光加热组件3以及移动平台组件4。具体而言，第一腔体1具有：彼此相对的第一顶部端11与第一底部端12；以及介于所述第一顶部端11以及所述第一底部端12之间并且彼此相对的第一侧部端13和第二侧部端14。其中，第一顶部端11具有第一窗口111，第一底部端12具有开口121，开口121的形状依据移动平台组件4的移动机构42而定；举例而言，第一腔体可以是长方体、正方体、圆筒状，第一腔体1是真空腔体，真空腔体较佳的压力可以介于10-6mmHg至25mmHg之间。更详细而言，第一腔体的材料可以是铁合金，且含有占总重量百分比自10wt％至30wt％的铬，举例而言，第一腔体的材料可以是不锈钢，不锈钢材料的低释气率可使第一腔体维持高真空。
第二腔体2设置于第一腔体1内，且不连通于所述第一腔体1，具有样品传递开口或可自第二底部端22开启(图未示出)以传递样品。第二腔体2具有彼此相对的第二顶部端21以及第二底部端22，其中第二顶部端21具有第二窗口211。此外，第二腔体2中还具有样品承载台23，样品承载台23设置于所述第二底部端22上用以承载样品。具体而言，第二腔体2是高压腔体，第二腔体2的压力介于真空至30atm之间，例如可以介于10-6atm至30atm之间。
激光加热组件3设置于第一腔体1外且与第一窗口111相邻，激光加热组件3所提供的至少一激光光束通过第一窗口111以及第二窗口211而聚焦于样品承载台23，用以加热样品。然而，激光加热组件3的设置位置并不限于此，亦可设置于第一底部端12处从而提供至少一激光光束至样品承载台23。而且，第一腔体1的第一窗口111以及第二腔体2的第二窗口211可相应调整，以便具有额外相对应的窗口从而利于激光聚焦。
移动平台组件4包括平台41以及与平台41相连接的移动机构42，平台41设置于第二腔体2的第二底部端22的下方，以用于承载第二腔体2，而移动机构42设置于第一底部端12的开口121中并穿越开口121以用于升降所述平台22。移动平台组件4的尺寸形状不受此限制，平台41亦可以是非实心的具有支撑的支架形式(图未示出)，以利于随激光加热组件3的设置位置而进行调整。
请参阅图2，图2为本发明的另一具体实施例的激光加热腔体系统S’，包括第一腔体1、第二腔体2、激光加热组件3以及移动平台组件4。更进一步，激光加热腔体系统S’还包括样品传输组件5，样品传输组件5具有输入端51以及输出端52，输入端51连接于第一腔体1的第一侧部端13，输出端52连接于第一腔体1的第二侧部端14；其中，输入端51具有传输轨道511以及传输臂512，传输臂512设置于传输轨道511上用以移动样品承载台23或移动经反应的样品至输出端52。第二腔体2可自第二底部端22开启，以利样品传输组件5传输样品。
更进一步地，本发明的激光加热腔体系统S’还包括：调压阀6，调压阀6连接于所述第一腔体1，以控制所述第一腔体1的内部压力达到真空状态；以及冷却管路(图未示出)，冷却管路设置于所述移动平台组件4，并连通所述第二腔体2，以用于对样品进行冷却。除此之外，第一腔体1还包括第一进气管路15以及第一出气管路16，且可电性连接于控制装置如调压阀6，以便第一腔体内的气体被控制达到预期的压力；第二腔体2还包括第二进气管路24以及第二出气管路25，且可电性连接于控制装置，以便第二腔体内的气体被控制达到预期的压力。
更详细的，激光加热组件3包括：至少两个垂直腔面发射激光器31以及激光调整机构32，垂直腔面发射激光器31可垂直发射出激光光束，激光调整机构32连接于垂直腔面发射激光器31以调整所述激光光束的发射角度。更进一步的，激光调整机构32包括两个相对的固定端321、322，两个相对的固定端321、322分别用以固定至少两个垂直腔面发射激光器31，以使垂直腔面发射激光器所发出的激光光束彼此非平行。一般而言，激光加热组件3可视需求在分别相对的固定于相对的固定端321、322上具有二、四、六、八个垂直腔面发射激光器31，垂直腔面发射激光器31可由相对应的激光角度发出非平行的激光光束并聚焦于样品上。激光加热组件3不仅可设置于第一顶部端11上的位置，亦可同时额外地增设于第一底部端12的位置。
进一步可参阅图3，图3为激光加热组件3的示意图，激光加热组件S’包括六个垂直腔面发射激光器31，其中3个垂直腔面发射激光器31设置于固定端321、另外3个垂直腔面发射激光器31设置于相对应的另一固定端322，且依据面向固定端321以及322的方向而言，六个垂直腔面发射激光器31是呈弧形排列，由此排列设计可达到较佳的聚焦加热效果且提供较佳的加热均匀度。
借由本发明的激光加热腔体系统S，可将样品加热温度达到1000℃以上，并使第二腔体的填充气体压力达到30atm。
本发明的有益效果
综上所述，本发明的有益效果在于：本发明实施例所提供的激光加热腔体系统S可通过“第二腔体，设置于所述第一腔体内且不连通于所述第一腔体”以及“所述激光加热组件所提供的至少一激光光束通过所述第一窗口以及所述第二窗口而聚焦于所述样品承载台”的结构设计，而提供适合催化反应的高温高压的反应腔室。详细而言，本发明的第二腔体设置第一腔体内，提供了适于催化反应的反应腔室，真空状态的第一腔体更降低了催化反应的安全疑虑。
此外，本发明使用的“激光加热组件”取代现有的钨丝加热设备，利用激光可聚焦的特性，将激光聚焦于样品表面，以此有效提升样品温度，使得样品的加热温度能达到1000℃以上。本发明的激光加热腔体系统完全独立于反应腔室之外，取代了钨丝加热设备的缺陷，使用寿命以及耗损的问题也不复存在；再者，更改善了原先使用钨丝加热设备需要额外设置绝缘材料的缺陷，反应腔体的压力可获得进一步的提升，可使反应腔体的填充气体压力达到近30atm。
以上所公开的内容仅为本发明的优选可行实施例，并不限制本发明的权利要求书的保护范围，所以凡是运用本发明说明书及附图内容所做的等效技术变化，均包含于本发明的权利要求书的保护范围内。

Claims (9)

1.一种激光加热腔体系统，其特征在于，所述激光加热腔体系统包括：
第一腔体，所述第一腔体具有彼此相对的第一顶部端和第一底部端、以及介于所述第一顶部端与所述第一底部端之间并且彼此相对的第一侧部端和第二侧部端；其中，所述第一腔体具有第一窗口，所述第一底部端具有开口；
第二腔体，所述第二腔体设置于所述第一腔体内且不连通于所述第一腔体，所述第二腔体具有彼此相对的第二顶部端以及第二底部端；所述第二腔体具有第二窗口及样品承载台，所述样品承载台设置于所述第二底部端上以用于承载样品；
激光加热组件，所述激光加热组件设置于所述第一腔体外，所述激光加热组件所提供的至少一激光光束通过所述第一窗口以及所述第二窗口而聚焦于所述样品承载台；以及
移动平台组件，所述移动平台组件包括平台以及与所述平台相连接的移动机构，所述平台设置于所述第二底部端下方以用于承载所述第二腔体，所述移动机构设置于所述第一底部端的所述开口中以用于升降所述平台；
其中，所述第一腔体是真空腔体，且所述第二腔体的压力介于10-6atm至30atm之间；
其中，所述激光加热腔体系统进一步包括样品传输组件，所述样品传输组件具有输入端和输出端，所述输入端连接于所述第一腔体的所述第一侧部端，所述输出端连接于所述第一腔体的所述第二侧部端；其中，所述输入端具有传输轨道以及传输臂，所述传输臂设置于所述传输轨道上用以移动所述样品至所述输出端。
2.根据权利要求1所述的激光加热腔体系统，其特征在于，所述激光加热腔体系统进一步包括调压阀，所述调压阀连接于所述第一腔体，以控制所述第一腔体的内部压力。
3.根据权利要求1所述的激光加热腔体系统，其特征在于，所述激光加热腔体系统进一步包括冷却管路，所述冷却管路设置于所述移动平台组件并连通所述第二腔体，用于对所述样品进行冷却。
4.根据权利要求1所述的激光加热腔体系统，其特征在于，所述第一腔体包括第一进气管路以及第一出气管路，且所述第二腔体包括第二进气管路以及第二出气管路。
5.根据权利要求1所述的激光加热腔体系统，所述第一窗口设置于所述第一顶部端，且所述第二窗口设置于所述第二顶部端。
6.根据权利要求1所述的激光加热腔体系统，其特征在于，所述激光加热组件包括：
至少两个垂直腔面发射激光器，以用于垂直发射出激光光束；
激光调整机构，所述激光调整机构连接于所述垂直腔面发射激光器，以调整所述激光光束的发射角度。
7.根据权利要求6所述的激光加热腔体系统，其特征在于，所述激光调整机构包括两个相对的固定端，所述两个相对的固定端分别用于固定所述垂直腔面发射激光器，以使所述激光光束彼此非平行。
8.根据权利要求7所述的激光加热腔体系统，其特征在于，所述激光加热组件包括六个垂直腔面发射激光器，所述六个垂直腔面发射激光器分别设置于所述激光调整机构的所述两个相对的固定端并呈弧形排列。
9.根据权利要求1所述的激光加热腔体系统，其特征在于，所述第一腔体的材料是铁合金，且含有占总重量百分比自10wt％至30wt％的铬。
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Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11297784A (ja) * 1998-04-13 1999-10-29 Matsushita Electron Corp 基板検査方法及びその基板検査装置
CN201735397U (zh) * 2010-08-04 2011-02-09 重庆大学 一种激光热解系统
CN102169810A (zh) * 2010-12-27 2011-08-31 清华大学 一种使用真空腔的激光处理装置和处理方法
CN102581109A (zh) * 2012-03-26 2012-07-18 江苏大学 一种生物非光滑表面的制备方法和装置
CN102713557A (zh) * 2009-11-03 2012-10-03 7685297加拿大有限公司 用于制备用于化学分析的样品的系统和方法
CN203324283U (zh) * 2013-05-22 2013-12-04 津市市石油化工仪器有限公司 自动苯胺点测定仪
CN204155900U (zh) * 2014-09-23 2015-02-11 中国科学技术大学 一种用于原位探测激光加热反应器产物的光电离质谱装置
CN204758472U (zh) * 2014-11-10 2015-11-11 哈尔滨工业大学 一种高熔点材料颗粒相变过程高温光谱辐射特性测量系统
CN105692571A (zh) * 2014-11-28 2016-06-22 鞍钢股份有限公司 一种激光照射制备氮化镁的装置及方法
CN206274509U (zh) * 2016-09-14 2017-06-23 铠柏科技有限公司 大面积激光加热系统
CN107983955A (zh) * 2016-10-17 2018-05-04 中国航空工业集团公司北京航空制造工程研究所 一种用于激光选区熔化成形的预热保温装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5831543B2 (ja) * 1979-03-19 1983-07-06 京都大学長 液体の熱伝導率測定装置
US5174826A (en) * 1991-12-06 1992-12-29 General Electric Company Laser-assisted chemical vapor deposition
US7651583B2 (en) * 2004-06-04 2010-01-26 Tokyo Electron Limited Processing system and method for treating a substrate
US7422636B2 (en) * 2005-03-25 2008-09-09 Tokyo Electron Limited Plasma enhanced atomic layer deposition system having reduced contamination
CN202921295U (zh) * 2012-07-27 2013-05-08 深圳大学 光子晶体光纤及应用它的表面等离子体光催化反应装置
US9696132B2 (en) * 2013-03-15 2017-07-04 Praevium Research, Inc. Tunable laser array system
TWI694494B (zh) * 2014-07-08 2020-05-21 美商應用材料股份有限公司 處理基板之方法及設備
US20180135181A1 (en) * 2016-11-16 2018-05-17 Adnanotek Corp. Large-area laser heating system
US20180142355A1 (en) * 2016-11-18 2018-05-24 Adnanotek Corp. System integrating atomic layer deposition and reactive ion etching
CN108261985A (zh) * 2018-01-17 2018-07-10 天津中环电炉股份有限公司 一种卧式高温光热催化反应设备
CN110018221A (zh) * 2019-03-02 2019-07-16 金华职业技术学院 一种化学修饰的金属团簇的测试装置

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11297784A (ja) * 1998-04-13 1999-10-29 Matsushita Electron Corp 基板検査方法及びその基板検査装置
CN102713557A (zh) * 2009-11-03 2012-10-03 7685297加拿大有限公司 用于制备用于化学分析的样品的系统和方法
CN201735397U (zh) * 2010-08-04 2011-02-09 重庆大学 一种激光热解系统
CN102169810A (zh) * 2010-12-27 2011-08-31 清华大学 一种使用真空腔的激光处理装置和处理方法
CN102581109A (zh) * 2012-03-26 2012-07-18 江苏大学 一种生物非光滑表面的制备方法和装置
CN203324283U (zh) * 2013-05-22 2013-12-04 津市市石油化工仪器有限公司 自动苯胺点测定仪
CN204155900U (zh) * 2014-09-23 2015-02-11 中国科学技术大学 一种用于原位探测激光加热反应器产物的光电离质谱装置
CN204758472U (zh) * 2014-11-10 2015-11-11 哈尔滨工业大学 一种高熔点材料颗粒相变过程高温光谱辐射特性测量系统
CN105692571A (zh) * 2014-11-28 2016-06-22 鞍钢股份有限公司 一种激光照射制备氮化镁的装置及方法
CN206274509U (zh) * 2016-09-14 2017-06-23 铠柏科技有限公司 大面积激光加热系统
CN107983955A (zh) * 2016-10-17 2018-05-04 中国航空工业集团公司北京航空制造工程研究所 一种用于激光选区熔化成形的预热保温装置

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