CN110835742A - 水晶探头遮罩装置 - Google Patents

水晶探头遮罩装置 Download PDF

Info

Publication number
CN110835742A
CN110835742A CN201911044879.9A CN201911044879A CN110835742A CN 110835742 A CN110835742 A CN 110835742A CN 201911044879 A CN201911044879 A CN 201911044879A CN 110835742 A CN110835742 A CN 110835742A
Authority
CN
China
Prior art keywords
crystal
filter screen
opening
crystal oscillator
crystal probe
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201911044879.9A
Other languages
English (en)
Inventor
阮丽霞
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd filed Critical Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Priority to CN201911044879.9A priority Critical patent/CN110835742A/zh
Publication of CN110835742A publication Critical patent/CN110835742A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54Controlling or regulating the coating process
    • C23C14/542Controlling the film thickness or evaporation rate
    • C23C14/545Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material
    • C23C14/546Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material using crystal oscillators
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)

Abstract

本发明公开了一种水晶探头遮罩装置。本发明通过在水晶探头遮罩装置的遮罩开口处设置过滤网,且由马达通过切换杆控制过滤网的切换或旋转,以减少直接沉积在晶振片表面的材料,从而提高晶振片的使用寿命。

Description

水晶探头遮罩装置
技术领域
本发明属于显示技术领域,尤其涉及一种水晶探头遮罩装置。
背景技术
OLED器件制作的主要方式是加热蒸发镀膜,在蒸镀过程中,采用晶振片进行蒸镀速率及膜厚监测。蒸镀的材料通过膜厚检测装置的开口区沉积到晶振片上,利用晶振片固有频率及膜厚的线性关系来显示实时镀率及膜厚。随着膜厚的增加,晶振片基频下降,若下降太多可能导致晶振片发生跳频现象,造成监测的膜厚不准确。因此在晶振片上沉积一定的厚度后,需要及时更换晶振片。而更换晶振片时需停机开腔处理,影响产能。
另外,蒸镀水晶探头晶振片保持架的遮罩上设有开口,且开口直径大于晶振片直径,于是,蒸镀的材料可通过开口直接沉积到晶振片上。
因此,如何提高晶振片的使用寿命,是显示技术中的一项重要课题。
发明内容
本发明实施例提供一种水晶探头遮罩装置,通过在水晶探头遮罩装置的遮罩开口处设置过滤网,且由马达通过切换杆控制过滤网的切换或旋转,以减少直接沉积在晶振片表面的材料,从而提高晶振片的使用寿命。
本发明提供一种水晶探头遮罩装置,其包括:一遮罩,所述遮罩设有一开口;一晶振片保持架,设于所述遮罩的腔体内,所述晶振片保持架包括一晶振片;一过滤结构,设于所述开口的上方,所述过滤结构包括一过滤网和至少一切换杆;以及一马达,与所述至少一切换杆电性连接,所述马达用于通过所述切换杆控制所述过滤网的更换。
进一步地,所述马达还与所述晶振片保持架电性连接,控制所述晶振片的更换。
进一步地,所述至少一切换杆用于固接所述过滤网。
进一步地,所述至少一切换杆为滚动杆,所述过滤网覆盖于所述开口。
进一步地,所述至少一切换杆为旋转杆,所述过滤网与所述开口平行,所述过滤网的面积大于所述开口的面积。
进一步地,所述开口的直径范围为2至3毫米。
进一步地,所述开口的中心与所述晶振片的中心为同轴设置。
进一步地,所述过滤网上设有多个开孔,且所述多个开孔为规则排列。
进一步地,所述多个开孔的形状包括圆形及方形。
进一步地,所述过滤网的材料包括不锈钢。
本发明实施例提供一种水晶探头遮罩装置,通过在水晶探头遮罩装置的遮罩开口处设置过滤网,且由马达通过切换杆控制过滤网的切换或旋转,以减少直接沉积在晶振片表面的材料,从而提高晶振片的使用寿命。
附图说明
下面结合附图,通过对本发明的具体实施方式详细描述,将使本发明的技术方案及其有益效果显而易见。
图1是本发明一实施例提供的一种水晶探头遮罩装置的侧视图。
图2是图1所示的所述水晶探头遮罩装置的正视图。
图3是图1所示的所述水晶探头遮罩装置的过滤网的结构示意图。
图4是图1所示的所述水晶探头遮罩装置的马达的连接结构示意图。
图5是本发明另一实施例提供的一种水晶探头遮罩装置的侧视图。
图6是图5所示的所述水晶探头遮罩装置的正视图。
图7是图5所示的所述水晶探头遮罩装置的马达的连接结构示意图。
图8是本发明又一实施例提供的一种水晶探头遮罩装置的侧视图。
图9是图8所示的所述水晶探头遮罩装置的正视图。
图10是图8所示的所述水晶探头遮罩装置的马达的连接结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
本发明的说明书和权利要求书以及上述附图中的术语“第一”、“第二”、“第三”等(如果存在)是用于区别类似的对象,而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应当理解,这样描述的对象在适当情况下可以互换。此外,术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形,意图在于覆盖不排他的包含。
在具体实施方式中,下文论述的附图以及用来描述本发明公开的原理的各实施例仅用于说明,而不应解释为限制本发明公开的范围。所属领域的技术人员将理解,本发明的原理可在任何适当布置的系统中实施。将详细说明示例性实施方式,在附图中示出了这些实施方式的实例。此外,将参考附图详细描述根据示例性实施例的终端。附图中的相同附图标号指代相同的元件。
本具体实施方式中使用的术语仅用来描述特定实施方式,而并不意图显示本发明的概念。除非上下文中有明确不同的意义,否则,以单数形式使用的表达涵盖复数形式的表达。在本发明说明书中,应理解,诸如“包括”、“具有”以及“含有”等术语意图说明存在本发明说明书中揭示的特征、数字、步骤、动作或其组合的可能性,而并不意图排除可存在或可添加一个或多个其他特征、数字、步骤、动作或其组合的可能性。附图中的相同参考标号指代相同部分。
参阅图1,本发明一实施例提供的一种水晶探头遮罩装置的侧视图。水晶探头遮罩装置包括遮罩11、开口111、晶振片保持架12、晶振片121以及过滤网131。
参阅图2,本发明所述实施例提供所述水晶探头遮罩装置的正视图,其包括遮罩11、开口111、过滤结构13、过滤网131以及切换杆132。
遮罩11设有一开口111。所述开口111用于在蒸镀过程中通过蒸镀的材料。
晶振片保持架12设于遮罩的腔体内。晶振片保持架12包括一晶振片121,蒸镀材料沉积在晶振片121上,晶振片121通过沉积蒸镀材料的质量变化与晶振片121频率变化关系,从而测出蒸镀到晶振片121上的膜厚,再通过基板上沉积的膜厚与晶振片121上沉积的膜厚之间的比例关系,计算出实际膜厚。晶振片121的中心与开口111的中心为同轴设置。
遮挡结构13设于开口111的上方。遮挡结构13包括过滤网131和切换杆132。切换杆132用于固设过滤网131。遮挡结构13用于减少直接沉积到晶振片121上的蒸镀材料,以提高晶振片121的使用寿命,从而提高生产效率。
在本发明实施例中,切换杆132为两根滚动杆,分别设于过滤网131的两侧,且过滤网131覆盖于开口111。过滤网131的材料包括不锈钢等耐热、不易变形的材料。
如图3所示,所述过滤网131上设有多个开孔,且所述多个开孔为规则排列,便于蒸镀材料的均匀通过。其中,开孔的直径为0.5毫米至1毫米,开孔的形状包括圆形及方形,但不限于此。
如图4所示,马达14分别与切换杆132和晶振片121电性连接。马达14既能控制晶振片121的更换,亦能通过切换杆132控制过滤网131的更换,从而提高生产效率。具体的,当过滤网131达到饱和后,通过马达14控制切换杆132实现饱和过滤网和清洁过滤网的更换,以减少堵孔状况。
参阅图5,本发明另一实施例提供的一种水晶探头遮罩装置的侧视图。水晶探头遮罩装置包括遮罩11、开口111、晶振片保持架12、晶振片121、遮挡结构13、过滤网131以及切换杆132。
参阅图6,本发明另一实施例提供所述水晶探头遮罩装置的正视图,其包括遮罩11以及过滤网131。
遮罩11设有一开口111。所述开口111用于在蒸镀过程中通过蒸镀的材料。
晶振片保持架12设于遮罩11的腔体内。晶振片保持架12包括一晶振片121,蒸镀材料沉积在晶振片121上,晶振片121通过沉积蒸镀材料的质量变化与晶振片121频率变化关系,从而测出蒸镀到晶振片121上的膜厚,再通过基板上沉积的膜厚与晶振片121上沉积的膜厚之间的比例关系,计算出实际膜厚。晶振片121的中心与开口111的中心为同轴设置。
遮挡结构13设于开口111的上方。遮挡结构13包括过滤网131和切换杆132。切换杆132用于固设过滤网131。遮挡结构13用于减少直接沉积到晶振片121上的蒸镀材料,以提高晶振片121的使用寿命,从而提高生产效率。
在本发明另一实施例中,切换杆132为转动杆。过滤网131与开口111平行,且过滤网131的面积大于开口111的面积。过滤网131的材料包括不锈钢等耐热、不易变形的材料。
所述过滤网131上设有多个开孔,且所述多个开孔为规则排列,便于蒸镀材料的均匀通过。其中,开孔的直径为0.5毫米至1毫米,开孔的形状包括圆形及方形。
如图7所示,马达14分别与切换杆132和晶振片121电性连接。马达14既能控制晶振片121的更换,亦能通过切换杆132控制过滤网131的更换,提高生产效率。具体的,当过滤网131达到饱和后,通过马达14控制切换杆132实现饱和过滤网和清洁过滤网的更换,以减少堵孔状况。
参阅图8,本发明又一实施例提供一种水晶探头遮罩装置的侧视图。所述水晶探头遮罩装置包括遮罩11、开口111、晶振片保持架12以及晶振片121。
参阅图9,本发明又一实施例提供所述水晶探头遮罩装置的正视图,其包括遮罩11以及开口111。
遮罩11设有一开口111。所述开口111用于在蒸镀过程中通过蒸镀的材料。开口111的直径范围为2至3毫米。
晶振片保持架12设于遮罩的腔体内。晶振片保持架12包括一晶振片121,蒸镀材料沉积在晶振片121上,晶振片121通过沉积蒸镀材料的质量变化与晶振片121频率变化关系,从而测出蒸镀到晶振片121上的膜厚,再通过基板上沉积的膜厚与晶振片121上沉积的膜厚之间的比例关系,计算出实际膜厚。晶振片121的中心与开口111的中心为同轴设置。
如图10所示,马达14与晶振片121电性连接。马达14能控制晶振片121的更换。
本发明实通过在水晶探头遮罩装置的遮罩开口处设置过滤网,且由马达通过切换杆控制过滤网的切换或旋转,以减少直接沉积在晶振片表面的材料,从而提高晶振片的使用寿命。
以上对本发明多个实施例所提供的一种水晶探头遮罩装置进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想;同时,对于本领域的技术人员,依据本发明的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,综上所述,本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (10)

1.一种水晶探头遮罩装置,其特征在于,包括:
一遮罩,所述遮罩设有一开口;
一晶振片保持架,设于所述遮罩的腔体内,所述晶振片保持架包括一晶振片;
一过滤结构,设于所述开口的上方,所述过滤结构包括一过滤网和至少一切换杆;以及
一马达,与所述至少一切换杆电性连接,所述马达用于通过所述切换杆控制所述过滤网的更换。
2.根据权利要求1所述的水晶探头遮罩装置,其特征在于,所述马达还与所述晶振片保持架电性连接,控制所述晶振片的更换。
3.根据权利要求1所述的水晶探头遮罩装置,其特征在于,所述至少一切换杆用于固接所述过滤网。
4.根据权利要求3所述的水晶探头遮罩装置,其特征在于,所述至少一切换杆为滚动杆,所述过滤网覆盖于所述开口。
5.根据权利要求1所述的水晶探头遮罩装置,其特征在于,所述至少一切换杆为旋转杆,所述过滤网与所述开口平行,所述过滤网的面积大于所述开口的面积。
6.根据权利要求1所述的水晶探头遮罩装置,其特征在于,所述开口的直径范围为2至3毫米。
7.根据权利要求1所述的水晶探头遮罩装置,其特征在于,所述开口的中心与所述晶振片的中心为同轴设置。
8.根据权利要求1所述的水晶探头遮罩装置,其特征在于,所述过滤网上设有多个开孔,且所述多个开孔为规则排列。
9.根据权利要求8所述的水晶探头遮罩装置,其特征在于,所述多个开孔的形状包括圆形及方形。
10.根据权利要求1所述的水晶探头遮罩装置,其特征在于,所述过滤网的材料包括不锈钢。
CN201911044879.9A 2019-10-30 2019-10-30 水晶探头遮罩装置 Pending CN110835742A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201911044879.9A CN110835742A (zh) 2019-10-30 2019-10-30 水晶探头遮罩装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201911044879.9A CN110835742A (zh) 2019-10-30 2019-10-30 水晶探头遮罩装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN110835742A true CN110835742A (zh) 2020-02-25

Family

ID=69575955

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201911044879.9A Pending CN110835742A (zh) 2019-10-30 2019-10-30 水晶探头遮罩装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN110835742A (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111270216A (zh) * 2020-03-30 2020-06-12 江苏集萃有机光电技术研究所有限公司 一种晶振片更换模块及更换方法
CN112576788A (zh) * 2020-11-19 2021-03-30 宁波索诺工业自控设备有限公司 多针阀岛
CN116536640A (zh) * 2023-05-18 2023-08-04 江苏宜兴德融科技有限公司 一种晶振膜厚监控装置和镀膜设备

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105603379A (zh) * 2016-01-05 2016-05-25 京东方科技集团股份有限公司 一种检测真空蒸镀膜厚的检测装置和真空蒸镀装置
CN206772938U (zh) * 2017-05-15 2017-12-19 成都西沃克真空科技有限公司 一种用于检测蒸发器蒸发量的晶振探头
CN107779822A (zh) * 2017-10-30 2018-03-09 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 蒸镀装置与蒸镀方法
CN108823545A (zh) * 2018-09-07 2018-11-16 京东方科技集团股份有限公司 晶振探头结构和蒸镀装置
CN109136856A (zh) * 2018-10-22 2019-01-04 京东方科技集团股份有限公司 膜厚监测装置、成膜设备
CN109440078A (zh) * 2019-01-02 2019-03-08 京东方科技集团股份有限公司 薄膜监测装置和薄膜监测方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105603379A (zh) * 2016-01-05 2016-05-25 京东方科技集团股份有限公司 一种检测真空蒸镀膜厚的检测装置和真空蒸镀装置
CN206772938U (zh) * 2017-05-15 2017-12-19 成都西沃克真空科技有限公司 一种用于检测蒸发器蒸发量的晶振探头
CN107779822A (zh) * 2017-10-30 2018-03-09 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 蒸镀装置与蒸镀方法
CN108823545A (zh) * 2018-09-07 2018-11-16 京东方科技集团股份有限公司 晶振探头结构和蒸镀装置
CN109136856A (zh) * 2018-10-22 2019-01-04 京东方科技集团股份有限公司 膜厚监测装置、成膜设备
CN109440078A (zh) * 2019-01-02 2019-03-08 京东方科技集团股份有限公司 薄膜监测装置和薄膜监测方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111270216A (zh) * 2020-03-30 2020-06-12 江苏集萃有机光电技术研究所有限公司 一种晶振片更换模块及更换方法
CN112576788A (zh) * 2020-11-19 2021-03-30 宁波索诺工业自控设备有限公司 多针阀岛
CN112576788B (zh) * 2020-11-19 2022-08-05 宁波索诺工业自控设备有限公司 多针阀岛
CN116536640A (zh) * 2023-05-18 2023-08-04 江苏宜兴德融科技有限公司 一种晶振膜厚监控装置和镀膜设备
CN116536640B (zh) * 2023-05-18 2024-01-23 江苏宜兴德融科技有限公司 一种晶振膜厚监控装置和镀膜设备

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN110835742A (zh) 水晶探头遮罩装置
CN105091804B (zh) 石英振荡式膜厚计
CN106555161B (zh) 靶材组件及其制造方法
CN106926598B (zh) 太阳能电池片栅线电极的丝网印刷方法
CN102906302A (zh) 溅射成膜装置
DE2626420A1 (de) Verfahren zum gleichzeitigen aetzen von mehreren durchgehenden loechern
Xinchao et al. Compressed air-film encircling jet electrodeposition with high deposition accuracy
DE3630737C1 (de) Kathodenzerstaeubungseinrichtung mit einer Vorrichtung zur Messung eines kritischen Target-Abtrages
CN204676145U (zh) 一种磁控溅射靶屏蔽装置
CN208250445U (zh) 一种高效的电路板电镀装置
CN106583958B (zh) 一种掩膜版的焊接方法
CN206706198U (zh) 磁控溅射装置和磁控溅射设备
CN203142008U (zh) 一种触摸屏丝印网版结构
CN208545485U (zh) 一种提高矩形平面磁控溅射阴极靶磁场均匀性装置
CN109440078A (zh) 薄膜监测装置和薄膜监测方法
CN105259438A (zh) 矿热炉炉况数字化管理系统
CN206272581U (zh) 一种smd石英晶体谐振器基座
CN207745711U (zh) 一种带有过滤、催化功能的分离部件
JPH10121235A (ja) 複合スパッタリングカソード、そのカソードを用いたスパッタリング装置
CN204503549U (zh) 一种具有辅助安全筛结构的振动筛粉机
DE2149606C3 (de) Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten durch Hochfrequenz-Kathodenzerstäubung
CN106775151A (zh) 电容触摸屏玻璃传感器中替换钼铝钼金属膜层的加工工艺
CN211848126U (zh) 一种成膜厚度与成膜速率的监测装置
CN210327522U (zh) 一种平顶型石英晶振片
CN219930221U (zh) 一种可调辅助阳极的电弧装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20200225

RJ01 Rejection of invention patent application after publication