CN110824857A

CN110824857A - 曝光晶圆的微影系统与方法

Info

Publication number: CN110824857A
Application number: CN201910746867.4A
Authority: CN
Inventors: 廖啟宏; 吴旻政
Original assignee: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Current assignee: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Priority date: 2018-08-14
Filing date: 2019-08-14
Publication date: 2020-02-21
Anticipated expiration: 2039-08-14
Also published as: US20200409268A1; TW202009610A; CN110824857B; TWI698721B; US10775700B2; US20200057372A1; US11016390B2

Abstract

提供了一种曝光晶圆的微影系统与方法。微影方法包括如下步骤。生成EUV光。使用收集器将EUV光聚集到第一光学反射器上。第一光学反射器用于将EUV光反射到光罩，从而赋予EUV光一图案。第二光学反射器用于将具有该图案的EUV光反射到晶圆上。旋转第一光学反射器。

Description

曝光晶圆的微影系统与方法

技术领域

本揭示是关于一种微影系统与方法。

背景技术

已经通过增加在半导体元件中形成的IC的密度来驱动集成电路(IC)的制造。此是通过实施更积极的设计规则以允许形成更大密度的IC元件而实现的。尽管如此，诸如晶体管之类的IC元件的密度增加亦增加了处理具有减小的特征大小的半导体元件的复杂性。

发明内容

本揭示的各种实施例，提供了一种方法，包括如下步骤。产生EUV光。使用收集器将EUV光聚集到第一光学反射器上。第一光学反射器用于将EUV光反射到光罩，从而赋予EUV光一图案。第二光学反射器用于将具有该图案的EUV光反射到晶圆上。旋转第一光学反射器。

根据本揭示的各种实施例，提供了一种方法，包括如下步骤。在腔室中产生EUV光。使用收集器将EUV光聚集到第一光学反射器的第一区域上。第一光学反射器的第一区域用于将EUV光反射到光罩以赋予EUV光一图案。第二光学反射器用于将具有该图案的EUV光反射到腔室内的晶圆上。第一光学反射器转动，使得EUV光被第一光学反射器的第二区域反射，其中当EUV光被第一光学反射器的第二区域反射时，第一光学反射器的第一区域不会被EUV光照射。

根据本揭示的各种实施例，微影系统包括收集器、激光产生器、液滴产生器，以及可旋转的光学反射器。收集器具有镜面和光轴。激光产生器指向光轴上的一位置并且在镜面的前方。液滴产生器指向位置。可旋转的光学反射器与收集器的光轴重叠。

附图说明

当结合附图阅读时，从以下详细描述可以最好地理解本揭露的各方面。应注意，根据行业中的标准实践，各种特征未按比例绘制。实际上，为了论述的清楚性，可以任意地增大或缩小各种特征的尺寸。

图1图示了根据本揭示的一些实施例的微影系统；

图2图示了图1的光学反射器的侧视图；

图3图示了图1的光学反射器的正视图；

图4是根据本揭示的一些实施例的方法的流程图；

图5至图9图示了根据本揭示的一些实施例的图1的微影系统，使用微影系统在各个阶段实施图4的方法；

图10是根据本揭示的一些实施例的方法的流程图；

图11至图13图示了根据本揭示的一些实施例的图1的微影系统，使用微影系统在各个阶段实施图10的方法；

图14是根据本揭示的一些实施例的方法的流程图；

图15至图17图示了根据本揭示的一些实施例的图1的微影系统，使用微影系统在各个阶段实施图14的方法。

【符号说明】

100 微影系统

102 腔室

104 步进器

110 收集器

112 凹镜面/镜面

113 开口

114 焦点

116 对称轴

118 中心

120 激光产生器

121 光学路径

122 靶标

130 液滴产生器

131 液滴路径

132 液滴捕集器

140 入口端口

142 出口端口

152 光学反射器

152B 后表面

152C 中心

152E 环形边缘

152Z 非中心区域

153 对称轴

154 光学反射器

156 光学反射器

158 光学反射器

160 光学反射器

162 光学反射器

164 光学反射器

166 光学反射器

168 光学反射器

170 光罩

180 保持器

180B 后表面

180F 前表面

182 轴

183 对称轴

184 马达

186 滚轮

190A 控制器

190B 控制器

190C 控制器

190D 控制器

190E 控制器

190F 控制器

190G 控制器

190H 控制器

190I 控制器

192 控制器

200 方法

300 晶圆

302 光阻剂层

310 激光束

312 液滴

312T 液滴

314 高温电浆

316 EUV光

320A 320B 320C 320D 气流

400 方法

500 方法

R1 第一区域

R2 第二区域

S210 动作

S220 动作

S230 动作

S240 动作

S250 动作

S410 动作

S420 动作

S430 动作

S440 动作

S450 动作

S460 动作

S510 动作

S520 动作

S530 动作

S540 动作

S550 动作

S560 动作

具体实施方式

以下揭露内容提供了用于实施所提供标的的不同特征的许多不同实施例或实例。以下描述了部件和布置的特定实例以简化本揭露内容。当然，该等仅仅是实例，而并且旨在为限制性的。例如，在以下描述中在第二特征上方或之上形成第一特征可以包括第一特征和第二特征形成为直接接触的实施例，并且亦可以包括可以在第一特征与第二特征之间形成额外特征，使得第一特征和第二特征可以不直接接触的实施例。另外，本揭露可以在各种实例中重复参考数字及/或字母。该重复是为了简单和清楚的目的，并且本身并不表示所论述的各种实施例及/或配置之间的关系。

此外，在此可以使用空间相对术语，诸如“下方”、“以下”、“下部”、“上方”、“上部”等来简化描述，以描述如图中所示的一个元件或特征与另一元件或特征的关系。除了图中所示的取向之外，空间相对术语旨在包括使用或操作中的装置/元件的不同取向。设备可以以其他方式取向(旋转90度或在其他方向上)，并且可以类似地相应解释在此使用的空间相对描述词。

本揭示中描述的先进微影制程、方法和材料可用于许多应用(包括鳍式场效应晶体管(FinFET))中。例如，可以图案化鳍片以在特征之间产生相对紧密的间隔，为此，上述揭示内容是非常适合的。另外，可以根据上述揭示内容处理用于形成FinFET的鳍片的间隔件。

图1图示了根据本揭示的一些实施例的微影系统100。微影系统100包括腔室102，收集器110，激光产生器120，液滴产生器130，液滴捕集器132，入口端口140，出口端口142，光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168，光罩170，多个保持器180，多个轴182，以及控制器190、192。微影系统100是远紫外(EUV)曝光工具，可以执行曝光操作以使涂覆在腔室102内的晶圆300上的光阻剂层302曝光。例如，微影系统100可以包括设置在腔室102内的步进器104，并且上面涂覆有光阻剂层302的晶圆300安装在步进器104上。步进器104可在腔室102中移动，并且被配置为使晶圆300移位，使得晶圆300可以移位到适当的曝光位置。

收集器110设置在腔室102内。在一些实施例中，将收集器110安装到作为微影系统100的一部分的支撑件(图1中未图示)。收集器110具有凹镜面112。收集器110的凹镜面112可具有焦点114和对称轴116该对称轴116可作为收集器110的光轴。更详细地，收集器110的对称轴116连接镜面112的中心118与焦点114。

在一些实施例中，收集器110的镜面112亦可以是具有任何合适结构和组成的多层反射器。镜面112可包括由高折射率材料和低折射率材料的交替层形成的分布式布拉格反射器。例如，交替层可以是Mo和Si或Mo和Be。在一些实施例中，镜面112包括多于20对的交替层。在一些实施例中，镜面112获得大于60％的反射率。在一些实施例中，可以通过封盖层(诸如Ru层)保护镜面112的最上层免受氧化。在一些实施例中，镜面112具有开口113，该开口113穿过镜面112的中心118，并且该开口113可被提供以允许从收集器110的背侧传播的光束穿过。

激光产生器120设置在腔室102内和收集器110的背侧，因此收集器110的镜面112背对着激光产生器120。激光产生器120可经定向以使得从激光产生器120发射的激光束可以沿着镜面112的对称轴116行进。换言之，激光产生器120经定向以使得激光产生器120的光学路径121与镜面112的对称轴116相同。激光产生器120被配置为生成激光束，该激光束指向收集器110的镜面112前面的靶标122。在一些实施例中，靶标122可以位于镜面112的中心118与焦点114之间。激光产生器120可以经由收集器110的开口113发射从收集器110的背侧到前侧的激光束。在一些实施例中，激光产生器120包括激光源，诸如脉冲二氧化碳(CO₂)激光源。

液滴产生器130和液滴捕集器132设置在腔室102内和收集器110的两个相对侧(例如，收集器110的左侧和右侧)上。液滴产生器130指向靶标122，从而沿着液滴路径131将液滴射向靶标122。液滴产生器130经定向以使得液滴路径131在靶标122处与镜面112的对称轴116相交。因为激光产生器120的光学路径121与镜面112的对称轴116相同，所以液滴路径131亦与激光产生器120的光学路径121相交。液滴捕集器132被配置为捕集来自液滴产生器130的液滴。在一些实施例中，从液滴产生器130射出的示例性材料可包括锡或可用于产生EUV的其他合适材料。在一些实施例中，由激光产生器120提供的激光束的脉冲和液滴产生器130的液滴产生速率被控制为同步的，以使得液滴从激光束的激光脉冲一致地接收峰值功率。在一些实施例中，激光产生器120和液滴产生器130可以经共同操作以产生EUV光，因此激光产生器120与液滴产生器130的组合可以用作EUV光源。

入口端口140和出口端口142穿过腔室102的侧壁并且联接到腔室102的内部。在一些实施例中，入口端口140和出口端口142被配置为在微影系统100的操作期间提供穿过腔室102的气流，以便保护收集器110免受污染物(例如锡粒子(例如，锡碎片))影响。

光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168位于腔室102内。光学反射器152、154、156光学耦合在收集器110与光罩170之间，并且光学反射器158、160、162、164、166和168光学耦合在光罩170与晶圆300上的光阻剂层302之间。光学反射器152光学耦合到收集器110，因此收集器110的镜面112可以将光束反射到光学反射器152。之后，该光束可以经由由光学反射器154、156反射而从光学反射器152反射到光罩170。光学反射器158光学耦合到光罩170，因此光束可以从光罩170反射到光学反射器158。此后，光束可以经由光学反射器160、162、164、166和168反射而从光学反射器158反射到光阻剂层302。

在一些实施例中，光学反射器152、154、156，158、160、162、164、166、168是分别具有反射表面的镜子。在一些实施例中，光学反射器152、154、156、158可以是作为分布式布拉格反射器操作的多层结构。可以针对入射光束的波长和角度，来最佳化光学反射器152、154、156、158中的每一者的各层的厚度。在一些实施例中，第一组光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168包括至少一个凹面镜，并且第二组光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168包括至少一个凸面镜。

在一些实施例中，从收集器110传播到光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168的光束是相对于光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168的轴外光束。例如，光学反射器152具有中心152C、环形边缘152E，以及在中心152C与环形边缘152E之间的非中心区域152Z，并且收集器110和光学反射器152经定向为使得从收集器110反射的光束可入射到光学反射器152的非中心区域152Z上。以此方式，光束从中心152C偏移，因此被称为相对于光学反射器152的轴外光束。在一些实施例中，收集器110的对称轴116与非中心区域152Z相交，而不与光学反射器152的中心152C相交，此继而将有助于将光束引导到非中心区域152Z。

在一些实施例中，光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168分别安装到腔室102内的保持器180，并且保持器180安装到腔室102内的相应轴182。在一些实施例中，保持器180可旋转地安装到相应的轴182，并且此种可旋转安装可以是连接保持器180并允许光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168旋转(亦即，转动)而不将光学反射器从其安装处拆下的任何安装系统。

例如，如图2所示，图2图示了图1的光学反射器152的侧视图，微影系统100还包含马达184，该马达184耦合到轴182并且被配置为驱动该轴182旋转。在一些实施例中，马达184包括微机电系统(MEMS)马达、压电(PZT)马达、DC(直流)马达，或其组合。在一些实施例中，光学反射器152稳定地安装到保持器180，并且保持器180稳定地安装到轴182。如此，光学反射器152机械地连接到马达184。以此方式，光学反射器152可以旋转。例如，当轴182由马达184驱动而旋转时，保持器180和光学反射器152由此旋转。在一些实施例中，光学反射器152具有对称轴153，该对称轴153与轴182的对称轴183对齐。以此方式，当轴182由马达184驱动而绕对称轴183旋转时，保持器180和其上的光学反射器152可以绕对称轴153旋转。

保持器180具有前表面180F和后表面180B，该前表面180F面向光学反射器152，该后表面180B背对光学反射器152。在一些实施例中，保持器180的前表面180F是凹的，并且与面向保持器180的光学反射器152的后表面152B共形。在图2中的示例配置中，保持器180的后表面180B是基本上平坦的表面。在其他实施例中，保持器180的后表面180B为弯曲表面。在一些实施例中，轴182固定到保持器180的后表面180B，以紧固保持器180。

图3图示了图1的光学反射器152的正视图。如图2和图3所示，在一些实施例中，光学反射器152的环形边缘152E被固定到保持器180。在一些实施例中，微影系统100还包含多个滚轮186，以辅助光学反射器152的旋转。滚轮186被布置成与保持器180的周边接触。此种布置可以称为周边安装，此继而有利于高位稳定性。

返回参考图1。光罩170可用于赋予光束一图案，以便产生在光阻剂层302中以及从而在晶圆300中的图案。应注意，赋予光束的图案可能不完全对应于晶圆中的所需图案，例如若图案包括相移特征。通常，赋予光束的图案将对应于在晶圆中创建的元件(诸如集成电路)的特定功能层。在一些实施例中，光罩170可以包括分布式布拉格反射器。在一些实施例中，光罩170可以包括相移层和/或吸收层以限定图案。在一些实施例中，光罩170是无吸收的相移光罩。

控制器190A、190B、190C、190D、190E、190F、190G、190H、190I(统称为控制器190)分别电连接到马达(例如，图2的马达184)，该等马达被配置为旋转相应的光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168。在一些实施例中，控制器190A-190I可以被配置为确定是否驱动相应的光学反射器(例如，光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166或168)旋转。在一些实施例中，控制器192电连接到激光产生器120和液滴产生器130，并且被配置为触发激光产生器120的激光发射操作和液滴产生器130的液滴射击操作。

在一些实施例中，控制器190A-190I和192可以被编程为使得在控制器192触发激光发射操作和液滴射击操作之前，控制器190A-190I可以触发相应的光学反射器(例如，光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166，或168)旋转。在一些实施例中，控制器190A-190I和192可以被编程为使得在控制器192触发激光发射操作和液滴射击操作之后，控制器190A-190I可以触发相应的光学反射器(例如，光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166，或168)旋转。在一些实施例中，控制器190A-190I和192可以被编程为使得在控制器192停止激光发射操作和液滴射击操作之前，控制器190A-190I可以触发相应的光学反射器(例如，光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166，或168)旋转。在一些实施例中，控制器190A-190I和192可以被编程为使得在控制器192停止激光发射操作和液滴射击操作之后，控制器190A-190I可以触发相应的光学反射器(例如，光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166，或168)旋转。

在一些实施例中，控制器190A-190I和192可以被编程为使得在控制器192停止激光发射操作和液滴射击操作之前，控制器190A-190I可以停止相应的光学反射器(例如，光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166，或168)旋转。在一些实施例中，控制器190A-190I和192可以被编程为使得在控制器192停止激光发射操作和液滴射击操作之后，控制器190A-190I可以停止相应的光学反射器(例如，光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166，或168)旋转。

在一些实施例中，旋转、激光发射操作和液滴射击操作被控制为同步的，并且控制器190A-190I和192可以被编程为使得在控制器192触发激光发射操作和液滴射击操作期间，控制器190A-190I可以触发相应的光学反射器(例如，光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166，或168)旋转。例如，控制器190A-190I和192可以被编程为使得控制器190A-190I触发相应的光学反射器(例如，光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166，或168)旋转并且与此同时控制器192触发激光发射操作和液滴射击操作。

在一些实施例中，在停止激光发射操作和液滴射击操作之后，控制器192可以被编程为恢复激光发射操作和液滴射击操作。在一些实施例中，在停止相应的光学反射器(例如，光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166，或168)的旋转之后，控制器190A-190I可被编程为恢复相应的旋转。

图4是根据本揭示的一些实施例的方法200的流程图。图5至图9图示了根据本揭示的一些实施例的图1的微影系统100，使用该微影系统在各个阶段实施图4的方法200。方法200包括动作S210、S220、S230、S240，以及S250。微影系统100可经操作以通过方法200曝光涂覆在晶圆上的光阻剂层。例如，如图5所示，上面涂覆有光阻剂层302的晶圆300安装在腔室102内的步进器104上，并且微影系统100经操作以曝光涂覆在晶圆300上的光阻剂层302。

动作S210是从激光产生器产生激光束。例如，如图5所示，控制器192可以被编程为触发激光发射操作，使得激光产生器120可以产生激光束310。如前所述，激光产生器120可以经定向为使得从激光产生器120发射的激光束310可以沿着镜面112的对称轴116行进，并且激光产生器120是被配置为产生激光束310，该激光束310指向在收集器110的镜面112的前面的靶标122。如此，激光束310可以沿着镜面112的对称轴116被发送到靶标122。

动作S220是通过液滴产生器产生液滴。例如，如图5所示，控制器192可以被编程为触发液滴射击操作，使得由液滴生成器130产生液滴312。在一些实施例中，液滴312可包含锡或可用于产生EUV的其他合适材料。在一些实施例中，来自液滴产生器130的液滴312可被液滴捕集器132捕集。由于液滴产生器130指向靶标122，所以液滴312可以通过液滴产生器130而被引导到靶标122，使得激光束310入射在液滴312T上。

此后，可以通过激光束310照射液滴312T，从而通过加热液滴312T来产生高温电浆314。在一些实施例中，高温电浆314可以被称为可以产生EUV光316的微电浆。在一些实施例中，微影系统100产生EUV光316，该EUV光316的波长范围为3nm至15nm，例如波长为约13.5nm。可以使用除锡以外的液滴的产生器代替液滴产生器130，并且可以用另一波长激光器代替激光产生器120，并且微电浆可以以任何合适的方式形成。在一些实施例中，控制器192可以被编程为触发激光发射操作和液滴射击操作，并且EUV光316响应于激光发射操作和液滴射击操作而产生。

由收集器110的镜面112将EUV光316朝向光学反射器152反射。在一些实施例中，EUV光316被广泛散射以产生反射的EUV光。收集器110可以收集EUV光316并将该EUV光316引导到光学反射器152。随后，EUV光316可以由光学反射器152、154、156依次反射，并反射到光罩170，如图5所示。光罩170反射EUV光316，此继而赋予了EUV光316一图案。

参考图5和图6，其中图6是图5的光学反射器152的正视图。收集器110和光学反射器152被定向为使得从收集器110反射的EUV光316可以入射在光学反射器152的非中心区域152Z上。例如，EUV光316可以照射到光学反射器152的非中心区域152Z内的第一区域R1上，如图6所示。因此，光束310从中心152C偏移，因此被称为相对于光学反射器152的轴外EUV光束。

在使用光学反射器152、154、156将EUV光316反射到光罩170之后，赋予了EUV光316一图案。此后，通过光学反射器158、160、162、164、166、168将被赋予图案的EUV光316引导到涂覆在晶圆300上的光阻剂302。类似地，入射到光学反射器154、156、158、160、162、164、166、168上的EUV光316是相对于相应的光学反射器154、156、158、160、162、164、166、168的轴外EUV光束。微影系统100从而以由光罩170限定的图案(即，赋予给EUV光316的图案)选择性地曝光涂覆在晶圆300上的光阻剂302。

动作S230为提供穿过腔室的气流。例如，如图5所示，提供气流320以流过腔室102。气流320可以穿过入口端口140进入腔室102，并且气流320可以穿过出口端口142离开腔室102。在一些实施例中，气流被提供为流过腔室102，收集器110和微影系统100的其他部件被包封在腔室102中。

在动作S210、S220和S230之后，方法200继续到动作S240，该动作为停止产生激光束和液滴。例如，如图7所示，控制器192可以被编程为停止激光发射操作和液滴射击操作，并且亦停止EUV光的产生。

此后，方法200继续到动作S250，该动作为旋转至少一个光学反射器。例如，如图8和图9所示，控制器190A-190I可以被编程为触发光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166和168的旋转，使得光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166和168旋转。换言之，控制器190A-190I和192可以被编程为使得在控制器192触发和停止激光发射操作和液滴射击操作之后，控制器190A-190I可以触发光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166或168旋转。

在一些实施例中，光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166或168通过以下方式而旋转：施加由分别经由相应的轴182机械连接到光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166或168的马达(例如，图2的马达184)提供的机械力。在一些实施例中，光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168可围绕其中心旋转，并且旋转的光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168在旋转期间没有平移运动。例如，光学反射器152绕其中心152C旋转。在一些实施例中，动作S240还包含将光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168中的至少一个旋转预定角度，该预定角度在例如1度至359度的范围内。在一些实施例中，预定角度足以使光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168中的至少一个旋转，使得下一待照射区域不与未照射区域重叠。在一些实施例中，可以通过控制器190A-190I来实现将光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168中的至少一个旋转预定角度。在一些实施例中，光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168旋转相同的角度。在一些实施例中，光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168中的两个旋转不同的角度。在一些实施例中，光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168旋转，直到控制器190A-190停止相应的光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168的旋转。

通过旋转光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168，光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168的被照射区域从其原始位置离开，并且光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168的未照射区域旋转到与光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168的被照射区域的原始位置相同的位置。例如，如图9所示，关于光学反射器152，非中心区域152Z内的第一区域R1是被照射区域，并且非中心区域152Z内的第二区域R2是未照射区域。在一些实施例中，光学反射器152旋转小于一圈。通过旋转光学反射器152，第一区域R1从其原始位置离开，并且第二区域R2旋转到与第一区域R1的原始位置相同的位置。在旋转之前第一区域R1相对于腔室102的位置可以与在旋转之后第二区域R2相对于腔室102的位置相同。如此，第二区域R2(亦即，下一个待照射区域)可以代替第一区域R1(亦即，已照射区域)来反射EUV光。例如，在旋转光学反射器152之后，其未照射区域(例如，第二区域R2)可以被配置为在后续曝光制程中反射EUV光。

就此而言，在激光发射操作和液滴射击操作期间，入射在第一区域R1上的EUV光(例如，图5中所示的EUV光316)将导致第一区域R1的反射率随着时间的推移降低，因此由于减少的EUV光曝光，第二区域R2由此可以具有高于第一区域R1的反射率。通过旋转光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168，EUV光可以在后续的曝光制程期间从光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168的该等「未照射区域」反射，此可以有利于避免施加到光阻剂层的EUV光的能量损失。

在图8和图9的示例配置中，控制器190A-190I被编程为在由控制器192触发和停止激光发射操作和液滴射击操作之后触发和停止光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168的旋转。在其他实施例中，控制器190A-190I被编程为在由控制器192触发和停止激光发射操作和液滴射击操作之前触发和停止光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168的旋转。

在图8和图9的示例配置中，光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168旋转。在其他实施例中，第一组光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168旋转，并且第二组光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168是静态的(亦即，静止的)。例如，当光学反射器152的旋转被触发而使得光学反射器152旋转时，光学反射器160可以是静态的。

图10是根据本揭示的一些实施例的方法400的流程图；图11至图13图示了根据本揭示的一些实施例的图1的微影系统100，使用该微影系统在各个阶段实施图10的方法400。方法400包括动作S410、S420、S430、S440、S450和S460。微影系统100可经操作以通过方法400曝光涂覆在晶圆上的光阻剂层。例如，如图11所示，上面涂覆有光阻剂层302的晶圆300安装在腔室102内的步进器104上，并且微影系统100经操作以曝光涂覆在晶圆300上的光阻剂层302。

方法400的许多方面与在图4中先前描述的方法200的彼等方面相同或相似。例如，动作S410为从激光产生器产生激光束，并且动作S410的许多方面与在图5中先前描述的动作S210的彼等方面相同或相似。动作S420为通过液滴产生器产生液滴，并且动作S420的许多方面与在图5中先前描述的动作S220的彼等方面相同或相似。动作S430为提供穿过腔室的气流，并且动作S430的许多方面与在图5中先前描述的动作S230的彼等方面相同或相似。在动作S410、S420和S430期间，亦产生EUV光。例如，如图11所示，产生EUV光316以曝光涂覆在晶圆300上的光阻剂层302。因为动作S410、S420和S430可以如在图5中先前描述的一般执行，所以可以省略详细说明。

与方法200不同，在方法400中，在停止激光发射操作和液滴射击操作之前执行触发至少一个光学反射器的旋转。因此，在动作S410、S420和S430之后，方法400继续到动作S440，该动作为旋转至少一个光学反射器。例如，如图12所示，控制器190A-190I可以被编程为在产生EUV光316时触发光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168的旋转，使得光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168在EUV光316的产生期间(亦即，在激光发射操作和液滴射击操作期间)旋转。

此后，方法400继续到动作S450，该动作为停止旋转至少一个光学反射器。例如，如图13所示，在控制器192停止激光发射操作和液滴射击操作之前，控制器190A-190I和192可以经编程为使得控制器190A-190I可以停止光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168的旋转并且光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168是静止的。换言之，在停止光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168的旋转之后，EUV光316产生，同时光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168是静止的。

之后，方法400继续到动作S460，该动作为停止产生激光束和液滴。例如，控制器192可以被编程为停止激光发射操作和液滴射击操作，从而停止产生激光束和液滴，因此亦停止产生EUV光。

在图13的示例配置中，控制器190A-190I被编程为在由控制器192停止激光发射操作和液滴射击操作之前停止光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168的旋转。在其他实施例中，控制器190A-190I被编程为在由控制器192停止激光发射操作和液滴射击操作之后停止光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168的旋转。

图14是根据本揭示的一些实施例的方法500的流程图。图15至图17图示了根据本揭示的一些实施例的图1的微影系统100，使用该微影系统在各个阶段实施图14的方法500。方法500包括动作S510、S520、S530、S540、S550和S560。微影系统100可经操作以通过方法500曝光涂覆在晶圆上的光阻剂层。例如，如图15所示，上面涂覆有光阻剂层302的晶圆300安装在腔室102内的步进器104上，并且微影系统100经操作以曝光涂覆在晶圆300上的光阻剂层302。

方法500的许多方面与在图4中先前描述的方法200的彼等方面相同或相似。例如，动作S520为从激光产生器产生激光束，并且动作S520的许多方面与在图5中先前描述的动作S210的彼等方面相同或相似。动作S530为通过液滴产生器产生液滴，并且动作S530的许多方面与在图5中先前描述的动作S220的彼等方面相同或相似。动作S540为提供穿过腔室的气流，并且动作S540的许多方面与在图5中先前描述的动作S230的彼等方面相同或相似。在动作S520、S530和S540期间，亦产生EUV光。因为动作S520、S530和S540可以如在图5中先前描述的一般执行，所以可以省略详细说明。

与方法200不同，在方法500中，在触发激光发射操作和液滴射击操作之前执行触发至少一个光学反射器的旋转。因此，在动作S520、S530和S540之前，执行动作S510，该动作S510为旋转至少一个光学反射器。例如，如图15所示，控制器190A-190I可以被编程为触发光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168的旋转。

在动作S510之后、执行动作S520、S530和S540，使得EUV光316被产生以曝光涂覆在晶圆300上的光阻剂层302，如图16所示。在动作S520、S530和S540期间(亦即，在激光发射操作和液滴射击操作期间)，在EUV光316产生的同时，光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168旋转。以不同方式解释，光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168在用EUV光316入射的整个时段期间连续旋转。

此后，方法500继续到动作S550，该动作为停止产生激光束和液滴。例如，如图17所示，在控制器190A-190I停止光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168的旋转之前，控制器190A-190I和192可以经编程以使得控制器192可以停止激光发射操作和液滴射击操作，以便停止产生激光束和液滴。换言之，在停止激光发射操作和液滴射击操作之后，光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168旋转，但不反射EUV光。

之后，方法500继续到动作S560，该动作为停止旋转至少一个光学反射器。例如，控制器190A-190I可以被编程为停止光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168的旋转，使得光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168是静止的。

在图17的示例配置中，控制器192被编程为在停止光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168的旋转之前停止激光发射操作和液滴射击操作。在其他实施例中，控制器192被编程为在停止光学反射器152、154、156、158、160、162、164、166、168的旋转之后停止激光发射操作和液滴射击操作。

基于以上论述，可以看出本揭示的一实施方式提供了优点。然而，应当理解，其他实施例可以提供额外的优点，并且并非所有优点都必须在此揭示，并且并非所有实施例都需要特别的优点。本揭示的一实施方式的其中一个优点是光学反射器可以由相应的马达驱动而旋转，因此光学反射器的每个反射表面的不同区域可以在不同的曝光操作中反射EUV光，此继而将有利于避免施加到光阻剂层的EUV光的能量损失。此外，由于光学反射器的每个反射表面的不同区域可以随着时间的推移反射EUV光，因此可以防止EUV光聚焦在光学反射器的每个反射表面的特定区域上，此继而将减少对光学反射器的劣化和污染。因此，可以改善EUV制程的输送量和产量。本揭示的一实施方式的另一个优点是触发和停止光学反射器的旋转可以与触发和停止激光发射操作和液滴射击操作无关，此继而将有利于实现用于曝光晶圆的灵活制程。

根据本揭示的各种实施例，提供了一种方法，包括如下步骤。产生EUV光。使用收集器将EUV光聚集到第一光学反射器上。第一光学反射器用于将EUV光反射到光罩，从而赋予EUV光一图案。第二光学反射器用于将具有该图案的EUV光反射到晶圆上。旋转第一光学反射器。

于一实施例中，产生EUV光包括从激光产生器产生激光束，激光束指向靶标；以及从液滴产生器射出至少一个液滴到靶标处，使得液滴被激光束照射并产生EUV光，其中在产生激光束并射出液滴之后执行旋转第一光学反射器。

于一实施例中，方法还包含在旋转第一光学反射器之前停止产生激光束和射出液滴。

于一实施例中，方法还包含停止旋转第一光学反射器；以及在停止旋转第一光学反射器之后停止产生激光束和射出液滴。

于一实施例中，产生EUV光包括从激光产生器产生激光束，激光束指向靶标；以及从液滴产生器射出至少一个液滴到靶标处，使得液滴被激光束照射并产生EUV光，其中在旋转第一光学反射器之后执行产生激光束和射出液滴。

于一实施例中，方法还包含在产生激光束和射出液滴之前停止旋转第一光学反射器。

于一实施例中，方法还包含停止产生激光束和射出液滴；以及在停止产生激光束和射出液滴之后停止旋转第一光学反射器。

于一实施例中，在旋转第一光学反射器期间执行产生EUV光。

于一实施例中，在旋转第一光学反射器期间执行使用第一光学反射器来反射EUV光。

于一实施例中，方法还包含停止旋转第一光学反射器，使得当第一光学反射器静止时EUV光产生。

于一实施例中，方法还包含旋转第二光学反射器，使得第二光学反射器在旋转第一光学反射器期间旋转。

于一实施例中，将EUV光聚集到第一光学反射器的相对于腔室的一位置处，并且位置在旋转第一光学反射器之前与第一区域重叠，并且在旋转第一光学反射器之后与第二区域重叠。

于一实施例中，第一光学反射器的第一区域和第二区域位于第一光学反射器的非中心区域内。

于一实施例中，产生EUV光包括从激光产生器产生激光束，激光束指向靶标；以及从液滴产生器射出至少一个液滴到靶标处，使得液滴被激光束照射，以便产生EUV光，其中在产生激光束和射出液滴期间执行旋转第一光学反射器。

于一实施例中，产生EUV光包括从激光产生器产生激光束，激光束指向靶标；以及从液滴产生器射出至少一个液滴到靶标处，使得液滴被激光束照射并产生EUV光，其中在旋转第一光学反射器期间执行产生激光束和射出液滴。

于一实施例中，方法还包含旋转第二光学反射器，使得在腔室中产生EUV光期间，第一光学反射器和第二光学反射器旋转。

于一实施例中，微影系统还包含保持器以保持可旋转的光学反射器、马达以及连接马达和保持器的轴。

先前概述了若干实施例的特征，使得本领域技艺人士可以更好地理解本揭露的各态样。本领域技艺人士应当理解，他们可以容易地使用本揭露作为设计或修改其他制程和结构的基础，以实现与本文介绍的实施例相同的目的及/或实现与本文介绍的实施例相同的优点。本领域技艺人士亦应当认识到，此类等同构造不脱离本揭露的精神和范围，并且在不脱离本揭露的精神和范围的情况下，他们可以在本文中进行各种改变、替换和变更。

Claims

1.一种微影方法，其特征在于，包括：

产生极紫外(EUV)光；

使用一收集器将该EUV光聚集到一第一光学反射器上；

使用该第一光学反射器将该EUV光反射到一光罩，从而赋予该EUV光一图案；

使用一第二光学反射器将具有该图案的该EUV光反射到一晶圆上；以及

旋转该第一光学反射器。

2.根据权利要求1所述的微影方法，其特征在于，其中在旋转该第一光学反射器期间执行产生该EUV光。

3.一种微影方法，其特征在于，包括：

在一腔室中产生极紫外(EUV)光；

使用一收集器将该EUV光聚集到一第一光学反射器的一第一区域上；

使用该第一光学反射器的该第一区域将该EUV光反射到一光罩，以赋予该EUV光一图案；

使用一第二光学反射器将具有该图案的该EUV光反射到该腔室内的一晶圆上；以及

旋转该第一光学反射器，使得该EUV光被该第一光学反射器的一第二区域反射，其中当该EUV光被该第一光学反射器的该第二区域反射时，该第一光学反射器的该第一区域没有该EUV光的入射。

4.根据权利要求3所述的微影方法，其特征在于，其中将该EUV光聚集到该第一光学反射器的相对于该腔室的一位置处，并且该位置在旋转该第一光学反射器之前与该第一区域重叠，并且在旋转该第一光学反射器之后与该第二区域重叠。

5.根据权利要求3所述的微影方法，其特征在于，其中该第一光学反射器的该第一区域和该第二区域位于该第一光学反射器的一非中心区域内。

6.根据权利要求3所述的微影方法，其特征在于，其中产生该EUV光包括：

从一激光产生器产生一激光束，该激光束指向一靶标；以及

从一液滴产生器射出至少一个液滴到该靶标处，使得该液滴被该激光束照射，以便产生该EUV光，其中在产生该激光束和射出该液滴期间执行旋转该第一光学反射器。

7.根据权利要求3所述的微影方法，其特征在于，其中产生该EUV光包括：

从一激光产生器产生一激光束，该激光束指向一靶标；以及

从一液滴产生器射出至少一个液滴到该靶标处，使得该液滴被该激光束照射并产生该EUV光，其中在旋转该第一光学反射器期间执行产生该激光束和射出该液滴。

8.根据权利要求3所述的微影方法，其特征在于，还包含：

旋转该第二光学反射器，使得在该腔室中产生该EUV光期间，该第一光学反射器和该第二光学反射器旋转。

9.根据权利要求3所述的微影方法，其特征在于，还包含：

停止旋转该第一光学反射器，使得当该第一光学反射器静止时该EUV光产生。

10.一种微影系统，其特征在于，包括：

一收集器，该收集器具有一镜面和一光轴；

一激光产生器，该激光产生器指向该光轴上的一位置并且在该镜面的前方；

一液滴产生器，该液滴产生器指向该位置；以及

一可旋转的光学反射器，该可旋转的光学反射器与该收集器的该光轴重叠。