CN110774142B - 一种轴承外圈内壁抛光用抛光设备 - Google Patents

一种轴承外圈内壁抛光用抛光设备 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种轴承外圈内壁抛光用抛光设备，其结构包括上框、支架、底座、下框、挤压抛光装置，本发明具有的效果：上磨室在上升降杆带动下，下磨室在下升降杆带动下，工件固定座分离为两部分，且各一部分与上磨室和下磨室分别连接，将需要进行抛光的多个轴承外圈同时放置在分离后的工件固定座内，通过上升降杆和下升降杆带动下，使分为两部分的工件固定座连接，此时上磨室和下磨室相连通，将粘弹性抛光剂加入上磨室或者下磨室，通过上液压缸和下液压缸之间的配合，使粘弹性抛光剂受压往复挤过轴承外圈内壁，实现磨粒对表面的微切削加工，去除内壁微观不平，提高轴承外圈的精度。

Description

一种轴承外圈内壁抛光用抛光设备
技术领域
本发明涉及轴承抛光领域，尤其是涉及到一种轴承外圈内壁抛光用抛光设备。
背景技术
轴承是五金机械设备中的重要零部件之一，轴承主要功能是支撑机械旋转体，降低其运动过程中的摩擦系数，并保证其回转精度，轴承主要由外圈、滚动体和内圈以及保持架组成，轴承在投入使用前重要的抛光部件之一是外圈，轴承外圈内壁的抛光精度能够直接决定旋转体其运动过程中的摩擦系数以及回转精度，现有的轴承外圈内壁的抛光方式一般采用电机结合研磨盘的方式对外圈内壁进行抛光，这种抛光方式稳定性差，对轴承外圈内壁的抛光精度低，速度慢，并且每次只能对一个轴承外圈进行抛光作业，无法满足轴承外圈大批次的抛光需求，因此需要研制一种轴承外圈内壁抛光用抛光设备，以此来解决现有的轴承外圈内壁的抛光方式一般采用电机结合研磨盘的方式对外圈内壁进行抛光，这种抛光方式稳定性差，对轴承外圈内壁的抛光精度低，速度慢，并且每次只能对一个轴承外圈进行抛光作业，无法满足轴承外圈大批次抛光需求的问题。
本发明内容
针对现有技术的不足，本发明是通过如下的技术方案来实现：一种轴承外圈内壁抛光用抛光设备，其结构包括上框、支架、底座、下框、挤压抛光装置，所述的底座顶部设有支架，所述的支架和底座连接，所述的支架中心位置设有挤压抛光装置，所述的挤压抛光装置上下两端设有上框和下框，所述的挤压抛光装置通过上框和下框垂直安装在支架上，所述的上框和下框与支架连接。
作为本技术方案的进一步优化，所述的挤压抛光装置由上磨室、下磨室、下液压缸、下升降杆、工件固定座、上升降杆、上液压缸组成，所述的工件固定座上下两端设有上磨室和下磨室，所述的上磨室和下磨室通过工件固定座连通，所述的上磨室顶部中心位置设有上液压缸，所述的上液压缸和上磨室相配合，所述的上液压缸两侧设有上升降杆，所述的上升降杆首端和上磨室连接，所述的上升降杆固定在上框上，所述的下磨室底部中心位置设有下液压缸，所述的下液压缸和下磨室相配合，所述的下液压缸两侧设有下升降杆，所述的下升降杆和下磨室连接，所述的下升降杆固定在下框上。
作为本技术方案的进一步优化，所述的上磨室由导流罩、排剂管、挤压板、顶盖组成，所述的导流罩顶部设有顶盖，所述的顶盖和导流罩活动连接，所述的导流罩底部设有排剂管，所述的排剂管和导流罩连接，所述的导流罩通过排剂管和工件固定座连接，所述的导流罩内部设有挤压板，所述的挤压板和导流罩采用滑动配合。
作为本技术方案的进一步优化，所述的挤压板由扇形板、活动杆、圆罩、防漏条、第一弹簧、定位内圈组成，所述的圆罩外圈上设有扇形板，所述的扇形板和圆罩采用滑动配合，所述的扇形板顶部设有防漏条，所述的防漏条与扇形板连接，所述的圆罩内部中心位置设有定位内圈，所述的定位内圈，和圆罩采用过盈配合，所述的定位内圈外圈上设有活动杆，所述的活动杆和定位内圈采用滑动配合，所述的活动杆上设有第一弹簧，所述的第一弹簧两端分别与扇形板和定位内圈连接。
作为本技术方案的进一步优化，所述的工件固定座由上座、下座、工件定位架组成，所述的上座下方设有下座，所述的上座和下座活动连接，所述的上座和下座内部设有工件定位架，所述的上座和上磨室相配合，所述的下座和下磨室相配合。
作为本技术方案的进一步优化，所述的工件定位架由内胶圈、推板、限位座、外固定圈、支杆、第二弹簧组成，所的外固定圈内部中心位置设有内胶圈，所述的内胶圈和外固定圈之间设有限位座，所述的限位座和外固定圈连接，所述的限位座前端设有支杆，所述的支杆和限位座采用滑动配合，所述的支杆前端设有推板，所述的推板与支杆连接，所述的支杆通过推板和内胶圈连接，所述的支杆上设有第二弹簧，所述的第二弹簧两端分别与推板和限位座连接。
作为本技术方案的进一步优化，所述的上磨室和下磨室所组成的部件结构相同。
有益效果
本发明一种轴承外圈内壁抛光用抛光设备，设计合理，功能性强，具有以下有益效果：
(I)本发明上磨室在上升降杆带动下，下磨室在下升降杆带动下，工件固定座分离为两部分，且各一部分与上磨室和下磨室分别连接，将需要进行抛光的多个轴承外圈同时放置在分离后的工件固定座内，通过上升降杆和下升降杆带动下，使分为两部分的工件固定座连接，此时上磨室和下磨室相连通，将粘弹性抛光剂加入上磨室或者下磨室，通过上液压缸和下液压缸之间的配合，使粘弹性抛光剂受压往复挤过轴承外圈内壁，实现磨粒对表面的微切削加工，去除内壁微观不平，提高轴承外圈的精度，以此来解决现有的轴承外圈内壁的抛光方式一般采用电机结合研磨盘的方式对外圈内壁进行抛光，这种抛光方式稳定性差，对轴承外圈内壁的抛光精度低，速度慢，并且每次只能对一个轴承外圈进行抛光作业，无法满足轴承外圈大批次抛光需求的问题；
(II)本发明圆罩外圈上设有六个扇形板，各扇形板沿圆罩围成环墙结构，且扇形板外沿呈斜切面与导流罩呈漏斗状内壁的斜面紧贴滑动连接，因为扇形板和圆罩采用滑动连接，且扇形板通过活动杆和第一弹簧以及定位内圈组成的自动形变结构，能够使挤压板受向下的压力后自动改变自身的圆周直径，同时沿导流罩呈漏斗状内壁的斜面向下直线滑动，对粘弹性抛光剂挤压，使粘弹性抛光剂在导流罩的结构下，形成较大的挤压力穿过轴承外圈，对外圈进行高效的挤压抛光；
(III)本发明内胶圈和外固定圈通过推板、限位座和支杆以及第二弹簧组成的四个弹簧夹紧结构，能够使多个轴承外圈相互紧靠叠放固定在内胶圈内，内胶圈的设置，能够使粘弹性抛光剂顺利挤过轴承外圈，对外圈内壁进行抛光，同时防止粘弹性抛光剂向两边溢出，使粘弹性抛光剂能够在上液压缸和下液压缸之间的配合下，往复在上磨室和下磨室之间流通，大大提高轴承外圈的抛光效率。
附图说明
通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
图1为本发明一种轴承外圈内壁抛光用抛光设备的前视结构示意图；
图2为本发明挤压抛光装置的前视结构示意图；
图3为本发明上磨室的侧视剖面结构示意图；
图4为本发明挤压板的俯视剖面结构示意图；
图5为本发明工件固定座的侧视剖面结构示意图；
图6为本发明工件定位架的侧视剖面结构示意图。
图中：上框-1、支架-2、底座-3、下框-4、挤压抛光装置-5、上磨室-51、导流罩-51a、排剂管-51b、挤压板-51c、扇形板-51c1、活动杆-51c2、圆罩 -51c3、防漏条-51c4、第一弹簧-51c5、定位内圈-51c6、顶盖-51d、下磨室 -52、下液压缸-53、下升降杆-54、工件固定座-55、上座-55a、下座-55b、工件定位架-55c、内胶圈-55c1、推板-55c2、限位座-55c3、外固定圈-55c4、支杆-55c5、第二弹簧-55c6、上升降杆-56、上液压缸-57。
具体实施方式
为使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式以及附图说明，进一步阐述本发明的优选实施方案。
实施例
请参阅图1-6，本发明提供一种轴承外圈内壁抛光用抛光设备的具体实施方式：
请参阅图1，一种轴承外圈内壁抛光用抛光设备，其结构包括上框1、支架2、底座3、下框4、挤压抛光装置5，所述的底座3顶部设有支架2，所述的支架2和底座3连接，所述的支架2中心位置设有挤压抛光装置5，所述的挤压抛光装置5上下两端呈轴对称结构设有上框1和下框4，所述的挤压抛光装置5通过上框1和下框4垂直安装在支架2上，所述的上框1和下框4与支架2连接。
请参阅图2，所述的挤压抛光装置5由上磨室51、下磨室52、下液压缸 53、下升降杆54、工件固定座55、上升降杆56、上液压缸57组成，所述的工件固定座55上下两端呈轴对称结构设有上磨室51和下磨室52，所述的上磨室51和下磨室52所组成的部件结构相同，所述的上磨室51和下磨室52 通过工件固定座55连通，所述的上磨室51顶部中心位置设有上液压缸57，所述的上液压缸57和上磨室51相配合，所述的上液压缸57两侧设有上升降杆56，所述的上升降杆56首端和上磨室51连接，所述的上升降杆56固定在上框1上，所述的下磨室52底部中心位置设有下液压缸53，所述的下液压缸53和下磨室52相配合，所述的下液压缸53两侧设有下升降杆54，所述的下升降杆54和下磨室52连接，所述的下升降杆54固定在下框4上。
请参阅图3，所述的上磨室51由导流罩51a、排剂管51b、挤压板51c、顶盖51d组成，所述的导流罩51a呈漏斗状结构并且顶部设有顶盖51d，所述的顶盖51d和导流罩51a活动连接，所述的导流罩51a底部设有排剂管 51b，所述的排剂管51b和导流罩51a连接，所述的导流罩51a通过排剂管 51b和工件固定座55连接，所述的导流罩51a内部设有挤压板51c，所述的挤压板51c和导流罩51a采用滑动配合。
请参阅图4，所述的挤压板51c由扇形板51c1、活动杆51c2、圆罩51c3、防漏条51c4、第一弹簧51c5、定位内圈51c6组成，所述的圆罩51c3外圈上均匀等距设有六个扇形板51c1，各扇形板51c1沿圆罩51c3围成环墙结构，且扇形板51c1外沿呈斜切面，所述的扇形板51c1和圆罩51c3采用滑动配合，所述的扇形板51c1顶部设有防漏条51c4，所述的防漏条51c4呈圆弧形结构并且与扇形板51c1连接，所述的圆罩51c3内部中心位置设有定位内圈51c6，所述的定位内圈51c6，和圆罩51c3采用过盈配合，所述的定位内圈 51c6外圈上均匀等距设有六根活动杆51c2，所述的活动杆51c2和定位内圈 51c6采用滑动配合，每一根活动杆51c2对应和一个扇形板51c1连接，所述的活动杆51c2上设有第一弹簧51c5，所述的第一弹簧51c5两端分别与扇形板51c1和定位内圈51c6连接。
请参阅图5，所述的工件固定座55由上座55a、下座55b、工件定位架 55c组成，所述的上座55a下方设有下座55b，所述的上座55a和下座55b 呈轴对称结构，所述的上座55a和下座55b活动连接，所述的上座55a和下座55b内部设有工件定位架55c，所述的上座55a和上磨室51相配合，所述的下座55b和下磨室52相配合。
请参阅图6，所述的工件定位架55c由内胶圈55c1、推板55c2、限位座 55c3、外固定圈55c4、支杆55c5、第二弹簧55c6组成，所的外固定圈55c4 内部中心位置设有内胶圈55c1，所述的内胶圈55c1和外固定圈55c4之间均匀等距设有四个限位座55c3，所述的限位座55c3和外固定圈55c4连接，所述的限位座55c3前端设有支杆55c5，所述的支杆55c5和限位座55c3采用滑动配合，所述的支杆55c5前端设有推板55c2，所述的推板55c2呈圆弧形结构并且与支杆55c5连接，所述的支杆55c5通过推板55c2和内胶圈55c1 连接，所述的支杆55c5上设有第二弹簧55c6，所述的第二弹簧55c6两端分别与推板55c2和限位座55c3连接。
其具体实现原理如下：
上磨室51在上升降杆56带动下，下磨室52在下升降杆54带动下，工件固定座55分离为两部分，且各一部分与上磨室51和下磨室52分别连接，将需要进行抛光的多个轴承外圈同时放置在分离后的工件固定座55内，通过上升降杆56和下升降杆54带动下，使分为两部分的工件固定座55连接，此时上磨室51和下磨室52相连通，将粘弹性抛光剂加入上磨室51或者下磨室52，通过上液压缸57和下液压缸53之间的配合，使粘弹性抛光剂受压往复挤过轴承外圈内壁，实现磨粒对表面的微切削加工，去除内壁微观不平，提高轴承外圈的精度，因为圆罩51c3外圈上设有六个扇形板51c1，各扇形板51c1沿圆罩51c3围成环墙结构，且扇形板51c1外沿呈斜切面与导流罩 51a呈漏斗状内壁的斜面紧贴滑动连接，因为扇形板51c1和圆罩51c3采用滑动连接，且扇形板51c1通过活动杆51c2和第一弹簧51c5以及定位内圈 51c6组成的自动形变结构，能够使挤压板51c受向下的压力后自动改变自身的圆周直径，同时沿导流罩51a呈漏斗状内壁的斜面向下直线滑动，对粘弹性抛光剂挤压，使粘弹性抛光剂在导流罩51a的结构下，形成较大的挤压力穿过轴承外圈，对外圈进行高效的挤压抛光，因为内胶圈55c1和外固定圈 55c4通过推板55c2、限位座55c3和支杆55c5以及第二弹簧55c6组成的四个弹簧夹紧结构，能够使多个轴承外圈相互紧靠叠放固定在内胶圈55c1内，内胶圈55c1的设置，能够使粘弹性抛光剂顺利挤过轴承外圈，对外圈内壁进行抛光，同时防止粘弹性抛光剂向两边溢出，使粘弹性抛光剂能够在上液压缸57和下液压缸53之间的配合下，往复在上磨室51和下磨室52之间流通，大大提高轴承外圈的抛光效率。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和本发明的优点，本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神或基本特征的前提下，不仅能够以其他的具体形式实现本发明，还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围，因此本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等同物界定，而不是上述说明限定。
此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (1)

1.一种轴承外圈内壁抛光用抛光设备，其结构包括上框(1)、支架(2)、底座(3)、下框(4)、挤压抛光装置(5)，其特征在于：所述的底座(3)顶部设有支架(2)，所述的支架(2)和底座(3)连接，所述的支架(2)中心位置设有挤压抛光装置(5)，所述的挤压抛光装置(5)上下两端设有上框(1)和下框(4)，所述的挤压抛光装置(5)通过上框(1)和下框(4)安装在支架(2)上，所述的上框(1)和下框(4)与支架(2)连接；
所述的挤压抛光装置(5)由上磨室(51)、下磨室(52)、下液压缸(53)、下升降杆(54)、工件固定座(55)、上升降杆(56)、上液压缸(57)组成，所述的工件固定座(55)上下两端设有上磨室(51)和下磨室(52)，所述的上磨室(51)顶部设有上液压缸(57)，所述的上液压缸(57)两侧设有上升降杆(56)，所述的下磨室(52)底部设有下液压缸(53)，所述的下液压缸(53)两侧设有下升降杆(54)；
所述的上磨室(51)由导流罩(51a)、排剂管(51b)、挤压板(51c)、顶盖(51d)组成，所述的导流罩（51a）呈漏斗状结构，所述的导流罩(51a)顶部设有顶盖(51d)，所述的导流罩(51a)底部设有排剂管(51b)，所述的导流罩(51a)内部设有挤压板(51c)，所述的挤压板(51c)和导流罩(51a)采用滑动配合；
所述的挤压板(51c)由扇形板(51c1)、活动杆(51c2)、圆罩(51c3)、防漏条(51c4)、第一弹簧(51c5)、定位内圈(51c6)组成，所述的圆罩(51c3)外圈上设有扇形板(51c1)，所述的扇形板(51c1)顶部设有防漏条(51c4)，所述的圆罩(51c3)内部设有定位内圈(51c6)，所述的定位内圈(51c6)外圈上设有活动杆(51c2)，所述的活动杆(51c2)上设有第一弹簧(51c5)；
各扇形板沿圆罩围成环墙结构，且扇形板外沿呈斜切面；
所述的工件固定座(55)由上座(55a)、下座(55b)、工件定位架(55c)组成，所述的上座(55a)下方设有下座(55b)，所述的上座(55a)和下座(55b)内部设有工件定位架(55c)；
所述的工件定位架(55c)由内胶圈(55c1)、推板(55c2)、限位座(55c3)、外固定圈(55c4)、支杆(55c5)、第二弹簧(55c6)组成，所的外固定圈(55c4)内部设有内胶圈(55c1)，所述的内胶圈(55c1)和外固定圈(55c4)之间设有限位座(55c3)，所述的限位座(55c3)前端设有支杆(55c5)，所述的支杆(55c5)前端设有推板(55c2)，所述的推板(55c2)与支杆(55c5)连接，所述的支杆(55c5)上设有第二弹簧(55c6)。
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