CN110727156A - 具有不对称层结构的光学器件 - Google Patents

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Abstract

提供了具有不对称层结构的光学器件。物品包括：反射体，所述反射体具有第一表面、与第一表面相对的第二表面、和第三表面；以及第一选择性光调制剂层，所述第一选择性光调制剂层在反射体的第一表面的外部；其中反射体的第三表面是开放的。还公开了制造物品的方法。

Description

具有不对称层结构的光学器件
技术领域
本公开内容总体上涉及呈箔(foil)、片材和/或薄片(flake)的形式的物品，例如光学器件。光学器件可以包括具有第一表面的反射体；以及在反射体的第一表面的外部的第一选择性光调制剂层(first selective light modulator layer)(“SLML”)。光学器件还可以包括具有第一表面的透明层；以及在透明层的第一表面的外部的第一SLML。还公开了制造光学器件的方法。
背景技术
多种包括薄片的光学器件被用作具有增强的光学性质的消费者应用的特征。在某些消费者应用中，具有低色移(color shift)至无色移的金属效果和光学变化效果是合意的。不幸地，目前的制造方法产生色度不足和/或不提供足够强的金属随角异色(metallicflop)的光学器件。其他方法需要多层涂料体系(paint system)，这增加制造的成本并且在工业的标准制造设备中不起作用。
发明内容
在一个方面中，公开了物品，所述物品包括：反射体，所述反射体具有第一表面、与第一表面相对的第二表面、和第三表面；以及第一选择性光调制剂层，所述第一选择性光调制剂层在反射体的第一表面的外部；其中反射体的第三表面是开放的。
在一个方面中，公开了物品，所述物品包括：透明层，所述透明层具有第一表面、与第一表面相对的第二表面、和第三表面；以及第一选择性光调制剂层，所述第一选择性光调制剂层在透明层的第一表面的外部；其中透明层的第三表面是开放的。
在另一个方面中，公开了用于制造物品的方法，所述方法包括沉积反射体层；以及沉积第一选择性光调制剂层；其中第一选择性光调制剂层使用液体涂布工艺(liquidcoating process)来沉积。
本公开内容还提供了以下项目：
1)一种物品，包括：
反射体，所述反射体具有第一表面、与所述第一表面相对的第二表面、和第三表面；以及
第一选择性光调制剂层，所述第一选择性光调制剂层在所述反射体的所述第一表面的外部；
其中所述反射体的所述第三表面是开放的。
2)如项目1)所述的物品，还包括第一吸收剂层，所述第一吸收剂层在所述第一选择性光调制剂层的外部；
其中所述第一选择性光调制剂层是非吸收性和吸收性中的至少一种。
3)如项目2)所述的物品，还包括第二选择性光调制剂层，所述第二选择性光调制剂层在所述第一吸收剂层的外部；
其中所述第一选择性光调制剂层是非吸收性的，并且所述第二选择性光调制剂层是吸收性的。
4)如项目1)所述的物品，还包括含磁性层，所述含磁性层具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面；
其中所述反射体在所述含磁性层的所述第一表面的外部。
5)如项目4)所述的物品，还包括第一吸收剂层，所述第一吸收剂层在所述第一选择性光调制剂层的外部；
其中所述第一选择性光调制剂层是非吸收性的。
6)如项目1)所述的物品，还包括释放层。
7)如项目1)所述的物品，其中所述物品是薄片。
8)如项目1)所述的物品，具有层状形状。
9)一种物品，包括：
透明层，所述透明层具有第一表面、与所述第一表面相对的第二表面、和第三表面；以及
第一选择性光调制剂层，所述第一选择性光调制剂层在所述透明层的所述第一表面的外部；
其中所述透明层的所述第三表面是开放的。
10)如项目9)所述的物品，还包括第二选择性光调制剂层，所述第二选择性光调制剂层在所述透明层的所述第二表面的外部。
各个实施方案的另外的特征和优点将部分地在以下的描述中阐述，并且部分地从描述中将是明显的或可以通过实践各个实施方案而得知。各个实施方案的目的和其他优点将借助于在本文的描述中特别指出的要素和组合来实现和获得。
附图说明
本公开内容可以从详述和附图中以其若干方面和实施方案被更充分地理解，在附图中：
图1是根据本公开内容的方面的物品的横截面图；
图2是根据本公开内容的另一个方面的物品的横截面图；
图3是根据本公开内容的另一个方面的物品的横截面图；
图4是根据本公开内容的另一个方面的物品的横截面图；
图5是根据本公开内容的另一个方面的物品的横截面图；
图6是根据本公开内容的另一个方面的物品的横截面图；
图7是根据本公开内容的另一个方面的物品的横截面图；以及
图8是根据本公开内容的实施例的示出层例如SLML层的沉积的液体涂布工艺的横截面图。
在整个本说明书和附图中，相同的参考数字标识相同的元件。
具体实施方式
应理解，前述的一般描述和以下的详述两者仅仅是示例性的和解释性的，并且意图提供对本教导的各个实施方案的解释。在其广泛和变化的实施方案中，本文公开了例如呈箔、片材和薄片的形式的物品诸如光学器件；以及制造物品的方法。在一个实例中，包括光学器件例如颜料、光学标签剂(optical taggant)和光学安全器件的物品可以制造成具有简化的构造和减少的层数(layer count)，从而降低制造成本。另外，具有薄片状形式的物品可以提供较高纵横比颗粒，从而提供较好的对齐和增强的光学性质。进一步地，不对称层结构可以提供薄片，其中薄片的相对侧可以提供不同的视觉属性和非视觉属性。
如本文使用的，“反射”及其变体指的是光的反射。如本文使用的，“吸收”及其变体指的是光的吸收。
附图中图示的物品10可以呈现出选自光学干涉、光吸收、光反射、光散射及其组合的性质。在某些方面中，本文公开的物品10可以呈现出光学干涉。可选择地，在某些实例中，物品10不能呈现出光学干涉。在一个方面中，物品10可以利用干涉来产生颜色。在另一个方面中，物品10不能利用干涉来产生颜色。例如，如在下文进一步详细地描述的，颜色的外观可以通过在选择性光调制剂层(SLML)中包括选择性光调制剂体系(selective lightmodulator system)(SLMS)例如添加剂、选择性光调制剂颗粒(selective lightmodulator particle)(SLMP)或选择性光调制剂分子(selective light modulatormolecule)(SLMM)来产生。
在一个方面中，物品10可以呈可以在物体或基底上使用的片材的形式。在另一个方面中，物品10可以呈箔或薄片的形式。例如，物品10可以具有层状形状。在一个方面中，光学器件可以包括物品10。在另一个方面中，组合物(composition)可以包括光学器件和液体介质。组合物可以是油墨、清漆、涂料等。在另一个方面中，物品10是呈薄片的形式的光学器件，薄片例如具有厚度100nm至100μm和尺寸100nm至1mm。物品10可以是色移着色剂(colorshifting colorant)，或可以被用作用于货币的安全特征。对于物品10的使用常见的某些属性可以包括高色度(或浓烈的颜色(strong color))、相对于视角的颜色变化(还被称为角色性(goniochromaticity)或虹彩(iridescence))和随角异色(flop)(亮度、色调或色度随着视角变化而变化的镜面和金属外观)。另外，物品10可以在颜色上是金属的，并且不能利用干涉来产生颜色。
尽管附图图示呈片材的形式的物品10例如光学器件，但根据本公开内容的各个方面，物品10例如光学器件还可以呈薄片和/或箔的形式。另外，尽管附图以特定的顺序图示特定的层，但本领域普通技术人员将理解，物品10可以以任何顺序包括任何数目的层。另外，任何特定层的组合物可以与任何其他层的组合物相同或不同。例如，第一选择性光调制剂层(SLML)可以是与第二选择性光调制剂层(SLML)相同或不同的组合物。另外，任何特定层的物理性质可以与任何其他层的物理性质相同或不同。例如，第一SLML 14可以具有带有第一折射率的组合物，但相同物品10中的第二SLML 14’可以具有带有不同折射率的不同组合物。作为另一个实例，第一SLML 14可以具有处于第一厚度的组合物，但第二SLML 14’可以具有处于不同于第一厚度的第二厚度的相同的组合物。
如图1中图示的，物品10可以包括：反射体16，所述反射体16具有第一表面、与第一表面相对的第二表面、和第三表面；以及第一选择性光调制剂层14，所述第一选择性光调制剂层14在反射体16的第一表面的外部；其中反射体16的第三表面是开放的。
反射体16可以是宽带反射体，例如光谱和朗伯反射体(spectral and Lambertianreflector)(例如白色TiO2)。反射体16可以是金属、非金属或金属合金。在一个实例中，用于反射体16的材料可以包括具有在期望的光谱范围内的反射特性的任何材料。例如，在期望的光谱范围内，具有在从5％至100％的范围内的反射比(reflectance)的任何材料。反射材料的实例可以是铝，铝具有良好的反射比特性，是廉价的并且易于形成为薄层或沉积为薄层。其他反射材料也可以代替铝被使用。例如，铜、银、金、铂、钯、镍、钴、铌、铬、锡以及这些或其他金属的组合或合金可以被用作反射材料。在一个方面中，用于反射体16的材料可以是白色金属或浅色金属。在其他实例中，反射体16可以包括但不限于过渡金属和镧系金属及其组合；以及金属碳化物、金属氧化物、金属氮化物、金属硫化物、其组合或这些材料中的一种或更多种和金属的混合物。
反射体16的厚度可以在从约5nm至约5000nm的范围内，尽管此范围不应当被视为限制性的。例如，可以选择较低的厚度限值，使得反射体16可以提供0.8的最大透射率。另外或可选择地，对于包括铝的反射体16，在约550nm的波长处，光密度(OD)可以是从约0.1至约4。
为了获得足够的光密度和/或实现期望的效果，取决于反射体16的组成，可能需要较高或较低的最小厚度。在某些实例中，上限可以是约5000nm、约4000nm、约3000nm、约1500nm、约200nm和/或约100nm。在一个方面中，反射体16的厚度可以在从约10nm至约5000nm的范围内，例如，从约15nm至约4000nm的范围内、从约20nm至约3000nm的范围内、从约25nm至约2000nm的范围内、从约30nm至约1000nm的范围内、从约40nm至约750nm的范围内、或从约50nm至约500nm的范围内，例如从约60nm至约250nm的范围内或从约70nm至约200nm的范围内。
如附图中示出的，反射体16的至少两个表面/侧面，例如如示出的右(第三)表面/侧面和左(第四)表面/侧面可以没有SLML 14。在一个方面中，如果物品10呈薄片或箔的形式，那么反射体16可以包括多于附图中例示的四个表面。在那些情况下，例如，反射体16的一个表面、两个表面、三个表面、四个表面或五个表面可以没有SLML 14。在某些实例中，反射体16的一个表面、两个表面、三个表面、四个表面或五个表面并且因此物品10，可以是向空气开放的。在一个实例中，开放的侧面，即反射体16的不包含外部SLML 14的表面对于随角异色可以是有利的。
返回参考图1，物品10可以包括在反射体16的第一表面的外部的第一选择性光调制剂层(SLML)14。SLML是包括多种光学功能的物理层，所述光学功能旨在调制(吸收和/或发射)具有在从约0.2μm至约20μm的范围内的波长的电磁辐射的光谱的不同的、选定区域的光强度。图1的物品10包括不对称层结构，其中SLML 14可以借助于由选择性SLMS提供的吸收来选择性地调制光(下文更详细地讨论的)。特别地，物品10可以包括SLML 14，所述SLML14选择性地吸收特定波长的能量例如光。
SLML 14(和/或在SLML 14内的材料)可以选择性地调制光。例如，SLML 14可以控制特定波长中的透射的量。在某些实例中，SLML 14可以选择性地吸收特定波长的能量(例如，在可见光范围和/或非可见光范围内)。例如，SLML 14可以是“有色层”和/或“波长选择性吸收层”。在某些实例中，吸收的特定波长可以引起物品10呈现特定的颜色。例如，SLML14可以向人眼呈现红色(例如，SLML 14可以吸收低于约620nm的光波长，并且从而反射或透射呈现红色的能量波长)。这可以通过将为着色剂(例如，有机颜料和/或无机颜料和/或染料)的选择性光调制剂颗粒(SLMP)添加至主体材料(host material)例如介电材料来完成，所述介电材料包括但不限于聚合物。例如，在某些情况下，SLML 14可以是有色的塑料。
在某些实例中，吸收的特定波长中的某些或全部可以在可见光范围内(例如，SLML14可以在整个可见光中是吸收性的，但在红外中是透明的)。产生的物品10将呈现黑色，但反射红外中的光。在上文描述的某些实例中，物品10和/或SLML 14的吸收的波长(和/或特定的可见光颜色)可以至少部分地取决于SLML 14的厚度。另外或可选择地，由SLML 14吸收的能量波长(和/或这些层和/或薄片在其中呈现的颜色)可以部分地取决于某些方面向SLML 14的添加。除了吸收某些能量波长之外，SLML 14可以实现以下中的至少一种：增强反射体16抵抗降解；使得能够从基底释放；使得能够定制尺寸(sizing)；提供对于环境降解例如反射体16中使用的铝或其他金属和材料的氧化的一定抗性；以及基于SLML 14’的组成和厚度的光的透射、反射和吸收的高性能。
在某些实例中，除了SLML 14选择性地吸收特定波长的能量和/或特定波长的可见光之外或者作为SLML 14选择性地吸收特定波长的能量和/或特定波长的可见光的备选方案，物品10的SLML 14可以控制折射率和/或SLML 14可以包括可以控制折射率的SLMP。除了吸收控制SLMP(例如着色剂)之外或作为吸收控制SLMP的备选方案，可以控制SLML 14的折射率的SLMP可以与主体材料一起被包括。在某些实例中，主体材料可以在SLML 14中与吸收控制SLMP和折射率控制SLMP两者组合。在某些实例中，相同的SLMP可以控制吸收和折射率两者。
SLML 14的性能可以基于SLML 14中存在的材料的选择来确定。在一个方面中，SLML 14可以改进以下性质中的至少一种：物品10内任何其他层例如反射体16的薄片处理、腐蚀、对齐和环境性能。
第一SLML 14(和任选地第二SLML 14、第三SLML 14、第四SLML 14等)可以各自独立地包括单独的主体材料，或与选择性光调制剂体系(SLMS)组合的主体材料。在一个方面中，第一SLML 14中的至少一个可以包括主体材料。在另一个方面中，第一SLML 14中的至少一个可以包括主体材料和SLMS。SLMS可以包括选择性光调制剂分子(SLMM)、选择性光调制剂颗粒(SLMP)、添加剂或其组合。
SLML 14的组合物可以具有在从约0.01％至约100％的范围内，例如从约0.05％至约80％的范围内，并且作为另外的实例从约1％至约30％的范围内的固体含量。在某些方面中，固体含量可以大于3％。在某些方面中，SLML 14的组合物可以具有在从约3％至约100％的范围内，例如从约4％至50％的范围内的固体含量。
第一SLML 14的主体材料可以独立地是作为涂布液体应用的并且用于光学目的和结构目的的膜形成材料。主体材料可以被用作主体(基质)，用于引入(如有必要)客体体系例如选择性光调制剂体系(SLMS)，以用于向物品10提供另外的光调制剂性质。
主体材料可以是介电材料。另外或可选择地，主体材料可以是有机聚合物、无机聚合物和复合材料中的至少一种。有机聚合物的非限制性实例包括热塑性塑料，例如聚酯、聚烯烃、聚碳酸酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚氨酯、丙烯酸类(acrylics)、丙烯酸酯、聚乙烯酯、聚醚、聚硫醇、有机硅、碳氟化合物(fluorocarbon)及其各种共聚物；热固性材料，例如环氧树脂、聚氨酯、丙烯酸酯、蜜胺甲醛、脲醛树脂(urea formaldehyde)和酚醛树脂；以及能量可固化材料(energy curable material)，例如丙烯酸酯、环氧树脂、乙烯化合物(vinyls)、乙烯基酯、苯乙烯和硅烷。无机聚合物的非限制性实例包括硅烷、硅氧烷、钛酸盐、锆酸盐、铝酸盐、硅酸盐、磷氮烷(phosphazane)、聚硼氨(polyborazylene)以及聚氮化硫(polythiazyl)。
第一SLML 14可以包括按重量计从约0.001％至约100％的主体材料。在一个方面中，主体材料可以以按SLML 14的重量计在从约0.01％至约95％的范围内、例如从约0.1％至约90％的范围内，并且作为另外的实例，按SLML 14的重量计从约1％至约87％的范围内的量存在于SLML 14中。
用于在具有主体材料的SLML 14中使用的SLMS可以各自独立地包括选择性光调制剂颗粒(SLMP)、选择性光调制剂分子(SLMM)、添加剂或其组合。SLMS还可以包括其他材料。SLMS可以提供在选择性区域或感兴趣的整个光谱范围(0.2μm至20μm)内调制(通过吸收、反射比、荧光等)电磁辐射的幅度。
第一SLML 14可以各自独立地包括SLMP。SLMP可以是与主体材料组合以选择性地控制光调制的任何颗粒，包括但不限于色移颗粒(color shifting particle)；染料；着色剂，着色剂包括以下中的一种或更多种：染料、颜料、反射颜料、色移颜料；量子点和选择性反射体。SLMP的非限制性实例包括：有机颜料、无机颜料、量子点、纳米颗粒(选择性地反射和/或吸收)、胶束等。纳米颗粒可以包括但不限于具有高的折射率值(在约550nm的波长处，n>1.6)的有机材料和金属有机材料(metalorganic material)；金属氧化物，例如TiO2、ZrO2、In2O3、In2O3-SnO、SnO2、FexOy(其中x和y各自独立地是大于0的整数)和WO3；金属硫化物，例如ZnS和CuxSy(其中x和y各自独立地是大于0的整数)；硫属化合物、量子点、金属纳米颗粒；碳酸盐；氟化物；及其混合物。
SLMM的实例包括但不限于：有机染料、无机染料、胶束和包含发色团的其他分子体系。
在某些方面中，第一SLML 14的SLMS可以包含至少一种添加剂，例如固化剂和涂层助剂(coating aid)。
固化剂可以是可以引发主体材料的硬化、玻璃化(vitrification)、交联或聚合的化合物或材料。固化剂的非限制性实例包括溶剂、自由基生成剂(radical generator)(通过能量或化学品)、酸生成剂(acid generator)(通过能量或化学品)、缩合引发剂和酸/碱催化剂。
涂层助剂的非限制性实例包括流平剂(leveling agent)、湿润剂、去泡剂、粘合促进剂、抗氧化剂、UV稳定剂、固化抑制缓解剂(curing inhibition mitigating agent)、防污剂、腐蚀抑制剂、光敏剂、二次交联剂(secondary crosslinkers)和用于增强的红外干燥的红外吸收剂。在一个方面中，抗氧化剂可以以在按重量计从约25ppm至约5％的范围内的量存在于SLML 14的组合物中。
第一SLML 14可以各自独立地包含溶剂。溶剂的非限制性实例可以包括乙酸酯，例如乙酸乙酯、乙酸丙酯和乙酸丁酯；丙酮；水；酮，例如二甲基酮(DMK)、甲基乙基酮(MEK)、仲丁基甲基酮(SBMK)、叔丁基甲基酮(TBMK)、环戊酮和茴香醚；二醇和二醇衍生物，例如丙二醇甲醚(propylene glycol methyl ether)和丙二醇甲醚乙酸酯(propylene glycolmethyl ether acetate)；醇，例如异丙醇和二丙酮醇；酯，例如丙二酸酯；杂环溶剂，例如N-甲基吡咯烷酮；烃，例如甲苯和二甲苯；聚结溶剂，例如乙二醇醚；以及其混合物。在一个方面中，溶剂可以以相对于SLML 14的总重量在按重量计从约0％至约99.9％的范围内、例如从约0.005％至约99％的范围内并且作为另外的实例从约0.05％至约90％的范围内的量存在于第一SLML14’中。
在某些实例中，第一SLML 14可以包括具有以下中的至少一种的组合物：(i)光引发剂，(ii)氧抑制缓解组合物(oxygen inhibition mitigation composition)，(iii)流平剂，和(iv)去泡剂。
氧抑制缓解组合物可以被用于缓解自由基材料的氧抑制。分子氧可以猝灭光引发剂敏化剂的三重态，或它可以清除自由基，导致降低的涂层性质和/或未固化的液体表面。氧抑制缓解组合物可以减少氧抑制或可以改进任何SLML 14’的固化。
氧抑制组合物可以包含多于一种化合物。氧抑制缓解组合物可以包含至少一种丙烯酸酯，例如至少一种丙烯酸酯单体和至少一种丙烯酸酯低聚物。在一个方面中，氧抑制缓解组合物可以包含至少一种丙烯酸酯单体和两种丙烯酸酯低聚物。用于在氧抑制缓解组合物中使用的丙烯酸酯的非限制性实例可以包括丙烯酸酯；甲基丙烯酸酯；环氧丙烯酸酯，例如改性的环氧丙烯酸酯；聚酯丙烯酸酯，例如酸官能聚酯丙烯酸酯、四官能聚酯丙烯酸酯(tetra functional polyester acrylate)、改性的聚酯丙烯酸酯和生物来源的聚酯丙烯酸酯；聚醚丙烯酸酯，例如胺改性的聚醚丙烯酸酯，包括胺官能丙烯酸酯助引发剂和叔胺助引发剂；氨基甲酸酯丙烯酸酯，例如芳香族氨基甲酸酯丙烯酸酯、改性的脂肪族氨基甲酸酯丙烯酸酯、脂肪族氨基甲酸酯丙烯酸酯和基于脂肪族脲基甲酸酯的氨基甲酸酯丙烯酸酯；以及其单体和低聚物。在一个方面中，氧抑制缓解组合物可以包含至少一种丙烯酸酯低聚物，例如两种低聚物。至少一种丙烯酸酯低聚物可以选自(select from)/选自(choosefrom)聚酯丙烯酸酯和聚醚丙烯酸酯，例如巯基改性的聚酯丙烯酸酯和胺改性的聚醚四丙烯酸酯。氧抑制缓解组合物还可以包含至少一种单体，例如1,6-己二醇二丙烯酸酯。氧抑制缓解组合物可以以相对于SLML 14的总重量在按重量计从约5％至约95％的范围内、例如从约10％至约90％的范围内并且作为另外的实例从约15％至约85％的范围内的量存在于第一SLML 14中。
在某些实例中，SLML 14的主体材料可以使用非自由基固化体系，例如阳离子体系。阳离子体系对于自由基过程的氧抑制的缓解较不敏感，并且因此可以不需要氧抑制缓解组合物。在一个实例中，单体3-乙基-3-羟甲基氧杂环丁烷的使用不需要氧缓解组合物。
在一个方面中，第一SLML 14可以各自独立地包含至少一种光引发剂，例如两种光引发剂或三种光引发剂。光引发剂可以被用于较短的波长。光引发剂对于光化波长(actinic wavelength)可以是活性的。光引发剂可以是I型光引发剂或II型光引发剂。SLML14可以包括仅I型光引发剂、仅II型光引发剂或I型光引发剂和II型光引发剂两者的组合。光引发剂可以以相对于SLML 14的组合物的总重量在按重量计从约0.25％至约15％的范围内、例如从约0.5％至约10％的范围内并且作为另外的实例从约1％至约5％的范围内的量存在于SLML 14的组合物中。
光引发剂可以是氧化膦。氧化膦可以包括但不限于单酰基氧化膦和双酰基氧化膦。单酰基氧化膦可以是二苯基(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦。双酰基氧化膦可以是双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)苯基氧化膦。在一个方面中，至少一种氧化膦可以存在于SLML 14的组合物中。例如，两种氧化膦可以存在于SLML 14的组合物中。
敏化剂可以存在于SLML 14的组合物中，并且可以充当用于I型光引发剂和/或II型光引发剂的敏化剂。敏化剂还可以充当II型光引发剂。在一个方面中，敏化剂可以以相对于SLML 14的组合物的总重量在按重量计从约0.05％至约10％的范围内、例如从约0.1％至约7％的范围内并且作为另外的实例从约1％至约5％的范围内的量存在于SLML 14的组合物中。敏化剂可以是噻吨酮，例如1-氯-4-丙氧基噻吨酮。
在一个方面中，SLML 14可以包含流平剂。流平剂可以是聚丙烯酸酯。流平剂可以消除SLML 14的组合物的成坑(cratering)。流平剂可以以相对于SLML 14的组合物的总重量在按重量计从约0.05％至约10％的范围内、例如从约1％至约7％的范围内并且作为另外的实例从约2％至约5％的范围内的量存在于SLML 14的组合物中。
第一SLML 14还可以包含去泡剂。去泡剂可以减小表面张力。去泡剂可以是不含有机硅的液体有机聚合物。去泡剂可以以相对于SLML 14的组合物的总重量在按重量计从约0.05％至约5％的范围内、例如从约0.2％至约4％的范围内并且作为另外的实例从约0.4％至约3％的范围内的量存在于SLML 14的组合物中。
第一SLML 14可以各自独立地具有大于或小于约1.5的折射率。例如，每个SLML14’可以具有约1.5的折射率。每个SLML 14的折射率可以被选择以提供所需的颜色行进(color travel)程度，其中颜色行进可以被定义为在L*a*b*颜色空间中测量的色调角随着视角的变化。在某些实例中，每个SLML 14’可以包括在从约1.1至约3.0、约1.0至约1.3或约1.1至约1.2的范围内的折射率。在某些实例中，每个SLML 14的折射率可以小于约1.5、小于约1.3或小于约1.2。在某些实例中，如果多于一个SLML存在于物品10中，那么SLML 14可以具有大体上相等的折射率或彼此不同的折射率。
第一SLML 14可以具有在从约1nm至约10000nm、约10nm至约1000nm、约20nm至约500nm、约1nm至约100nm、约10nm至约1000nm、约1nm至约5000nm的范围内的厚度。在一个方面中，物品10例如光学器件，可以具有1:1至1:50厚度与宽度的纵横比。
然而，本文描述的物品10的益处中的一种是，在某些实例中，光学效果呈现对厚度变化相对不敏感。因此，在某些方面中，每个SLML 14可以独立地具有小于约5％的光学厚度的变化。在一个方面中，每个SLML 14可以独立地包括横跨层的小于约3％的光学厚度变化。在一个方面中，每个SLML 14可以独立地具有小于约1％的横跨具有约50nm的厚度的层的光学厚度的变化。
如图2中图示的，物品10还可以包括第一吸收剂层18，所述第一吸收剂层18在第一选择性光调制剂层14的外部；其中第一选择性光调制剂层14是非吸收性和吸收性中的至少一种。例如，第一选择性光调制剂层14可以是吸收性的。在另一个实例中，第一选择性光调制剂层14可以是非吸收性的。作为另外的实例，第一选择性光调制剂层14可以包括吸收性SLML 14和非吸收性SLML 14的交替的层。
关于图2，物品10可以包括反射体16，所述反射体16具有第一表面、与第一表面相对的第二表面、和第三表面；第一SLML 14，所述第一SLML 14在反射体16的第一表面的外部，其中第一SLML是非吸收性的；以及部分吸收剂层18，所述部分吸收剂层18在第一SLML14的外部。图2中的物品10可以是具有光学干涉效果的不对称层结构。
还关于图2，物品10可以包括反射体16，所述反射体16具有第一表面、与第一表面相对的第二表面、和第三表面；第一SLML 14，所述第一SLML 14在反射体16的第一表面的外部并且包括吸收性SLML和非吸收性SLML的交替的层；以及吸收剂层18，所述吸收剂层18在第一SLML 14的外部。吸收剂层18可以是部分吸收性层18。在此方面中，SLMS可以被直接引入到可能需要光干涉设计的光学层。SLML 14可以通过吸收效果和干涉效果的组合来改变电磁辐射的幅度。特别地，图2中的物品10还可以是具有光学干涉和吸收性效果的不对称层结构。
如图3中图示的，物品10还可以包括第二选择性光调制剂层14’，所述第二选择性光调制剂层14’在第一吸收剂层18的外部；其中第一选择性光调制剂层14可以是非吸收性的，并且第二选择性光调制剂层14’是吸收性的。特别地，物品10可以包括反射体16，所述反射体16具有第一表面、与第一表面相对的第二表面、和第三表面；第一SLML 14，所述第一SLML 14在反射体16的第一表面的外部并且包括非吸收性SLML；吸收剂层18，所述吸收剂层18在第一SLML 14的外部，其中吸收剂层是部分吸收性的；以及第二SLML 14’，所述第二SLML 14’在吸收剂层18的外部，其中第二SLML 14’是吸收性的。
用于第一吸收剂层18的材料可以包括任何吸收剂材料，所述吸收剂材料包括选择性吸收性材料和非选择性吸收性材料两者。例如，第一吸收剂层18可以由沉积至一定厚度的非选择性吸收性金属材料形成，在该厚度，吸收剂层18是至少部分地吸收性的或半透明的。非选择性吸收性材料的实例可以是灰色金属(gray metal)，例如铬或镍。选择性吸收性材料的实例可以是铜或金。在一个方面中，吸收性材料可以是铬。合适的吸收剂材料的非限制性实例包括金属吸收剂，例如铬、铝、银、镍、钯、铂、钛、钒、钴、铁、锡、钨、钼、铑、铌；以及其他吸收剂，例如碳、石墨、硅、锗、金属陶瓷、氧化铁或其他金属氧化物、在介电基质中混合的金属以及能够在可见光谱中充当均匀的或选择性的吸收剂的其他物质。上文吸收剂材料的各种组合、混合物、化合物或合金可以用于形成吸收剂层18。
上文吸收剂材料的合适的合金的实例可以包括因科镍(Ni—Cr—Fe)、不锈钢、哈氏合金(Hastalloy)(Ni—Mo—Fe；Ni—Mo—Fe—Cr；Ni—Si—Cu)和基于钛的合金例如与碳混合的钛(Ti/C)、与钨混合的钛(Ti/W)、与铌混合的钛(Ti/Nb)以及与硅混合的钛(Ti/Si)及其组合。用于吸收剂层18的合适的化合物的其他实例包括但不限于基于钛的化合物，例如硅化钛(TiSi2)、硼化钛(TiB2)及其组合。可选择地，第一吸收剂层18可以包括布置在Ti的基质中的基于钛的合金，或可以包括布置在基于钛的合金的基质中的Ti。例如，第一吸收剂层18可以包括铬。
第一吸收剂层18还可以由磁性材料例如钴镍合金形成。这可以通过减少所需的材料的数目来简化磁性色移装置或结构的制造。
取决于吸收剂层材料的光学常数和期望的峰位移，第一吸收剂层18可以形成为具有在从约1nm至约50nm的范围内，例如从约5nm至约10nm的范围内的物理厚度。如果多于一个吸收剂层18存在于物品10中，那么每个吸收剂层18可以包括相同的材料或不同的材料，并且对于每个层可以具有相同或不同的物理厚度。
如图4中图示的，物品10还可以包括含磁性层12，所述含磁性层12具有第一表面和与第一表面相对的第二表面；其中反射体层16在含磁性层12的第一表面的外部。特别地，物品10可以包括反射体16，所述反射体16具有第一表面、与第一表面相对的第二表面、和第三表面；第一SLML14，所述第一SLML 14在反射体16的第一表面的外部；以及含磁性层12，所述含磁性层12具有第一表面和与第一表面相对的第二表面；其中反射体层16在含磁性层12的第一表面的外部。物品10可以是吸收性不对称层结构，其中SLML通过另外的载体来增强，所述另外的载体用于结构功能或具有其他视觉或非视觉功能，例如磁性、屏障、化学等。
含磁性层12可以包括导磁(magnetic permeable)材料、磁定向材料(magneticorientable material)、磁性材料及其组合。磁体材料，例如铁磁材料和亚铁磁材料，包括但不限于镍、钴、铁、钆、铽、镝、铒及其合金或氧化物。例如，可以采用钴镍合金，其中钴和镍分别具有按重量计约80％和约20％的比率。钴镍合金中的这些金属中的每一种的此比率可以通过加或减约10％变化。合金的其他实例包括但不限于Fe/Si、Fe/Ni、Fe/Co、Fe/Ni/Mo、Fe/Cr、Ni/Cr及其组合。在一个方面中，含磁性层12可以包含含氧化铁颗粒的聚合物。还可以使用SmCo5型、NdCo5型、Sm2Co17型、Nd2Fe14B型、Sr6Fe2O3型、TbFe2型、Al—Ni—Co型的硬磁(hard magnetics)及其组合，以及Fe3O4型、NiFe2O4型、MnFe2O4型、CoFe2O4型的尖晶石铁氧体(spinel ferrite)或YIG型或GdIG型的石榴石及其组合。在一个方面中，磁性材料可以是铁素体不锈钢。磁性材料可以关于其反射性质或吸收性质以及其磁性性质来选择。含磁性层12可以由具有磁性颗粒和非磁性颗粒的材料，或非磁性介质内的磁性颗粒形成，例如由使用溶胶-凝胶技术沉积的钴掺杂的氧化锌膜形成。
虽然可以使用此宽范围的磁性材料，但在一个方面中，可以使用“软”磁体。如本文使用的，术语“软磁体”指的是呈现出铁磁性质但在暴露于磁力之后具有大体上零的剩磁的任何材料。软磁体可以示出对所施加的磁场的快速响应，但具有非常低的磁性特征(矫顽场(Hc)＝0.05奥斯特-300奥斯特(Oe))或零磁性特征，或者在磁场被除去之后保持非常低的磁力线。类似地，如本文使用的，术语“硬磁体”(还被称为永久磁体)指的是在暴露于磁化力之后呈现出铁磁性质并且具有持久的剩磁的任何材料。铁磁材料是具有大体上大于1的导磁率并且呈现出磁滞性质的任何材料。在一个方面中，任何磁性材料可以用于含磁性层12中，只要该材料能够使物品10定向。
含磁性层12可以具有在从约10nm至约100nm的范围内，例如从约35nm至约45nm的范围内，并且作为另外的实例约40nm的厚度。含磁性层12可以被沉积至一定厚度，使得含磁性层12是大体上不透明的。在一个方面中，含磁性层12可以被沉积至一定厚度，使得含磁性层12不是大体上不透明的。
含磁性层12可以使用常规的沉积工艺形成，例如物理气相沉积技术；以及溅射，包括磁控溅射；热蒸发；电子束蒸发；以及阴极电弧蒸发(cathodic arc evaporation)。在一个方面中，含磁性层12还可以使用液体涂布工艺形成。
如图5中图示的，物品10还可以包括第一吸收剂层18，所述第一吸收剂层18在第一SLML 14的外部；其中第一SLML 14是非吸收性的。特别地，物品10可以包括反射体16，所述反射体16具有第一表面、与第一表面相对的第二表面、和第三表面；第一SLML 14，所述第一SLML 14在反射体16的第一表面的外部；含磁性层12，所述含磁性层12具有第一表面和与第一表面相对的第二表面，其中反射体层16在含磁性层12的第一表面的外部；以及第一吸收剂层18，所述第一吸收剂层18在第一SLML 14的外部。在一个方面中，第一SLML 14是非吸收性的，并且吸收剂层18是部分吸收性的，从而产生具有干涉效果的物品10。
如图6中图示的，物品10可以包括：透明层20，所述透明层20具有第一表面、与第一表面相对的第二表面、和第三表面；以及第一SLML 14，所述第一SLML 14在透明层20的第一表面的外部，其中透明层20的第三表面是开放的。例如，第一SLML 14可以提供吸收性的红色。如图7中图示的，物品10还可以包括第二SLML 14’，所述第二SLML 14’在透明层20的第二表面的外部。例如，此物品10可以包括将透明层20夹在中间的两个不同的吸收性SLML14、14’。第一SLML 14在颜色上可以是红色，并且第二SLML 14’在颜色上可以是蓝色。
在另一个方面中，公开了物品10，所述物品10包括反射体16，所述反射体16具有第一表面、与第一表面相对的第二表面、和第三表面；第一SLML 14，所述第一SLML 14在反射体层16的第一表面的外部；以及第二SLML 14’，所述第二SLML 14’在反射体层16的第二表面的外部。例如，在层中存在的材料和/或每个层的物理性质方面，第一SLML 14可以与第二SLML 14’是相同或不同的。
在一个方面中，物品10，例如呈薄片、箔或片材的形式的光学器件，还可以包括基底和/或释放层。在一个方面中，释放层可以被布置在基底和物品10之间。
另外或可选择地，呈薄片、片材或箔的形式的物品10还可以包括物品10上的硬涂层或保护层。在某些实例中，这些层(硬涂层或保护层)不需要光学品质(opticalquality)。
本文描述的物品10例如光学器件，可以以任何方式制造。例如，片材可以被制造并且然后划分、破坏、研磨等成较小的件，形成光学器件。在某些实例中，片材可以通过液体涂布工艺来产生，所述液体涂布工艺包括但不限于下文和/或参考图8描述的工艺。
公开了用于制造如本文描述的例如呈片材、薄片或箔的形式的物品10的方法。本文描述的方法可以通过将层沉积在另一层上来形成。例如，可以将反射体层16沉积在基底上。作为另一个实例，第一选择性光调制剂层14可以被沉积在反射体层16上。还将理解，另外的层可以沉积在两个确定的层之间。例如，尽管反射体层16可以沉积在基底上，但含磁性层可以沉积在反射体层16和基底之间。本领域普通技术人员将理解，使用本文公开的沉积技术，使用连续程序，层即含磁性层将被“沉积在基底上”或“沉积在基底和反射体层之间”，例如以制造本文公开的物品10。
该方法可以包括沉积反射体层16；以及沉积第一选择性光调制剂层14；其中使用液体涂布工艺沉积第一选择性光调制剂层14。该方法还可以包括沉积第一吸收剂层18；其中第一选择性光调制剂层14是非吸收性和吸收性中的至少一种。另外或可选择地，该方法还可以包括沉积第二选择性光调制剂层14’；其中第一选择性光调制剂层14是非吸收性的。
另外或可选择地，该方法还可以包括将含磁性层12沉积在基底和反射体层16之间。另外或可选择地，在此方面中，该方法还可以包括沉积第一吸收剂层18，其中第一选择性光调制剂层14是非吸收性的。
在另一个方面中，该方法可以包括沉积透明层20；以及沉积第一选择性光调制剂层14；其中使用液体涂布工艺沉积第一选择性光调制剂层14。该方法还可以包括将第二选择性光调制剂层14’沉积在基底和透明层20之间。第一选择性光调制剂层14和第二选择性光调制剂层14’例如在材料组成和/或物理性质方面可以是相同或不同的。
在该方法中，基底可以包括释放层。在公开的方法中，诸如透明层20、反射体层16、吸收剂层18和/或含磁性层12的层可以使用已知的常规沉积工艺来沉积，例如物理气相沉积、化学气相沉积、薄膜沉积、原子层沉积等，包括修改的技术，例如等离子体增强和流化床(plasma enhanced and fluidized bed)。
基底可以由柔性材料制成。基底可以是可以接收沉积层的任何合适的材料。合适的基底材料的非限制性实例包括聚合物网(polymer web)，例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、玻璃箔、玻璃片材、聚合物箔、聚合物片材、金属箔、金属片材、陶瓷箔、陶瓷片材、离子液体、纸、硅片(silicon wafer)等。基底在厚度上可以变化，但可以在例如从约2μm至约100μm的范围内，并且作为另外的实例在从约10μm至约50μm的范围内。
第一SLML 14和/或第二SLML 14’可以通过液体涂布工艺例如槽模工艺(slot dieprocess)来沉积。液体涂布工艺可以包括但不限于：以单层和多层涂布的槽珠(slot-bead)涂布工艺、滑珠(slide bead)涂布工艺、槽幕(slot curtain)涂布工艺、滑幕(slidecurtain)涂布工艺，张力网槽(tensioned web slot)涂布工艺、凹版印刷涂布工艺、辊涂工艺以及将液体应用到基底或先前沉积的层上以形成随后干燥和/或固化的液体层或膜的其他液体涂布和印刷工艺。
然后，基底可以从沉积层释放，以产生物品10。在一个方面中，基底可以被冷却以脆化相关联的释放层(如果存在)。在另一个方面中，释放层可以例如通过用光子能量或电子束能量加热和/或固化以增加交联度被脆化，这将能够实现剥离。然后，沉积层可以被机械地剥离，例如将表面急剧弯曲或涂刷(brush)。使用已知技术，可以将释放层和剥离层定尺寸成物品10，例如呈薄片、箔或片材的形式的光学器件。
在另一个方面中，沉积层可以从基底转移至另一个表面。沉积层可以被冲压或切割以产生具有明确定义的尺寸和形状的大薄片。
与其他沉积技术例如气相沉积相比，液体涂布工艺可以允许SLML 14、14’的组合物以较快的速率转移。另外，液体涂布工艺可以允许通过简单的设备设置在SLML 14,14’中使用更广泛的材料。据信，使用公开的液体涂布工艺形成的SLML 14、14’可以呈现出改进的光学性能。
图8图示使用液体涂布工艺形成SLML 14、14’。SLML的组合物(液体涂布组合物)可以插入到槽模(slot die)320中，并且沉积在基底340上，产生湿膜(wet film)。参考上文公开的工艺，基底340可以包括以下中的至少一种：基底、释放层、透明层20、反射体层16、吸收剂层18以及先前沉积的层。从槽模320的底部至基底340的距离是槽间隙G。如可以在图8中看到的，液体涂布组合物可以以大于干膜厚度H的湿膜厚度D被沉积。在SLML 14、14’的湿膜已经被沉积在基底340上之后，SLML 14、14’的湿膜中存在的任何溶剂可以被蒸发。液体涂布工艺继续SLML 14、14’的湿膜的固化，以产生具有正确的光学厚度H(在从约30nm至约700nm的范围内)的固化的、自流平的SLML 14、14’。据信，SLML 14、14’自流平的能力产生具有横跨层减小的光学厚度变化的层。最终，包含自流平SLML 14、14’的物品10例如光学器件，可以呈现出增大的光学精度。为了易于理解，术语“湿膜”和“干膜”将被用于指的是在产生SLML 14,14’的液体涂布工艺的各个阶段的组合物。
液体涂布工艺可以包括调节涂布速度和槽间隙G中的至少一种，以实现具有预先确定的厚度D的湿膜。可以沉积SLML 14,14’，其具有在从约0.1μm至约500μm的范围内、例如从约0.1μm至约5μm的范围内的湿膜厚度D。形成有在所公开的范围内的湿膜厚度D的SLML14、14’可以产生稳定的SLML层，例如介电层，即没有断裂或缺陷诸如凸纹(ribbing)或条纹(streak)。在一个方面中，对于使用具有高达约100m/min的涂布速度的槽模珠模式(slotdie bead mode)的稳定湿膜，湿膜可以具有约10μm的厚度。在另一个方面中，对于使用具有高达约1200m/min的涂布速度的槽模幕模式(slot die curtain mode)的稳定湿膜，湿膜可以具有约6-7μm的厚度。
液体涂布工艺可以包括以从约0.1m/min至约1000m/min的速度的约1至约100的槽间隙G与湿膜厚度D的比率。在一个方面中，以约100m/min的涂布速度，比率是约9。在一个方面中，以约50m/min的涂布速度，比率可以是约20。液体涂布工艺可以具有在从约0μm至约1000μm的范围内的槽间隙G。较小的槽间隙G可以允许减小的湿膜厚度。在槽珠模式中，较高的涂布速度可以实现具有大于10μm的湿膜厚度。
液体涂布工艺可以具有在从约0.1m/min至约1000m/min的范围内，例如从约25m/min至约950m/min的范围内，例如从约100m/min至约900m/min的范围内并且作为另外的实例从约200m/min至约850m/min的范围内的涂布速度。在一个方面中，涂布速度大于约150m/min，并且在另外的实例中大于约500m/min。
在一个方面中，用于珠模式液体涂布工艺的涂布速度可以在从约0.1m/min至约600m/min的范围内，并且例如从约50m/min至约150m/min的范围内。在另一个方面中，用于幕模式液体涂布工艺的涂布速度可以在从约200m/min至约1500m/min的范围内，并且例如从约300m/min至约1200m/min的范围内。
如图8中示出的，溶剂可以从湿膜中蒸发，例如在湿膜被固化之前。在一个方面中，在将SLML 14、14’固化之前，约100％，例如约99.9％，并且作为另外的实例，约99.8％的溶剂可以从SLML 14、14’的组合物中被蒸发。在另外的方面中，微量的溶剂可以存在于固化的/干燥的SLML 14、14’中。在一个方面中，具有较大的初始重量百分比的溶剂的湿膜可以产生具有减小的膜厚度H的干膜。特别地，具有高重量百分比的溶剂并且以高的湿膜厚度D沉积的湿膜可以产生具有低干膜厚度H的SLML 14、14’。重要的是应注意，在将溶剂蒸发之后，湿膜保持为液体，从而避免在液体涂布工艺中的随后的固化步骤期间诸如结皮(skinning)和岛状物形成(island formation)的问题。
湿膜的动态粘度可以在从约0.5cP至约50cP的范围内，例如从约1cP至约45cP的范围内，并且作为另外的实例从约2cP至约40cP的范围内。粘度测量温度是25℃，使用以0.025mm的间隙设置的具有0.3°角度的40mm直径圆锥体/板，用装配有溶剂阱(solventtrap)的Anton Paar MCR 101流变仪测量流变学。
在一个方面中，SLML 14、14’的组成和溶剂可以被选择，使得对于使用液体涂布工艺的SLML的精密涂布(precision coating)，湿膜呈现出牛顿行为(Newtonian behavior)。湿膜可以呈现出高达10,000s-1和更高的牛顿行为剪切速率。在一个方面中，对于高达25m/min的涂布速度，用于液体涂布工艺的剪切速率可以是1000s-1，例如对于高达100m/min的涂布速度，剪切速率可以是3900s-1，并且作为另外的实例，对于高达200m/min的涂布速度，剪切速率可以是7900s-1。将理解，最大剪切速率可以在非常薄的湿膜例如1μm厚的湿膜上发生。
随着湿膜厚度增加，可以预计剪切速率降低，例如对于10μm湿膜，降低15％，并且作为另外的实例，对于20μm湿膜，降低30％。
溶剂从湿膜中蒸发可以引起粘度行为变化成假塑性，这可以有益于实现精密SLML。在任何溶剂已经被蒸发之后，沉积的第一SLML 14和第二SLML 14’的动态粘度可以在从约10cP至约3000cP的范围内，例如从约20cP至约2500cP的范围内，并且作为另外的实例，从约30cP至约2000cP的范围内。当将溶剂(如果存在)从湿膜中蒸发时，可以存在假塑性行为的粘度增加。假塑性行为可以允许湿膜的自流平。
在一个方面中，该方法可以包括使用已知技术蒸发存在于湿膜中的溶剂。蒸发溶剂所需的时间的量可以取决于网/基底的速度和干燥器容量。在一个方面中，干燥器(未示出)的温度可以小于约120℃，例如小于约100℃，并且作为另外的实例，小于约80℃。
可以使用已知技术来固化使用液体涂布工艺沉积的湿膜。在一个方面中，可以使用固化剂，利用紫外光、可见光、红外或电子束中的至少一种来固化湿膜。固化可以在惰性气氛或环境气氛中进行。在一个方面中，固化步骤利用具有约395nm的波长的紫外光源。紫外光源可以以在从约200mJ/cm2至约1000mJ/cm2的范围内，例如在从约250mJ/cm2至约900mJ/cm2的范围内，并且作为另外的实例在从约300mJ/cm2至约850mJ/cm2的范围内的剂量被应用至湿膜。
湿膜可以通过已知技术来交联。非限制性实例包括光诱导的聚合，例如自由基聚合、光谱敏化光诱导的自由基聚合、光诱导的阳离子聚合、光谱敏化光诱导的阳离子聚合和光诱导的环加成；电子束诱导的聚合，例如电子束诱导的自由基聚合、电子束诱导的阳离子聚合和电子束诱导的环加成；以及热诱导的聚合，例如热诱导的阳离子聚合。
使用液体涂布工艺形成的SLML 14、14’可以呈现出改进的光学性能，即，是精密SLML。在某些实例中，精密SLML 14、14’可以被理解成意指具有横跨层小于约3％光学厚度变化、约5％光学厚度变化或约7％光学厚度变化的SLML。
在一个方面中，液体涂布工艺可以包括调节以下中的至少一种：从约5m/min至约100m/min的速度和从约50μm至约100μm的涂布间隙，以沉积选择性光调制剂层的从约2μm至10μm的湿膜，所述选择性光调制剂层具有从约500nm至约1500nm的预先确定的厚度。在另外的方面中，该工艺可以包括30m/min的速度、75μm间隙、10μm湿膜、1.25μm干膜厚度。
在一个实例中，SLML包括使用溶剂染料作为SLMM的脂环族环氧树脂主体，反射体包含铝。
在一个实例中，SLML包括使用二酮吡咯并吡咯(diketopyrrolopyrrole)不溶性红色染料作为SLMP的脂环族环氧树脂主体，反射体包含铝。
在一个实例中，SLML包括使用白色颜料(二氧化钛)作为SLMP的丙烯酸酯低聚物树脂主体。
在一个实例中，SLML包括使用黑色IR透明颜料作为SLML的丙烯酸酯低聚物树脂主体，反射体包含铝。
在另一个方面中，漂浮剂(leafing agent)可以作为层被应用，使得所得到的颜料薄片可以与其表面对齐涂料表面。颜料薄片可以是不对称堆叠的层。具有不对称堆叠的颜料和漂浮剂可以降低材料成本和涂布成本；可以在液体介质中自定向，从而减少对颜料薄片纵横比的限制；并且可以使用如本文描述的液体涂布工艺来形成。
用于制造物品的方法包括：沉积反射体层；以及沉积第一选择性光调制剂层；其中使用液体涂布工艺来沉积第一选择性光调制剂层。在某些实例中，所述方法还包括沉积第一吸收剂层，其中所述第一选择性光调制剂层是非吸收性和吸收性中的至少一种。在某些实例中，所述方法还包括沉积第二选择性光调制剂层，其中所述第一选择性光调制剂层是非吸收性的。在某些实例中，所述方法还包括将含磁性层沉积在所述基底和所述反射体层之间。在某些实例中，所述方法还包括沉积第一吸收剂层，其中所述第一选择性光调制剂层是非吸收性的。在某些实例中，使用液体涂布工艺来沉积所述第二选择性光调制剂层。
从前面的描述中，本领域技术人员可以理解本教导可以以多种形式被实施。因此，虽然已经结合其特定的实施方案和实施例描述了这些教导，但本教导的真实范围不应当被如此限制。可以进行各种变化和修改，而不偏离本文中教导的范围。
此范围公开内容将被广泛地解释。意图本公开内容公开实现本文公开的装置、活动和机械动作的等效物、设备、体系和方法。对于所公开的每种装置、物品、方法、设备、机械元件或机构，意图本公开内容也涵盖在其公开内容中，并教导用于实践本文公开的许多方面、机构和装置的等效物、设备、体系和方法。另外，本公开内容涉及涂层及其许多方面、特征和元件。这样的装置在其使用和操作中可以是动态的，本公开内容意图涵盖使用该装置和/或制造的光学器件的等效物、设备、体系和方法，以及其与本文中公开的操作和功能的描述和精神一致的许多方面。本申请的权利要求同样将被广泛地解释。在本文中，本发明的描述在其许多实施方案中本质上仅仅是示例性的，并且因此，不偏离本发明主旨的变化意图在本发明的范围内。这样的变化不应被视为偏离本发明的精神和范围。

Claims (10)

1.一种物品，包括：
反射体，所述反射体具有第一表面、与所述第一表面相对的第二表面、和第三表面；以及
第一选择性光调制剂层，所述第一选择性光调制剂层在所述反射体的所述第一表面的外部；
其中所述反射体的所述第三表面是开放的。
2.如权利要求1所述的物品，还包括第一吸收剂层，所述第一吸收剂层在所述第一选择性光调制剂层的外部；
其中所述第一选择性光调制剂层是非吸收性和吸收性中的至少一种。
3.如权利要求2所述的物品，还包括第二选择性光调制剂层，所述第二选择性光调制剂层在所述第一吸收剂层的外部；
其中所述第一选择性光调制剂层是非吸收性的，并且所述第二选择性光调制剂层是吸收性的。
4.如权利要求1所述的物品，还包括含磁性层，所述含磁性层具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面；
其中所述反射体在所述含磁性层的所述第一表面的外部。
5.如权利要求4所述的物品，还包括第一吸收剂层，所述第一吸收剂层在所述第一选择性光调制剂层的外部；
其中所述第一选择性光调制剂层是非吸收性的。
6.如权利要求1所述的物品，还包括释放层。
7.如权利要求1所述的物品，其中所述物品是薄片。
8.如权利要求1所述的物品，具有层状形状。
9.一种物品，包括：
透明层，所述透明层具有第一表面、与所述第一表面相对的第二表面、和第三表面；以及
第一选择性光调制剂层，所述第一选择性光调制剂层在所述透明层的所述第一表面的外部；
其中所述透明层的所述第三表面是开放的。
10.如权利要求9所述的物品，还包括第二选择性光调制剂层，所述第二选择性光调制剂层在所述透明层的所述第二表面的外部。
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