KR20200002667A - 비대칭 층 구조를 가진 광학 장치 - Google Patents

비대칭 층 구조를 가진 광학 장치 Download PDF

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Abstract

제1 표면, 제1 표면과 대향하는 제2 표면, 및 제3 표면을 갖는 반사기; 및 반사기의 제1 표면의 외측에 있는 제1 선택적 광변조기 층을 포함하며, 반사기의 제3 표면은 개방되어 있는 물품이 개시된다. 물품의 제조방법이 또한 개시된다.

Description

비대칭 층 구조를 가진 광학 장치{OPTICAL DEVICES WITH ASYMMETRIC LAYER STRUCTURE}
본 발명은 전반적으로 포일(foil), 시트(sheet) 및/또는 플레이크(flake) 형태의 광학 장치와 같은 물품에 관한 것이다. 광학 장치는 제1 표면을 갖는 반사기(reflector); 및 제1 표면 반사기 외측에 있는 제1 선택적 광변조기 층("SLML": Selective Light Modulator Layer)을 포함할 수 있다. 광학 장치는 제1 표면을 갖는 투명층; 및 투명층의 제1 표면 외측에 있는 제1 SLML을 또한 포함할 수 있다. 광학 장치를 만드는 방법이 또한 개시된다.
플레이크를 포함하여 다양한 광학 장치가 향상된 광학 특성을 갖는 소비자용 응용제품의 일 특징으로 사용된다. 일부 소비자용 응용제품에서는, 색변이(color shift)가 적거나 없는 금속성 효과와 광학적으로 변화하는 효과가 바람직하다. 안타깝게도, 현재의 제조방법은, 색채감이 충분하지 못하고/하거나 충분히 강한 금속성 플롭(flop)을 제공하지 못하는 광학 장치를 초래한다. 다른 방법은 다중 층 도장(paint) 시스템을 필요로 하는데, 이는 제조비용을 증가시키며 해당 산업계의 표준적인 제조 장비 범위 내에서 작동하지 않는다.
일 양상에서, 제1 표면, 제1 표면과 대향하는 제2 표면, 및 제3 표면을 갖는 반사기; 및 반사기의 제1 표면 외측에 있는 제1 선택적 광변조기 층을 포함하며, 반사기의 제3 표면은 개방되어 있는 물품이 개시된다.
일 양상에서, 제1 표면, 제1 표면과 대향하는 제2 표면, 및 제3 표면을 갖는 투명층: 및 투명 층의 제1 표면의 외측에 있는 제1 선택적 광변조기 층을 포함하며, 투명 층의 제3 표면은 개방되어 있는 물품이 개시된다.
다른 일 양상에서, 반사기 층을 증착시키는 단계; 및 제1 선택적 광변조기 층을 증착시키는 단계를 포함하며, 제1 선택적 광변조기 층은 액체 코팅 공정을 사용하여 증착되는, 물품 제조방법이 개시된다.
다양한 실시형태의 추가적인 특징과 이점은, 일부는 이하 발명의 상세한 설명에 개시되고, 일부는 이하 발명의 상세한 설명으로부터 자명할 것이며, 또는 다양한 실시형태를 실시함으로써 깨닫게 될 수 있다. 다양한 실시형태의 목적과 다른 장점은 본 명세서의 발명의 상세한 설명에 특히 지적된 요소들과 조합에 의해 실현되고 달성될 것이다.
본 발명의 여러 양상과 실시형태는 발명의 상세한 설명과 첨부도면으로부터 더욱 충실히 이해될 수 있으며, 도면에서:
도 1은 본 발명의 일 양상에 따른 물품의 단면도;
도 2는 본 발명의 다른 일 양상에 따른 물품의 단면도;
도 3은 본 발명의 다른 일 양상에 따른 물품의 단면도;
도 4는 본 발명의 다른 일 양상에 따른 물품의 단면도;
도 5는 본 발명의 다른 일 양상에 따른 물품의 단면도;
도 6은 본 발명의 다른 일 양상에 따른 물품의 단면도;
도 7은 본 발명의 다른 일 양상에 따른 물품의 단면도; 및
도 8은 본 발명의 일례에 따른, SLML 층과 같은 층의 증착을 나타내는 액체 코팅 공정의 단면도.
본 명세서와 도면 전체에서 유사한 참조 부호는 유사한 요소를 나타낸다.
앞서의 일반적인 설명과 이하의 상세한 설명은 예시 및 설명을 위한 것일 뿐이며, 본 발명의 다양한 실시형태의 설명을 제공하도록 의도된 것임을 이해하여야 한다. 본 발명의 넓고 다양한 실시형태에서, 본 명세서에 개시된 것은 예컨대 포일, 시트, 및 플레이크 형태로 된 광학 장치와 같은 물품과; 상기 물품의 제조방법이다. 일례로, 안료, 광학적 식별자(taggant), 및 광학 보안 장치와 같은 광학 장치를 포함하는 물품은 구조가 단순화되고 층 개수가 줄어들도록 제조됨으로써 제조비용을 저감시킬 수 있다. 추가적으로, 플레이크와 유사한 형태의 물품은 보다 높은 종횡비의 입자를 제공함으로써 더 나은 정렬과 향상된 광학 특성을 제공할 수 있다. 더욱이, 비대칭 층 구조는 플레이크의 대향 측면이 상이한 시각적 및 비시각적 속성을 제공할 수 있는 플레이크를 제공할 수 있다.
본 명세서에서 사용되는 바와 같이, "반사하다" 및 그 파생어는 빛의 반사를 지칭하는 것이다. 본 명세서에서 사용되는 바와 같이, "흡수하다" 및 그 파생어는 빛의 흡수를 지칭하는 것이다.
도면에 도시된 물품(10)은 광학적 간섭, 광 흡수, 광 반사, 광 산란, 및 이들의 조합으로부터 선택된 특성을 나타낼 수 있다. 본 명세서에 개시된 물품(10)은, 일부 양상에서는, 광학적 간섭을 나타낼 수 있다. 대안적으로, 일부 예에서, 물품(10)은 광학적 간섭을 나타낼 수 없다. 일 양상에서, 물품(10)은 색상을 생성하기 위하여 간섭을 활용할 수 있다. 다른 일 양상에서, 물품(10)은 색상을 생성하기 위하여 간섭을 활용할 수 없다. 예를 들어, 아래에서 더욱 자세히 설명하는 바와 같이, 색상의 외관은 선택적 광변조기 시스템(SLMS), 예를 들어, 첨가물, 선택적 광변조기 입자(SLMP) 또는 선택적 광변조기 분자(SLMM)를 선택적 광변조기 층(SLML)에 포함함으로써 생성될 수 있다.
일 양상에서, 물품(10)은 물체 또는 기판 위에 사용될 수 있는 시트 형태일 수 있다. 다른 일 양상에서, 물품(10)은 포일 또는 플레이크 형태일 수 있다. 예를 들어, 물품(10)은 박판 형태)를 가질 수 있다. 일 양상에서, 광학 장치는 물품(10)을 포함할 수 있다. 다른 일 양상에서, 조성물이 광학 장치와 액체 매개물을 포함할 수 있다. 조성물은 잉크, 바니쉬, 페인트 등일 수 있다. 다른 일 양상에서, 물품(10)은, 예를 들어, 두께가 100㎚에서 100㎛까지이고 크기가 100㎚에서 1㎜까지인, 플레이크 형태의 광학 장치이다. 물품(10)은 색상 변이용 착색제일 수 있고, 또는 화폐의 보안 특징으로 사용될 수 있다. 물품(10)의 사용에 공통적인 일부 속성은 높은 색도 (또는 강한 색상), 보는 각도에 따른 색상 변화(각도 색도(goniochromaticity) 또는 무지갯빛 현상으로도 알려짐), 및 플롭(보는 각도가 달라짐에 따라 밝기, 색조, 또는 색도가 변화하는 반사성 및 금속성 외관)을 포함할 수 있다. 추가적으로, 물품(10)은 금속성 색상일 수 있고, 간섭을 활용하여 색상을 생성할 수 없다.
도면이 광학 장치 등의 물품(10)을 시트 형태로 도시하고 있지만, 본 발명의 다양한 양상에 따르면, 광학 장치 등의 물품(10)은 플레이크 및/또는 포일의 형태로도 될 수 있다. 추가적으로, 도면이 특정 층을 특정 순서대로 도시하고 있지만, 물품(10)이 임의의 개수의 층을 임의의 순서로 포함할 수 있음을 해당 기술분야의 통상의 기술자라면 알 수 있을 것이다. 추가적으로, 임의의 특정 층의 조성물은 임의의 다른 층의 조성물과 같을 수도 있고 다를 수도 있다. 예를 들어, 제1 선택적 광변조기 층(SLML)은 제2 선택적 광변조기 층(SLML)과 동일하거나 또는 다른 조성물일 수 있다. 더욱이, 임의의 특정 층의 물리적 특성이 임의의 다른 층의 물리적 특성과 같거나 또는 다를 수 있다. 예를 들어, 제1 SLML(14)은 제1 굴절 지수의 조성물을 가질 수 있지만, 동일 물품(10) 내의 제2 SLML(14')은 상이한 굴절 지수의 상이한 조성물을 가질 수 있다. 다른 실시형태로서, 제1 SLML(14)은 제1 두께의 조성물을 가질 수 있지만, 제2 SLML(14')은 제1 두께와 상이한 제2 두께의 동일한 조성물을 가질 수 있다.
도 1에 도시된 바와 같이, 물품(10)은 제1 표면, 제1 표면과 대향하는 제2 표면, 및 제3 표면을 갖는 반사기(16); 및 반사기(16)의 제1 표면 외측에 있는 제1 선택적 광변조기 층(16)을 포함할 수 있고, 반사기(16)의 제3 표면은 개방되어 있다.
반사기(16)는 광대역 반사기, 예를 들어, 분광 및 램버시안 반사기(예컨대, 백색 TiO2)일 수 있다. 반사기(16)는 금속, 비금속, 또는 금속합금일 수 있다. 일례로, 반사기(16)의 재료는 희망 스펙트럼 범위에서 반사특성을 갖는 임의의 재료를 포함할 수 있다. 예를 들면, 희망 스펙트럼 범위에서 반사율이 5%에서 100%까지 범위에 있는 임의의 재료이다. 반사 재료의 일례로, 우수한 반사율 특성을 가지고, 비싸지 않으며, 얇은 층으로 성형하거나 증착시키기 용이한 알루미늄이 있다. 다른 반사 재료들 또한 알루미늄을 대신하여 사용될 수 있다. 예를 들어, 구리, 은, 금, 백금, 팔라듐, 니켈, 코발트, 니오븀, 크롬, 주석, 및 이들 또는 다른 금속들의 조합 또는 합금이 반사 재료로 사용될 수 있다. 일 양상에서, 반사기(16)의 재료는 백색 또는 밝은 색의 금속일 수 있다. 다른 예에서는, 반사기(16)는 전이 금속과 란탄족 금속 및 이들의 조합뿐 아니라, 금속 탄화물, 금속 산화물, 금속 질화물, 금속 황화물, 이들의 조합, 또는 이들 재료 중 하나 이상과 금속의 혼합물을 포함할 수 있으나, 이들로 한정되는 것은 아니다.
반사기(16)의 두께는 약 5㎚에서 약 5000㎚까지의 범위에 있지만, 이 범위는 한정적인 것으로 받아들여져서는 안 된다. 예를 들어, 반사기(16)가 최대 투과율 0.8을 제공할 수 있도록 더 낮은 두께 하한이 선택될 수 있다. 추가적으로, 또는 대안적으로, 알루미늄을 포함하는 반사기(16)에 대해서는, 광학밀도(OD: Optical Density)가 약 550㎚의 파장에서 약 0.1부터 약 4까지가 될 수 있다.
충분한 광학 밀도를 획득하고 및/또는 원하는 효과를 달성하기 위해서는, 반사기(16)의 조성에 따라 더 높거나 더 낮은 최소 두께가 요구될 수 있다. 일부 예에서는, 상한이 약 5000㎚, 약 4000㎚, 약 3000㎚, 약 1500㎚, 약 200㎚, 및/또는 약 100㎚일 수 있다. 일 양상에서, 반사기(16)의 두께는 약 10㎚부터 약 5000㎚까지, 예를 들어, 약 15㎚부터 약 4000㎚까지, 약 20㎚부터 약 3000㎚까지, 약 25㎚부터 약 2000㎚까지, 약 30㎚부터 약 1000㎚까지, 약 40㎚부터 약 750㎚까지, 또는 약 50㎚부터 약 500㎚까지, 예컨대 약 60㎚부터 약 250㎚까지, 또는 약 70㎚부터 약 200㎚까지의 범위에 있을 수 있다.
도면에 나타낸 바와 같이, 반사기(16)의 적어도 2개의 표면/측면, 예를 들어, 도시된 우측(제3) 및 좌측(제4) 표면/측면에는 SLML(14)이 없을 수 있다. 일 양상에서, 물품(10)이 플레이크 또는 포일 양상이라면, 반사기(16)는 도면에 예시되어 있는 4개의 표면보다 더 많이 포함할 수 있다. 이러한 경우, 예컨대 반사기(16)의 1, 2, 3, 4 또는 5개의 표면에는 SLML(14)이 없을 수 있다. 일부 예에서는, 반사기(16)의 1, 2, 3, 4 또는 5개의 표면이 공기 중에 개방될 수 있고, 이에 따라 물품(10)도 공기 중에 개방될 수 있다. 일례에서, 외부 SLML(14)을 포함하지 않는 반사기(16)의 개방된 측면, 즉, 표면은 플롭을 위한 장점이 될 수 있다.
도 1을 재차 참조하면, 물품(10)은 반사기(16)의 제1 표면의 외측에 있는 제1 선택적 광변조기 층(SLML)(14)을 포함할 수 있다. SLML은, 파장이 약 0.2㎛에서 약 20㎛ 범위에 있는 전자기 방사 스펙트럼의 상이한 선택된 영역에서, 광 강도를 변조(흡수 및/또는 방출)하는 것을 목적으로 하는 복수의 광학적 기능을 포함하고 있는 물리적 층이다. 도 1의 물품(10)은 선택적 SLMS(아래에서 더 자세히 논의함)에 의해 제공된 흡수를 수단으로 하여 SLML(14)이 선택적으로 광을 변조할 수 있는 비대칭 층 구조를 포함한다. 특히, 물품(10)은 특정 파장의 에너지, 예컨대 광을 선택적으로 흡수하는 SLML(14)을 포함할 수 있다.
SLML(14)(및/또는 SLML(14) 내의 재료)은 선택적으로 광을 변조할 수 있다. 예를 들어, SLML(14)은 특정 파장에서의 전송량을 제어할 수 있다. 일부 예에서, SLML(14)은 특정 파장의 에너지(예를 들어, 가시 영역 및/또는 비가시 영역에서)를 선택적으로 흡수할 수 있다. 예를 들어, SLML(14)은 "유색(colored) 층" 및/또는 "파장 선택적 흡수 층"일 수 있다. 일부 예에서, 흡수된 특정 파장은 물품(10)이 특정 색상처럼 보이게 할 수 있다. 예를 들어, SLML(14)은 사람 눈에 적색으로 보일 수 있다(예컨대, SLML(14)은 약 620㎚ 이하의 빛의 파장을 흡수함으로써 적색으로 보이는 에너지 파장을 반사 또는 전송할 수 있다). 이는 착색제인 선택적 광변조기 입자(SLMP)(예컨대, 유기 및/또는 무기 안료 및/또는 염료)를, 폴리머를 포함하되 이에 한정되지 않는 유전성(dielectric) 물질 등의 호스트(host) 물질에 첨가함으로써 달성될 수 있다. 예를 들어, 일부 경우에는, SLML(14)은 유색 플라스틱일 수 있다.
일부 예에서는, 흡수된 특정 파장의 일부 또는 전부가 가시 영역에 있을 수 있다(예컨대, SLML(14)은 가시 영역 전체에 걸쳐 흡수하되 적외선 영역에서는 투명할 수 있다). 이렇게 만들어진 물품(10)은 검정색으로 보이지만, 적외선 영역에서 빛을 반사할 것이다. 전술한 일부 예에서, 물품(10) 및/또는 SLML(14)의 흡수된 파장(및/또는 특정 가시 색상)은 적어도 부분적으로는 SLML(14)의 두께에 따라 달라질 수 있다. 추가적으로, 또는 대안적으로, SLML(14)에 의해 흡수된 에너지의 파장(및/또는 이러한 층 및/또는 플레이크가 나타내는 색상)은 부분적으로 SLML(14)에 특정한 특징을 부가함에 따라 달라질 수 있다. 특정 파장의 에너지를 흡수하는 것에 더하여, SLML(14)은 반사기(16)를 열화에 대비하여 강화하는 것; 기판으로부터 해제를 가능하게 하는 것; 사이징(sizing)을 가능하게 하는 것; 알루미늄 또는 다른 금속 및 반사기(16)에 사용된 재료의 산화와 같은 환경적 열화에 대한 저항력을 일부 제공하는 것; SLML(14)의 조성 및 두께에 기한 높은 광 전송, 반사, 및 흡수 성능 중 적어도 하나를 달성할 수 있다.
일부 예에서는, 특정 파장의 에너지 및/또는 가시광선의 파장을 선택적으로 흡수하는 SLML(14)에 더하여 또는 SLML의 대안으로서, 물품(10)의 SLML(14)은 굴절 지수를 제어할 수 있고/있거나SLML(14)은 굴절 지수를 제어할 수 있는 SLMP를 포함할 수 있다. SLML(14)의 굴절 지수를 제어할 수 있는 SLMP는 흡수를 제어하는 SLMP(예컨대 착색제)에 더하여 또는 그 대안으로서 호스트 재료에 포함될 수 있다. 일부 예에서, 호스트 재료는 SLML(14) 내의 흡수를 제어하는 SLMP 및 굴절 지수 SLMP의 양쪽 모두와 조합될 수 있다. 일부 예에서는, 동일한 SLMP가 흡수 및 굴절 지수 양쪽을 제어할 수 있다.
SLML(14)의 성능은 SLML(14) 내에 존재하는 재료의 선택에 기하여 결정될 수 있다. 일 양상에서, SLML(14)은 다음의 특성, 즉, 플레이크 핸들링, 부식, 정렬, 및 물품(10) 내부의 임의의 다른 층, 예컨대 반사기(16)의 환경적 성능 중 적어도 하나를 개선할 수 있다.
제1(및 선택적으로 제2, 제3, 제4 등) SLML(14) 각각은 독립적으로 단독 호스트 재료를 구성하거나, 또는 선택적 광변조기 시스템(SLMS)과 조합된 호스트 재료를 구성할 수 있다. 일 양상에서, 제1 SLML(14) 중 적어도 하나는 호스트 재료를 포함할 수 있다. 다른 일 양상에서, 제1 SLML(14) 중 적어도 하나는 호스트 재료 및 SLMS를 포함할 수 있다. SLMS는 선택적 광변조기 분자(SLMM), 선택적 광변조기 입자(SLMP), 첨가제, 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.
SLML(14)의 조성물은 약 0.01%부터 약 100%까지, 예컨대 약 0.05%부터 약 80%까지, 그리고 더욱 예를 들자면 약 1%부터 약 30%까지의 범위에 있는 고체 함량을 가질 수 있다. 일부 양상에서, 고체 함량은 3%보다 클 수 있다. 일부 양상에서, SLML(14)의 조성물은 약 3%부터 약 100%까지, 예컨대 약 4%부터 50%까지의 범위에 있는 고체 함량을 가질 수 있다.
제1 SLML(14)의 호스트 재료는 코팅 액체로 도포되고 광학적 및 구조적 목적에 알맞은 필름 형성 재료가 독립적으로 될 수 있다. 호스트 재료는, 추가적인 광변조기 특성을 물품(10)에 제공하기 위하여, 필요한 경우 선택적 광변조기 시스템(SLMS) 등의 게스트 시스템을 도입하기 위한 호스트(매트릭스)로 사용될 수 있다.
호스트 재료는 유전 물질일 수 있다. 추가적으로, 또는 대안적으로, 호스트 재료는 유기 폴리머, 무기 폴리머, 및 복합 재료 중 적어도 1종일 수 있다. 유기 폴리머의 비제한적 예로는 폴리에스터, 폴리올레핀, 폴리카보네이트, 폴리아마이드, 폴리이미드, 폴리우레탄, 아크릴, 아크릴레이트, 폴리비닐에스터, 폴리에터, 폴리티올, 실리콘, 플루오르카본, 및 이들의 다양한 코폴리머 등의 열가소성 수지 물질들; 에폭시, 폴리우레탄, 아크릴레이트, 멜라민 폼알데하이드, 요소 폼알데하이드, 및 페놀 폼알데하이드 등의 열경화성 수지 물질; 그리고 아크릴레이트, 에폭시, 비닐, 비닐 에스터, 스티렌, 및 실란 등의 에너지 경화성(energy curable) 물질이 포함된다. 무기 폴리머의 비제한적 예로는 실란, 실록산, 티탄산염, 지르콘산염, 알루민산염, 규산염, 포스파잔(phosphazanes), 폴리보라질렌(polyborazylenes), 및 폴리티아질(polythiazyls)이 포함된다.
제1 SLML(14)은 약 0.001 중량%부터 약 100 중량%까지 호스트 재료를 포함할 수 있다. 일 양상에서, 호스트 재료는 SLML(14)의 약 0.01 중량%부터 약 95 중량%까지, 예컨대 약 0.1 중량%부터 약 90 중량%까지, 그리고 더욱 예를 들자면 약 1 중량%부터 약 87 중량%까지의 범위에 있는 양으로 SLML(14) 내에 존재할 수 있다.
SLML(14) 내에 호스트 재료와 함께 사용하기 위한 SLMS는 각각 독립적으로 선택적 광변조기 입자(SLMP), 선택적 광변조기 분자(SLMM), 첨가제, 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. SLMS는 또한 다른 재료를 포함할 수 있다. SLMS는 관심 스펙트럼 범위(0.2㎛에서 20㎛)의 선택적 영역 또는 전체에서 (흡수, 반사율, 형광 발광 등에 의한) 전자기 방사의 진폭변조를 제공할 수 있다.
제1 SLML(14)은 각각 독립적으로 SLMS 내에 SLMP를 포함할 수 있다. SLMP는 호스트 재료와 결합되어 선택적으로 광변조를 제어하는 임의의 입자로서, 색상 변이 입자, 염료, 착색제를 포함하지만 이들로 한정되지 않는다. 착색제는 염료, 안료, 반사 안료, 색상 변이 안료, 양자점(quantum dot), 및 선택적 반사기 중 하나 이상을 포함한다. SLMP의 비제한적 예시로는 유기 안료, 무기 안료, 양자점, 나노입자(선택적으로 반사하고 및/또는 흡수하는), 마이셀(micelle) 등이 포함된다. 나노입자는 높은 굴절 지수값(약 550㎚ 파장에서 n > 1.6)을 갖는 유기 또는 금속유기 재료; TiO2, ZrO2, In2O3, In2O3-SnO, SnO2, FexOy(x 및 y는 각각 독립적으로 0보다 큰 정수임), 및 WO3 등의 금속 산화물; ZnS, 및 CuxSy(x 및 y는 각각 독립적으로 0보다 큰 정수임) 등의 금속 황화물; 칼코게나이드, 양자점, 금속 나노입자; 탄산염; 플루오린화물; 및 이들의 혼합물을 포함하지만, 이들로 한정되지는 않는다.
SLMM의 예에는 유기 염료, 무기 염료, 마이셀, 및 발색단(chromophore)을 함유하는 다른 분자 시스템이 포함되지만 이들로 한정되는 것은 아니다.
일부 양상에서, 제1 SLML(14)의 SLMS는 경화제, 및 코팅보조제 등의 첨가제를 적어도 1종 포함할 수 있다.
경화제는 호스트 재료의 경화, 유리화, 가교결합, 또는 중합을 개시할 수 있는 화합물 또는 재료일 수 있다. 경화제의 비제한적 예시로는 용제, (에너지에 의한 또는 화학적인) 라디칼 생성기, (에너지에 의한 또는 화학적인) 산 생성기, 응축 개시기, 및 산/염기 촉매가 포함된다.
코팅 보조제의 비제한적 예시로는 평활제, 습윤제, 소포제, 접착증진제, 항산화제, UV 안정제, 경화억제완화제(curing inhibition mitigating agent), 오염방지제, 부식억제제, 감광제, 2차 가교제, 및 향상된 적외선 건조를 위한 적외선 흡수제(infrared absorber)가 포함된다. 일 양상에서, 항산화제는 약 25ppm부터 약 5 중량%까지 범위에 있는 양으로 SLML(14)의 조성물 내에 존재할 수 있다.
제1 SLML(14)은 각각 독립적으로 용제를 포함할 수 있다. 용제의 비제한적 예시로는 에틸 아세테이트, 프로필 아세테이트, 및 부틸 아세테이트 등의 아세테이트; 아세톤; 물; 다이메틸 케톤(DMK), 메틸에틸 케톤(MEK), sec-부틸 메틸 케톤(SBMK), ter-부틸 메틸 케톤(TBMK), 사이클로펜탄온, 및 아니솔 등의 케톤; 프로필렌 글라이콜 메틸 에터, 및 프로필렌 글라이콜 메틸 에터 아세테이트 등의 글라이콜 및 글라이콜 유도체; 아이소프로필 알코올, 및 다이아세톤 알코올 등의 알코올; 말론산 등의 에스터; n-메틸 피롤리돈 등의 복소환식 용제, 톨루엔, 및 자일렌 등의 탄화수소; 글라이콜 에터 등의 유착 용제(coalescing solvent); 및 이들의 혼합물이 포함된다. 일 양상에서, 용제는 제1 SLML(14)의 총중량 대비 약 0 중량%부터 약 99.9 중량%까지, 예를 들어, 약 0.005 중량%부터 약 99 중량%까지, 그리고 더욱 예를 들자면 약 0.05 중량%부터 약 90 중량%까지 범위에 있는 양으로 제1 SLML(14')에 존재할 수 있다.
일부 예에서, 제1 SLML(14)는 (i) 광개시제, (ii) 산소억제완화 조성물, (iii) 평활제, 및 (iv) 소포제 중 적어도 1종을 갖는 조성물을 포함할 수 있다.
산소억제완화 조성물은 자유 라디칼 재료의 산소 억제를 완화시키는 데 사용될 수 있다. 분자 산소는 광개시제 민감제(sensitizer)의 삼중항 상태(triplet state)를 가라앉히거나 또는 자유 라디칼을 청소하여 저감된 코팅 특성 및/또는 미경화 액체 표면을 초래할 수 있다. 산소억제완화 조성물은 산소억제를 저감시키거나 또는 임의의 SLML(14)의 경화를 향상시킬 수 있다.
산소억제 조성물은 1종 이상의 화합물을 포함할 수 있다. 산소억제완화 조성물은 적어도 1종의 아크릴레이트, 예를 들어, 적어도 1종의 아크릴레이트 모노머 및 적어도 1종의 아크릴레이트 올리고머를 포함할 수 있다. 일 양상에서, 산소억제완화 조성물은 적어도 1종의 아크릴레이트 모노머 및 2종의 아크릴레이트 올리고머를 포함할 수 있다. 산소억제완화 조성물에 사용하기 위한 아크릴레이트의 비제한적 예시로는 아크릴레이트; 메타크릴레이트; 변형 에폭시 아크릴레이트 등의 에폭시 아크릴레이트; 산(acid) 기능성 폴리에스터 아크릴레이트, 테트라(tetra) 기능성 폴리에스터 아크릴레이트, 변형 폴리에스터 아크릴레이트, 및 바이오소스(bio-sourced) 폴리에스터 아크릴레이트 등의 폴리에스터 아크릴레이트; 아민 기능성 아크릴레이트 공개시제(co-initiators) 및 3급 아민 공개시제를 포함하는 아민 변형 폴리에터 아크릴레이트 등의 폴리에터 아크릴레이트; 방향족 우레탄 아크릴레이트, 변형 지방족 우레탄 아크릴레이트, 지방족 우레탄 아크릴레이트, 및 지방족 알로파네이트(allophanate)계 우레탄 아크릴레이트 등의 우레탄 아크릴레이트; 및 모노머 및 이들의 올리고머가 포함된다. 일 양상에서, 산소억제완화 조성물은 적어도 1종의 아크릴레이트 올리고머, 예컨대 2종의 올리고머를 포함할 수 있다. 적어도 1종의 아크릴레이트 올리고머는 폴리에스터 아크릴레이트 및 폴리에터 아크릴레이트, 예를 들어, 머캅토 변형 폴리에스터 아크릴레이트 및 아민 변형 폴리에터 테트라아크릴레이트로부터 선정/선택될 수 있다. 산소억제완화 조성물은 또한 적어도 1종의 모노머, 예컨대 1,6-헥산다이올 다이아크릴레이트를 포함할 수 있다. 산소억제완화 조성물은 제1 SLML(14)의 총중량에 대하여 약 5 중량%부터 약 95 중량%까지, 예를 들어, 약 10 중량%부터 약 90 중량%까지, 그리고 더욱 예를 들자면 약 15 중량%부터 약 85 중량%까지 범위에 있는 양으로 제1 SLML(14)에 존재할 수 있다.
일부 예에서, SLML(14)의 호스트 재료는 비라디칼 경화 시스템, 예컨대 양이온 시스템을 사용할 수 있다. 양이온 시스템은 자유 라디칼 프로세스의 산소 억제의 완화에 덜 민감하며, 따라서 산소억제완화 조성물을 필요로 하지 않을 수도 있다. 일례에서, 모노머 3-에틸-3-하이드록시메틸옥세탄의 사용은 산소 완화 조성물을 필요로 하지 않는다.
일 양상에서, 제1 SLML(14)은 각각 독립적으로 적어도 1종의 광개시제, 예컨대 2종의 광개시제, 또는 2종의 광개시제를 포함할 수 있다. 광개시제는 더 짧은 파장에 대해 사용될 수 있다. 광개시제는 화학선(actinic) 파장에 대해 활성화될 수 있다. 광개시제는 타입I 광개시제 또는 타입II 광개시제일 수 있다. SLML(14)은 타입I 광개시제만을 포함하거나, 타입II 광개시제만을 포함하거나, 또는 타입I 및 타입II 광개시제 모두의 조합을 포함할 수 있다. 광개시제는 제1 SLML(14)의 조성물의 총중량 대비 약 0.25 중량%부터 약 15 중량%까지, 예를 들어, 약 0.5 중량%부터 약 10 중량%까지, 그리고 더욱 예를 들자면 약 1 중량%부터 약 5 중량%까지 범위에 있는 양으로 제1 SLML(14)의 조성물에 존재할 수 있다.
광개시제는 포스핀옥사이드일 수 있다. 포스핀옥사이드는, 모노아실 포스핀옥사이드 및 비스아실 포스핀옥사이드를 포함할 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다. 모노아실 포스핀옥사이드는 다이페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀옥사이드일 수 있다. 비스아실 포스핀옥사이드는 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드일 수 있다. 일 양상에서, 적어도 1종의 포스핀옥사이드가 SLML(14)의 조성물에 존재할 수 있다. 예를 들어, 2종의 포스핀 옥사이드가 SLML(14)의 조성물에 존재할 수 있다.
민감제가 SLML(14)의 조성물에 존재할 수 있고, 타입I 및/또는 타입II 광개시제용 민감제로 작용할 수 있다. 민감제는 또한 타입II 광개시제로 작용할 수 있다. 일 양상에서, 민감제는 제1 SLML(14)의 조성물의 총중량 대비 약 0.05 중량%부터 약 10 중량%까지, 예를 들어, 약 0.1 중량%부터 약 7 중량%까지, 그리고 더욱 예를 들자면 약 1 중량%부터 약 5 중량%까지 범위에 있는 양으로 SLML(14)의 조성물에 존재할 수 있다. 민감제는 티옥산톤, 예컨대 1-클로로-4-프로폭시티옥산톤일 수 있다.
일 양상에서, SLML(14)은 평활제를 포함할 수 있다. 평활제는 폴리아크릴레이트일 수 있다. 평활제는 SLML(14)의 조성물의 크레이터링(cratering)을 제거할 수 있다. 평활제는 SLML(14)의 조성물의 총중량 대비 약 0.05 중량%부터 약 10 중량%까지, 예를 들어, 약 1 중량%부터 약 7 중량%까지, 그리고 더욱 예를 들자면 약 2 중량%부터 약 5 중량%까지 범위에 있는 양으로 SLML(14)의 조성물에 존재할 수 있다.
제1 SLML(14)은 또한 소포제를 포함할 수 있다. 소포제는 표면장력을 감소시킬 수 있다. 소포제는 무실리콘 액체 유기 폴리머일 수 있다. 소포제는 SLML(14)의 조성물의 총중량 대비 약 0.05 중량%부터 약 5 중량%까지, 예를 들어, 약 0.2 중량%부터 약 4 중량%까지, 그리고 더욱 예를 들자면 약 0.4 중량%부터 약 3 중량%까지 범위에 있는 양으로 SLML(14)의 조성물에 존재할 수 있다.
제1 SLML(14)은 각각 독립적으로 약 1.5보다 크거나 작은 굴절 지수를 가질 수 있다. 예를 들어, 각 SLML(14')은 대략 1.5의 굴절 지수를 가질 수 있다. 각 SLML(14)의 굴절 지수는, 색상 이동(color travel)이 L*a*b* 색공간에서 측정된 보는 각도에 따른 색조 각도의 변화로 정의될 수 있을 때, 필요한 색상 이동의 정도를 제공하도록 선택될 수 있다. 일부 예시에서, 각 SLML(14')은 약 1.1부터 약 3.0까지, 약 1.0부터 약 1.3까지, 또는 약 1.1부터 약 1.2까지의 범위에 있는 굴절 지수를 포함할 수 있다. 일부 예시에서, 각 SLML(14)의 굴절 지수는 약 1.5보다 작거나, 약 1.3보다 작거나, 또는 약 1.2보다 작을 수 있다. 일부 예시에서, 하나 이상의 SLML이 물품(10)에 존재한다면, SLML(14)은 다른 SLML과 실질적으로 동일한 굴절 지수를 갖거나 상이한 굴절지수를 가질 수 있다.
제1 SLML(14)은 약 1㎚부터 약 10000㎚까지, 약 10㎚부터 약 1000㎚까지, 약 20㎚부터 약 500㎚까지, 약 1㎚부터 약 100㎚까지, 약 10㎚부터 약 1000㎚까지, 약 1㎚부터 약 5000㎚까지 범위에 있는 두께를 가질 수 있다. 일 양상에서, 광학 장치와 같은 물품(10)은 1:1에서 1:50까지의 두께 대 넓이 비율을 가질 수 있다.
하지만, 본 명세서에 설명된 물품(10)의 장점 중 하나는, 일부 예시에서, 광학 효과들이 두께 변화에 상대적으로 둔감한 것으로 보인다는 것이다. 따라서, 일부 양상에서, 각 SLML(14)은 독립적으로 약 5% 이하의 광학적 두께의 변화를 가질 수 있다. 일 양상에서, 각 SLML(14)은 독립적으로 층 전역에서 약 3% 이하의 광학적 두께의 변화를 포함할 수 있다. 일 양상에서, SLML(14)은 약 50㎚의 두께를 갖는 층 전역에서 약 1% 이하의 광학적 두께의 변화를 독립적으로 가질 수 있다.
도 2에 도시된 바와 같이, 물품(10)은 제1 선택적 광변조기 층(14)의 외측에 있는 제1 흡수제 층(18)을 또한 포함할 수 있으며, 이때 제1 선택적 광변조기 층(14)은 비흡수성(non-absorbing) 및 흡수성(absorbing) 중 적어도 하나이다. 예를 들어, 제1 선택적 광변조기 층(14)은 흡수성일 수 있다. 다른 예시에서, 제1 선택적 광변조기 층(14)은 비흡수성일 수 있다. 추가적인 예시로서, 제1 선택적 광변조기 층(14)은 흡수성 SLML(14) 및 비흡수성 SLML(14) 층을 번갈아 포함할 수 있다.
도 2를 참조하면, 물품(10)은 제1 표면, 제1 표면과 대향하는 제2 표면, 및 제3 표면을 갖는 반사기(16); 반사기(16)의 제1 표면의 외측에 있고 비흡수성인 제1 SLML(14); 및 제1 SLML(14)의 외측에 있는 부분적 흡수제(18) 층을 포함할 수 있다. 도 2의 물품(10)은 광학 간섭 효과를 갖는 비대칭 층 구조일 수 있다.
또한 도 2를 참조하면, 물품(10)은 제1 표면, 제1 표면과 대향하는 제2 표면, 및 제3 표면을 갖는 반사기(16); 반사기(16)의 제1 표면의 외측에 있고 흡수성 SLML의 층과 비흡수성 SLML의 층을 번갈아 포함하는 SLML(14); 및 제1 SLML(14)의 외측에 있는 흡수제 층(18)을 포함할 수 있다. 흡수제 층(18)은 부분적 흡수성 층(18)일 수 있다. 이 양상에서, SLMS는 광 간섭 설계를 위해 필요할 수 있는 광 층 내로 직접 도입될 수 있다. SLML(14)은 흡수 및 간섭 효과의 조합에 의해 전자기 방사의 진폭을 변경할 수 있다. 특히, 도 2의 물품(10)은 광 간섭 및 흡수 효과를 갖는 비대칭 층 구조로 할 수도 있다.
도 3에 도시된 바와 같이, 물품(10)은 제1 흡수제 층(18)의 외측에 있는 제2 선택적 광변조기 층(14')을 또한 포함할 수 있으며, 이때 제1 선택적 광변조기 층(14)은 비흡수성이고 제2 선택적 광변조기 층(14')은 흡수성으로 할 수 있다. 특히, 물품(10)은 제1 표면, 제1 표면과 대향하는 제2 표면, 및 제3 표면을 갖는 반사기(16); 반사기(16)의 제1 표면의 외측에 있고 비흡수성 SLML을 포함하는 제1 SLML(14); 제1 SLML(14)의 외측에 있고, 부분적 흡수성인 흡수제 층(18); 및 흡수제 층(18)의 외측에 있는 제2 SLML(14')을 포함할 수 있으며, 여기서 제2 SLML(14')은 흡수성이다.
제1 흡수제 층(18)의 재료는 선택적 흡수성 재료와 비선택적 흡수성 재료 양쪽을 포함하여 임의의 흡수제 재료를 포함할 수 있다. 예를 들어, 제1 흡수제 층(18)은, 흡수제 층(18)이 적어도 부분적으로 흡수성이거나 또는 반투명인 소정 두께로 증착된 비선택적 흡수성 금속 재료로 형성될 수 있다. 비선택적 흡수성 재료의 예로는 크롬 또는 니켈과 같은 그레이메탈(gray metal)이 있을 수 있다. 선택적 흡수성 재료의 예로는 구리 또는 금이 있을 수 있다. 일 양상에서, 흡수성 재료는 크롬일 수 있다. 적합한 흡수제 재료의 비제한적 예시는 크롬, 알루미늄, 은, 니켈, 팔라듐, 백금, 티타늄, 바나듐, 코발트, 철, 주석, 텅스텐, 몰리브덴, 로듐, 니오븀과 같은 금속제 흡수제뿐 아니라, 탄소, 그래파이트, 실리콘, 게르마늄, 서멧(cermet), 산화철 또는 기타 금속 산화물, 유전체 매트릭스에 혼합된 금속, 그리고 가시 스펙트럼에서 균일 또는 선택적 흡수제로서 작동할 수 있는 다른 물질 등의 다른 흡수제를 포함한다. 흡수제 재료의 다양한 조합, 혼합물, 화합물 또는 합금이 흡수제 층(18)을 형성하는데 사용될 수 있다.
흡수제 재료의 적합한 합금의 예시는 인코넬(Ni-Cr-Fe), 스테인리스 스틸, 하스텔로이(Hastalloys)(Ni-Mo-Fe; Ni-Mo-Fe-Cr; Ni-Si-Cu), 및 카본과 혼합된 티타늄(Ti/C), 텅스텐과 혼합된 티타늄(Ti/W), 니오븀과 혼합된 티타늄(Ti/Nb), 및 실리콘과 혼합된 티타늄(Ti/Si)과 같은 티타늄 기반의 합금들, 그리고 이들의 조합을 포함할 수 있다. 흡수제 층(18)을 위한 적합한 화합물의 다른 예들은 규화티타늄(TiSi2), 붕소화티타늄(TiB2), 및 이들의 조합과 같은 티타늄 기반의 화합물들을 포함하지만 이들로 한정되는 것은 아니다. 대안적으로, 제1 흡수제 층(18)은 Ti의 매트릭스에 배열된 티타늄 기반 합금으로 구성될 수 있거나, 또는 티타늄 기반 합금의 매트릭스에 배열된 Ti로 구성될 수 있다. 예를 들어, 제1 흡수제 층(18)은 크롬을 포함할 수 있다.
제1 흡수제 층(18)은 코발트 니켈 합금과 같은 자성 재료로 형성될 수도 있다. 이는 필요한 재료의 개수를 줄임으로써 자성 색상 변이 장치 또는 구조의 제조를 간소화할 수 있다.
제1 흡수제 층(18)은, 흡수제 층 재료의 광학 상수와 희망 최대 변이에 따라서, 약 1㎚에서 약 50㎚까지, 예컨대 약 5㎚에서 약 10㎚까지의 범위에 있는 물리적 두께를 갖도록 형성될 수 있다. 하나 이상의 흡수제 층(18)이 물품(10) 내에 존재한다면, 각각의 흡수제 층(18)은 같은 재질 또는 다른 재질로 구성될 수 있고, 각 층에 대해 같거나 다른 물리적 두께를 가질 수 있다.
도 4에 도시된 바와 같이, 물품(10)은 제1 표면 및 제1 표면과 대향하는 제2 표면을 갖는 자성함유 층(12)을 더 포함할 수 있으며, 반사기 층(16)은 자성함유 층(12)의 제1 표면의 외측에 있다. 특히, 물품(10)은 제1 표면, 제1 표면과 대향하는 제2 표면, 및 제3 표면을 갖는 반사기(16); 반사기(16)의 제1 표면의 외측에 있는 제1 SLML(14); 및 제1 표면 및 제1 표면과 대향하는 제2 표면을 갖는 자성함유 층(12)을 포함할 수 있고, 이때 반사기 층(16)은 자성함유 층(12)의 제1 표면의 외측에 있다. 물품(10)은, 구조적 기능에 쓸모가 있거나 또는 자성, 배리어(barrier), 화학적 기능 등과 같은 다른 시각적 또는 비시각적 기능을 지탱하는 추가적인 캐리어(carrier)에 의해 SLML이 증강되는, 흡수성 비대칭 층 구조일 수 있다.
자성함유 층(12)은 자성 투과성 재료, 자성 배향성 재료, 자성 재료, 및 이들의 조합을 포함할 수 있다. 강자성체 및 강자성체 재료와 같은 자석 재료는 니켈, 코발트, 철, 가돌리늄, 테르븀, 디스프로슘, 에르븀, 및 이들의 합금 또는 산화물들을 포함하지만, 이들로 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 코발트와 니켈이 각각 약 80% 및 약 20%의 중량비를 갖는 코발트 니켈 합금이 사용될 수 있다. 코발트 니켈 합금에서 이들 금속 각각에 대한 이 비율은 약 10% 정도 가감하여 변경될 수 있다. 합금의 다른 예들로 Fe/Si, Fe/Ni, Fe/Co, Fe/Ni/Mo, Fe/Cr, Ni/Cr, 및 이들의 조합이 포함될 수 있으나, 이들로 한정되는 것은 아니다. 일 양상에서, 자성함유 층(12)은 산화철 입자를 함유한 폴리머를 포함할 수 있다. SmCo5, NdCo5, Sm2Co17, Nd2Fe14B, Sr6Fe2O3, TbFe2, Al-Ni-Co 타입, 및 이들의 조합의 강자기(hard magnetics)도 사용될 수 있고, 또한 Fe3O4, NiFe2O4, MnFe2O4, CoFe2O4 타입의 스피넬 페라이트(spinel ferrite), 또는 YIG 또는 GdIG 타입의 가넷(garnet), 및 이들의 조합도 사용될 수 있다. 일 양상에서, 자성 재료는 페라이트 스테인리스강일 수 있다. 자성 재료는 자성 특성뿐 아니라 반사 특성 또는 흡수 특성을 위해 선택될 수 있다. 자성함유 층(12)은 자성 및 비자성 입자를 갖는 재료, 또는 비자성 매개체 내의 자성 입자, 예를 들어, 졸겔(sol-gel) 기술을 사용하여 증착된 코발트 도핑 산화아연에 의해 형성될 수 있다.
이러한 넓은 범위의 자성 재료들이 사용될 수 있지만, 일 양상에서는 "연" 자석들이 사용될 수 있다. 본 명세서에서 사용되는 바와 같이, "연자석(soft magnets)" 이란 용어는 강자성 특성을 나타내지만 자력에 노출된 이후에 잔류자기가 실질적으로 0이 되는 임의의 재료를 지칭한다. 연자석은 인가된 자기장에 대해 신속한 응답을 나타낼 수 있지만, 자기신호(magnetic signature)가 매우 낮거나 ( 보자력장(Hc)=0.05-300 에르스텟(Oe)) 0이며, 또는 자기장이 제거된 후에 매우 낮은 자기력선을 유지한다. 유사하게, 본 명세서에서 사용되는 바와 같이, "경자석(hard magnets)"(영구자석으로도 지칭됨) 이란 용어는 강자성 특성을 나타내며 자화력에 노출된 이후에 잔류자기가 오래 지속되는 임의의 재료를 지칭한다. 강자성 재료는 투자율이 1보다 상당히 크고 자기이력(magnetic hysteresis) 특성을 나타내는 임의의 재료이다. 일 양상에서, 물품(10)의 배향을 가능하게 하는 한 어떤 자성 재료도 자성함유 층(12)에 사용될 수 있다.
자성함유 층(12)은 약 10㎚부터 약 100㎚까지, 예를 들어, 약 35㎚부터 약 45㎚까지, 그리고 더욱 예를 들자면 약 40㎚부터의 범위에 있는 두께를 가질 수 있다. 자성함유 층(12)은 해당 자성함유 층이 실질적으로 불투명하게 되는 소정 두께까지 증착될 수 있다. 일 양상에서, 자성함유 층(12)은 실질적으로 불투명하지 않게 되는 소정 두께까지 증착될 수 있다.
자성함유 층(12)은 마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering)을 포함하는 스퍼터링; 열증착; 전자빔증착; 및 음극 아크 증착을 비롯한 물리적 증착기술과 같은 종래의 증착 공정을 사용하여 형성될 수 있다. 일 양상에서, 자성함유 층(12)은 또한 액체 코팅 공정을 사용하여 형성될 수 있다.
도 5에 도시된 바와 같이, 물품(10)은 제1 SLML(14) 외측에 있는 제1 흡수제 층(18)을 더 포함할 수 있으며, 여기서 제1 SLML(14)은 비흡수성이다. 특히, 물품(10)은 제1 표면, 제1 표면과 대향하는 제2 표면, 및 제3 표면을 갖는 반사기(16); 반사기(16)의 제1 표면의 외측에 있는 제1 SLML(14); 제1 표면 및 제1 표면과 대향하는 제2 표면을 가진 자성함유 층(12)으로서, 가지고 반사기 층(16)이 제1 표면의 외측에 있는 상기 자성함유 층(12); 및 제1 SLML(14)의 외측에 있는 제1 흡수제 층(18)을 포함할 수 있다. 일 양상에서, 제1 SLML(14)은 비흡수성이고 흡수제 층(18)은 부분적으로 흡수성이며, 이로써 간섭 효과가 있는 물품(10)을 만들어낸다.
도 6에 도시된 바와 같이, 물품(10)은 제1 표면, 제1 표면과 대향하는 제2 표면, 및 제3 표면을 갖는 투명 층(20); 및 투명 층(20)의 제1 표면의 외측에 있는 제1 SLML(14)을 포함할 수 있으며, 이때 투명 층(20)의 제3 표면은 개방되어 있다. 예를 들어, 제1 SLML(14)은 흡수성의 적색 색상을 제공할 수 있다. 도 7에 도시된 바와 같이, 물품(10)은 투명 층(20)의 외측에 있는 제2 SLML(14')을 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 이 물품(10)은 투명 층(20)을 사이에 끼운 두 상이한 흡수성 SLML(14, 14')을 포함할 수 있다. 제1 SLML(14)은 색상이 적색이고 제2 SLML(14)은 색상이 청색일 수 있다.
다른 일 양상에서, 제1 표면, 제1 표면과 대향하는 제2 표면, 및 제3 표면을 갖는 반사기(16); 반사기 층(16)의 제1 표면의 외측에 있는 제1 SLML(14); 및 반사기 층(16)의 제2 표면의 외측에 있는 제2 SLML(14')을 포함하는 물품(10)이 개시되어 있다. 제1 SLML(14)은, 예컨대 층에 존재하는 재료 및/또는 각 층의 물리적 특성의 관점에서, 제2 SLML(14')과 동일하거나 또는 상이할 수 있다.
일 양상에서, 플레이크, 포일 또는 시트 형태의 광학 장치와 같은 물품(10)은 기판(substrate) 및/또는 이형층(release layer)을 또한 포함할 수 있다. 일 양상에서, 이형층은 기판 및 물품(10) 사이에 배치될 수 있다.
추가적으로, 또는 대안적으로, 플레이크, 포일 또는 시트 형태의 물품(10)은 물품(10) 위에 하드코팅 또는 보호 층을 또한 포함할 수 있다. 일부 예에서, 이 층(하드코팅 또는 보호 층)은 광학적 성질을 필요로 하지 않는다.
본 명세서에서 설명된 광학 장치와 같은 물품(10)은 여하한 방법으로 만들어질 수 있다. 예를 들어, 시트(sheet)를 만든 다음 더 작은 조각으로 나누거나 쪼개거나 갈아내는 등의 방법으로 광학 장치를 형성할 수 있다. 일부 예에서, 시트는 아래에 설명되고 및/또는 도 8을 참조하는 공정을 포함하지만 이들로 한정되지는 않는 액체 코팅 공정에 의해 만들어질 수 있다.
본 명세서에 설명된 바와 같이 예를 들어, 시트, 플레이크, 또는 포일 형태인 물품(10)의 제조방법이 개시된다. 본 명세서에 설명된 제조방법은 다른 층 위에 층을 증착시킴으로써 형성될 수 있다. 예를 들어, 반사기 층(16)은 기판 위에 증착될 수 있다. 다른 예로서, 제1 선택적 광변조기 층(14)은 반사기 층(16) 위에 증착될 수 있다. 식별된 두 층 사이에 추가적인 층이 증착될 수 있다는 점 또한 이해될 것이다. 예를 들어, 반사기 층(16)이 기판에 증착될 수 있지만, 자성함유 층이 반사기 층(16)과 기판 사이에 증착될 수도 있다. 해당 기술분야의 통상의 기술자라면 층이 본 명세서에 개시된 증착 기술을 사용하여 연속적인 과정으로 즉, 기판, 자성함유 층, 및 반사기 층의 "위에 증착"되거나 "사이에 증착"되어 예컨대 본 명세서에서 개시된 물품(10)을 만들게 될 것임을 이해할 것이다.
제조방법은 반사기 층(16)을 증착시키는 단계; 및 제1 선택적 광변조기 층(14)을 증착시키는 단계를 포함하며, 제1 선택적 광변조기 층(14)은 액체 코팅공정을 사용하여 증착될 수 있다. 제조방법은 제1 흡수제 층(18)을 증착시키는 단계를 더 포함할 수 있으며, 이때 제1 선택적 광변조기 층(14)은 비흡수성 및 흡수성 중 적어도 하나이다. 추가적으로, 또는 대안적으로, 제조방법은 제2 선택적 광변조기 층(14')을 증착시키는 단계를 더 포함할 수 있으며, 이때 제1 선택적 광변조기 층(14)은 비흡수성이다.
추가적으로, 또는 대안적으로, 제조방법은 기판과 반사기 층(16) 사이에 자성함유 층(12)을 증착시키는 단계를 더 포함할 수 있다. 추가적으로, 또는 대안적으로, 이 양상에서, 제조방법은 제1 흡수제 층(18)을 증착시키는 단계를 더 포함할 수 있고, 이때 제1 선택적 광변조기 층(14)은 비흡수성이다.
다른 일 양상에서, 제조방법은 투명 층(20)을 증착시키는 단계; 및 제1 선택적 광변조기 층(14)을 증착시키는 단계를 포함하며, 이때 제1 선택적 광변조기 층(14)은 액체 코팅 공정을 사용하여 증착된다. 제조방법은 기판과 투명 층(20) 사이에 제2 선택적 광변조기 층(14')을 증착시키는 단계를 더 포함할 수 있다. 제1 선택적 광변조기 층(14)과 제2 선택적 광변조기 층(14')은, 예를 들어, 재료의 조성 및/또는 물리적 특성의 관점에서, 동일하거나 또는 상이할 수 있다.
제조방법에서, 기판은 이형층을 포함할 수 있다. 개시된 제조방법에서, 투명 층(20), 반사기 층(16), 흡수제 층(18), 및/또는 자성함유 층(20) 등의 층은, 플라즈마 강화 및 유동화 베드(bed)와 같은 변형 기술을 포함하여, 물리적 기상 증착, 화학적 기상 증착, 박막 증착, 원자층 증착 등의 알려진 종래 증착 공정을 사용하여 증착될 수 있다.
기판은 연성 재료로 만들어질 수 있다. 기판은 증착된 층을 수용할 수 있는 임의의 적합한 재료일 수 있다. 적합한 기판 재료의 비제한적 예시는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 유리 포일, 유리 시트, 폴리머 포일, 폴리머 시트, 금속 포일, 금속시트, 세라믹 포일, 세라믹 시트, 이온성 액체, 종이, 실리콘 웨이퍼 등과 같은 폴리머 웹(web)을 포함한다. 기판의 두께는 변화될 수 있으나, 예를 들어, 약 2㎛에서 약 100㎛까지, 더욱 예를 들자면 약 10㎛부터 약 50㎛까지의 범위에서 변화될 수 있다.
제1 및/또는 제2 SLML(14, 14')은 슬롯 다이 공정과 같은 액체 코팅 공정에 의해 증착될 수 있다. 액체 코팅 공정은 슬롯-비드(slot-bead), 슬라이드 비드, 슬롯 커튼, 슬라이드 커튼, 단일 및 다중 층 코팅, 텐션 웹 슬롯, 그라비어, 롤 코팅, 및 기판이나 이전에 증착된 층 위에 액체를 도포하여 후속공정에서 건조 및/또는 경화되는 액체 층 또는 필름을 형성하는 여타 액체 코팅 공정 및 인쇄 공정을 포함하되, 이들로 한정되는 것은 아니다.
이후 기판은 증착된 층으로부터 이형되어 물품(10)을 생성할 수 있다. 일 양상에서, 기판은 이형 층이 존재하는 경우 결합된 이형 층이 부서지기 쉽도록 냉각될 수 있다. 다른 일 양상에서, 이형층은 예를 들어, 광 또는 전자빔 에너지를 이용하여 가열 및/또는 경화하여, 제거가 가능해지도록 가교결합의 정도를 증가시킴으로써, 부서지기 쉽게 될 수 있다. 이어서 증착된 층은 날카롭게 꺾거나 표면을 문지르는 등의 기계적인 방법으로 벗겨질 수 있다. 이형되고 벗겨진 층은 알려진 기술을 이용하여 크기에 따라 분류되어 플레이크, 포일, 또는 시트 형태의 광학장치와 같은 물품(10)으로 만들어진다.
다른 일 양상에서, 증착된 층은 기판에서 다른 표면으로 이송될 수 있다. 증착된 층은 구멍이 뚫리거나 절단되어 정확한 크기 및 형상의 많은 플레이크를 만들어낼 수 있다.
액체 코팅 공정은, 기상 증착과 같은 다른 증착 기술과 비교하여, SLML(14, 14')의 조성물의 이전이 더 빠른 속도로 이루어지도록 해줄 수 있다. 추가적으로, 액체 코팅 공정은 단순한 장비 구성으로 더욱 다양한 재료들이 SLML(14, 14')에 사용되도록 해줄 수 있다. 개시된 액체 코팅 공정을 사용하여 형성된 SLML(14, 14')은 향상된 광학 성능을 나타낼 것으로 믿어진다.
도 8은 액체 코팅 공정을 사용한 SLML(14, 14')의 형성을 도시한다. SLML의 조성물(액체 코팅 조성물)이 슬롯 다이(320)에 삽입되고 기판(340) 위에 증착되어 습윤 필름을 만들어내게 될 수 있다. 전술한 공정을 참조하면, 기판(340)은 기판, 이형 층, 투명층(20), 반사기 층(16), 흡수제 층(18), 및 이전에 증착된 층들 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 슬롯 다이(320)의 저면으로부터 기판(340)까지의 거리가 슬롯 갭(G)이다. 도 8에 나타낸 바와 같이, 액체 코팅 조성물은 건조 필름 두께(H)보다 큰 습윤 필름 두께(D)로 증착될 수 있다. SLML(14, 14')의 습윤 필름이 기판(340) 위에 증착이 이루어진 후에, SLML(14, 14')의 습윤 필름에 존재하는 모든 용제는 증발될 수 있다. 액체 코팅 공정은 SLML(14, 14')의 습윤 필름의 경화를 계속하여 경화되고 자체평활화된 정확한 광학 두께(H)(약 30㎚부터 700㎚까지 범위에 있는)를 가진 SLML(14, 14')을 만들어낸다. SLML(14, 14')의 자체평활화 능력이 층 전역에서 광학적 두께 변화가 저감된 층을 만들어낼 것으로 믿어진다. 궁극적으로, 자체평활화된 SLML(14, 14')을 포함하는 광학 장치 등의 물품(10)은 증대된 광학 정밀도를 나타낼 수 있다. 이해의 편의를 위하여, "습윤 필름" 및 "건조 필름" 용어는 SLML(14, 14')로 귀결되는, 액체 코팅 공정의 여러 단계에서의 조성물을 지칭하는 것으로 사용될 것이다.
액체 코팅 공정은 미리 결정된 두께(D)의 습윤 필름을 얻도록 코팅속도 및 슬롯 갭(G) 중 적어도 하나를 조정하는 단계를 포함할 수 있다. SLML(14, 14')은 약 0.1㎛부터 약 500㎛까지, 예를 들어, 약 0.1㎛부터 약 5㎛까지의 범위에 있는 습윤 필름 두께(D)를 가지도록 증착될 수 있다. 개시된 범위의 습윤 필름 두께(D)로 형성된 SLML(14, 14')은 예컨대 유전체 층과 같은 안정적인 SLML 층 즉, 리빙(ribbing)이나 줄무늬 같은 파손이나 결함 없는 층을 만든다. 일 양상에서, 습윤 필름은 최대 약 100 m/min의 코팅 속도로 슬롯 다이 비드 모드를 사용하여 안정적인 습윤 필름에 대해 약 10㎛의 두께를 가질 수 있다. 다른 일 양상에서, 습윤 필름은 최대 약 1200 m/min의 코팅 속도로 슬롯 다이 커튼 모드를 사용하여 안정적인 습윤 필름에 대해 약 6-7㎛의 두께를 가질 수 있다.
액체 코팅 공정은 약 0.1부터 약 1000 m/min까지의 속도에서 습윤 필름 두께(D)에 대한 슬롯 갭(G)의 비율을 약 1에서 약 100까지 포함할 수 있다. 일 양상에서, 상기 비율은 약 100 m/min의 코팅 속도에서 약 9이다. 일 양상에서, 상기 비율은 약 50 m/min의 코팅 속도에서 약 20이다. 액체 코팅 공정은 약 0부터 약 1000㎛까지의 범위에 있는 슬롯 갭(G)을 가질 수 있다. 슬롯 갭(G)이 작을수록 습윤 필름 두께가 줄어들게 될 수 있다. 슬롯-비드 모드에서는 습윤 필름 두께를 10㎛보다 크게 함으로써 더 높은 코팅 속도가 달성될 수 있다.
액체 코팅 공정은 약 0.1부터 약 1000 m/min, 예를 들어, 약 25 m/min부터 약 950 m/min까지, 예를 들어, 약 100 m/min부터 약 900 m/min까지, 더욱 예를 들자면 약 200 m/min부터 약 850 m/min까지의 범위에 있는 코팅 속도를 가질 수 있다. 일 양상에서, 코팅 속도는 약 150 m/min보다 크고, 다른 예시에서는 약 500 m/min보다 크다.
일 양상에서, 비드모드 액체 코팅 공정의 코팅 속도는 약 0.1 m/min부터 약 600 m/min, 예를 들어, 약 50 m/min부터 약 150 m/min까지의 범위에 있을 수 있다. 다른 일 양상에서, 커튼모드 액체 코팅 공정의 코팅 속도는 약 200 m/min부터 약 1500 m/min, 예를 들어, 약 300 m/min부터 약 1200 m/min까지의 범위에 있을 수 있다.
도 8에 도시된 바와 같이, 용제는, 예컨대 습윤 필름이 경화되기 전에, 습윤 필름으로부터 증발될 수 있다. 일 양상에서, 약 100%, 예를 들어, 99.9%, 그리고 더욱 예를 들자면 약 99.8%의 용제가 SLML(14, 14')의 경화 이전에 SLML(14, 14')의 조성물로부터 증발될 수 있다. 다른 일 양상에서, 미량의 용제가 경화/건조된 SLML(14, 14')에 존재할 수 있다. 일 양상에서, 용제의 최초 중량%가 더 큰 습윤 필름은 줄어든 필름 두께(H)를 갖는 건조 필름으로 만들어진다. 특히, 높은 중량%의 용제를 가지며 높은 습윤 필름 두께(D)로 증착되는 습윤 필름은 낮은 건조 필름 두께(H)를 갖는 SLML(14, 14')로 만들어질 수 있다. 용제의 증발 후에는 습윤 필름이 액체로 남으므로, 피막 생성, 및 액체 코팅 공정의 후속 경화 단계에서의 아일랜드(island) 형성 같은 문제를 방지하게 되는 점에 유의하여야 한다.
습윤 필름의 역학 점도(dynamic viscosity)는 약 0.5부터 약 50 cP까지, 예를 들어, 약 1부터 약 45 cP까지, 그리고 더욱 예를 들자면 약 2부터 약 40 cP까지의 범위에 있을 수 있다. 점도 측정 온도는 25℃이고, 유변학적 특성(rheology)은 갭 세팅 0.025㎜에서 0.3°각도로 40㎜ 직경의 원뿔/평판을 사용하는 용제 트랩이 구비된 Anton Paar MCR 101 레오미터(rheometer)로 측정되었다.
일 양상에서, 액체 코팅 공정을 사용한 SLML의 정밀한 코팅을 위하여 습윤 필름이 뉴턴 거동(Newtonian behavior)을 나타내도록 SLML(14, 14') 및 용제의 조성이 선택될 수 있다. 습윤 필름은 전단율 10,000 s-1까지 및 그 이상에서 뉴턴 거동을 나타낼 수 있다. 일 양상에서, 액체 코팅 공정의 전단율은 코팅 속도 25 m/min까지 1000 s-1, 예를 들어, 코팅 속도 100 m/min까지 3900 s-1, 그리고 더욱 예를 들자면 코팅 속도 200 m/min까지 7900 s-1이 될 수 있다. 최대 전단율은 예컨대 1㎛ 두께의 매우 얇은 습윤 필름에서 발생할 수 있음을 이해할 것이다.
습윤 필름 두께가 증가됨에 따라, 전단율은 감소할 것으로 기대될 수 있다. 예를 들어, 10㎛ 습윤 필름에 대해 15% 감소되고, 그리고 더욱 예를 들자면 20㎛ 습윤 필름에 대해 30% 감소된다.
습윤 필름에서 용제가 증발되면 유사가소성(pseudoplastic)으로의 점성 거동 변화가 초래될 수 있는데, 이는 정밀한 SLML을 획득하는데 도움이 될 수 있다. 모든 용제가 증발된 후, 증착된 제1 및 제2 SLML(14, 14')의 역학 점도는 약 10 cP부터 약 3000 cP까지, 예를 들어, 약 20 cP부터 약 2500 cP까지, 그리고 더욱 예를 들자면 약 30 cP부터 약 2000 cP까지의 범위에 있을 수 있다. 용제가 존재하여 습윤 필름으로부터 용제를 증발시킬 때에, 유사가소성 거동으로 점도의 증가가 있을 수 있다. 유사가소성 거동은 습윤 필름의 자체평활화를 가능하게 할 수 있다.
일 양상에서, 제조방법은 습윤 필름에 존재하는 용제를 알려진 기술을 이용하여 증발시키는 단계를 포함할 수 있다. 용제를 증발시키는 데 필요한 시간의 양은 웹/기판의 속도와 건조기 용량에 따라 달라질 수 있다. 일 양상에서, 건조기(도시되지 않음)의 온도는 약 120℃ 이하, 예를 들어, 약 100℃ 이하, 그리고 더욱 예를 들자면 약 80℃ 이하로 할 수 있다.
액체 코팅 공정을 사용하여 증착된 습윤 필름은 알려진 기술을 이용하여 경화될 수 있다. 일 양상에서, 습윤 필름은 자외선, 가시광선, 적외선, 또는 전자빔 중 적어도 하나를 활용하는 경화제를 사용하여 경화될 수 있다. 경화는 불활성 공기 또는 외기에서 진행될 수 있다. 일 양상에서, 경화 단계는 약 395㎚ 파장을 갖는 적외선광원을 활용한다. 적외선 광원은 약 200 mJ/㎠부터 약 1000 mJ/㎠까지, 예를 들어, 약 250 mJ/㎠부터 약 900 mJ/㎠까지, 그리고 더욱 예를 들자면 약 mJ/㎠부터 약 850 mJ/㎠까지의 범위에 있는 1회 조사량으로 습윤 필름에 조사될 수 있다.
습윤 필름은 알려진 기술에 의해 가교결합될 수 있다. 비제한적 예시는 자유 라디칼 중합, 스펙트럼 민감성 광유도 자유 라디칼 중합, 광유도 양이온 중합, 스펙트럼 민감성 광유도 양이온 중합, 및 광유도 첨가고리화 등의 광유도 중합; 전자빔유도자유 라디칼 중합, 전자빔유도 양이온 중합, 및 전자빔유도 첨가고리화 등의 전자빔유도 중합; 및 열유도 양이온 중합 등의 열유도 중합을 포함한다.
액체 코팅 공정을 사용하여 형성된 SLML(14, 14')은 향상된 광학 성능을 나타낼 수 있다. 즉, 정밀 SLML이 될 수 있다. 일부 예에서, 정밀 SLML(14, 14')은 층 전역에서 약 3% 미만의 광학 두께변화, 약 5% 미만의 광학 두께변화, 또는 약 7% 미만의 광학 두께변화를 갖는 SLML을 의미하는 것으로 이해될 수 있다.
일 양상에서, 액체 코팅 공정은 약 5부터 약 100 m/min까지의 속도 및 약 50㎛부터 약 100㎛까지의 코팅 갭 중 적어도 하나를 조정하여, 약 500㎚부터 약 1500㎚까지의 미리 결정된 두께를 가진 선택적 광변조기 층에 약 2㎛부터 약 10㎛까지의 습윤 필름을 증착시키는 단계를 포함할 수 있다. 다른 일 양상에서, 공정은 30 m/min의 속도, 75㎛의 갭, 10㎛의 습윤 필름, 건조필름 두께 1.25㎛를 포함할 수 있다.
일 예시에서, SLML은 용제 염료를 SLMM으로 사용하는 지방족 고리 에폭시 레진 호스트를 포함하고, 반사기는 알루미늄을 포함한다.
일 예시에서, SLML은 다이케토피롤로피롤 불용성 적색 염료를 SLMP로 사용하는 지방족 고리 에폭시 레진 호스트를 포함하고, 반사기는 알루미늄을 포함한다.
일 예시에서, SLML은 백색 안료(이산화티타늄)를 SLMP로 사용하는 아크릴레이트 올리고머 레진 호스트를 포함한다.
일 예시에서, SLML은 검정 IR 투명 안료를 SLML로 사용하는 아크릴레이트 올리고머 레진 호스트를 포함하고, 반사기는 알루미늄을 포함한다.
다른 일 양상에서, 리핑제(leafing agent)가 층으로서 도포되며 그로 인해 만들어지는 안료 플레이크는 정면이 페인트 표면으로 정렬할 수 있다. 안료 플레이크는 층의 비대칭 스택(stack)일 수 있다. 비대칭 스택 및 리핑제를 구비한 안료는 재료 및 코팅 비용을 저감시킬 수 있고; 액체 매개물 내에서 자체 배향할 수 있으므로 안료 플레이크의 종횡비에 대한 제약을 줄일 수 있으며; 그리고 본 명세서에서 설명한 바와 같은 액체 코팅 공정을 사용하여 형성될 수 있다.
이상의 설명으로부터, 해당 기술분야의 통상의 기술자라면 본 발명은 다양한 양상으로 구현될 수 있음을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명이 특정 실시형태 및 그 예시와 연계하여 설명되긴 했지만, 본 발명의 진정한 범위는 이들로 제한되어서는 아니 된다. 본 발명의 범위를 벗어나지 않고서 다양한 변화와 변형이 만들어질 수 있다.
본 개시내용의 범위는 넓게 해석되어야 할 것이다. 본 개시내용은 본 명세서에 기재된 장치, 활동 및 기계적인 작동을 달성하기 위한 등가물, 수단, 시스템 및 방법을 개시하는 것으로 의도된다. 개시된 각 장치, 물품, 방법, 수단, 기계적 요소 또는 메카니즘에 대해, 본 개시내용은 본 명세서에 개시된 많은 양상, 메커니즘 및 장치를 실시하기 위한 등가물, 수단, 시스템 및 방법을 그 개시 내에 또한 망라하고 알려주는 것으로 의도된다. 추가적으로, 본 개시내용은 코팅과 그 많은 유형, 특징 및 요소에 관한 것이다. 이러한 장치는 사용과 작동이 동적이고, 본 개시내용은 본 명세서에 개시된 작동 및 기능의 설명 및 사상과 부합하는 장치 및/또는 광학적 장치 제조품 및 그 많은 양상의 등가물, 수단, 시스템 및 방법을 망라하도록 의도된다. 본 출원의 청구범위도 마찬가지로 넓게 해석된다. 본 명세서에 많은 실시형태로 기재된 발명의 설명은 본질적으로 예시적인 것일 뿐이므로, 발명의 요지에서 벗어나지 않은 변화는 발명의 범위 내에 있는 것으로 의도된다. 이러한 변화는 발명의 사상과 범위에서 벗어난 것으로 간주되지 않는다.

Claims (20)

  1. 물품으로서,
    제1 표면, 상기 제1 표면과 대향하는 제2 표면, 및 제3 표면을 갖는 반사기(reflector); 및
    상기 반사기의 상기 제1 표면의 외측에 있는 제1 선택적 광변조기 층(selective light modulator layer)을 포함하되,
    상기 반사기의 상기 제3 표면은 개방되어 있는, 물품.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1 선택적 광변조기 층의 외측에 있는 제1 흡수제 층(absorber layer)을 더 포함하되,
    상기 제1 선택적 광변조기 층은 비흡수성 및 흡수성 중 적어도 하나인, 물품.
  3. 제2항에 있어서, 상기 제1 흡수제 층 외측에 있는 제2 선택적 광변조기 층을 더 포함하되,
    상기 제1 선택적 광변조기 층은 비흡수성이고, 상기 제2 선택적 광변조기 층은 흡수성인, 물품.
  4. 제1항에 있어서, 제1 표면 및 상기 제1 표면과 대향하는 제2 표면을 갖는 자성함유 층을 더 포함하되,
    상기 반사기 층이 상기 자성함유 층의 상기 제1 표면의 외측에 있는, 물품.
  5. 제4청에 있어서, 상기 제1 선택적 광변조기 층의 외측에 있는 제1 흡수제 층을 더 포함하되,
    상기 제1 선택적 광변조기 층은 비흡수성인, 물품.
  6. 물품으로서,
    제1 표면, 상기 제1 표면과 대향하는 제2 표면, 및 제3 표면을 갖는 투명층: 및
    상기 투명 층의 상기 제1 표면의 외측에 있는 제1 선택적 광변조기 층을 포함하되,
    상기 투명 층의 상기 제3 표면이 개방되어 있는 물품.
  7. 제6항에 있어서, 상기 투명 층의 상기 제2 표면의 외측에 있는 제2 선택적 광변조기 층을 더 포함하는 물품.
  8. 제1항에 있어서, 이형층을 더 포함하는, 물품.
  9. 제1항의 물품을 포함하는 광학 장치.
  10. 제9항의 광학 장치와 액체 매개물을 포함하는 조성물.
  11. 제1항에 있어서, 상기 물품은 플레이크(flake)인, 물품.
  12. 제1항에 있어서, 상기 제1 선택적 광변조기 층이 특정 파장의 에너지를 선택적으로 흡수하는, 물품.
  13. 제1항에 있어서, 박판 형태를 갖는, 물품.
  14. 제1항에 있어서, 상기 물품은 광학적 간섭, 광흡수, 광반사, 광산란, 및 이들의 조합 중에서 선택된 특성을 나타내는, 물품.
  15. 물품의 제조방법으로서,
    반사기 층을 증착시키는 단계; 및
    제1 선택적 광변조기 층을 증착시키는 단계를 포함하되,
    상기 제1 선택적 광변조기 층은 액체 코팅 공정을 이용하여 증착되는, 물품의 제조방법.
  16. 제15항에 있어서, 제1 흡수제 층을 증착시키는 단계를 더 포함하되, 상기 제1 선택적 광변조기 층은 비흡수성 및 흡수성 중 적어도 하나인, 물품의 제조방법.
  17. 제16항에 있어서, 제2 선택적 광변조기 층을 증착시키는 단계를 더 포함하되, 상기 제1 선택적 광변조기 층은 비흡수성인, 물품의 제조방법.
  18. 제15항에 있어서, 기판과 상기 반사기 층 사이에 자성함유 층을 증착시키는 단계를 더 포함하는, 물품의 제조방법.
  19. 제18항에 있어서, 제1 흡수제 층을 증착시키는 단계를 더 포함하되, 상기 제1 선택적 광변조기 층은 비흡수성인, 물품의 제조방법.
  20. 제17항에 있어서, 상기 제2 선택적 광변조기 층은 액체 코팅 공정을 이용하여 증착되는, 물품의 제조방법.
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